JPH06321887A - 新規モノマー化合物 - Google Patents
新規モノマー化合物Info
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- JPH06321887A JPH06321887A JP11340993A JP11340993A JPH06321887A JP H06321887 A JPH06321887 A JP H06321887A JP 11340993 A JP11340993 A JP 11340993A JP 11340993 A JP11340993 A JP 11340993A JP H06321887 A JPH06321887 A JP H06321887A
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- carbon atoms
- glycidyl
- compound
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
Abstract
(57)【要約】 (修正有)
【構成】
(式中、RはHまたは低級アルキル基を示し、Xは酸
素、−NH−または硫黄を示し、Yは酸素、−NR2−
または硫黄を示し、R1は置換基を有してもよい、鎖状
または環状アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、
アリール基、アラルキル基、N,N−ジ置換イミノ基ま
たはアシル基を表し、R2は置換されてもよく鎖状また
は環状アルキル基、アリール基、アラルキル基を示し、
R4およびR5はH、酸素またはアルキル基、アリール
基、アラルキル基、アルケニル基またはアルキニル基
(ただし、R4=R5=Hである場合を除く)であって、R
2およびR1は結合して環を形成してもよい。)で表わさ
れるモノマー化合物。 【効果】上記のモノマーは塗料、接着剤、電子材料など
の種々の高分子材料の原料として利用できる。
素、−NH−または硫黄を示し、Yは酸素、−NR2−
または硫黄を示し、R1は置換基を有してもよい、鎖状
または環状アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、
アリール基、アラルキル基、N,N−ジ置換イミノ基ま
たはアシル基を表し、R2は置換されてもよく鎖状また
は環状アルキル基、アリール基、アラルキル基を示し、
R4およびR5はH、酸素またはアルキル基、アリール
基、アラルキル基、アルケニル基またはアルキニル基
(ただし、R4=R5=Hである場合を除く)であって、R
2およびR1は結合して環を形成してもよい。)で表わさ
れるモノマー化合物。 【効果】上記のモノマーは塗料、接着剤、電子材料など
の種々の高分子材料の原料として利用できる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は新規なモノマー化合物に
関する。本発明のモノマーは塗料、接着剤、電子材料な
どの種々の高分子材料の原料として利用できる。
関する。本発明のモノマーは塗料、接着剤、電子材料な
どの種々の高分子材料の原料として利用できる。
【0002】
【従来の技術】本発明者らはすでに式:
【0003】
【化2】
【0004】(式中、Rは水素または炭素数1〜8の低
級アルキル基を示す。)で表わされる(メタ)クリロイル
イソシアネートを出発原料とする種々の誘導体、たとえ
ば式:
級アルキル基を示す。)で表わされる(メタ)クリロイル
イソシアネートを出発原料とする種々の誘導体、たとえ
ば式:
【0005】
【化3】
【0006】(式中、Rは前記と同意義、R'は種々の
有機基を示す。)で表わされる化合物等を提供してきた
(たとえば、特開昭60−231642号公報、特開昭
61−69753号公報など)。本発明者らはこの誘導
体からさらに別の有用な誘導体をうるべく検討を重ねて
きた。一方、式:
有機基を示す。)で表わされる化合物等を提供してきた
(たとえば、特開昭60−231642号公報、特開昭
61−69753号公報など)。本発明者らはこの誘導
体からさらに別の有用な誘導体をうるべく検討を重ねて
きた。一方、式:
【0007】
【化4】
【0008】で表わされるイソシアナトエチルメタクリ
レートのイソシアネート基を種々のブロック剤でブロッ
クしたモノマー化合物が公知である(たとえば、M.ト
ーマスによるJ.コート.テク(J.Coat.Tech.)55
