JPH06269829A - 圧延機の圧下位置制御装置 - Google Patents
圧延機の圧下位置制御装置Info
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- JPH06269829A JPH06269829A JP5062250A JP6225093A JPH06269829A JP H06269829 A JPH06269829 A JP H06269829A JP 5062250 A JP5062250 A JP 5062250A JP 6225093 A JP6225093 A JP 6225093A JP H06269829 A JPH06269829 A JP H06269829A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 低速圧延時の自動板厚制御器の、所定周期の
圧下位置目標値の切換出力による高周波板厚変化を抑止
する。 【構成】 圧下位置検出手段(21)；圧下位置目標値に対
する検出圧下位置の偏差に比例する比例項を算出する手
段(221,222)；偏差の積分値を算出する手段(223〜22
5)；圧延速度に対応してそれが低いと小さい値の調整ゲ
イン(K)を算出するゲイン算出手段(227)；および、調整
ゲイン(K)を前記比例項に乗じた積、および、調整ゲイ
ン(K)を前記積分項に乗じた積を含む圧下位置操作量を
算出し、圧下調整機構を駆動する手段(23)に該算出した
圧下位置操作量の駆動を指示する手段(226,228)；を備
える。すなわち、圧下位置を目標値に設定するためのＰ
Ｉ制御のゲインを、圧延速度に対応してそれが低いと小
値とする。
圧下位置目標値の切換出力による高周波板厚変化を抑止
する。 【構成】 圧下位置検出手段(21)；圧下位置目標値に対
する検出圧下位置の偏差に比例する比例項を算出する手
段(221,222)；偏差の積分値を算出する手段(223〜22
5)；圧延速度に対応してそれが低いと小さい値の調整ゲ
イン(K)を算出するゲイン算出手段(227)；および、調整
ゲイン(K)を前記比例項に乗じた積、および、調整ゲイ
ン(K)を前記積分項に乗じた積を含む圧下位置操作量を
算出し、圧下調整機構を駆動する手段(23)に該算出した
圧下位置操作量の駆動を指示する手段(226,228)；を備
える。すなわち、圧下位置を目標値に設定するためのＰ
Ｉ制御のゲインを、圧延速度に対応してそれが低いと小
値とする。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、リバ−ス圧延機，タン
デム圧延機等の圧下位置の制御に関し、特に、ＡＧＣに
より指定された目標圧下位置に圧延機の圧下機構を調整
する圧下位置制御の応答速度制御に関する。
デム圧延機等の圧下位置の制御に関し、特に、ＡＧＣに
より指定された目標圧下位置に圧延機の圧下機構を調整
する圧下位置制御の応答速度制御に関する。
【０００２】
【従来技術】リバ−ス圧延機又はタンデム圧延機によ
る、数パス又は数スタンドの圧延では、ＡＧＣ（Automa
tic Gage Control）コントロ−ラにより、各パス毎又は
各スタンド毎に圧延機の入側板厚，出側板厚，入側板
速，出側板速に対応して所要（目標）の圧延機出側板厚
を得るように算出した圧下位置修正量を圧下位置制御装
置に与えるフィ−ドフォワ−ド制御および／又はフィ−
ドバック制御が実施される。圧下位置制御装置は、圧下
機構を与えられた目標圧下位置に設定する。
る、数パス又は数スタンドの圧延では、ＡＧＣ（Automa
tic Gage Control）コントロ−ラにより、各パス毎又は
各スタンド毎に圧延機の入側板厚，出側板厚，入側板
速，出側板速に対応して所要（目標）の圧延機出側板厚
