JPH0652212B2 - 静電容量式圧力センサにおけるギヤツプ形成方法 - Google Patents
静電容量式圧力センサにおけるギヤツプ形成方法Info
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- JPH0652212B2 JPH0652212B2 JP62048696A JP4869687A JPH0652212B2 JP H0652212 B2 JPH0652212 B2 JP H0652212B2 JP 62048696 A JP62048696 A JP 62048696A JP 4869687 A JP4869687 A JP 4869687A JP H0652212 B2 JPH0652212 B2 JP H0652212B2
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- Japan
- Prior art keywords
- gap
- pressure sensor
- capacitance type
- type pressure
- forming
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- Transmission And Conversion Of Sensor Element Output (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、静電容量式圧力センサにおけるギャップの
形成方法に関する。このようなセンサでは、その検出部
となるギャップをできるだけ一定に形成することが重要
である。
形成方法に関する。このようなセンサでは、その検出部
となるギャップをできるだけ一定に形成することが重要
である。
従来、この種のギャップを形成する方法として、材料を
機械的に削る方法と、蒸着やスパツタ装置を用いて微小
材料を重ねて行つたり、またはエツチング処理により僅
かずつ溶解して材料を取り去つて行く方法とが知られて
いる。
機械的に削る方法と、蒸着やスパツタ装置を用いて微小
材料を重ねて行つたり、またはエツチング処理により僅
かずつ溶解して材料を取り去つて行く方法とが知られて
いる。
しかしながら、前者の方法では１０ミクロンの誤差を制
御することは困難であり、一般に１００ミクロン以上の
ギヤツプとなる。つまり、ギヤツプが大きくなれば、面
積をより大きくし静電容量変化率を大きくして検出感度
を上げなければならず、そのため、どうしても検出部が
大きくなつてしまうと云う問題がある。
御することは困難であり、一般に１００ミクロン以上の
ギヤツプとなる。つまり、ギヤツプが大きくなれば、面
積をより大きくし静電容量変化率を大きくして検出感度
を上げなければならず、そのため、どうしても検出部が
大きくなつてしまうと云う問題がある。
一方、後者は５ミクロン以下の微細なギヤツプを形成す
ることができ、小型化でき利点を有する反面、変形可能
なギヤツプ幅が小さいため、大きな圧力を検出すること
が困難になると云う問題がある。また、蒸着やスパツタ
等で１０ミクロン以上のギヤツプを形成することは技術
的には可能であるが、時間が掛かり過ぎるため連続して
大量に処理することができず、実用化が難かしいと云う
問題がある。
ることができ、小型化でき利点を有する反面、変形可能
なギヤツプ幅が小さいため、大きな圧力を検出すること
が困難になると云う問題がある。また、蒸着やスパツタ
等で１０ミクロン以上のギヤツプを形成することは技術
的には可能であるが、時間が掛かり過ぎるため連続して
大量に処理することができず、実用化が難かしいと云う
問題がある。
したがつて、この発明は低圧から高圧までの広い範囲で
感度良く検出することができ、かつギヤツプ寸法を１０
〜２０ミクロンの範囲にして空間体積を精度良く形成す
ることが可能で、しかも小型にすることが可能なギヤツ
プ形成方法を提供することを目的とする。
感度良く検出することができ、かつギヤツプ寸法を１０
〜２０ミクロンの範囲にして空間体積を精度良く形成す
ることが可能で、しかも小型にすることが可能なギヤツ