(703),55−61(1983))。また、N−ア
ルキロイルカルバミン酸エチルエステルとビニルグリシ
ジルエーテルとの反応は、岩倉らによるブル.ケム.ソ
ク.ジャパン(Bull.Chem.Soc., Jpn.)39,248
5−2489(1966)に報告されている。その反応は
以下に示すように、カルバミン酸の窒素原子にエポキシ
基が結合してその右側のエトキシ基と環を構成した主生
成物と窒素原子とエポキシ基との反応生成物が転移を起
こした副反応生成物が得られる。
レートのイソシアネート基を種々のブロック剤でブロッ
クしたモノマー化合物が公知である(たとえば、M.ト
ーマスによるJ.コート.テク(J.Coat.Tech.)55
(703),55−61(1983))。また、N−ア
ルキロイルカルバミン酸エチルエステルとビニルグリシ
ジルエーテルとの反応は、岩倉らによるブル.ケム.ソ
ク.ジャパン(Bull.Chem.Soc., Jpn.)39,248
5−2489(1966)に報告されている。その反応は
以下に示すように、カルバミン酸の窒素原子にエポキシ
基が結合してその右側のエトキシ基と環を構成した主生
成物と窒素原子とエポキシ基との反応生成物が転移を起
こした副反応生成物が得られる。
【0009】
【化5】
【0010】
【発明の経過】本発明者らは前述のメタクリロイルイソ
シアネートから誘導した化合物を用いて、エポキシ基を
有する化合物との反応について検討を重ねたところ、前
記岩倉らの発表による主生成物とは異なり、エポキシ基
が転移反応を起こしてカルバミン酸の窒素原子とメタク
リロイルのC=Oとの間に挿入する反応が、主として起
こりうることが分かった。
シアネートから誘導した化合物を用いて、エポキシ基を
有する化合物との反応について検討を重ねたところ、前
記岩倉らの発表による主生成物とは異なり、エポキシ基
が転移反応を起こしてカルバミン酸の窒素原子とメタク
リロイルのC=Oとの間に挿入する反応が、主として起
こりうることが分かった。
【0011】
【発明が解決しようとする課題】本発明は上記発明の経
過に示した新しい知見に基づいて誘導した、新規なモノ
マー化合物を提供することを目的とする。
過に示した新しい知見に基づいて誘導した、新規なモノ
マー化合物を提供することを目的とする。
【0012】
【課題を解決するための手段】すなわち本発明は式:
【0013】
【化6】
【0014】(式中、Rは水素または炭素数1〜8の低
級アルキル基を示し、Xは酸素、−NH−または硫黄を
示し、Yは酸素、−NR2−または硫黄を示し、R1は置
換基を有してもよくかつ炭素数18を越えない、鎖状ま
たは環状アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、ア
リール基、アラルキル基、N,N−ジ置換イミノ基また
はアシル基を表し、R2およびR3は置換されてもよくか
つ炭素数18以下の、鎖状または環状アルキル基、アリ
ール基、アラルキル基を示し、R4およびR5はそれぞれ
独立して、水素、酸素またはエステル基で置換されても
よくかつ炭素数18以下のアルキル基、アリール基、ア
ラルキル基、アルケニル基またはアルキニル基(ただ
し、R4=R5=水素である場合を除く)であって、R2お
よびR1は結合して環を形成してもよい。)で表わされる
モノマー化合物を提供する。
級アルキル基を示し、Xは酸素、−NH−または硫黄を
示し、Yは酸素、−NR2−または硫黄を示し、R1は置
換基を有してもよくかつ炭素数18を越えない、鎖状ま
たは環状アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、ア
リール基、アラルキル基、N,N−ジ置換イミノ基また
はアシル基を表し、R2およびR3は置換されてもよくか
つ炭素数18以下の、鎖状または環状アルキル基、アリ
ール基、アラルキル基を示し、R4およびR5はそれぞれ
独立して、水素、酸素またはエステル基で置換されても
よくかつ炭素数18以下のアルキル基、アリール基、ア
ラルキル基、アルケニル基またはアルキニル基(ただ
し、R4=R5=水素である場合を除く)であって、R2お
よびR1は結合して環を形成してもよい。)で表わされる
モノマー化合物を提供する。
【0015】本発明の化合物(1)は具体的には以下の反
応によって生成するものと考えられる。
応によって生成するものと考えられる。
【0016】
【化7】
【0017】上記式中、化合物(2)は特開昭60−23
1642号公報、などに詳細に記載されている。化合物
