JPH06291158A - Method and device for manufacturing semiconductor - Google Patents

Method and device for manufacturing semiconductor

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Publication number
JPH06291158A
JPH06291158A JP5073987A JP7398793A JPH06291158A JP H06291158 A JPH06291158 A JP H06291158A JP 5073987 A JP5073987 A JP 5073987A JP 7398793 A JP7398793 A JP 7398793A JP H06291158 A JPH06291158 A JP H06291158A
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JP
Japan
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resin
holding means
tape
package
semiconductor device
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JP5073987A
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Japanese (ja)
Inventor
Yasumasa Noda
康昌 野田
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Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Publication date
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
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    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/4805Shape
    • H01L2224/4809Loop shape
    • H01L2224/48091Arched
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/181Encapsulation

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  • Encapsulation Of And Coatings For Semiconductor Or Solid State Devices (AREA)

Abstract

PURPOSE:To make it possible to perform continuous molding with a simple configuration by providing a high use efficiency of materials, easy handling and greatly improved coefficient of thermal expansion and coefficient of thermal conductivity. CONSTITUTION:A first tape 11a and a second tape 11b have recessed portions 12 at the equal spacings, and resins 13a and 13b forming a package are placed in the recessed portions 12. IC pellet 15 provided for a lead frame 14 is continuously sealed by the resins 13a and 13b provided on the first and second tapes 11a and 11b. Since the resins are retained by the first and second tapes 11a and 11b, the use efficiency is high and handling is easy and the package can be continuously molded by a simple configuration.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】この発明は、半導体装置、例えば
半導体集積回路を封止するパッケージの製造方法および
製造装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method and an apparatus for manufacturing a semiconductor device, for example, a package for sealing a semiconductor integrated circuit.

【0002】[0002]

【従来技術】半導体集積回路は、樹脂パッケージによっ
て封止されている。従来、樹脂パッケージの製造は、低
圧トランスファモールド(射出成形)が多く使用され、
その他の方法として、特開平2−177552号公報に
開示されている方法が知られている。
2. Description of the Related Art A semiconductor integrated circuit is sealed with a resin package. Conventionally, low-pressure transfer molding (injection molding) is often used for manufacturing resin packages,
As another method, the method disclosed in JP-A-2-177552 is known.

【0003】前記低圧トランスファモールドを行う装置
は、金型およびこの金型を駆動する型締め装置、金型内
に樹脂を射出するトランスファ装置等によって構成され
ている。前記金型は樹脂を収容するポット、半導体集積
回路ペレットが収容される複数のキャビティ、これらキ
ャビティとポットとを連通するランナおよびゲートを有
している。このような構成において、前記型締め装置に
よって金型を合体し、この状態において、トランスファ
装置によって樹脂を金型内にトランスファすることによ
り、半導体集積回路ペレットを封止したパッケージが成
形される。
The device for performing the low-pressure transfer molding is composed of a mold, a mold clamping device for driving the mold, a transfer device for injecting resin into the mold, and the like. The mold has a pot for containing a resin, a plurality of cavities for accommodating semiconductor integrated circuit pellets, and a runner and a gate for communicating these cavities with the pot. In such a configuration, the molds are combined by the mold clamping device, and in this state, the resin is transferred into the molds by the transfer device to form a package in which the semiconductor integrated circuit pellets are sealed.

【0004】また、前記公報に開示されている方法は、
アッパーカバーとアンダーカバーにそれぞれ樹脂を収容
し、これらアッパーカバーとアンダーカバーの相互間に
半導体集積回路ペレットを配設する。この後、アンダー
カバーを台によって保持し、このアッパーカバーの樹脂
に半導体集積回路ペレットがマウントされる。さらに、
このアンダーカバーにアッパーカバーを載置し、このア
ッパーカバーの樹脂とアンダーカバーの樹脂とを密着さ
せるため、アッパーカバーの上に重りを載せた状態で加
熱している。
The method disclosed in the above publication is
Resin is housed in each of the upper cover and the under cover, and the semiconductor integrated circuit pellets are arranged between the upper cover and the under cover. After that, the undercover is held by the base, and the semiconductor integrated circuit pellets are mounted on the resin of the upper cover. further,
The upper cover is placed on the under cover, and in order to bring the resin of the upper cover into close contact with the resin of the under cover, heating is performed with a weight placed on the upper cover.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】ところで、上記低圧ト
ランスファモールドは、パッケージ成形時にポット底部
(カル)、ランナ、ゲートに樹脂が残存するため、材料
の利用効率が低く、しかも、これら残存樹脂は廃棄物と
なる。この樹脂廃棄物は半導体工業から出る廃棄物の1
/3を占めており、大きな問題となっている。
By the way, in the above-mentioned low-pressure transfer mold, since the resin remains on the pot bottom (cull), the runner and the gate during the package molding, the utilization efficiency of the material is low, and the residual resin is discarded. It becomes a thing. This resin waste is one of the wastes from the semiconductor industry.
Occupy / 3, which is a big problem.

【0006】また、トランスファモールドは、ランナ、
ゲート等の内部に樹脂を移動させるため、流動性の良い
樹脂を使用する必要がある。このため、モールドに際し
て、樹脂の熱膨張係数、熱伝導性等に制約を受ける。す
なわち、パッケージは熱膨張係数が小さく、熱伝導性が
良好であることが要求される。しかし、これらを満足さ
せようとした場合、樹脂の流動性が悪くなり、半導体チ
ップに設けられたボンディングワイヤの変形やリード、
タブの流動を招来し、最悪の場合、ワイヤの切断等の原
因になるものであった。
Further, the transfer mold is a runner,
In order to move the resin inside the gate or the like, it is necessary to use a resin having good fluidity. Therefore, upon molding, there are restrictions on the coefficient of thermal expansion and thermal conductivity of the resin. That is, the package is required to have a small coefficient of thermal expansion and good thermal conductivity. However, if these are to be satisfied, the fluidity of the resin will deteriorate, and the deformation of the bonding wires and leads on the semiconductor chip,
This causes the tab to flow, and in the worst case, causes the cutting of the wire.

【0007】さらに、モールド後、金型から樹脂を容易
に離型可能とするため、離型剤を使用する必要がある。
上記構成のトランスファモールドの場合、金型には複数
のキャビティ、ランナ、ゲートが設けられている。この
ため、モールドの度にキャビティ、ランナ、ゲートに離
型剤を塗布することは煩雑である。したがって、一般に
は、離型剤を内部に含む樹脂が使用されている。しか
し、離型剤を含む樹脂は半導体チップ、ボンディングワ
イヤおよびこれが接続されるアウターリードとの密着を
損なう原因となるため適当ではない。このため、トラン
スファモールドにおいては成形品の離型方法が問題とな
ってきていた。
Furthermore, it is necessary to use a release agent so that the resin can be easily released from the mold after the molding.
In the case of the transfer mold having the above structure, the mold is provided with a plurality of cavities, runners, and gates. Therefore, it is complicated to apply the mold release agent to the cavity, runner, and gate for each molding. Therefore, a resin containing a release agent inside is generally used. However, the resin containing the release agent is not suitable because it causes a loss of adhesion with the semiconductor chip, the bonding wire, and the outer leads to which the bonding wire is connected. Therefore, in transfer molding, the method of releasing the molded product has become a problem.

【0008】一方、前記公報に開示された方法および装
置は、材料をほぼ100%利用できるため、材料の利用
効率が良好であるとともに、樹脂を移動させないため、
樹脂の流動性もそれ程問題とはならない。しかし、アッ
パーカバーとアンダーカバーがそれぞれ独立しているた
め、位置規制台にこれらを収容する工程において、これ
らの搬送や位置決め等が煩雑であり、連続工程による量
産には適さないものである。
On the other hand, in the method and apparatus disclosed in the above publication, the material can be utilized almost 100%, so that the utilization efficiency of the material is good and the resin is not moved.
The fluidity of the resin does not matter so much. However, since the upper cover and the under cover are independent of each other, in the step of accommodating them on the position regulation table, their transportation and positioning are complicated, and they are not suitable for mass production in a continuous process.