プ形成方法を提供することを目的とする。
一方の基板上の所定空間領域部を除く領域に、結晶性ガ
ラスまたはＳｉＯ２成分が増量された非晶質ガラスから
なり所定の溶剤にてペースト状にされたガラス材料を略
均一に塗布し、その上の所定位置に、所定寸法をもつ直
方体または円筒体のギヤツプ形成材を固定し、さらにそ
の上に他方の基板を重ね合わせたのち、荷重を掛けつゝ
高温処理するか、または上記と同様のガラス材料と所定
寸法をもつ球体，球体に近い多面体または円筒体のギヤ
ツプ形成材とを混合して一方の基板上の所定領域に略均
一に塗布し、その上に他方の基板を重ね合わせた後、荷
重を掛けつゝ高温処理する。いずれの場合もガラス材料
としては結晶性ガラス材料またはＳｉＯ２成分が増量さ
れた非晶性ガラス材料が用いられ、またガラス材料の粒
径は１０〜２０ミクロンのギヤツプに対して３〜５ミク
ロンとされ、さらにガラス材料の充填率は所定の体積に
対して８０〜９５％となるようにされる。
ラスまたはＳｉＯ２成分が増量された非晶質ガラスから
なり所定の溶剤にてペースト状にされたガラス材料を略
均一に塗布し、その上の所定位置に、所定寸法をもつ直
方体または円筒体のギヤツプ形成材を固定し、さらにそ
の上に他方の基板を重ね合わせたのち、荷重を掛けつゝ
高温処理するか、または上記と同様のガラス材料と所定
寸法をもつ球体，球体に近い多面体または円筒体のギヤ
ツプ形成材とを混合して一方の基板上の所定領域に略均
一に塗布し、その上に他方の基板を重ね合わせた後、荷
重を掛けつゝ高温処理する。いずれの場合もガラス材料
としては結晶性ガラス材料またはＳｉＯ２成分が増量さ
れた非晶性ガラス材料が用いられ、またガラス材料の粒
径は１０〜２０ミクロンのギヤツプに対して３〜５ミク
ロンとされ、さらにガラス材料の充填率は所定の体積に
対して８０〜９５％となるようにされる。
空間体積の変化を静電容量変化に変換して圧力を測定す
るためには、空間体積が大きい程大きな圧力変化に対応
でき、感度を上げることが容易である。これに対し、小
さな空間体積で同程度の特性を維持するためには、ある
程度の空間が必要であり、また空間体積を決定するギヤ
ツプ寸法や面積の誤差を可能な限り小さくしなければな
らない。ギヤツプ形成材は広い温度範囲（−４０〜１２
０℃）で弾性率変化の少ない材料で絶縁性に優れ、さら
に高圧に耐えるだけの気密性，密着性が必要である。
るためには、空間体積が大きい程大きな圧力変化に対応
でき、感度を上げることが容易である。これに対し、小
さな空間体積で同程度の特性を維持するためには、ある
程度の空間が必要であり、また空間体積を決定するギヤ
ツプ寸法や面積の誤差を可能な限り小さくしなければな
らない。ギヤツプ形成材は広い温度範囲（−４０〜１２
０℃）で弾性率変化の少ない材料で絶縁性に優れ、さら
に高圧に耐えるだけの気密性，密着性が必要である。
以上の如き材料要求特性から考えて、エポキシ樹脂やポ
イイミドなどの有機系高分子材料では使用温度範囲でガ
ラス転移温度などの転位温度を持ち、また弾性率の温度
依存性が大きいため、ギヤツプ形成材として使用するの
は不適当である。つまり、ギヤツプ形成材としては硬質
かつ高温に耐える無機質材料で、均一な形状が得られや
すく、または加工により同一形状になる材料とすること
が望ましい。
イイミドなどの有機系高分子材料では使用温度範囲でガ
ラス転移温度などの転位温度を持ち、また弾性率の温度
依存性が大きいため、ギヤツプ形成材として使用するの
は不適当である。つまり、ギヤツプ形成材としては硬質
かつ高温に耐える無機質材料で、均一な形状が得られや
すく、または加工により同一形状になる材料とすること
が望ましい。
一方、空間面積を制御し、接着剤となる材料として、こ
ゝでは非晶性ガラス材または結晶質ガラス材を用いる。
たゞし、非晶性ガラス材は一般に、温度上昇により粘度
が下がり、空間部をガラス充填部との境界面でガラスを
挾む上下の面との接触角を９０゜±１０゜範囲内に制御
することがむずかしく。この接触角の低下に伴ない上方
からの圧力特性と、下方からの圧力特性に差が生じてし
まうので、ガラス材のＳｉＯ２成分を増すことにより、