を得るように算出した圧下位置修正量を圧下位置制御装
置に与えるフィ−ドフォワ−ド制御および／又はフィ−
ドバック制御が実施される。圧下位置制御装置は、圧下
機構を与えられた目標圧下位置に設定する。
【０００３】圧下位置制御装置および圧下機構の応答の
遅れは、圧延速度の高速化に伴う入側板厚変動の高周波
化によって、製品板厚精度の悪化をもたらすので、これ
らの応答速度は、可能な限り高く設定されている。
遅れは、圧延速度の高速化に伴う入側板厚変動の高周波
化によって、製品板厚精度の悪化をもたらすので、これ
らの応答速度は、可能な限り高く設定されている。
【０００４】この結果、低速圧延時にも、ＡＧＣコント
ロ−ラ出力が変化するとこれに応答して高速で圧下位置
を操作する。これにより圧延材にはＡＧＣコントロ−ラ
出力が変化した箇所で急俊な板厚変化（段差）を生じ、
次パス又は次スタンドでの高速圧延時には圧下装置の最
高の応答をもってしても除去不可能な板厚変化が残り、
それが最終製品において高周波の板厚変動として残留す
る。
ロ−ラ出力が変化するとこれに応答して高速で圧下位置
を操作する。これにより圧延材にはＡＧＣコントロ−ラ
出力が変化した箇所で急俊な板厚変化（段差）を生じ、
次パス又は次スタンドでの高速圧延時には圧下装置の最
高の応答をもってしても除去不可能な板厚変化が残り、
それが最終製品において高周波の板厚変動として残留す
る。
【０００５】これを避けるため、ＡＧＣコントロ−ラ出
力である圧下位置修正量に圧延速度に比例する係数を乗
じて、低速圧延時の圧下位置修正速度を低下させしめて
いる。
力である圧下位置修正量に圧延速度に比例する係数を乗
じて、低速圧延時の圧下位置修正速度を低下させしめて
いる。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】従来技術のように圧延
速度に応じてＡＧＣコントロ−ラ出力を修正しても、デ
ジタル制御系を採用した場合には、ＡＧＣコントロ−ラ
または圧下位置制御装置のサンプリング周期毎にステッ
プ状の修正指令が圧下機構に出されるため、修正指令の
変更箇所でやはり急俊な板厚変化（段差）を生じ、次パ
ス又は次スタンドでの高速圧延時には圧下装置の最高の
応答をもってしても除去不可能な板厚変化が残り、それ
が最終製品において高周波の板厚変動として残留する。
速度に応じてＡＧＣコントロ−ラ出力を修正しても、デ
ジタル制御系を採用した場合には、ＡＧＣコントロ−ラ
または圧下位置制御装置のサンプリング周期毎にステッ
プ状の修正指令が圧下機構に出されるため、修正指令の
変更箇所でやはり急俊な板厚変化（段差）を生じ、次パ
ス又は次スタンドでの高速圧延時には圧下装置の最高の
応答をもってしても除去不可能な板厚変化が残り、それ
が最終製品において高周波の板厚変動として残留する。
【０００７】板厚精度要求値が低い製品規格ではこのよ
うな板厚変動は製品に規格外れをもたらさないが、高い
板厚精度が要求される場合には、この種の板厚変動が問
題となる。
うな板厚変動は製品に規格外れをもたらさないが、高い
板厚精度が要求される場合には、この種の板厚変動が問
題となる。
【０００８】本発明は次パス又は次スタンドで除去しえ
ないこの種の板厚変動を抑制することを目的とする。
ないこの種の板厚変動を抑制することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明の圧下位置制御装
置は、圧下位置調整機構，指示される圧下位置操作量に
応じて該機構を駆動する手段(23)および圧下位置目標値
を算出する手段(12)を有する圧延機の、圧下位置を検出
する手段(21)；前記圧下位置目標値に対する前記圧下位
置の偏差に比例する値を算出する比例項算出手段(221,2