【0009】この発明は、上記課題を解決するためにな
されたものであり、その目的とするところは、材料の利
用効率が良好で取扱いが容易であり、しかも、簡単な構
成によって連続成形可能な半導体装置の製造方法および
製造装置を提供しようとするものである。
The present invention has been made in order to solve the above-mentioned problems, and an object of the present invention is that material utilization efficiency is good, handling is easy, and continuous molding is possible with a simple structure. A semiconductor device manufacturing method and a manufacturing device are provided.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】この発明の製造方法は、
所定間隔離間して配設された凹部内にパッケージを形成
するための樹脂が収容されたテープ状の第1の保持手段
と、所定間隔離間して配設された凹部内にパッケージを
形成するための樹脂が収容されたテープ状の第2の保持
手段との相互間に半導体集積回路ペレットが所定間隔離
間して配設されたリードフレームを配設し、前記半導体
集積回路ペレットを前記第1、第2の保持手段に設けら
れた樹脂によって連続的に封止することを特徴とする。
The manufacturing method of the present invention comprises:
To form a tape-shaped first holding means containing a resin for forming a package in a concave portion arranged at a predetermined distance and a package in a concave portion arranged at a predetermined distance A lead frame in which the semiconductor integrated circuit pellets are arranged at a predetermined distance from each other between the second frame and the tape-shaped second holding means containing the resin, and the semiconductor integrated circuit pellets are attached to the first, It is characterized in that it is continuously sealed by a resin provided in the second holding means.

【0011】また、この発明の製造装置は、所定間隔離
間して配設された凹部内にパッケージを形成するための
樹脂が収容されたテープ状の第1の保持手段と、所定間
隔離間して配設された凹部内にパッケージを形成するた
めの樹脂が収容されたテープ状の第2の保持手段と、こ
れら第1、第2の保持手段の相互間に設けられ、半導体
集積回路ペレットが所定間隔離間して配設されたリード
フレームとを有し、前記半導体集積回路ペレットを前記
第1、第2のテープに設けられた樹脂によって連続的に
封止する半導体装置の製造装置であって、前記第1の保
持手段の凹部に対応した突部を収容する第1の収容部を
有する第1の型と、この第1の型に対向され、前記第2
の保持手段の凹部に対応した突部を収容する第2の収容
部を有する第2の型と、前記第1、第2の型を接離させ
る駆動手段と、前記第1、第2の型を開放した状態にお
いて、前記第1、第2の保持手段およびリードフレーム
を第1の型の駆動方向と直交方向に移動させる移動手段
とを具備している。
Further, the manufacturing apparatus of the present invention is separated from the first tape-shaped holding means in which resin for forming the package is accommodated in the concave portion arranged to be separated from the predetermined interval with a predetermined interval. The semiconductor integrated circuit pellet is provided between the tape-shaped second holding means in which a resin for forming a package is housed in the provided recess and the first and second holding means. A manufacturing device of a semiconductor device, comprising: a lead frame arranged with a space therebetween, and continuously sealing the semiconductor integrated circuit pellets with a resin provided on the first and second tapes, A first die having a first accommodating portion for accommodating a protrusion corresponding to the concave portion of the first holding means, and a first die opposed to the first die;
A second mold having a second accommodating portion for accommodating a protrusion corresponding to the recess of the holding means, a driving means for bringing the first and second molds into contact with each other, and the first and second molds. And a moving means for moving the first and second holding means and the lead frame in a direction orthogonal to the driving direction of the first die in a state in which is opened.

【0012】[0012]

【作用】すなわち、この発明において、リードフレーム
に等間隔に配設された半導体集積回路ペレットは、第
1、第2の保持手段に設けられた樹脂によって連続的に
封止される。パッケージを形成するための個々の樹脂は
第1、第2の保持手段に保持されているため、樹脂の利
用効率が良好であるとともに、取扱いが容易である。し
かも、簡単な構成によってパッケージを連続成形するこ
とができるため、量産に適している。
That is, in the present invention, the semiconductor integrated circuit pellets arranged at equal intervals on the lead frame are continuously sealed by the resin provided on the first and second holding means. Since the individual resins for forming the package are held by the first and second holding means, the utilization efficiency of the resins is good and the handling is easy. Moreover, since the package can be continuously molded with a simple structure, it is suitable for mass production.

【0013】[0013]

【実施例】以下、この発明の実施例について図面を参照
して説明する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0014】図1乃至図10はこの発明の第1の実施例
を示すものである。図1、図2において、テープ11は
耐熱性を有する例えばポリイミドによって構成されてい
る。このテープ11の材質は、熱可塑性樹脂も適用する
ことができる。このテープ11の表面には所定間隔離間
して複数の凹部12が設けられている。この凹部12に
よって、テープ11の裏面にはエンボスが形成される。
以下、凹部およびエンボスは共通のものとして扱い符号
12を付す。この凹部12の形状は、例えばDIP(Dua
l In-line Package)、SOJ(Small Outline J-leaded
Package)等のパッケージ形状に対応して形成されてい
る。これら凹部12の内部には、図3、図4に示すよう
に、樹脂13が充填されている。この樹脂13は例えば
フィラーを20〜97wt/%含むフェノール硬化型エポ
キシ樹脂であり、フィラーは例えばシリカやSiN、S
iC等である。この樹脂13は、均一化のためBステー
ジ化されており、テープ11を裏返し加熱した場合にお
いても落下しない程度の粘度を有している。
1 to 10 show a first embodiment of the present invention. 1 and 2, the tape 11 is made of, for example, polyimide having heat resistance. A thermoplastic resin can also be applied to the material of the tape 11. A plurality of recesses 12 are provided on the surface of the tape 11 at predetermined intervals. The recess 12 forms an emboss on the back surface of the tape 11.
Hereinafter, the concave portion and the embossing are treated as common and the reference numeral 12 is attached. The shape of the recess 12 is, for example, DIP (Dua
l In-line Package), SOJ (Small Outline J-leaded
Package) and other package shapes. The inside of these recesses 12 is filled with resin 13, as shown in FIGS. The resin 13 is, for example, a phenol-curable epoxy resin containing 20 to 97 wt /% of filler, and the filler is, for example, silica, SiN, or S.
iC etc. The resin 13 is B-staged for homogenization, and has a viscosity that does not drop even when the tape 11 is heated inside out.

【0015】前記フィラーの量は樹脂の熱膨張係数に影
響し、フィラーの量が少ないほど熱膨張係数が大きくな
る。上記例ではフィラーの下限を20wt/%としたが、
熱膨張係数が小さな樹脂を使用する場合や、半導体装置
の性能および用途により熱膨張係数が無視できる場合
は、フィラーを20〜0wt/%とすることも可能であ
る。
The amount of the filler affects the thermal expansion coefficient of the resin, and the smaller the amount of the filler, the larger the thermal expansion coefficient. In the above example, the lower limit of the filler was set to 20 wt /%,
When a resin having a small coefficient of thermal expansion is used, or when the coefficient of thermal expansion is negligible depending on the performance and application of the semiconductor device, the filler may be 20 to 0 wt /%.

【0016】前記テープ11の凹部12の内面には樹脂
13を充填する以前に図示せぬ離型剤が塗布されてい
る。この離型剤は、例えばテープ11をその長手方向に
移動しながら自動的に塗布することができる。離型剤を
凹部12の内面に塗布しているため、樹脂13の内部に
は離型剤は含まれていない。離型剤の塗布と樹脂13の
充填は連続した工程により、自動的に行うことができ
る。また、テープ11に離型剤を塗布した後、エンボス
加工してもよい。
A release agent (not shown) is applied to the inner surface of the recess 12 of the tape 11 before the resin 13 is filled. This release agent can be automatically applied while moving the tape 11 in the longitudinal direction, for example. Since the release agent is applied to the inner surface of the recess 12, the resin 13 does not contain the release agent. The application of the release agent and the filling of the resin 13 can be automatically performed in a continuous process. Alternatively, embossing may be performed after the release agent is applied to the tape 11.