(2)の式中Rは水素または炭素数1〜8のアルキル基、
好ましくは水素またはメチル基である。Yは酸素、NR
2または硫黄である。好ましくは酸素または−NR2であ
る。R1は置換基を有してもよくかつ炭素数18以下
の、鎖状または環状アルキル基、アルケニル基、アルキ
ニル基、アリール基、アラルキル基、N,N−ジ置換イ
ミノ基またはアシル基である。ここで置換基はハロゲン
原子、シアノ基、ニトロ基、エーテル基、アシル基、エ
ステル基、等が挙げられる。アルキル基は好ましくは炭
素数1〜18であり、具体的にはメチル、エチルプロピ
ル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、ノニル、デシル、
ステアリルが挙げられ、アルケニル基は好ましくは炭素
数2〜6であり、具体的にはアリル、プロペニル基、1
−ブテニル基、2−ブテニル基が挙げられる。アルキニ
ル基は炭素数1から18好ましくは炭素数2〜6であ
り、プロパルギル基、1−ペンチニル基が例示される。
アリール基は好ましくは6〜10であり、具体的にはフ
ェニル、トリル、キシリル、4−エチルフェニル、4−
tert−ブチルフェニル、4−メトキシカルボニルフェニ
ルが挙げられる。アラルキル基は炭素数は好ましくは7
〜10であり、具体的には、ベンジル、メチルベンジ
ル、フェネチルが挙げられる。R2は炭素数18以下で
あって、置換基を有してもよい鎖状または環状アルキル
基、アリール基、またはアラルキル基である。そのよう
な基の具体的な例はR1で挙げられたものと同様であ
る。R1とR2は結合して環状基を形成してもよい。
1642号公報、などに詳細に記載されている。化合物
(2)の式中Rは水素または炭素数1〜8のアルキル基、
好ましくは水素またはメチル基である。Yは酸素、NR
2または硫黄である。好ましくは酸素または−NR2であ
る。R1は置換基を有してもよくかつ炭素数18以下
の、鎖状または環状アルキル基、アルケニル基、アルキ
ニル基、アリール基、アラルキル基、N,N−ジ置換イ
ミノ基またはアシル基である。ここで置換基はハロゲン
原子、シアノ基、ニトロ基、エーテル基、アシル基、エ
ステル基、等が挙げられる。アルキル基は好ましくは炭
素数1〜18であり、具体的にはメチル、エチルプロピ
ル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、ノニル、デシル、
ステアリルが挙げられ、アルケニル基は好ましくは炭素
数2〜6であり、具体的にはアリル、プロペニル基、1
−ブテニル基、2−ブテニル基が挙げられる。アルキニ
ル基は炭素数1から18好ましくは炭素数2〜6であ
り、プロパルギル基、1−ペンチニル基が例示される。
アリール基は好ましくは6〜10であり、具体的にはフ
ェニル、トリル、キシリル、4−エチルフェニル、4−
tert−ブチルフェニル、4−メトキシカルボニルフェニ
ルが挙げられる。アラルキル基は炭素数は好ましくは7
〜10であり、具体的には、ベンジル、メチルベンジ
ル、フェネチルが挙げられる。R2は炭素数18以下で
あって、置換基を有してもよい鎖状または環状アルキル
基、アリール基、またはアラルキル基である。そのよう
な基の具体的な例はR1で挙げられたものと同様であ
る。R1とR2は結合して環状基を形成してもよい。
【0018】上記式中化合物3はエポキシ化合物、アジ
リジン化合物およびチアシクロプロパン化合物である。
式中、R4およびR5はそれぞれ独立して水素、炭素数1
8以下の酸素またはエステル基で置換されてもよい、ア
ルキル基、アリール基、アラルキル基、アルケニル基、
アルキニル基である。それらの基の具体的な例はR1で
記載したものと同じである。この場合R4とR5が同時に
水素である場合は排除される。上記化合物の具体例とし
ては、エポキシ化合物では例えば、R1=アルキル基、
R2=Hの場合、プロピレンオキシド、1,2−エポキシ
ブタン、1,2−エポキシヘキサン、1,2−エポキシオ
クタン、1,2−エポキシデカン、1,2−エポキシドデ
カン、1,2−エポキシオクタデカ;R1、R2=アルキ
ル基、アリール基の場合、2,3−エポキシブタン、7,
8−エポキシ−2−メチルオクタデカン、1−フェニル
プロピレンオキシド、スチルベンオキシド、4−クロロ
スチルベンオキシド、2−4−ジクロロスチルベンオキ
シド、1−メトキシ−2−メチルプロピレンオキシド;
R1=ハロゲン又はハロゲン化アルキル基、R2=Hの場
合、クロロオキシラン、エピクロロヒドリン、クロロエ
チルオキシラン、ヘキサフルオロプロピレンオキシド;