溶融時の粘度を高く保つことが必要である。これに対
し、結晶性ガラスとして、特に融点から結晶化温度まで
の温度差の少ない材料を用いるとともに、ＺｎＯなどの
結晶化促進材を加えて昇温速度を制御するようにすれ
ば、ガラスの流動を少なくおさえることができるため、
両面との接触角を９０±５゜に制御することができ、し
たがつて非晶性ガラス材に比べて圧力方向の違いによる
検出感度をさらに良好にすることができる。
ゝでは非晶性ガラス材または結晶質ガラス材を用いる。
たゞし、非晶性ガラス材は一般に、温度上昇により粘度
が下がり、空間部をガラス充填部との境界面でガラスを
挾む上下の面との接触角を９０゜±１０゜範囲内に制御
することがむずかしく。この接触角の低下に伴ない上方
からの圧力特性と、下方からの圧力特性に差が生じてし
まうので、ガラス材のＳｉＯ２成分を増すことにより、
溶融時の粘度を高く保つことが必要である。これに対
し、結晶性ガラスとして、特に融点から結晶化温度まで
の温度差の少ない材料を用いるとともに、ＺｎＯなどの
結晶化促進材を加えて昇温速度を制御するようにすれ
ば、ガラスの流動を少なくおさえることができるため、
両面との接触角を９０±５゜に制御することができ、し
たがつて非晶性ガラス材に比べて圧力方向の違いによる
検出感度をさらに良好にすることができる。
その他に、面積の寸法精度を上げるためには、ガラスの
空間充填率，粒径を管理することが重要である。例えば
空間充填率は、これが７０％以下では気密性，密着性に
問題が生じ、９５％以上にすると境界線の乱れ，はみ出
しが生じるため、ガラス充填率を８０〜９５％間になる
よう有機系材料を添加することにより、所定の面積寸法
精度を出すようにする。また、粒径については、これが
１０ミクロン以上になると加熱，加圧時のつぶれ率が７
０％前後になり、高さ方向の誤差が大きくかつガラス充
填率も悪くなるので、粒径としては３ミクロンから５ミ
クロンのものが良好である。
空間充填率，粒径を管理することが重要である。例えば
空間充填率は、これが７０％以下では気密性，密着性に
問題が生じ、９５％以上にすると境界線の乱れ，はみ出
しが生じるため、ガラス充填率を８０〜９５％間になる
よう有機系材料を添加することにより、所定の面積寸法
精度を出すようにする。また、粒径については、これが
１０ミクロン以上になると加熱，加圧時のつぶれ率が７
０％前後になり、高さ方向の誤差が大きくかつガラス充
填率も悪くなるので、粒径としては３ミクロンから５ミ
クロンのものが良好である。
以上のように、ガラス材の溶融粘度，ガラス充填率およ
び粒径を管理することにより、ギヤツプ形成材を用いな
くても、高さ方向の寸法に対して±１０％の範囲に制御
することができるが、この発明では、さらにつぶれ停止
点（ギヤツプ）をもうけるためのギヤツプ形成材（無機
質絶縁材料）を使用することにより、寸法誤差を±５％
の範囲に制御することができるようにし、空間体積を一
定に保つことにより静電容量変化の誤差を少なくし、圧
力負荷時の容量変化率を精度良く測定できるようにす
る。
び粒径を管理することにより、ギヤツプ形成材を用いな
くても、高さ方向の寸法に対して±１０％の範囲に制御
することができるが、この発明では、さらにつぶれ停止
点（ギヤツプ）をもうけるためのギヤツプ形成材（無機
質絶縁材料）を使用することにより、寸法誤差を±５％
の範囲に制御することができるようにし、空間体積を一
定に保つことにより静電容量変化の誤差を少なくし、圧
力負荷時の容量変化率を精度良く測定できるようにす
る。
第１図はこの発明の実施例を説明するための説明図であ
る。これは、この発明によつて作られる圧力センサを示
すもので、同図（イ）は作成途中の状態を示す上面図、
同図（ロ）は完成品を示す断面図である。なお、同図に
おいて、１Ａ，１Ｂは基板、２はガラス材、３はギヤツ
プ形成材、４は空間領域、５は電極材で、ギヤツプ形成
材としては直方体に形成されたマイカまたは円筒状の石
英ロツドが用いられる。また、基板１Ａ，１Ｂとしては
電極付絶越板またはシリコンなどの導電性基板が用いら
れ、同図は電極付絶縁板を用いた例である。なお、導電