【0017】次に、上記樹脂13が充填されたテープ1
1を2つ用いたパッケージの製造方法について説明す
る。
Next, the tape 1 filled with the above resin 13
A method of manufacturing a package using two 1's will be described.

【0018】先ず、図5に示すように、一方のパッケー
ジを形成するための第1のテープ11aと、他方のパッ
ケージを形成するための第2のテープ11bの相互間
に、リードフレーム14を配置する。このリードフレー
ム14の第1のテープ11aと対向する面には半導体集
積回路ペレット(以下、ICペレットと称す)15が前
記凹部12に対応した間隔でダイボンディングされてい
る。各ICペレット15はリードフレーム14の図示せ
ぬインナーリードにボンディングワイヤ16により、ボ
ンディングされている。この状態において、第1、第2
のテープ11a、11bの樹脂13a、13bを図示せ
ぬ加熱手段によって、例えば180℃に加熱し、樹脂1
3を軟化させる。
First, as shown in FIG. 5, the lead frame 14 is arranged between the first tape 11a for forming one package and the second tape 11b for forming the other package. To do. Semiconductor integrated circuit pellets (hereinafter referred to as IC pellets) 15 are die-bonded to the surface of the lead frame 14 facing the first tape 11a at intervals corresponding to the recesses 12. Each IC pellet 15 is bonded to an inner lead (not shown) of the lead frame 14 by a bonding wire 16. In this state, the first and second
The resins 13a and 13b of the tapes 11a and 11b of FIG.
Soften 3.

【0019】次に、例えば図6に示すように、先ず、リ
ードフレーム14を上昇させ、リードフレーム14を第
2のテープ11bの裏面に当接する。この状態で下側の
テープ11aを上昇させ、リードフレーム14に設けら
れたICペレット15およびボンディングワイヤ16を
第1のテープ11aの樹脂13aの内部に進入させる。
図6は第1のテープ11aを若干上昇させた状態を示し
ている。この後、図7に示すように、第1のテープ11
aと第2のテープ11bを圧接し、ICペレット15お
よびボンディングワイヤ16を、第1、第2のテープ1
1a、11bに設けられた樹脂13a、13bによって
封止する。
Next, as shown in FIG. 6, for example, first, the lead frame 14 is raised and the lead frame 14 is brought into contact with the back surface of the second tape 11b. In this state, the tape 11a on the lower side is raised, and the IC pellet 15 and the bonding wire 16 provided on the lead frame 14 are made to enter the inside of the resin 13a of the first tape 11a.
FIG. 6 shows a state in which the first tape 11a is slightly raised. After this, as shown in FIG. 7, the first tape 11
a and the second tape 11b are brought into pressure contact with each other, and the IC pellet 15 and the bonding wire 16 are connected to each other by the first and second tapes 1 and 2.
It seals with resin 13a, 13b provided in 1a, 11b.

【0020】リードフレーム14に設けられたICペレ
ット15およびボンディングワイヤ16を第1のテープ
11aの樹脂13aの内部に進入させる速度は、ボンデ
ィングワイヤ16が変形しない程度とする必要がある。
ボンディングワイヤ16の直径が25μm、樹脂13が
上記条件である場合、進入速度は0.05〜5.0 mm/secが
好ましい。この進入速度が必要な範囲を図5、図6に距
離L1 で示している。この距離L1 は第1、第2のテー
プ11a、11bの相互間距離L2 に比べて極僅かであ
る。したがって、距離L3 の範囲を高速動作とすること
により、第1のテープ11aに対する第2のテープ11
bの移動時間を短縮できる。
The speed at which the IC pellet 15 and the bonding wire 16 provided on the lead frame 14 enter the inside of the resin 13a of the first tape 11a must be such that the bonding wire 16 is not deformed.
When the diameter of the bonding wire 16 is 25 μm and the resin 13 is under the above conditions, the entry speed is preferably 0.05 to 5.0 mm / sec. The range where this approach speed is required is shown by the distance L 1 in FIGS. 5 and 6. This distance L 1 is extremely small compared to the mutual distance L 2 between the first and second tapes 11a and 11b. Therefore, by operating the range of the distance L 3 at high speed, the second tape 11 with respect to the first tape 11a can be operated.
The moving time of b can be shortened.

【0021】上記第1、第2のテープ11a、11bに
設けられた樹脂13a、13bが十分硬化した後、第
1、第2のテープ11a、11bがリードフレーム14
から剥離され、図8に示すように、パッケージ17、1
7が形成される。
After the resins 13a and 13b provided on the first and second tapes 11a and 11b are sufficiently hardened, the first and second tapes 11a and 11b are attached to the lead frame 14.
Peeled from the package 17, as shown in FIG.
7 is formed.

【0022】尚、上記実施例では、パッケージの成形時
に、先ず、リードフレーム14を第2のテープ11bに
当接したが、予めリードフレーム14を図6に示すよう
に、第2のテープ11bに当接しておいてもよい。
In the above embodiment, the lead frame 14 was first brought into contact with the second tape 11b during the molding of the package, but the lead frame 14 was previously attached to the second tape 11b as shown in FIG. You may abut.

【0023】さらに、第1、第2のテープ11a、11
bの剥離時期は任意であり、第1、第2のテープ11
a、11bを装着したまま保存することも可能である。
また、リードフレーム14のタイバーカットも必要な時
期に行えばよい。
Furthermore, the first and second tapes 11a, 11
The peeling time of b is arbitrary, and the first and second tapes 11
It is also possible to save with a and 11b attached.
Further, the tie bar cutting of the lead frame 14 may be performed at a necessary time.

【0024】さらに、第1、第2のテープ11a、11
bの凹部12以外を取り除き、凹部12を半導体装置の
カバーとして使用することもできる。この場合、凹部1
2から樹脂13a、13bを離型する必要がないため、
凹部12に離型剤を塗布する必要はない。
Furthermore, the first and second tapes 11a and 11
It is also possible to remove the parts other than the recess 12 of b and use the recess 12 as a cover of the semiconductor device. In this case, the recess 1
Since it is not necessary to release the resins 13a and 13b from 2,
It is not necessary to apply a release agent to the recess 12.

【0025】さらに、上記第1、第2のテープ11a、
11bの移動順序はいずれが先でも本質的には変わりが
なく、例えば図9に示すように、先ず、第1のテープ1
1aとリードフレーム14とを合体し、この後、第2の
テープ11bと第1のテープ11aとを圧接しても良
い。また、図10に示すように、先ず、第2のテープ1
1bにリードフレーム14を合体し、この後、第2のテ
ープ11bと第1のテープ11aとを圧接しても良い。
さらに、リードフレーム14に対して、第1、第2のテ
ープ11a、11bを同時に圧接してもよい。
Further, the first and second tapes 11a,
The moving order of 11b is essentially the same regardless of which order comes first. For example, as shown in FIG.
The 1a and the lead frame 14 may be combined, and then the second tape 11b and the first tape 11a may be pressed against each other. Further, as shown in FIG. 10, first, the second tape 1
The lead frame 14 may be integrated with the 1b, and then the second tape 11b and the first tape 11a may be pressed against each other.
Further, the first and second tapes 11a and 11b may be pressed against the lead frame 14 at the same time.

【0026】上記実施例によれば、第1、第2のテープ
11a、11bの凹部12に充填された樹脂13a、1
3bによってリードフレーム14に設けられたICペレ
ット15を封止している。したがって、モールド樹脂の
廃棄物が殆ど出ないため、樹脂の利用効率をほぼ100
%とすることができ、従来のトランスファモールドに比
べてモールド樹脂の歩留まりを飛躍的に高めることがで
きる。
According to the above embodiment, the resins 13a and 1 filled in the recesses 12 of the first and second tapes 11a and 11b.
The IC pellet 15 provided on the lead frame 14 is sealed by 3b. Therefore, since the waste of the molding resin is hardly generated, the resin utilization efficiency is almost 100%.
%, And the yield of the molding resin can be dramatically increased as compared with the conventional transfer molding.