R1=アルケニル基、R2=Hの場合、ブタジエンモノオ
キシサイド、1,2−エポキシ−5−ヘキセン、1,2−
エポキシ−7−オクテン;R1=アルコキシ基を含む、
R2=Hの場合、グリシドール、2−メチルグリシドー
ル、3−プロピルオキシランメタノール;R1=エーテ
ル基を含む、R2=Hの場合、メチルグリシジルエーテ
ル、ステアリルグリシジルエーテル、2−エチルヘキシ
ルグリシジルエーテル、ピヴァロイルグリシジルエーテ
ル、フェニルグリシジルエーテル、トリルグリシジルエ
ーテル、キシリルグリシジルエーテル、ニトロフェニル
グリシジルエーテル、クロロフェニルグリシジルエーテ
ル、エチルフェニルグリシジルエーテル、tert−ブチル
フェニルグリシジルエーテル;R1=エステル基を含む
もの、R2=Hの場合、4−メトキシカルボニルフェニ
ルグリシジルエーテル、アリルグリシジルエーテル、プ
ロパルギルグリシジルエーテル、メトキシカルボニルオ
キシラン、ステアロキシカルボニルオキシラン、グリシ
ジルアセタート、グリシジルステアラート、グリシジル
2−エチルヘキサナート、グリシジル2,2−ジメチル
プロパナート、グリシジルベンゾエート、グリシジルメ
チルベンゾエート、グリシジルニトロベンゾエート、グ
リシジルクロロベンゾエート、グリシジルエチルベンゾ
エート、グリシジルtert−ブチルベンゾエート、グリシ
ジルメタクリレート、グリシジルアクリレート;R1=
アリール基、R2=Hの場合、スチレンオキシド、トリ
ルオキシラン、キシリルオキシラン、ニトロフェニルオ
キシラン、クロロフェニルオキシラン、エチルフェニル
オキシラン、tert−ブチルフェニルオキシラン、4−メ
トキシカルボニルフェニルオキシラン;R1=アラルキ
ル基、R2=Hの場合、ベンジルオキシラン、フルフリ
ルオキシラン;R1、R2=連結しているもの、シクロヘ
キセンオキシド、シクロペンテンオキシド、シクロオク
テンオキシド、シクロドデカンエポキサイド、アルファ
ピネンオキシド、エキソ−2,3,−エポキシノルボルネ
ン、リモネンオキシド;等が挙げられる。アジリジン化
合物としては、N−メチルアジリジン、N−プロピルア
ジリジンが例示され、チアシクロプロパン(スルフィ
ド)化合物としては、エチレンスルフィド、プロピレン
スルフィド、スチレンスルフィド、シクロヘキセンスル
フィドが例示される。
リジン化合物およびチアシクロプロパン化合物である。
式中、R4およびR5はそれぞれ独立して水素、炭素数1
8以下の酸素またはエステル基で置換されてもよい、ア
ルキル基、アリール基、アラルキル基、アルケニル基、
アルキニル基である。それらの基の具体的な例はR1で
記載したものと同じである。この場合R4とR5が同時に
水素である場合は排除される。上記化合物の具体例とし
ては、エポキシ化合物では例えば、R1=アルキル基、
R2=Hの場合、プロピレンオキシド、1,2−エポキシ
ブタン、1,2−エポキシヘキサン、1,2−エポキシオ
クタン、1,2−エポキシデカン、1,2−エポキシドデ
カン、1,2−エポキシオクタデカ;R1、R2=アルキ
ル基、アリール基の場合、2,3−エポキシブタン、7,
8−エポキシ−2−メチルオクタデカン、1−フェニル
プロピレンオキシド、スチルベンオキシド、4−クロロ
スチルベンオキシド、2−4−ジクロロスチルベンオキ
シド、1−メトキシ−2−メチルプロピレンオキシド;
R1=ハロゲン又はハロゲン化アルキル基、R2=Hの場
合、クロロオキシラン、エピクロロヒドリン、クロロエ
チルオキシラン、ヘキサフルオロプロピレンオキシド;
R1=アルケニル基、R2=Hの場合、ブタジエンモノオ
キシサイド、1,2−エポキシ−5−ヘキセン、1,2−
エポキシ−7−オクテン;R1=アルコキシ基を含む、
R2=Hの場合、グリシドール、2−メチルグリシドー
ル、3−プロピルオキシランメタノール;R1=エーテ
ル基を含む、R2=Hの場合、メチルグリシジルエーテ
ル、ステアリルグリシジルエーテル、2−エチルヘキシ
ルグリシジルエーテル、ピヴァロイルグリシジルエーテ
ル、フェニルグリシジルエーテル、トリルグリシジルエ
ーテル、キシリルグリシジルエーテル、ニトロフェニル
グリシジルエーテル、クロロフェニルグリシジルエーテ
ル、エチルフェニルグリシジルエーテル、tert−ブチル
フェニルグリシジルエーテル;R1=エステル基を含む
もの、R2=Hの場合、4−メトキシカルボニルフェニ
ルグリシジルエーテル、アリルグリシジルエーテル、プ
ロパルギルグリシジルエーテル、メトキシカルボニルオ
