JPH06346235A - 真空被覆装置 - Google Patents

真空被覆装置

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JPH06346235A
JPH06346235A JP6078691A JP7869194A JPH06346235A JP H06346235 A JPH06346235 A JP H06346235A JP 6078691 A JP6078691 A JP 6078691A JP 7869194 A JP7869194 A JP 7869194A JP H06346235 A JPH06346235 A JP H06346235A
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JP
Japan
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substrate
source
chamber
coating
tank
Prior art date
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Pending
Application number
JP6078691A
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English (en)
Inventor
Guenter Dr Braeuer
ブロイアー ギュンター
Ulrich Patz
パッツ ウルリッヒ
Michael Dr Scherer
シェーラー ミヒャエル
Joachim Szczyrbowski
スツィルボフスキー ヨアヒム
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Balzers und Leybold Deutschland Holding AG
Original Assignee
Leybold AG
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Publication date
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Pending legal-status Critical Current

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    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/04—Coating on selected surface areas, e.g. using masks
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating

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Abstract

(57)【要約】 【目的】 空気の成分と容易に反応するターゲットも蒸
発材料として使用する。 【構成】 受容体２が、被覆源６の前に密に運動可能な
遮断壁９によって、源室１１と基板室１２とに分割され
ている．

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、被覆源として形成され
た、ターゲットを有するスパッタカソードによって、基
板の一部を被覆するための真空被覆装置であって、被覆
源が、ポット体として構成された受容体の内部に配置さ
れており、前記ポット体の開いた１つの面が基板に密に
載置可能である形式のものに関する。
【０００２】
【従来の技術】このような形式の真空被覆装置は、米国
特許第４５１４２７５号明細書に開示されている。この
ような真空被覆装置の場合には、大きな面積の基板にお
ける局所的な領域を被覆するために、受容体（Ｒｅｚｉ
ｐｉｅｎｔ）が基板全体を収容できるほど受容体の嵩を
大きくする必要はない。それというのは、この基板は受
容体の壁の一部を形成しているからである。この受容体
は、被覆しようとする領域よりも少しだけ大きな横断面
積しか必要としない。したがって、この公知の真空被覆
装置は極めてコンパクトに構成されている。この真空被
覆装置は、例えば特に、車両のガラスにセンサ層を被着
するのに適している。
【０００３】被覆源がターゲットを備えたスパッタカソ
ードであるような真空被覆装置においては、このターゲ
ットが周辺外気の成分と容易に反応してしまうことがし
ばしば生じるので、ターゲットを周辺外気に晒すわけに
はいかない。しかしながらこのことは、公知の真空被覆
装置においては回避することができない。それというの
は、周辺外気が、受容体と基板とが分離したのち、その
時開いた端面から、ポット体として構成された受容体内
に流入することがあるからである。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、冒頭
で述べた形式の真空被覆装置を改良して、空気の成分と
容易に反応するターゲットも蒸発材料として使用できる
ようにすることである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】この課題を解決するため
に本発明の構成では、受容体が、被覆源の前に密に運動
可能な遮断壁によって、源室と基板室とに分割されてい
るようにした。
【０００６】
【発明の効果】本発明による真空被覆装置では、基板を
ポット体から持ち上げる前に、つまり空気がポット体内
に侵入する前に、ターゲットが位置する前記ポット体の
部分を、基板を備えた部分から分離することができる。
【０００７】遮断壁が、ポット体の一面に旋回可能に固
定された軸によって保持されて、ポット体内部に向かっ
て密に運動可能に構成されていると、構造的に特に簡単
に、源室の分離を実現することができる。
【０００８】本発明の別の構成によれば、スパッタカソ
ードがポット体内で、基板の方向にシフト可能に保持さ
れていると、源室を特にコンパクトに構成することがで
きる。
【０００９】本発明のさらに別の構成によれば、ポット
体内に、互いに異なる少なくとも２つの被覆源を備えた
交換装置が設けられていると、異なる層を連続して迅速
に被着することができる。このような交換装置によっ
て、やはり種々異なるプロセス工程、例えばイオン源に
よるエッチング、グロー放電、ＨＦプロセスおよびＤＣ
プロセス、反応性プロセスおよび非反応性プロセス、ま
たはＰＥＣＶＤプロセスを行なうことができる。
【００１０】
【実施例】以下に本発明の実施例を図面につき詳しく説
明する。
【００１１】図１は基板１を示している。この基板１は
自動車のウィンドガラスである。この基板１には上方か
ら、ポット体として構成された受容体２の開いた端面が
載置されている。環状のシール部材３がこの受容体２を
基板１に対してシールしている。このようにして、この
受容体２と、図面で見て下方に向かって基板１とによっ
て制限された真空室４が形成される。直接受容体２にフ
ランジ結合されたターボ分子ポンプ５は、真空室４を排
気するために働く。受容体２内には被覆源６が配置され
ている。この被覆源はこの実施例の場合、ターゲット７
を備えたスパッタ装置である。複矢印８によって示され
ているように、この被覆源６はそのターゲット７ととも
に、基板１から離れる方向にある程度シフトすることが
できる。被覆源６がその最上位置に位置すると、回転可
能な軸１０に配置された遮断壁９（途中で中断して図示
した）は、受容体２内部に向かって密に被覆源６の下方
に旋回することができる。こうしてこの遮断壁９は受容
体２を、遮断壁９の上方に位置する源室１１と、遮断壁
９の下方に位置する基板室１２とに分割することができ
る。
【００１２】図２に示した実施例では、真空室４内には
交換装置１３が配置されている。この交換装置は、この
実施例の場合、回転装置（ｋａｒｕｓｓｅｌｌ）として
構成されて、異なる２つのターゲット７，７ａを支持し
ている。軸１４によって回転することによって、それぞ
れ所望のターゲット７，７ａが基板１に対して整合する
位置にもたらされるので、異なる層をスパッタリングに
より被着することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明による真空被覆装置の実施例を示した縦
断面図である。
【図２】図１に示した実施例の変化形を示した縦断面図
である。
【符号の説明】
１ 基板、 ２ 受容体、 ３ シール部材、 ４ 真
空室、 ５ ターボ分子ポンプ、 ６ 被覆源、 ７，
７ａ ターゲット、 ８ 複矢印、 ９ 遮断壁、 １
０ 軸、 １１ 源室、 １２ 基板室、 １３ 交換
装置、 １４軸
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ミヒャエル シェーラー ドイツ連邦共和国 ローデンバッハ イム ヘークホルツ １ アー (72)発明者 ヨアヒム スツィルボフスキー ドイツ連邦共和国 ゴルトバッハ リンク オーフェンシュトラーセ ５