【0027】また、各樹脂13は第1、第2のテープ1
1a、11bによって保持されている。したがって、樹
脂13とリードフレーム14に設けられたICペレット
15の位置決めを容易に行うことができるため、自動化
に適し、量産性が優れているものである。
Further, each resin 13 is used as the first and second tapes 1.
It is held by 1a and 11b. Therefore, the resin pellet 13 and the IC pellet 15 provided on the lead frame 14 can be easily positioned, which is suitable for automation and has excellent mass productivity.

【0028】さらに、樹脂13は離型剤を含まないた
め、樹脂13とリードフレーム14、ICペレット1
5、ボンディングワイヤ16の密着性を向上できる。し
たがって、パッケージ内部への水分の侵入を確実に防止
できる。しかも、テープの凹部に対する離型剤の塗布は
自動化できるため、塗布に要する時間を短縮できる。
Furthermore, since the resin 13 does not contain a release agent, the resin 13, the lead frame 14, and the IC pellet 1
5. The adhesiveness of the bonding wire 16 can be improved. Therefore, it is possible to reliably prevent moisture from entering the package. Moreover, since the application of the release agent to the concave portions of the tape can be automated, the time required for the application can be shortened.

【0029】また、リードフレーム14に設けられたI
Cペレット15およびボンディングワイヤ16を第1の
テープ11aの樹脂13aの内部に進入させる速度は、
0.05〜5.0 mm/sec であるため、ボンディングワイヤ1
6の変形を防止できる。しかも、この速度を必要とする
距離は僅かである。したがって、パッケージの成形時間
に及ぼす影響は極僅かである。
Further, I provided on the lead frame 14
The speed at which the C pellet 15 and the bonding wire 16 enter the inside of the resin 13a of the first tape 11a is
Bonding wire 1 because it is 0.05 to 5.0 mm / sec.
The deformation of 6 can be prevented. Moreover, the distance required for this speed is small. Therefore, the influence on the molding time of the package is negligible.

【0030】図11は、従来のトランスファモールドに
おけるキャビティ内の樹脂の流速とボンディングワイヤ
の変形率の関係を示すものである。ここで、ボンディン
グワイヤの直径および樹脂の種類は上記実施例と同様で
ある。ボンディングワイヤの変形率はl/Lで表され
る。Lはワイヤの長さを示し、lはワイヤの長さ方向と
直交する方向から樹脂が流れてきた場合における湾曲し
たワイヤの頂点と元の位置との距離を示している。
FIG. 11 shows the relationship between the flow rate of the resin in the cavity and the deformation rate of the bonding wire in the conventional transfer mold. Here, the diameter of the bonding wire and the type of resin are the same as in the above embodiment. The deformation rate of the bonding wire is represented by 1 / L. L represents the length of the wire, and l represents the distance between the apex of the curved wire and the original position when the resin flows from the direction orthogonal to the length direction of the wire.

【0031】T1とT2は樹脂の温度条件が異なってお
り、T2は180℃、T1はこれより温度が高く設定さ
れている。同図から明らかなように、ボンディングワイ
ヤの変形率はキャビティ内の樹脂の流速が速いほど高く
なる。この発明の場合、ボンディングワイヤを樹脂の内
部に進入させる速度(相対的には樹脂の流速)は、0.05
〜5.0 mm/sec である。このため、ボンディングワイヤ
の変形率を5%以下とすることができる。また、この発
明の場合、図5、図6に示すように樹脂は湾曲したワイ
ヤの頂点部分から接触し、従来のトランスファモールド
のように湾曲したワイヤの横方向からの接触とは相違す
る。したがって、この発明の場合、従来に比べてワイヤ
の強度が大きく、ワイヤの変形率を低下できる。
T1 and T2 have different resin temperature conditions, T2 is set to 180 ° C. and T1 is set to a temperature higher than this. As is clear from the figure, the deformation rate of the bonding wire increases as the resin flow velocity in the cavity increases. In the case of the present invention, the speed at which the bonding wire enters the inside of the resin (relatively the flow velocity of the resin) is 0.05
~ 5.0 mm / sec. Therefore, the deformation rate of the bonding wire can be 5% or less. Further, in the case of the present invention, the resin contacts from the apex portion of the curved wire as shown in FIGS. 5 and 6, which is different from the lateral contact of the curved wire as in the conventional transfer mold. Therefore, in the case of the present invention, the strength of the wire is greater than in the conventional case, and the deformation rate of the wire can be reduced.

【0032】また、第1、第2のテープ11a、11b
はパッケージ成形後、パッケージのカバーとして利用す
ることが可能であり、この場合、パッケージ内部への水
分の侵入を一層確実に防止できる。
Further, the first and second tapes 11a and 11b
Can be used as a cover for the package after the package is molded, and in this case, it is possible to more reliably prevent moisture from entering the inside of the package.

【0033】次に、この発明の他の実施例について説明
する。尚、第1の実施例と同一部分には同一符号を付
す。
Next, another embodiment of the present invention will be described. The same parts as those in the first embodiment are designated by the same reference numerals.

【0034】図12は、テープの第2の実施例を示すも
のである。このテープ11の裏面には金属フィルム21
が設けられている。金属フィルム21は例えばアルミニ
ウム、鉄、銅、ニッケル等を適用できる。このテープ1
1を使用して上述した方法により、樹脂パッケージを成
形した後、図13に示すように、エンボス12を残し、
テープ11、金属フィルム21の他の部分を切除する。
すると、エンボス12を構成するテープ11と金属フィ
ルム21によってパッケージ17をカバーした半導体装
置を得ることができる。
FIG. 12 shows a second embodiment of the tape. On the back side of this tape 11, a metal film 21
Is provided. For the metal film 21, for example, aluminum, iron, copper, nickel or the like can be applied. This tape 1
After molding the resin package by the method described above using 1, the embossing 12 is left as shown in FIG.
The other parts of the tape 11 and the metal film 21 are cut off.
Then, a semiconductor device in which the package 17 is covered with the tape 11 forming the emboss 12 and the metal film 21 can be obtained.

【0035】この実施例によれば、第1の実施例に比べ
て水分の侵入を防止可能なパッケージを形成できる。ま
た、金属フィルム21の端部とリードフレーム14の相
互間にテープ11の端部が介在しているため、金属フィ
ルム21とリードフレーム14とを確実に絶縁できる。
According to this embodiment, compared to the first embodiment, it is possible to form a package capable of preventing moisture from entering. Further, since the end portion of the tape 11 is interposed between the end portion of the metal film 21 and the lead frame 14, the metal film 21 and the lead frame 14 can be reliably insulated.

【0036】尚、第2の実施例では、テープの裏面に金
属フィルムを設けたが、金属フィルムの表面にさらにテ
ープを設け、金属フィルムをテープによって挟んだ構成
としても良い。さらに、金属フィルムをテープと樹脂の
間に設けてもよい。
Although the metal film is provided on the back surface of the tape in the second embodiment, a tape may be further provided on the front surface of the metal film and the metal film may be sandwiched between the tapes. Further, a metal film may be provided between the tape and the resin.