性基板の場合は電極材５は省略される。
る。これは、この発明によつて作られる圧力センサを示
すもので、同図（イ）は作成途中の状態を示す上面図、
同図（ロ）は完成品を示す断面図である。なお、同図に
おいて、１Ａ，１Ｂは基板、２はガラス材、３はギヤツ
プ形成材、４は空間領域、５は電極材で、ギヤツプ形成
材としては直方体に形成されたマイカまたは円筒状の石
英ロツドが用いられる。また、基板１Ａ，１Ｂとしては
電極付絶越板またはシリコンなどの導電性基板が用いら
れ、同図は電極付絶縁板を用いた例である。なお、導電
性基板の場合は電極材５は省略される。
以下、ギヤツプの形成方法について説明する。
〈方法Ｉ〉 (1)直径２０ミクロンの石英製繊維を長さ５mmに切断
し、ギヤツプ形成材となる円筒状の石英ロツドを作成す
る。
し、ギヤツプ形成材となる円筒状の石英ロツドを作成す
る。
(2)５ミクロン以下に粉砕した結晶性ガラス（ＺｎＯ，
Ｂ２Ｏ３，ＳｉＯ２）、アクリル樹脂およびテレビネオ
ール（溶剤）をそれぞれ１０：０．１：２の割合で加え
て撹拌，混合し、ベースト状の結晶性ガラスを作成す
る。
Ｂ２Ｏ３，ＳｉＯ２）、アクリル樹脂およびテレビネオ
ール（溶剤）をそれぞれ１０：０．１：２の割合で加え
て撹拌，混合し、ベースト状の結晶性ガラスを作成す
る。
(3)厚さ３mm，２０mm角の電極付アルミナ基板の片面
に、スクリーン印刷機を用いてベースト状ガラスを直径
１０〜１２mm範囲の円形帯状に印刷する。
に、スクリーン印刷機を用いてベースト状ガラスを直径
１０〜１２mm範囲の円形帯状に印刷する。
(4)次に、ガラス印刷面より外側４端にシアノアクリレ
ート系接着剤を滴下し、石英ロツドを固定する。なお、
このときの状態が第１図（イ）に示されている。
ート系接着剤を滴下し、石英ロツドを固定する。なお、
このときの状態が第１図（イ）に示されている。
(5)その上に電極付アルミナ基板を乗せてガラス面を挾
み、荷重５Kg/cm2をかけた状態で８００℃恒温槽に１時
間放置する。
み、荷重５Kg/cm2をかけた状態で８００℃恒温槽に１時
間放置する。
(6)この方法では、所定の寸法に対するギヤツプ寸法の
誤差は±0.5ミクロンであり、直径の誤差は±５ミクロ
ンであつた。
誤差は±0.5ミクロンであり、直径の誤差は±５ミクロ
ンであつた。
〈方法II〉 (1)厚さ１０ミクロンの薄葉状マイカを３mm角に切断
し、ギヤツプ形成材となるマイカ板を作成する。
し、ギヤツプ形成材となるマイカ板を作成する。
(2)５ミクロン以下に粉砕した非晶性の鉛ガラス（Ｐｂ
Ｏ，Ｂ２Ｏ３，ＳｉＯ２）、セルロースおよびテレビネ
オール（溶剤）をそれぞれ１０：0.3：２の割合で加え
て撹拌，混合し、ベースト状のガラスを作成する。
Ｏ，Ｂ２Ｏ３，ＳｉＯ２）、セルロースおよびテレビネ
オール（溶剤）をそれぞれ１０：0.3：２の割合で加え
て撹拌，混合し、ベースト状のガラスを作成する。
(3)厚さ３mm，２０mm角のパイレツクスガラス基板の片
面に、スクリーン印刷機を用いてベースト状ガラスを直
径１０〜１２mm範囲の円形帯状に印刷する。
面に、スクリーン印刷機を用いてベースト状ガラスを直
径１０〜１２mm範囲の円形帯状に印刷する。
(4)次に、ガラス印刷面より外側の４端にマイカ板を１
枚ずつ乗せる。このときの状態が第１図（イ）に示され
ている。
枚ずつ乗せる。このときの状態が第１図（イ）に示され
ている。
(5)その上に、パイレツクス基板を乗せてガラス面を挾
み、荷重２Kg／cm2をかけた状態で５００℃恒温槽に１
時間放置する。
み、荷重２Kg／cm2をかけた状態で５００℃恒温槽に１
時間放置する。
(6)冷却後、研磨し、実体顕微鏡を用いて寸法側定した
結果、所定の寸法に対してギヤツプ寸法の誤差は±0.5
ミクロン、空間部直径の誤差は±１０ミクロンであつ
た。
結果、所定の寸法に対してギヤツプ寸法の誤差は±0.5
ミクロン、空間部直径の誤差は±１０ミクロンであつ
た。
第２図はこの発明の他の実施例を説明するための説明図
である。これは基本的には第１図と同様であるが、ギヤ
ツプ形成材が球体または球体に近い多面体でこれが略均
一に塗布される点が特徴である。