22)；前記偏差の積分値を算出する積分項算出手段(223
〜225)；圧延速度に対応してそれが低いと小さい値の調
整ゲイン(K)を算出するゲイン算出手段(227)；および、
算出した調整ゲイン(K)を前記比例項に乗じた積、およ
び、算出した調整ゲイン(K)を前記積分項に乗じた積を
含む圧下位置操作量を算出し、前記機構を駆動する手段
(23)に該算出した圧下位置操作量の駆動を指示する手段
(226,228)；を備える。なお、カッコ内の記号は、図面
に示し後述する実施例の対応要素又は対応事項を参考ま
でに示すものである。
置は、圧下位置調整機構，指示される圧下位置操作量に
応じて該機構を駆動する手段(23)および圧下位置目標値
を算出する手段(12)を有する圧延機の、圧下位置を検出
する手段(21)；前記圧下位置目標値に対する前記圧下位
置の偏差に比例する値を算出する比例項算出手段(221,2
22)；前記偏差の積分値を算出する積分項算出手段(223
〜225)；圧延速度に対応してそれが低いと小さい値の調
整ゲイン(K)を算出するゲイン算出手段(227)；および、
算出した調整ゲイン(K)を前記比例項に乗じた積、およ
び、算出した調整ゲイン(K)を前記積分項に乗じた積を
含む圧下位置操作量を算出し、前記機構を駆動する手段
(23)に該算出した圧下位置操作量の駆動を指示する手段
(226,228)；を備える。なお、カッコ内の記号は、図面
に示し後述する実施例の対応要素又は対応事項を参考ま
でに示すものである。
【００１０】
【作用】ゲイン算出手段(227)が、圧延速度に対応して
それが低いと小さい値の調整ゲイン(K)を算出し、駆動
を指示する手段(226,228)が、圧下位置目標値に対する
検出圧下位置の偏差に比例する値に調整ゲイン(K)を乗
じた積、および、該偏差の積分値に調整ゲイン(K)を乗
じた積を含む圧下位置操作量を算出し、前記機構を駆動
する手段(23)に与えるので、圧延速度が低速のときに
は、圧下位置目標値に対して検出圧下位置の偏差が発生
しても圧下位置調整機構の応答度が遅く、デジタル制御
に起因してサンプリング周期毎に急俊に圧下位置目標値
と検出圧下位置の偏差が変化したときの板厚変化が小さ
い。
それが低いと小さい値の調整ゲイン(K)を算出し、駆動
を指示する手段(226,228)が、圧下位置目標値に対する
検出圧下位置の偏差に比例する値に調整ゲイン(K)を乗
じた積、および、該偏差の積分値に調整ゲイン(K)を乗
じた積を含む圧下位置操作量を算出し、前記機構を駆動
する手段(23)に与えるので、圧延速度が低速のときに
は、圧下位置目標値に対して検出圧下位置の偏差が発生
しても圧下位置調整機構の応答度が遅く、デジタル制御
に起因してサンプリング周期毎に急俊に圧下位置目標値
と検出圧下位置の偏差が変化したときの板厚変化が小さ
い。
【００１１】すなわち、従来は低速圧延において圧下目
標値又は検出圧下位置の変化に対して急俊に圧下位置が
変化していたのが、本発明によれば緩やかに圧下位置が
変化することになり、圧延速度が低速であるので、この
ような緩やかな圧下位置変化による板厚偏差は、いわば
低周波板厚変動であり、次パス又は次スタンドで十分に
除去され、最終製品に残留しない。
標値又は検出圧下位置の変化に対して急俊に圧下位置が
変化していたのが、本発明によれば緩やかに圧下位置が
変化することになり、圧延速度が低速であるので、この
ような緩やかな圧下位置変化による板厚偏差は、いわば
低周波板厚変動であり、次パス又は次スタンドで十分に
除去され、最終製品に残留しない。
【００１２】本発明の他の目的および特徴は、図面を参
照した以下の実施例の説明より明らかになろう。
照した以下の実施例の説明より明らかになろう。
【００１３】
【実施例】図１に、本発明の一実施例を組込んだリバ−