【0037】図14はこの発明の第3の実施例を示すも
のである。この実施例はパッケージ17を構成する上側
の樹脂13aと下側の樹脂13bを別々の材料によって
構成したものである。上側の樹脂13aと下側の樹脂1
3bの組合わせは、パッケージの目的、用途に応じて選
択される。例えばパッケージの耐熱性を向上させる場
合、上側はポリイミド樹脂、下側はエポキシ樹脂が用い
られる。また、信頼性を向上させるとともに製造コスト
を低廉化する場合、上側は半導体用高純度エポキシ樹脂
またはポリイミド樹脂、下側は低純度エポキシ樹脂また
はフェノール樹脂が用いられる。このようなパッケージ
を製造する場合、上側の第1のテープ11aに樹脂13
aを保持し、下側の第2のテープ11bに樹脂13bを
保持すれば良い。さらに、樹脂13a、13bに混合す
るフィラーの量を変えてもよい。例えばICペレット1
5が設けられない側のパッケージはフィラーの量をほぼ
99%とすることができる。この場合、フィラーの種類
によっては金属並みの熱伝導率を得ることができる。
FIG. 14 shows a third embodiment of the present invention. In this embodiment, the upper resin 13a and the lower resin 13b forming the package 17 are made of different materials. Upper resin 13a and lower resin 1
The combination of 3b is selected according to the purpose and application of the package. For example, when improving the heat resistance of the package, a polyimide resin is used for the upper side and an epoxy resin is used for the lower side. Further, in order to improve reliability and reduce manufacturing cost, a high-purity epoxy resin or polyimide resin for semiconductor is used on the upper side, and a low-purity epoxy resin or phenol resin is used on the lower side. When manufacturing such a package, resin 13 is applied to the upper first tape 11a.
It is sufficient to hold a and the resin 13b on the second tape 11b on the lower side. Further, the amount of filler mixed with the resins 13a and 13b may be changed. For example, IC pellet 1
The amount of filler in the package on the side where 5 is not provided can be approximately 99%. In this case, depending on the type of filler, it is possible to obtain a thermal conductivity similar to that of metal.

【0038】図23はフィラーの量と樹脂の熱伝導率λ
との関係を示すものである。同図において、Aはフィラ
ーとして窒化ケイ素、Bはフィラーとして炭化ケイ素、
Cはフィラーとして石英、Dはフィラーとしてアモルフ
ァスシリカを用いた場合を示している。
FIG. 23 shows the amount of filler and the thermal conductivity λ of resin.
It shows the relationship with. In the figure, A is silicon nitride as a filler, B is silicon carbide as a filler,
C shows the case where quartz is used as the filler, and D shows the case where amorphous silica is used as the filler.

【0039】このように、パッケージの目的、用途に応
じて樹脂の組成を変えることにより、パッケージの熱膨
張率、熱伝導率、耐熱性能、耐水性能を任意に設定する
ことができる。
As described above, the thermal expansion coefficient, thermal conductivity, heat resistance performance, and water resistance performance of the package can be arbitrarily set by changing the composition of the resin according to the purpose and application of the package.

【0040】図15はこの発明の第4の実施例を示すも
のである。この実施例はパッケージ17を構成する上側
の樹脂13aの表面に別の樹脂13cを設けたものであ
る。一般に、パッケージの表面には各種マークが記載さ
れる。このマークは例えばパッケージのモールド樹脂に
染料を混入しておき、パッケージ成形後、パッケージの
表面にレーザ光を照射し、前記染料を発色させて形成し
ている。しかし、モールド樹脂に含まれた染料はICペ
レットやボンディングワイヤに悪影響を与えることがあ
るため、染料とこれらが接触しないことが望ましいが、
従来のトランスファモールドでは困難であった。
FIG. 15 shows a fourth embodiment of the present invention. In this embodiment, another resin 13c is provided on the surface of the upper resin 13a constituting the package 17. Generally, various marks are written on the surface of the package. This mark is formed, for example, by mixing a dye in the mold resin of the package, irradiating the surface of the package with laser light after the package is molded, and coloring the dye. However, since the dye contained in the molding resin may adversely affect the IC pellet and the bonding wire, it is desirable that the dye and the dye do not come into contact with each other.
It was difficult with the conventional transfer mold.

【0041】この実施例では、前記第1のテープ11a
の凹部12に、先ず染料を含む樹脂13cを薄く充填
し、この後、前記樹脂13aを充填する。この二層構造
の樹脂を含む第1のテープ11aと前述した樹脂13b
を含む第2のテープ11bを使用してパッケージを成形
した場合、図15に示すように、パッケージ17の表面
に染料を含む樹脂13cが位置する。
In this embodiment, the first tape 11a is
First, a resin 13c containing a dye is thinly filled in the recess 12 and then the resin 13a is filled therein. The first tape 11a containing the resin having the two-layer structure and the resin 13b described above.
When the package is molded using the second tape 11b containing the resin, the resin 13c containing the dye is located on the surface of the package 17, as shown in FIG.

【0042】この実施例によれば、パッケージ17表面
に染料を含む樹脂13cが位置するため、この樹脂13
cに所要のマークを記載することができ、しかも、染料
を含む樹脂13cはICペレット15やボンディングワ
イヤ16に接触しないため、これらに悪影響を与えない
ものである。
According to this embodiment, since the resin 13c containing the dye is located on the surface of the package 17, this resin 13c
A required mark can be described in c, and since the resin 13c containing the dye does not come into contact with the IC pellet 15 and the bonding wire 16, they do not adversely affect them.

【0043】図16はこの発明の第5の実施例を示すも
のである。この実施例はパッケージ17を構成する樹脂
13aの内部に金属フィルム22を設けたものである。
すなわち、第1のテープ11aの凹部12に、先ず樹脂
13aを薄く充填し、この上に金属フィルム22を載置
し、さらに前記樹脂13aを充填する。このような構造
の樹脂13aを含む第1のテープ11aと前述した樹脂
13bを含む第2のテープ11bを使用してパッケージ
を成形した場合、図16に示すように、樹脂13aの内
部に金属フィルム22が位置する。
FIG. 16 shows a fifth embodiment of the present invention. In this embodiment, a metal film 22 is provided inside the resin 13a that constitutes the package 17.
That is, the resin 13a is first thinly filled in the recess 12 of the first tape 11a, the metal film 22 is placed thereon, and the resin 13a is further filled therein. When a package is molded using the first tape 11a containing the resin 13a having the above structure and the second tape 11b containing the resin 13b described above, a metal film is formed inside the resin 13a as shown in FIG. 22 is located.

【0044】この実施例によれば、金属フィルム22に
よって樹脂13aの内部に水分が侵入することを防止で
きる。
According to this embodiment, the metal film 22 can prevent water from entering the inside of the resin 13a.

【0045】図17はこの発明の第6の実施例を示すも
のである。この実施例において、例えばテープ11aに
は溝23が設けられている。この溝23の一端は凹部1
2の角部に位置して凹部12と連通し、他端はテープ1
1aの縁部に位置している。この溝23は第1、第2の
テープ11a、11bの両方、またはいずれか一方に設
ければよい。
FIG. 17 shows a sixth embodiment of the present invention. In this embodiment, for example, the tape 11a is provided with a groove 23. One end of this groove 23 is a recess 1
Located at the corner of 2 and communicates with the recess 12, and the other end is the tape 1
It is located at the edge of 1a. The groove 23 may be provided in both the first tape 11a and the second tape 11b, or in either one.

【0046】この実施例によれば、パッケージの成形時
に樹脂13a、13bを圧縮した際に、樹脂13a、1
3bの内部から出る空気を前記溝23を介してテープの
外部に放出できる。したがって、成形されたパッケージ
内部や表面にボイドが発生することを防止できる。
According to this embodiment, when the resin 13a, 13b is compressed during the molding of the package, the resin 13a, 1b is compressed.
Air from the inside of 3b can be discharged to the outside of the tape through the groove 23. Therefore, it is possible to prevent the occurrence of voids inside or on the surface of the molded package.

【0047】図18は、上記製造方法を用いた製造装置
の第1の実施例を示すものである。圧縮成形機31にお
いて、基台32には例えばサーボモータによる駆動装置
33が設けられている。この駆動装置33には第1の固
定台34が設けられ、この第1の固定台34には複数の
軸35の一端が設けられている。この軸35の他端には
第2の固定台36が設けられている。前記複数の軸35
には移動台37が設けられ、この移動台37には前記駆
動装置33に設けられたプランジャ38が連結されてい
る。したがって、駆動装置33が駆動されプランジャ3
8が移動されると、これに伴って移動台37は前記軸心
方向に移動される。前記移動台37と第2の固定台36
には互いに対向して、第1、第2の金型39、40が設
けられている。
FIG. 18 shows a first embodiment of a manufacturing apparatus using the above manufacturing method. In the compression molding machine 31, the base 32 is provided with a drive device 33, for example, by a servo motor. The drive unit 33 is provided with a first fixed base 34, and the first fixed base 34 is provided with one end of a plurality of shafts 35. A second fixed base 36 is provided on the other end of the shaft 35. The plurality of shafts 35
A movable base 37 is provided on the movable base 37, and a plunger 38 provided on the drive unit 33 is connected to the movable base 37. Therefore, the drive device 33 is driven and the plunger 3
When 8 is moved, the moving table 37 is moved in the axial direction accordingly. The movable table 37 and the second fixed table 36
Are provided with first and second molds 39, 40 facing each other.