キシラン、ステアロキシカルボニルオキシラン、グリシ
ジルアセタート、グリシジルステアラート、グリシジル
2−エチルヘキサナート、グリシジル2,2−ジメチル
プロパナート、グリシジルベンゾエート、グリシジルメ
チルベンゾエート、グリシジルニトロベンゾエート、グ
リシジルクロロベンゾエート、グリシジルエチルベンゾ
エート、グリシジルtert−ブチルベンゾエート、グリシ
ジルメタクリレート、グリシジルアクリレート;R1=
アリール基、R2=Hの場合、スチレンオキシド、トリ
ルオキシラン、キシリルオキシラン、ニトロフェニルオ
キシラン、クロロフェニルオキシラン、エチルフェニル
オキシラン、tert−ブチルフェニルオキシラン、4−メ
トキシカルボニルフェニルオキシラン;R1=アラルキ
ル基、R2=Hの場合、ベンジルオキシラン、フルフリ
ルオキシラン;R1、R2=連結しているもの、シクロヘ
キセンオキシド、シクロペンテンオキシド、シクロオク
テンオキシド、シクロドデカンエポキサイド、アルファ
ピネンオキシド、エキソ−2,3,−エポキシノルボルネ
ン、リモネンオキシド;等が挙げられる。アジリジン化
合物としては、N−メチルアジリジン、N−プロピルア
ジリジンが例示され、チアシクロプロパン(スルフィ
ド)化合物としては、エチレンスルフィド、プロピレン
スルフィド、スチレンスルフィド、シクロヘキセンスル
フィドが例示される。
【0019】化合物(2)と化合物(3)の反応は通常反応
に不活性な有機溶媒中で行なわれる。使用しうる反応に
不活性な有機溶媒の例としては脂肪族炭化水素、例えば
ペンタン、ヘキサン、ヘプタン;芳香族炭化水素、例え
ばベンゼン、トルエン、キシレン;脂環式炭化水素、例
えばシクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、デカリ
ン;石油系溶媒、例えば石油エーテル、石油ベンジン;
ハロゲン化炭化水素、四塩化炭素、クロロホルム、1,
2−ジクロロエタン;エーテル、例えばエチルエーテ
ル、イソプロピルエーテル、アニソール、ジオキサン、
テトラヒドロフラン;ケトン、例えばアセトン、メチル
イソブチルケトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサ
ノン、アセトフェノン、イソフォロン;エステル、例え
ば酢酸エチル、酢酸ブチル;アミド、例えばジメチルフ
ォルムアミド;アセトニトリル;ジメチルスルフォキシ
ド;等が挙げられる。
に不活性な有機溶媒中で行なわれる。使用しうる反応に
不活性な有機溶媒の例としては脂肪族炭化水素、例えば
ペンタン、ヘキサン、ヘプタン;芳香族炭化水素、例え
ばベンゼン、トルエン、キシレン;脂環式炭化水素、例
えばシクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、デカリ
ン;石油系溶媒、例えば石油エーテル、石油ベンジン;
ハロゲン化炭化水素、四塩化炭素、クロロホルム、1,
2−ジクロロエタン;エーテル、例えばエチルエーテ
ル、イソプロピルエーテル、アニソール、ジオキサン、
テトラヒドロフラン;ケトン、例えばアセトン、メチル
イソブチルケトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサ
ノン、アセトフェノン、イソフォロン;エステル、例え
ば酢酸エチル、酢酸ブチル;アミド、例えばジメチルフ
ォルムアミド;アセトニトリル;ジメチルスルフォキシ
ド;等が挙げられる。
【0020】上記反応は30〜150℃の温度で行なわ
れる。
れる。
【0021】上記反応に際し必要に応じて、重合禁止剤
を配合してもよい。使用しうる重合禁止剤としてはキノ
ン系、例えばハイドロキノン、p−メトキシフェノー
ル、2,6−Di−tert−ブチル−4−メチルフェノー
ル;フェノール系、例えば2,2'−メチレンビス(6−te
rt−ブチル−3−メチルフェノール)、4,4'−ブチリ
デンビス−16−tert−ブチル−3−メチルフェノー
ル、4,4−テオビス(6−tert−ブチル−3−メチルフ
ェノール)、p−ニトロソフェノール;スルフィド系、
例えばジイソプロピルキサントゲンスルフィド;アンモ
ニウム塩;例えばN−ニトロソフェニルヒドロキシルア
ミンアンモニウム塩、1,1−ジフェニル−2−ビクリ
ルヒドラジル;1,3,5−トリフェニルフェルダジル;
等が挙げられる。
を配合してもよい。使用しうる重合禁止剤としてはキノ
ン系、例えばハイドロキノン、p−メトキシフェノー