である。これは基本的には第１図と同様であるが、ギヤ
ツプ形成材が球体または球体に近い多面体でこれが略均
一に塗布される点が特徴である。
この場合のギヤツプ形成方法は、以下の通りである。
〈方法III〉 (1)例えば直径１４ミクロンの球状アルミナ（ギヤツプ
形成材）を、分級により選別する。
形成材）を、分級により選別する。
(2)５ミクロン以下に粉砕した結晶性ガラス（ＺｎＯ，
Ｂ２Ｏ３，ＳｉＯ２）、アクリル樹脂およびテレピネオ
ール（溶剤）をそれぞれ１０：0.2：３の割合で加えて
撹拌，混合し、ベースト状にした結晶性ガラスを作成
し、球状アルミナをガラスベーストに対して３ｗｔ％
（重量パーセント）添加し、均一に分散させる。
Ｂ２Ｏ３，ＳｉＯ２）、アクリル樹脂およびテレピネオ
ール（溶剤）をそれぞれ１０：0.2：３の割合で加えて
撹拌，混合し、ベースト状にした結晶性ガラスを作成
し、球状アルミナをガラスベーストに対して３ｗｔ％
（重量パーセント）添加し、均一に分散させる。
(3)厚さ３mm，２０mm角の電極付アルミナ基板の片面
に、スクリーン印刷機を用いてベースト状ガラスを直径
１０〜１２mm範囲の円形帯状に印刷する。なお、このと
きの状態が第２図（イ）に示されている。
に、スクリーン印刷機を用いてベースト状ガラスを直径
１０〜１２mm範囲の円形帯状に印刷する。なお、このと
きの状態が第２図（イ）に示されている。
(4)その上に、アルミナ板を乗せてガラス面を挾み、荷
重５Kg/cm2をかけた状態で８００℃恒温槽に１時間放置
する。
重５Kg/cm2をかけた状態で８００℃恒温槽に１時間放置
する。
(5)冷却後、電極間の静電容量を測定した後、１２００
℃で焼成してガラスを劣化させ、アルミナを剥離して空
間部の直径長さを測定すると、所定寸法に対しギヤツプ
寸法の誤差は±0.5ミクロン、直径の誤差は±５ミクロ
ンであつた。
℃で焼成してガラスを劣化させ、アルミナを剥離して空
間部の直径長さを測定すると、所定寸法に対しギヤツプ
寸法の誤差は±0.5ミクロン、直径の誤差は±５ミクロ
ンであつた。
第３図はこの発明のさらに他の実施例を説明するための
説明図である。これは基本的には第２図と同様である
が、基板１Ａ，１Ｂとしてシリコンなどの導電材を用い
た例である。したがつて、第１図または第２図で用いら
れる電極材は、こゝでは省略されている。
説明図である。これは基本的には第２図と同様である
が、基板１Ａ，１Ｂとしてシリコンなどの導電材を用い
た例である。したがつて、第１図または第２図で用いら
れる電極材は、こゝでは省略されている。
この場合のギヤツプの形成は、例えば次のように行なわ
れる。
れる。
〈方法IV〉 (1)直径１２ミクロンの球状アルミナ（ギヤツプ形成
材）を、分級により選別する。
材）を、分級により選別する。
(2)５ミクロン以下に粉砕した結晶性ガラス（ＺｎＯ，
Ｂ２Ｏ３，ＳｉＯ２）、アクリル樹脂およびテレピネオ
ール（溶剤）をそれぞれ１０：0..2：３の割合で加えて
撹拌，混合し、ベースト状にした結晶性ガラスを作成
し、球状アルミナをガラスベーストに対し２ｗｔ％（重
量パーセント）添加し、均一に分散させる。
Ｂ２Ｏ３，ＳｉＯ２）、アクリル樹脂およびテレピネオ
ール（溶剤）をそれぞれ１０：0..2：３の割合で加えて
撹拌，混合し、ベースト状にした結晶性ガラスを作成
し、球状アルミナをガラスベーストに対し２ｗｔ％（重
量パーセント）添加し、均一に分散させる。
(3)厚さ４mm，２０mm角のシリコン基板の片面に、スク
リーン印刷機を用いてペースト状ガラスを直径１０〜１
２mm範囲の円形帯状に印刷する。なお、このときの状態
が第３図（イ）に示されている。
リーン印刷機を用いてペースト状ガラスを直径１０〜１
２mm範囲の円形帯状に印刷する。なお、このときの状態
が第３図（イ）に示されている。
(4)その上に、シリコン板を乗せてガラス面を挾み、荷
重５Kg/cm2をかけた状態で８００℃恒温槽に１時間放置
する。
重５Kg/cm2をかけた状態で８００℃恒温槽に１時間放置
する。
(5)冷却後、研磨し、実体顕微鏡を用いて寸法測定した
結果、所定の寸法に対しギヤツプ寸法の誤差は±0.3ミ