【0048】一方、前記圧縮成形機31の一方側面近傍
には第1の支持体41が設けられ、他方側面近傍には第
2の支持体42が設けられている。前記第1の支持体4
1には前記第1のテープ11aが巻回された第1のリー
ル43が設けられるとともに、前記第2のテープ11b
が巻回された第2のリール44が設けられている。第1
のテープ11aには凹部12に樹脂13aが充填され、
第1のテープ11bには凹部12に樹脂13bが充填さ
れている。前記第1、第2のリール43、44の相互間
には、前記リードフレーム14が図示せぬ供給装置から
供給されている。第1、第2のリール43、44から供
給される第1、第2のテープ11a、11bおよびリー
ドフレーム14は、前記第1、第2の金型39、40の
相互間に導かれ、この第2の金型39、40を用いてパ
ッケージが成形される。このパッケージ成形後の第1、
第2のテープ11a、11bおよびリードフレーム14
は、前記第2の支持体42に設けられた第3のリール4
5によって巻き取られる。
On the other hand, a first support 41 is provided near one side surface of the compression molding machine 31, and a second support 42 is provided near the other side surface. The first support 4
1 is provided with a first reel 43 around which the first tape 11a is wound, and the second tape 11b.
A second reel 44 around which is wound is provided. First
The tape 11a is filled with resin 13a in the concave portion 12,
A resin 13b is filled in the recess 12 of the first tape 11b. The lead frame 14 is supplied between the first and second reels 43 and 44 from a supply device (not shown). The first and second tapes 11a and 11b and the lead frame 14 supplied from the first and second reels 43 and 44 are guided between the first and second molds 39 and 40, respectively. The second mold 39, 40 is used to mold the package. The first after molding this package,
Second tape 11a, 11b and lead frame 14
Is the third reel 4 provided on the second support 42.
Take up by 5.

【0049】図19は、製造装置の制御系の構成を示す
ものである。制御部51は、装置全体を制御するもので
あり、例えばマイクロコンピュータによって構成されて
いる。この制御部51には前記駆動装置33を駆動する
サーボモータ駆動部52が接続されるとともに、前記第
1乃至第3のリール43、44、45を駆動するリール
駆動部53が接続されている。さらに、制御部51には
第1、第2の金型39、40を加熱する加熱装置54が
接続されている。
FIG. 19 shows the structure of the control system of the manufacturing apparatus. The control unit 51 controls the entire apparatus, and is configured by, for example, a microcomputer. The control unit 51 is connected to a servo motor driving unit 52 that drives the driving device 33, and is also connected to a reel driving unit 53 that drives the first to third reels 43, 44 and 45. Further, the control unit 51 is connected to a heating device 54 that heats the first and second molds 39 and 40.

【0050】図20は、前記第1、第2の金型39、4
0を示すものである。第1、第2の金型39、40に
は、前記第1、第2のテープ11a、11bおよびリー
ドフレーム14の移動方向に沿って、第1、第2、第3
の段部39a、39b、39c、40a、40b、40
cが設けられている。第2の段部39b、40bは第1
の段部39a、40aより突出し、第3の段部39c、
40cは第2の段部39b、40bより突出している。
第1、第2、第3の段部39a、39b、39c、40
a、40b、40cには、第1、第2のテープ11a、
11bに設けられたエンボス12を収容するキャビティ
46がそれぞれ設けられている。これらキャビティ46
は前記エンボス12と同一形状とされている。
FIG. 20 shows the first and second molds 39, 4
It shows 0. The first and second molds 39 and 40 have first, second and third molds 39 and 40 along the moving direction of the first and second tapes 11a and 11b and the lead frame 14, respectively.
Steps 39a, 39b, 39c, 40a, 40b, 40 of
c is provided. The second steps 39b and 40b are the first
Of the third step 39c, which protrudes from the step 39a, 40a of
40c projects from the second step portions 39b and 40b.
First, second and third step portions 39a, 39b, 39c, 40
a, 40b, 40c have the first and second tapes 11a,
The cavities 46 for accommodating the embosses 12 provided in 11b are provided respectively. These cavities 46
Has the same shape as the emboss 12.

【0051】前記第1、第2の段部39a、39b、4
0a、40bは、第1、第2のテープ11a、11bの
凹部12に充填された樹脂13をプリヒートし、第3の
段部39c、40cにおいて、第1、第2のテープ11
a、11bおよびリードフレーム14を加圧し、樹脂1
3a、13bによってパッケージを成形するようになっ
ている。
The first and second step portions 39a, 39b, 4
0a and 40b preheat the resin 13 filled in the recesses 12 of the first and second tapes 11a and 11b, and the first and second tapes 11 at the third step portions 39c and 40c.
a, 11b and the lead frame 14 are pressed, and the resin 1
A package is formed by 3a and 13b.

【0052】上記構成において、製造装置の動作につい
て説明する。
The operation of the manufacturing apparatus having the above structure will be described.

【0053】第1、第2の金型39、40は加熱装置5
4によって所定の温度に加熱されている。この状態にお
いて、先ず、サーボモータ駆動部52によって駆動装置
33を駆動し、移動台37を下降して第1、第2の金型
39、40を開放する。この状態において、リール駆動
部53により、第1乃至第3のリール43、44、45
を駆動し、図20に示すように、第1、第2のテープ1
1a、11bおよびリードフレーム14を同時に移動し
て第1のテープ11aのエンボス12を第1の金型39
に設けられた第1、第2、第3の段部39a、39b、
39cのキャビティ46とそれぞれ対応させ、第2のテ
ープ11bのエンボス12を第2の金型40の段部40
a、40b、40cのキャビティ46とそれぞれ対応さ
せる。
The first and second molds 39 and 40 are the heating device 5
4 is heated to a predetermined temperature. In this state, first, the driving device 33 is driven by the servo motor driving unit 52, the moving table 37 is lowered, and the first and second molds 39 and 40 are opened. In this state, the reel drive unit 53 causes the first to third reels 43, 44, 45.
20 to drive the first and second tapes 1 as shown in FIG.
1a, 11b and the lead frame 14 are simultaneously moved to move the emboss 12 of the first tape 11a to the first mold 39.
The first, second, and third step portions 39a, 39b provided in the
The embossment 12 of the second tape 11b is made to correspond to the cavities 46 of 39c, respectively, and the step portion 40 of the second mold 40 is made.
It corresponds to the cavities 46 of a, 40b, and 40c, respectively.

【0054】この後、例えばリードフレーム14を図示
せぬ移動手段によって第2のテープ11bに当接させ
る。この状態において、移動台37を上昇して第1の金
型39を第2の金型40に高速で接近させ、第3の段部
39c、40cの相互間隔が図5に示す距離L1 となっ
た時点で、移動台37の上昇速度を前記0.05〜5.0 mm/
sec とする。この速度で第3の段部39cと第3の段部
40cとを図21に示すように当接し加圧する。このと
き、第1、第2の段部39、39b、40a、40bは
互いに離間している。
Thereafter, for example, the lead frame 14 is brought into contact with the second tape 11b by moving means (not shown). In this state, the movable table 37 is raised to bring the first mold 39 closer to the second mold 40 at high speed, and the mutual distance between the third step portions 39c and 40c becomes the distance L 1 shown in FIG. At this time, the ascending speed of the moving table 37 is increased to 0.05 to 5.0 mm /
Let sec. At this speed, the third step 39c and the third step 40c are brought into contact with each other and pressed as shown in FIG. At this time, the first and second step portions 39, 39b, 40a, 40b are separated from each other.