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 被覆源として形成された、ターゲットを
    有するスパッタカソードによって、基板の一部を被覆す
    るための真空被覆装置であって、被覆源が、ポット体と
    して構成された受容体の内部に配置されており、前記ポ
    ット体の開いた１つの面が基板に密に載置可能である形
    式のものにおいて、受容体（２）が、被覆源（６）の前
    に密に運動可能な遮断壁（９）によって、源室（１１）
    と基板室（１２）とに分割されていることを特徴とす
    る、真空被覆装置。
  2. 【請求項２】 遮断壁（９）が、受容体（２）の１つの
    面に旋回可能に配置された軸（１０）によって保持され
    て、受容体（２）内に向かって密に運動可能に構成され
    ている、請求項１記載の真空被覆装置。
  3. 【請求項３】 被覆源（６）が受容体（２）において、
    基板（１）の方向にシフト可能に保持されている、請求
    項２記載の真空被覆装置。
  4. 【請求項４】 受容体（２）において、異なる少なくと
    も２つのターゲット（７，７ａ）を備えた交換装置（１
    ３）が設けられている、請求項１から３までのいずれか
    １項記載の真空被覆装置。
JP6078691A 1993-04-23 1994-04-18 真空被覆装置 Pending JPH06346235A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE4313353A DE4313353C2 (de) 1993-04-23 1993-04-23 Vakuum-Beschichtungsanlage
DE4313353.3 1993-04-23

Publications (1)

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JPH06346235A true JPH06346235A (ja) 1994-12-20

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JP6078691A Pending JPH06346235A (ja) 1993-04-23 1994-04-18 真空被覆装置

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US (1) US5372693A (ja)
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DE (1) DE4313353C2 (ja)
FR (1) FR2704240B1 (ja)
IT (1) IT1269524B (ja)

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IT1269524B (it) 1997-04-08
ITMI940442A1 (it) 1995-09-10
DE4313353C2 (de) 1997-08-28
US5372693A (en) 1994-12-13
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Date Code Title Description
A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20040303