ル、2,6−Di−tert−ブチル−4−メチルフェノー
ル;フェノール系、例えば2,2'−メチレンビス(6−te
rt−ブチル−3−メチルフェノール)、4,4'−ブチリ
デンビス−16−tert−ブチル−3−メチルフェノー
ル、4,4−テオビス(6−tert−ブチル−3−メチルフ
ェノール)、p−ニトロソフェノール;スルフィド系、
例えばジイソプロピルキサントゲンスルフィド;アンモ
ニウム塩;例えばN−ニトロソフェニルヒドロキシルア
ミンアンモニウム塩、1,1−ジフェニル−2−ビクリ
ルヒドラジル;1,3,5−トリフェニルフェルダジル;
等が挙げられる。
【0022】反応は上述のように化合物(3)がカルバミ
ン酸の窒素原子に結合した後に、これが窒素原子とカル
ボニル基の間に転移して目的の化合物が得られる。反応
には必要に応じて触媒を添加してもよい。触媒の例とし
ては有機塩基、例えば三級アミン、具体的にはトリエチ
ルアミン、トリブチルアミン;環状アミン、具体的には
N−メチルモルフォリン、ジアザビシクロ[2,2,2]
オクタン、N,N'−ジメチルピペラジン;無機塩基、例
えば水酸化物、具体的には水酸化リチウム、水酸化ナト
リウム、水酸化カリウム;アルコラート、具体的にはte
rt−ブトキシカリウム;水酸化物、具体的には水素化リ
チウム、水素化ナトリウム、が挙げられる。触媒は、反
応試薬に対して当量でもかまわないし、または触媒量
(例えば反応試薬に対して10mol%)でも構わない。反応
により得られた生成物は通常の精製方法により単離もし
くは分離してもよい。本発明により得られた新規モノマ
ー化合物は(メタ)アクリロイル基とウレタンまたはウレ
ア基との間に種々の置換基を有するメチレン鎖を導入し
たモノマーである。
ン酸の窒素原子に結合した後に、これが窒素原子とカル
ボニル基の間に転移して目的の化合物が得られる。反応
には必要に応じて触媒を添加してもよい。触媒の例とし
ては有機塩基、例えば三級アミン、具体的にはトリエチ
ルアミン、トリブチルアミン;環状アミン、具体的には
N−メチルモルフォリン、ジアザビシクロ[2,2,2]
オクタン、N,N'−ジメチルピペラジン;無機塩基、例
えば水酸化物、具体的には水酸化リチウム、水酸化ナト
リウム、水酸化カリウム;アルコラート、具体的にはte
rt−ブトキシカリウム;水酸化物、具体的には水素化リ
チウム、水素化ナトリウム、が挙げられる。触媒は、反
応試薬に対して当量でもかまわないし、または触媒量
(例えば反応試薬に対して10mol%)でも構わない。反応
により得られた生成物は通常の精製方法により単離もし
くは分離してもよい。本発明により得られた新規モノマ
ー化合物は(メタ)アクリロイル基とウレタンまたはウレ
ア基との間に種々の置換基を有するメチレン鎖を導入し
たモノマーである。
【0023】
【発明の効果】本発明のモノマー化合物は種々の置換基
を持つメチレン鎖を(メタ)アクリル基とウレタンまたは
ウレア基との間に導入し、その置換基を変化させること
により得られたモノマー生成物の物性、たとえば相溶
性、溶解性などを変更することができる。またそのよう
な置換基を導入したモノマーを重合すれば、その樹脂の
性能をも変化できる。
を持つメチレン鎖を(メタ)アクリル基とウレタンまたは
ウレア基との間に導入し、その置換基を変化させること
により得られたモノマー生成物の物性、たとえば相溶
性、溶解性などを変更することができる。またそのよう
な置換基を導入したモノマーを重合すれば、その樹脂の
性能をも変化できる。
【0024】
【実施例】本発明を実施例によりさらに詳細に説明す
る。本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
る。本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
【0025】実施例1 温度計、ジムロート(冷却器)、塩化カルシウム管を備え
た100ml3つ口フラスコに1,4−ジオキサン(10m
l)、1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン(0.3
5g)、エチルN−メタクリロイルカルバマート(10.9
g)、グリシジルフェニルエーテル(10.4g)、そして、
重合禁止剤としてジ−tert−ブチルハイドロキノン(5
0mg)を加え、窒素気流下70−80℃で2時間加熱し
た。反応後、減圧蒸留により溶媒と未反応のグリシジル
フェニルエーテルを除き、シリカゲルカラムクロマトグ
ラフィーで精製し、目的物を収率33%で得た。構造式