【0055】上記状態で所定時間加圧した後、移動台3
7を下降し、第1、第2の金型39、40を開放する
と、第1、第2のテープ11a、11bのエンボス12
は各キャビティ46から離型される。この後、第1乃至
第3のリール43、44、45を駆動し、第1、第2の
テープ11a、11bおよびリードフレーム14を移動
する。以下、同様の動作が連続して繰り返され、自動的
にパッケージが成形される。
After pressurizing for a predetermined time in the above state, the movable table 3
7 is lowered and the first and second molds 39 and 40 are opened, the embossing 12 of the first and second tapes 11a and 11b.
Is released from each cavity 46. After that, the first to third reels 43, 44 and 45 are driven to move the first and second tapes 11a and 11b and the lead frame 14. Hereinafter, the same operation is continuously repeated to automatically form the package.

【0056】図22は、製造装置の他の実施例を示すも
のである。前記実施例は1つの圧縮成形機を用いたが、
この実施例は第1乃至第4の成形機61、62、63、
64を用いている。これら第1乃至第4の成形機61〜
64には、それぞれ下型としての第1の金型61a、6
2a、63a、64a、上型としての第2の金型61
b、62b、63b、64bが設けられている。これら
第1、第2の金型61a〜64bにはそれぞれエンボス
12を収容するキャビティ65が設けられている。第1
乃至第3の成形機61、62、63は例えばそれぞれ予
熱部を構成し、これら第1乃至第3の成形機61、6
2、63によって収容部12内の樹脂を予熱する。第4
の成形機64は圧縮部を構成し、この第4の成形機64
によって樹脂を圧縮成形する。
FIG. 22 shows another embodiment of the manufacturing apparatus. Although the above example used one compression molding machine,
In this embodiment, the first to fourth molding machines 61, 62, 63,
64 is used. These first to fourth molding machines 61 to
64 includes first molds 61a, 6 as lower molds, respectively.
2a, 63a, 64a, second mold 61 as upper mold
b, 62b, 63b, 64b are provided. A cavity 65 for accommodating the emboss 12 is provided in each of the first and second molds 61a to 64b. First
The first to third molding machines 61, 62, 63 constitute, for example, preheating sections, and the first to third molding machines 61, 6 are used.
The resin in the housing portion 12 is preheated by 2, 63. Fourth
This molding machine 64 constitutes a compression section, and the fourth molding machine 64
The resin is compression molded by.

【0057】図22は第1乃至第4の成形機61〜64
の第1の金型61a〜64aと、第2の金型61b〜6
4bとが最も接近した状態を示している。第1の金型6
1a〜64aと、第2の金型61b〜64bの動作は図
18に示す装置と同様である。このような構成によって
も図18に示す装置と同様の効果を得ることができる。
FIG. 22 shows the first to fourth molding machines 61 to 64.
First molds 61a to 64a and second molds 61b to 6
4b shows the closest state. First mold 6
The operations of 1a to 64a and the second molds 61b to 64b are the same as those of the apparatus shown in FIG. With such a configuration, the same effect as that of the device shown in FIG. 18 can be obtained.

【0058】上記のように、図18、図22に示す製造
装置は基本的に圧縮成形装置であるため、構成が簡単で
あり、製造コストが安いものである。しかも、樹脂は第
1、第2のテープ11a、11bに一体的に設けられて
いるため装置に容易にセットすることができ、且つ、各
金型のキャビティには離型剤を塗布する必要がないた
め、簡単な操作により連続成形を行うことが可能であ
る。
As described above, since the manufacturing apparatus shown in FIGS. 18 and 22 is basically a compression molding apparatus, the structure is simple and the manufacturing cost is low. Moreover, since the resin is integrally provided on the first and second tapes 11a and 11b, it can be easily set in the apparatus, and it is necessary to apply a release agent to the cavity of each mold. Since it does not exist, continuous molding can be performed by a simple operation.

【0059】尚、図18、図22に示す製造装置は金型
を鉛直方向に移動し、第1、第2のテープ11a、11
bおよびリードフレーム14を水平方向に移動したが、
これに限定されるものではなく、金型を水平方向に移動
し、第1、第2のテープ11a、11bおよびリードフ
レーム14を鉛直方向に移動しても同様に製造できる。
In the manufacturing apparatus shown in FIGS. 18 and 22, the mold is moved in the vertical direction, and the first and second tapes 11a and 11 are formed.
b and the lead frame 14 were moved horizontally,
The present invention is not limited to this, and the same production can be performed by moving the mold in the horizontal direction and moving the first and second tapes 11a and 11b and the lead frame 14 in the vertical direction.

【0060】その他、この発明の要旨を変えない範囲に
おいて、種々変形実施可能なことは勿論である。
Of course, various modifications can be made without departing from the spirit of the present invention.

【0061】[0061]

【発明の効果】以上詳述したようにこの発明によれば、
材料の利用効率が良好で、取扱いが容易であり、しか
も、熱膨張係数、熱伝導率を大幅に改善でき、簡単な構
成によって連続成形可能な半導体装置の製造方法および
製造装置を提供できる。
As described above in detail, according to the present invention,
It is possible to provide a semiconductor device manufacturing method and a manufacturing apparatus which have good material utilization efficiency, are easy to handle, can significantly improve the thermal expansion coefficient and thermal conductivity, and can be continuously molded with a simple configuration.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】この発明に適用されるテープの第1の施例を示
す斜視図。
FIG. 1 is a perspective view showing a first embodiment of a tape applied to the present invention.

【図2】図1に示すテープの側面図。FIG. 2 is a side view of the tape shown in FIG.

【図3】図1に示すテープに樹脂を充填した状態を示す
斜視図。
FIG. 3 is a perspective view showing a state where the tape shown in FIG. 1 is filled with resin.

【図4】図3の4−4線に沿った断面図。FIG. 4 is a cross-sectional view taken along line 4-4 of FIG.

【図5】この発明の製造方法の一実施例を示す断面図。FIG. 5 is a sectional view showing an embodiment of the manufacturing method of the present invention.

【図6】図5に続く工程を示す断面図。6 is a cross-sectional view showing a step that follows FIG.

【図7】図6に続く工程を示す断面図。FIG. 7 is a cross-sectional view showing a step that follows FIG.

【図8】図7に続く工程を示す断面図。FIG. 8 is a cross-sectional view showing a step that follows FIG.

【図9】この発明の製造方法の他の実施例を示す断面
図。
FIG. 9 is a cross-sectional view showing another embodiment of the manufacturing method of the present invention.

【図10】この発明の製造方法の他の実施例を示す断面
図。
FIG. 10 is a sectional view showing another embodiment of the manufacturing method of the present invention.

【図11】従来のトランスファモールドにおけるキャビ
ティ内の樹脂の流速とボンディングワイヤの変形率の関
係を示す特性図。
FIG. 11 is a characteristic diagram showing a relationship between a resin flow velocity in a cavity and a deformation rate of a bonding wire in a conventional transfer mold.

【図12】この発明に係わるテープの第2の実施例を示
す断面図。
FIG. 12 is a sectional view showing a second embodiment of the tape according to the present invention.

【図13】図12に示すテープを使用して成形した樹脂
パッケージを示す断面図。
13 is a sectional view showing a resin package molded using the tape shown in FIG.

【図14】この発明に係わるテープの第3の実施例を示
す断面図。
FIG. 14 is a sectional view showing a third embodiment of the tape according to the present invention.

【図15】この発明に係わるテープの第4の実施例を示
す断面図。
FIG. 15 is a sectional view showing a fourth embodiment of the tape according to the present invention.

【図16】この発明に係わるテープの第5の実施例を示
す断面図。
FIG. 16 is a sectional view showing a fifth embodiment of the tape according to the present invention.

【図17】この発明に係わるテープの第6の実施例を示
す斜視図。
FIG. 17 is a perspective view showing a sixth embodiment of the tape according to the present invention.

【図18】この発明に係わる製造装置の一実施例を示す
側面図。
FIG. 18 is a side view showing an embodiment of the manufacturing apparatus according to the present invention.

【図19】図18に示す製造装置の制御系を示す構成
図。
19 is a configuration diagram showing a control system of the manufacturing apparatus shown in FIG.