ス圧延システムを示す。圧延コイル３Ｌ，３Ｒの一方か
ら巻戻された鋼板２はリバ−ス圧延機１のワ−クロ−ル
４と５の間を通して圧延されて、他方のコイルに巻取ら
れる。デジタル自動速度制御器７が圧延機１のミル駆動
モ−タ６を目標圧延速度で回転駆動する速度制御を行な
い、ロ−ル位置制御器２０がワ−クロ−ル４，５間のギ
ャップを板厚コントロ−ラ１２が指定する目標値に設定
する。
ス圧延システムを示す。圧延コイル３Ｌ，３Ｒの一方か
ら巻戻された鋼板２はリバ−ス圧延機１のワ−クロ−ル
４と５の間を通して圧延されて、他方のコイルに巻取ら
れる。デジタル自動速度制御器７が圧延機１のミル駆動
モ−タ６を目標圧延速度で回転駆動する速度制御を行な
い、ロ−ル位置制御器２０がワ−クロ−ル４，５間のギ
ャップを板厚コントロ−ラ１２が指定する目標値に設定
する。
【００１４】図１は、コイル３Ｌから鋼板２を巻戻して
圧延機１で圧延しコイル３Ｒに巻取る、左から右に鋼板
２が移動する圧延パスを示している。この圧延パスで
は、板厚コントロ−ラ１２が、板厚フィ−ドフオワ−ド
制御およびフィ−ドバック制御を行なう。すなわち、設
定圧延速度に対応する周期で入側板厚計９Ｌの検出板厚
および出側板厚計９Ｒの検出値を読込み、該周期あるい
はそれより長い周期で、これら読込み値と板厚目標値お
よび設定圧延速度より、出側板厚を板厚目標値とするた
めの圧下位置目標値を算出してロ−ル位置制御器２０に
与える。ロ−ル位置制御器２０は、与えられる圧下位置
目標値にワ−クロ−ル５の位置が合致するように、圧下
調整機構を操作するが、操作量は、デジタル自動速度制
御器７が与える圧延速度に対応するゲインＫに比例する
値とする。この制御器２０の機能およびゲインＫは、図
２を参照して後に詳しく説明する。
圧延機１で圧延しコイル３Ｒに巻取る、左から右に鋼板
２が移動する圧延パスを示している。この圧延パスで
は、板厚コントロ−ラ１２が、板厚フィ−ドフオワ−ド
制御およびフィ−ドバック制御を行なう。すなわち、設
定圧延速度に対応する周期で入側板厚計９Ｌの検出板厚
および出側板厚計９Ｒの検出値を読込み、該周期あるい
はそれより長い周期で、これら読込み値と板厚目標値お
よび設定圧延速度より、出側板厚を板厚目標値とするた
めの圧下位置目標値を算出してロ−ル位置制御器２０に
与える。ロ−ル位置制御器２０は、与えられる圧下位置
目標値にワ−クロ−ル５の位置が合致するように、圧下
調整機構を操作するが、操作量は、デジタル自動速度制
御器７が与える圧延速度に対応するゲインＫに比例する
値とする。この制御器２０の機能およびゲインＫは、図
２を参照して後に詳しく説明する。
【００１５】板厚コントロ−ラ１２はその機能上、入側
板厚を目標板厚に圧延するためのフィ−ドフォワ−ドＡ
ＧＣ １２２，マスフロ−ＡＧＣ １２３，出側板厚検
出値に基づいて板厚をフィ−ドバック制御するＡＧＣ
１２５，ロ−ドセル１１の検出荷重に基づいたロ−ルフ
ォ−スＡＧＣ １２６、および、これら各ＡＧＣが算出
した値それぞれに重み付けをして加算する加重加算器１
２７を含み、加算器１２７が圧下位置目標値をロ−ル位
置制御器２０に与える。板厚コントロ−ラ１２は上述の
ように、設定圧延速度に対応する周期で読込み、該周期
あるいはそれより長い周期で圧下位置目標値（加重加算
器１２７の出力）をロ−ル位置制御器２０に与えるの
で、ロ−ル位置制御器２０に与えられる圧下目標値は所
定周期で切換わる。
板厚を目標板厚に圧延するためのフィ−ドフォワ−ドＡ
ＧＣ １２２，マスフロ−ＡＧＣ １２３，出側板厚検
出値に基づいて板厚をフィ−ドバック制御するＡＧＣ
１２５，ロ−ドセル１１の検出荷重に基づいたロ−ルフ
ォ−スＡＧＣ １２６、および、これら各ＡＧＣが算出
した値それぞれに重み付けをして加算する加重加算器１