た100ml3つ口フラスコに1,4−ジオキサン(10m
l)、1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン(0.3
5g)、エチルN−メタクリロイルカルバマート(10.9
g)、グリシジルフェニルエーテル(10.4g)、そして、
重合禁止剤としてジ−tert−ブチルハイドロキノン(5
0mg)を加え、窒素気流下70−80℃で2時間加熱し
た。反応後、減圧蒸留により溶媒と未反応のグリシジル
フェニルエーテルを除き、シリカゲルカラムクロマトグ
ラフィーで精製し、目的物を収率33%で得た。構造式
【0026】
【化8】
【0027】スペクトルデータ1 H−NMR(360MHz,CDCL3)δ:1.25(t,3
H,Et),1.92(s,3H,CH3),3.62(m,2H,C
H2),4.13(m,4H,Et+CH2),5.05(br,1H,N
H),5.29(m,1H,CH),5.61(s,1H,H2C=
C),6.14(s,1H,H2C=C),6.85−7.01(m,
3H,Ph),7.24−7.32(m,2H,Ph)13 C−NMR(360MHz,CDCL3)δ:14.54
(Et),18.23(CH3),41.54(CH2),61.03
(CH2),66.84(CH),71.51(Et),114.5
7,121.26(CH2=C),126.43,129.48,
135.80(Ph),158.27(CO),166.82(C
O) FT−IR(KBr disk)3350cm-1(NH),1715
cm-1(CO),1630,1595cm-1(C=C),1240c
m-1(C−O−Ph),1160cm-1(C-O-C)
H,Et),1.92(s,3H,CH3),3.62(m,2H,C
H2),4.13(m,4H,Et+CH2),5.05(br,1H,N
H),5.29(m,1H,CH),5.61(s,1H,H2C=
C),6.14(s,1H,H2C=C),6.85−7.01(m,
3H,Ph),7.24−7.32(m,2H,Ph)13 C−NMR(360MHz,CDCL3)δ:14.54
(Et),18.23(CH3),41.54(CH2),61.03
(CH2),66.84(CH),71.51(Et),114.5
7,121.26(CH2=C),126.43,129.48,
135.80(Ph),158.27(CO),166.82(C
O) FT−IR(KBr disk)3350cm-1(NH),1715
cm-1(CO),1630,1595cm-1(C=C),1240c
m-1(C−O−Ph),1160cm-1(C-O-C)
【0028】実施例2 温度計、ジムロート(冷却器)、塩化カルシウム管を備え
た100ml3つ口フラスコに1,4−ジアザビシクロ
[2.2.2]オクタン(0.35g)、エチルN−メタクリロ
イルカルバマート(5.0g)、スチレンオキシド(9.0
g)、そして、重合禁止剤としてジ−tert−ブチルハイド
ロキノン(20mg)を加え、窒素気流下70−80℃で2
時間加熱した。反応後、減圧蒸留により溶媒と未反応の
スチレンオキシドを除き、シリカゲルカラムクロマトグ
ラフィーで精製し、目的物を収率13%で得た。構造式
た100ml3つ口フラスコに1,4−ジアザビシクロ
[2.2.2]オクタン(0.35g)、エチルN−メタクリロ
イルカルバマート(5.0g)、スチレンオキシド(9.0
g)、そして、重合禁止剤としてジ−tert−ブチルハイド
ロキノン(20mg)を加え、窒素気流下70−80℃で2
時間加熱した。反応後、減圧蒸留により溶媒と未反応の
スチレンオキシドを除き、シリカゲルカラムクロマトグ
ラフィーで精製し、目的物を収率13%で得た。構造式
【0029】
【化9】
【0030】スペクトルデータ1 H−NMR(360MHz,CDCL3)δ:1.22(t,3
H,Et),1.97(s,3H,CH2),3.62(m,2H,C
H2),4.10(q,2H,Et),4.35(br,1H,NH),5.
61(m,1H,H2C=C),5.29(dd,1H,CH),6.2
0(m,1H,H2C=C),7.26−7.44(m,5H,Ph) FT−IR(KBr disk)3330cm-1(NH),1715
cm-1(CO),1630cm-1(C=C),1150cm-1(C−
O−C)
H,Et),1.97(s,3H,CH2),3.62(m,2H,C
H2),4.10(q,2H,Et),4.35(br,1H,NH),5.