クロン、空間部の直径の誤差は±１０ミクロンであつ
た。
結果、所定の寸法に対しギヤツプ寸法の誤差は±0.3ミ
クロン、空間部の直径の誤差は±１０ミクロンであつ
た。
この発明によれば、所定の寸法を持つギヤツプ形成材と
高粘度溶融ガラスを同時に用いるようにして、高粘度溶
融ガラスが２枚の基板間に溶融接着するときの該ガラス
の流動性を抑えるようにしたので、高さ方向，面方向の
寸法精度を所定の寸法に再現性良く形成することがで
き、その結果、圧力変化に対する静電容量変化の検出精
度を上げることができるだけでなく、検出部の小型化を
計ることができる利点もたらされる。
高粘度溶融ガラスを同時に用いるようにして、高粘度溶
融ガラスが２枚の基板間に溶融接着するときの該ガラス
の流動性を抑えるようにしたので、高さ方向，面方向の
寸法精度を所定の寸法に再現性良く形成することがで
き、その結果、圧力変化に対する静電容量変化の検出精
度を上げることができるだけでなく、検出部の小型化を
計ることができる利点もたらされる。
第１図はこの発明の実施例を説明するための説明図、第
２図はこの発明の他の実施例を説明するための説明図、
第３図はこの発明のさらに他の実施例を説明するための
説明図である。 符号説明 １Ａ，１Ｂ……基板、２……ガラス材、３……ギヤツプ
形成材、４……空間領域、５……電極材。
２図はこの発明の他の実施例を説明するための説明図、
第３図はこの発明のさらに他の実施例を説明するための
説明図である。 符号説明 １Ａ，１Ｂ……基板、２……ガラス材、３……ギヤツプ
形成材、４……空間領域、５……電極材。
Claims (6)
- 【請求項１】静電容量式圧力センサを構成する２枚の基
板にて挾まれる所定空間領域の高さおよび基板面方向の
寸法を所定範囲内に保持するためのギャップ形成方法で
あって、 一方の基板上の前記空間領域部を除く領域に、結晶性ガ
ラスまたはＳｉＯ２成分が増量された非晶質ガラスから
なり所定の溶剤にてペースト状にされたガラス材料を略
均一に塗布し、 その上の所定位置に、所定寸法を持つ直方体または円筒
体の無機質絶縁材料から成るギャップ形成材を固定し、 さらにその上に他方の基板を重ね合わせたのち、荷重を
かけつつ高温処理する、 ことを特徴とする静電容量式圧力センサにおけるギャッ
プ形成方法。 - 【請求項２】特許請求の範囲第１項記載の静電容量式圧
力センサにおけるギャップ形成方法において、前記ガラ
ス材料の粒径を１０ミクロンから２０ミクロンのギャッ
プに対して３〜５ミクロンとすることを特徴とする静電
容量式圧力センサにおけるギャップ形成方法。 - 【請求項３】特許請求の範囲第１項又は第２項記載の静
電容量式圧力センサにおけるギャップ形成方法におい
て、前記ガラス材料の充填率を所定の体積に対して８０
〜９５％となるようにすることを特徴とする静電容量式
圧力センサにおけるギャップ形成方法。 - 【請求項４】静電容量式圧力センサを構成する２枚の基
板にて挾まれる所定空間領域の高さおよび基板面方向の
寸法を所定範囲内に保持するためのギャップ形成方法で
あって、 一方の基板上の前記空間領域部を除く領域に、結晶性ガ
ラスまたはＳｉＯ２成分が増量された非晶質ガラスから
なり所定の溶剤にてペースト状にされたガラス材料と、
所定寸法をもつ球体、球体に近い他面体または円筒体の
ギャップ形成材とを混合して略均一に塗布し、 その上に他方の基板を重ね合わせたのち、 荷重をかけつつ高温処理する、 ことを特徴とする静電容量式圧力センサにおけるギャッ
プ形成方法。 - 【請求項５】特許請求の範囲第４項記載の静電容量式圧
力センサにおけるギャップ形成方法において、前記ガラ
ス材料の粒径を１０ミクロンから２０ミクロンのギャッ
プに対して３〜５ミクロンとすることを特徴とする静電
容量式圧力センサにおけるギャップ形成方法。 - 【請求項６】特許請求の範囲第４項又は第５項記載の静
電容量式圧力センサにおけるギャップ形成方法におい
て、前記ガラス材料の充填率を所定の体積に対して８０
〜９５％となるようにすることを特徴とする静電容量式