２７を含み、加算器１２７が圧下位置目標値をロ−ル位
置制御器２０に与える。板厚コントロ−ラ１２は上述の
ように、設定圧延速度に対応する周期で読込み、該周期
あるいはそれより長い周期で圧下位置目標値（加重加算
器１２７の出力）をロ−ル位置制御器２０に与えるの
で、ロ−ル位置制御器２０に与えられる圧下目標値は所
定周期で切換わる。
【００１６】上述の説明は、圧延鋼板２を左から右に送
るパスのものである。圧延鋼板２を右から左に送るパス
では、９Ｒが入側板厚計、９Ｌが出側板厚計となり、圧
延機１およびその制御系の動作は、上述の説明中の記号
の内の、ＲをＬに、ＬをＲに読み替えたものとなるの
で、ここでの詳細な説明は省略する。
るパスのものである。圧延鋼板２を右から左に送るパス
では、９Ｒが入側板厚計、９Ｌが出側板厚計となり、圧
延機１およびその制御系の動作は、上述の説明中の記号
の内の、ＲをＬに、ＬをＲに読み替えたものとなるの
で、ここでの詳細な説明は省略する。
【００１７】図２にロ−ル位置制御器２０（本発明の一
実施例）の機能構成を示す。圧延機２の圧下位置調整機
構には圧下位置検出器２１が結合されており、これがワ
−クロ−ルの位置Ｐｆ（ワ−クロ−ル間ギャップ）を示
す信号（検出圧下位置）を発生して減算器２２１に与え
る。減算器２２１には更に、板厚コントロ−ラ１２から
上述の圧下位置目標値Ｐｏが上述の周期で与えられ、減
算器２２１は、圧下位置目標値に対する検出圧下位置の
偏差を算出し、これを乗算器２２２および加算器２２３
に与える。乗算器２２２には板厚コントロ−ラ１２から
比例項係数Ｐｐが与えられ、乗算器２２２は偏差にＰｐ
を乗算した積を加算器２２６に出力する。一方減算器２
２１の、偏差値を示す出力は加算器２２３に与えられ、
加算器２２３にはまた遅延器２２４より、圧下位置目標
値Ｐｏの更新周期の一周期前の積分値が与えられる。こ
の積分値に今回読込んだ偏差を加算した和（今回の積分
値）が遅延器２２４に更新記憶される。今回の積分値は
乗算器２２５に与えられる。乗算器２２５には板厚コン
トロ−ラ１２から積分項係数Ｐｉが与えられ、乗算器２
２５は今回の積分値にＰｉを乗算した積を加算器２２６
に出力する。加算器２２６の和出力には乗算器２２８で
関数発生器２２７が発生する、Ｋ値を示す信号が与えら
れ、乗算器２２８は、 Ｐａ＝Ｋ・Ｐｐ（Ｐｏ−Ｐｆ）＋Ｋ・Ｐｉ∫（Ｐｏ−Ｐｆ）ｄｔ・・・(1) なる圧下位置操作量Ｐａを示す信号を発生しサ−ボ弁２
３のコントロ−ラ（図示略）に与える。サ−ボ弁２３が
この圧下位置操作量Ｐａ分操作される。すなわち、与え
られる圧下位置目標値Ｐｏと検出圧下位置Ｐｆに対し
て、(1)式で示すＰＩ（比例・積分）制御でサ−ボ弁２
３が操作される。
実施例）の機能構成を示す。圧延機２の圧下位置調整機
構には圧下位置検出器２１が結合されており、これがワ
−クロ−ルの位置Ｐｆ（ワ−クロ−ル間ギャップ）を示
す信号（検出圧下位置）を発生して減算器２２１に与え
る。減算器２２１には更に、板厚コントロ−ラ１２から
上述の圧下位置目標値Ｐｏが上述の周期で与えられ、減
算器２２１は、圧下位置目標値に対する検出圧下位置の
偏差を算出し、これを乗算器２２２および加算器２２３
に与える。乗算器２２２には板厚コントロ−ラ１２から
比例項係数Ｐｐが与えられ、乗算器２２２は偏差にＰｐ
を乗算した積を加算器２２６に出力する。一方減算器２
２１の、偏差値を示す出力は加算器２２３に与えられ、
加算器２２３にはまた遅延器２２４より、圧下位置目標
値Ｐｏの更新周期の一周期前の積分値が与えられる。こ
の積分値に今回読込んだ偏差を加算した和（今回の積分
値）が遅延器２２４に更新記憶される。今回の積分値は
乗算器２２５に与えられる。乗算器２２５には板厚コン
トロ−ラ１２から積分項係数Ｐｉが与えられ、乗算器２
２５は今回の積分値にＰｉを乗算した積を加算器２２６