61(m,1H,H2C=C),5.29(dd,1H,CH),6.2
0(m,1H,H2C=C),7.26−7.44(m,5H,Ph) FT−IR(KBr disk)3330cm-1(NH),1715
cm-1(CO),1630cm-1(C=C),1150cm-1(C−
O−C)
【0031】実施例3 温度計、ジムロート(冷却器)、塩化カルシウム管を備え
た100ml3つ口フラスコに1,4−ジオキサン(5.0
g)、1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン(0.1
5g)、エチルN−メタクリロイルカルバマート(5.0
g)、グリシジルフェニルエーテル(10.4g)、そして、
重合禁止剤としてジ−tert−ブチルハイドロキノン(2
0mg)を加え、窒素気流下70−80℃で2時間加熱し
た。反応後、減圧蒸留により溶媒と未反応のグリシジル
フェニルエーテルを除き、シリカゲルカラムクロマトグ
ラフィーで精製し、目的物を収率6%で得た。構造式
た100ml3つ口フラスコに1,4−ジオキサン(5.0
g)、1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン(0.1
5g)、エチルN−メタクリロイルカルバマート(5.0
g)、グリシジルフェニルエーテル(10.4g)、そして、
重合禁止剤としてジ−tert−ブチルハイドロキノン(2
0mg)を加え、窒素気流下70−80℃で2時間加熱し
た。反応後、減圧蒸留により溶媒と未反応のグリシジル
フェニルエーテルを除き、シリカゲルカラムクロマトグ
ラフィーで精製し、目的物を収率6%で得た。構造式
【0032】
【化10】
【0033】スペクトルデータ1 H−NMR(360MHz,CDCL3)δ:1.28(m,5
H,Et+CH3),1.97(s,3H,CH3),3.38(m,2
H,CH2),4.12(q,2H,Et),4.91(br,1H,N
H),5.05(m,1H,CH),5.59(s,1H,H2C=
C),6.10(m,1H,H2C=C) FT−IR(KBr disk)3350cm-1(NH),1715
cm-1(CO),1625cm-1(C=C),1160cm-1(C−
O−C)
H,Et+CH3),1.97(s,3H,CH3),3.38(m,2
H,CH2),4.12(q,2H,Et),4.91(br,1H,N
H),5.05(m,1H,CH),5.59(s,1H,H2C=
C),6.10(m,1H,H2C=C) FT−IR(KBr disk)3350cm-1(NH),1715
cm-1(CO),1625cm-1(C=C),1160cm-1(C−
O−C)
フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C07C 333/04 7106−4H C08F 20/36 MMQ 20/60 MNH 7242−4J 28/02 MNR
Claims (1)
- 【請求項1】 式: 【化1】 (式中、Rは水素または炭素数1〜8の低級アルキル基
を示し、Xは酸素、−NH−または硫黄を示し、Yは酸
素、−NR2−または硫黄を示し、R1は置換基を有して
もよくかつ炭素数18を越えない、鎖状または環状アル
キル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ア
ラルキル基、N,N−ジ置換イミノ基またはアシル基を
表し、R2およびR3は置換されてもよくかつ炭素数18
以下の、鎖状または環状アルキル基、アリール基、アラ
ルキル基を示し、R4およびR5はそれぞれ独立して、水
素、酸素またはエステル基で置換されてもよくかつ炭素
数18以下のアルキル基、アリール基、アラルキル基、
アルケニル基またはアルキニル基(ただし、R4=R5=
水素である場合を除く)であって、R2およびR1は結合
して環を形成してもよい。)で表わされるモノマー化合
物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11340993A JPH06321887A (ja) | 1993-05-14 | 1993-05-14 | 新規モノマー化合物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11340993A JPH06321887A (ja) | 1993-05-14 | 1993-05-14 | 新規モノマー化合物 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06321887A true JPH06321887A (ja) | 1994-11-22 |
Family
ID=14611549
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11340993A Pending JPH06321887A (ja) | 1993-05-14 | 1993-05-14 | 新規モノマー化合物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH06321887A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11295590A (ja) * | 1998-04-14 | 1999-10-29 | Canon Inc | 回折光学素子を有した光学系 |
WO2013141163A1 (ja) * | 2012-03-23 | 2013-09-26 | 昭和電工株式会社 | 化合物、該化合物の製造方法、重合体、硬化性組成物および硬化物 |
-
1993
- 1993-05-14 JP JP11340993A patent/JPH06321887A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11295590A (ja) * | 1998-04-14 | 1999-10-29 | Canon Inc | 回折光学素子を有した光学系 |
WO2013141163A1 (ja) * | 2012-03-23 | 2013-09-26 | 昭和電工株式会社 | 化合物、該化合物の製造方法、重合体、硬化性組成物および硬化物 |
JPWO2013141163A1 (ja) * | 2012-03-23 | 2015-08-03 | 昭和電工株式会社 | 化合物、該化合物の製造方法、重合体、硬化性組成物および硬化物 |
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