【図20】図18に示す製造装置に適用される金型の一
例を示す断面図。
20 is a sectional view showing an example of a mold applied to the manufacturing apparatus shown in FIG.

【図21】図18に示す製造装置の動作を説明するため
に示す断面図。
21 is a cross-sectional view shown for explaining the operation of the manufacturing apparatus shown in FIG.

【図22】この発明に係わる製造装置の他の実施例を示
すものであり、要部のみを示す断面図。
FIG. 22 is a sectional view showing another embodiment of the manufacturing apparatus according to the present invention and showing only a main part.

【図23】フィラーの量と樹脂の熱伝導率λとの関係を
示す特性図。
FIG. 23 is a characteristic diagram showing the relationship between the amount of filler and the thermal conductivity λ of resin.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

11、11a、11b…第1、第2のテープ、12…凹
部(エンボス)、13、13a、13b、13c…樹
脂、14…リードフレーム、15…ICペレット、16
…ボンディングワイヤ、17…パッケージ、21、22
…金属フィルム、23…溝、31…圧縮成形機、33…
駆動装置、34、36…第1、第2の固定台、37…移
動台、39、40…第1、第2の金型、51…制御部、
46…キャビティ、61、62、63、64…第1乃至
第4の成形機。
11, 11a, 11b ... First and second tapes, 12 ... Recesses (embossing), 13, 13a, 13b, 13c ... Resin, 14 ... Lead frame, 15 ... IC pellet, 16
... Bonding wire, 17 ... Package, 21, 22
... metal film, 23 ... groove, 31 ... compression molding machine, 33 ...
Drive device, 34, 36 ... First and second fixed bases, 37 ... Moving base, 39, 40 ... First and second molds, 51 ... Control unit,
46 ... Cavities, 61, 62, 63, 64 ... First to fourth molding machines.

Claims (10)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 所定間隔離間して配設された凹部内にパ
ッケージを形成するための樹脂が収容されたテープ状の
第1の保持手段と、所定間隔離間して配設された凹部内
にパッケージを形成するための樹脂が収容されたテープ
状の第2の保持手段との相互間に半導体集積回路ペレッ
トが所定間隔離間して配設されたリードフレームを配設
し、前記半導体集積回路ペレットを前記第1、第2の保
持手段に設けられた樹脂によって連続的に封止すること
を特徴とする半導体装置の製造方法。
1. A tape-shaped first holding means in which a resin for forming a package is accommodated in a recess provided at a predetermined interval and a recess provided at a predetermined interval. A lead frame, in which semiconductor integrated circuit pellets are arranged at a predetermined interval, is provided between the tape-shaped second holding means containing a resin for forming a package and the semiconductor integrated circuit pellets. Is continuously sealed with resin provided on the first and second holding means.
【請求項2】 前記半導体集積回路ペレットを前記樹脂
によって封止した後、第1、第2の保持手段を除去する
工程を含むことを特徴とする請求項1記載の半導体装置
の製造方法。
2. The method of manufacturing a semiconductor device according to claim 1, further comprising the step of removing the first and second holding means after sealing the semiconductor integrated circuit pellet with the resin.
【請求項3】 所定間隔離間して配設された凹部内にパ
ッケージを形成するための樹脂が収容されたテープ状の
第1の保持手段と、所定間隔離間して配設された凹部内
にパッケージを形成するための樹脂が収容されたテープ
状の第2の保持手段と、これら第1、第2の保持手段の
相互間に設けられ、半導体集積回路ペレットが所定間隔
離間して配設されたリードフレームとを有し、前記半導
体集積回路ペレットを前記第1、第2のテープに設けら
れた樹脂によって連続的に封止する半導体装置の製造装
置であって、 前記第1の保持手段の凹部に対応した突部を収容する第
1の収容部を有する第1の型と、 この第1の型に対向され、前記第2の保持手段の凹部に
対応した突部を収容する第2の収容部を有する第2の型
と、 前記第1、第2の型を接離させる駆動手段と、 前記第1、第2の型を開放した状態において、前記第
1、第2の保持手段およびリードフレームを第1の型の
駆動方向と直交方向に移動させる移動手段とを具備した
ことを特徴とする半導体装置の製造装置。
3. A tape-shaped first holding means in which resin for forming a package is accommodated in a concave portion arranged at a predetermined distance, and a concave portion arranged at a predetermined distance. It is provided between the tape-shaped second holding means in which the resin for forming the package is housed and the first and second holding means, and the semiconductor integrated circuit pellets are arranged at a predetermined interval. A lead frame, and a semiconductor device manufacturing apparatus for continuously sealing the semiconductor integrated circuit pellets with a resin provided on the first and second tapes. A first mold having a first accommodating portion for accommodating a protrusion corresponding to the recess, and a second mold opposed to the first mold and accommodating the protrusion corresponding to the recess of the second holding means. A second mold having a housing, and the first and second molds Drive means for contacting and separating, and moving means for moving the first and second holding means and the lead frame in a direction orthogonal to the drive direction of the first mold in a state where the first and second molds are opened. An apparatus for manufacturing a semiconductor device, comprising:
【請求項4】 前記駆動手段は前記半導体集積回路ペレ
ットを軟化した樹脂内に進入させる速度が0.05〜5.0 mm
/sec の範囲内で可変できるようにされていることを特
徴とする請求項3記載の半導体装置の製造装置。
4. The driving means has a speed of causing the semiconductor integrated circuit pellets to enter into the softened resin of 0.05 to 5.0 mm.
4. The apparatus for manufacturing a semiconductor device according to claim 3, wherein it is variable within a range of / sec.
【請求項5】 前記樹脂は、フィラーを20〜97wt/
%含むことを特徴とする請求項3記載の半導体装置の製
造装置。
5. The resin contains a filler of 20 to 97 wt / wt.
%, The manufacturing apparatus of the semiconductor device according to claim 3.
【請求項6】 前記第1、第2の保持手段には金属フィ
ルムが設けられていることを特徴とする請求項3記載の
半導体装置の製造装置。
6. The semiconductor device manufacturing apparatus according to claim 3, wherein the first and second holding means are provided with a metal film.
【請求項7】 前記第1の保持手段に設けられた樹脂
は、第2の保持手段に設けられた樹脂と材質が相違する
ことを特徴とする請求項3記載の半導体装置の製造装
置。
7. The semiconductor device manufacturing apparatus according to claim 3, wherein the resin provided in the first holding means is different in material from the resin provided in the second holding means.
【請求項8】 前記第1の保持手段に設けられた樹脂
は、半導体集積回路ペレットに接する第1の樹脂と、こ
の第1の樹脂の表面に設けられ、染料を含む第2の樹脂
とからなることを特徴とする請求項3記載の半導体装置
の製造装置。
8. The resin provided on the first holding means is composed of a first resin in contact with the semiconductor integrated circuit pellet and a second resin provided on the surface of the first resin and containing a dye. 4. The semiconductor device manufacturing apparatus according to claim 3, wherein:
【請求項9】 前記第1の保持手段に設けられた樹脂
は、半導体集積回路ペレットと接しない位置に金属箔を
含むことを特徴とする請求項3記載の半導体装置の製造
装置。
9. The apparatus for manufacturing a semiconductor device according to claim 3, wherein the resin provided on the first holding means includes a metal foil at a position where it does not contact the semiconductor integrated circuit pellet.
【請求項10】 前記第1、第2の保持手段の少なくと
も一方には、凹部と保持手段の縁部を連通する溝部が設
けられていることを特徴とする請求項3記載の半導体装
置の製造装置。
10. The manufacturing of a semiconductor device according to claim 3, wherein at least one of the first and second holding means is provided with a groove portion that connects the recess and the edge portion of the holding means. apparatus.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPWO2013129307A1 (en) * 2012-03-01 2015-07-30 株式会社村田製作所 Manufacturing method of resin sheet for sealing

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPWO2013129307A1 (en) * 2012-03-01 2015-07-30 株式会社村田製作所 Manufacturing method of resin sheet for sealing

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