圧力センサにおけるギャップ形成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62048696A JPH0652212B2 (ja) | 1986-12-12 | 1987-03-05 | 静電容量式圧力センサにおけるギヤツプ形成方法 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61-294788 | 1986-12-12 | ||
| JP29478886 | 1986-12-12 | ||
| JP62048696A JPH0652212B2 (ja) | 1986-12-12 | 1987-03-05 | 静電容量式圧力センサにおけるギヤツプ形成方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63265128A JPS63265128A (ja) | 1988-11-01 |
| JPH0652212B2 true JPH0652212B2 (ja) | 1994-07-06 |
Family
ID=26388998
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62048696A Expired - Lifetime JPH0652212B2 (ja) | 1986-12-12 | 1987-03-05 | 静電容量式圧力センサにおけるギヤツプ形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0652212B2 (ja) |
Family Cites Families (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB1563894A (en) * | 1976-03-12 | 1980-04-02 | Kavlico Corp | Capacitive pressure transducer and method for making same |
| JPS5622413A (en) * | 1979-07-31 | 1981-03-03 | Seiko Epson Corp | Electrochromic display unit |
| US4287553A (en) * | 1980-06-06 | 1981-09-01 | The Bendix Corporation | Capacitive pressure transducer |
| JPS5770521A (en) * | 1980-10-20 | 1982-05-01 | Fujitsu Ltd | Production of liquid crystal display device |
| JPS5770520A (en) * | 1980-10-20 | 1982-05-01 | Hitachi Ltd | Liquid crystal element |
| JPS5770522A (en) * | 1980-10-20 | 1982-05-01 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Liquid crystal display panel |
| JPS5797422A (en) * | 1980-12-10 | 1982-06-17 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Manufacture of electrostatic capacity type pressure sensor |
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-
1987
- 1987-03-05 JP JP62048696A patent/JPH0652212B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63265128A (ja) | 1988-11-01 |
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