に出力する。加算器２２６の和出力には乗算器２２８で
関数発生器２２７が発生する、Ｋ値を示す信号が与えら
れ、乗算器２２８は、 Ｐａ＝Ｋ・Ｐｐ（Ｐｏ−Ｐｆ）＋Ｋ・Ｐｉ∫（Ｐｏ−Ｐｆ）ｄｔ・・・(1) なる圧下位置操作量Ｐａを示す信号を発生しサ−ボ弁２
３のコントロ−ラ（図示略）に与える。サ−ボ弁２３が
この圧下位置操作量Ｐａ分操作される。すなわち、与え
られる圧下位置目標値Ｐｏと検出圧下位置Ｐｆに対し
て、(1)式で示すＰＩ（比例・積分）制御でサ−ボ弁２
３が操作される。
【００１８】関数発生器２２７は、デジタル自動速度制
御器７が与える現圧延速度Ｖｒに対応するＫ値を発生す
る。このＫ値は、図２中に示すように、圧延速度Ｖｒが
低い程小さい値である。
御器７が与える現圧延速度Ｖｒに対応するＫ値を発生す
る。このＫ値は、図２中に示すように、圧延速度Ｖｒが
低い程小さい値である。
【００１９】なお、図２にはロ−ル位置制御器２０の機
能を、演算要素記号を用いて示したが、該制御器２０は
ＣＰＵを主体とするコンピュ−タシステムで構成され、
デジタル演算処理により上述の演算を行なう。関数発生
器２２７は演算プログラムで実現されるものであり、図
２に示す例では、演算プログラム中に黒丸で示す４点の
座標デ−タ（速度対Ｋ値）が書込まれており、コンピュ
−タが演算プログラムに従って、まず入力Ｖｒが４点の
座標デ−タで規定される４つの速度領域のいずれにある
かを判定し、そして内挿法により、入力Ｖｒに対するＫ
値を算出する。図２に示す例では、圧延速度Ｖｒが８０
０ｍｐｍ以上のときにはＫ＝１であるので、従来と同様
な高速応答の圧下位置制御が実現する。圧延速度Ｖｒが
低いときには、Ｋの値が１未満となるので、同一偏差
（Ｐｏ−Ｐｆ）に対して８００ｍｐｍ以上の場合よりも
比例項Ｋ・Ｐｐ（Ｐｏ−Ｐｆ）の値が小さく、しかも積
分値Ｋ・Ｐｉ∫（Ｐｏ−Ｐｆ）ｄｔの値も小さい。例え
ば、偏差（Ｐｏ−Ｐｆ）が零の平衡状態（Ｐｏ−Ｐｆ＝
０，∫（Ｐｏ−Ｐｆ）ｄｔ＝０でＰａ＝０）で、圧下目
標値ＰｏがΔＰｏ変化すると、圧延速度Ｖｒが８００ｍ
ｐｍ以上のときにはＰａ＝Ｐｐ・ΔＰｏの圧下位置操作
量が出力されるが、圧延速度Ｖｒが低く例えばＫ＝０．
５が発生されるときには、小さい操作量Ｐａ＝０．５Ｐ
ｐ・ΔＰｏが発生され、これが小さい分積分値が増大す
る。このようにして、圧延速度が低いときには、偏差
（Ｐｏ−Ｐｆ）の変化に対して圧下位置操作量の変化が
緩やかになり、偏差のステップ的な変化に対して圧下位
置操作量はそれを時系列で平滑化したような緩やかな変
化となる。板厚コントロ−ラ１２がデジタル処理で所定
周期で圧下位置目標値Ｐｏを切換えるのでこの切換えに
よりＰｏがステップ的に変化するが、ロ−ル位置制御器
２０の出力は、Ｐｏの変化を平滑化した如きものとな
る。すなわち、板厚コントロ−ラ１２の高周波数のＰｏ
の切換えに対してロ−ル位置制御器２０は低周波応答す
ることになるので、Ｐｏの切換周波数に対応するよう
な、高周波の板厚変化が圧延製品に表われない。ロ−ル
位置制御器２０の応答遅れにより圧延材に残る板厚変化
はしたがっていわば低周波の板厚変化であるので、後段
パスの高速圧延で十分に除去し得る。
能を、演算要素記号を用いて示したが、該制御器２０は
ＣＰＵを主体とするコンピュ−タシステムで構成され、
デジタル演算処理により上述の演算を行なう。関数発生
器２２７は演算プログラムで実現されるものであり、図
２に示す例では、演算プログラム中に黒丸で示す４点の
座標デ−タ（速度対Ｋ値）が書込まれており、コンピュ
−タが演算プログラムに従って、まず入力Ｖｒが４点の
座標デ−タで規定される４つの速度領域のいずれにある
かを判定し、そして内挿法により、入力Ｖｒに対するＫ
値を算出する。図２に示す例では、圧延速度Ｖｒが８０
０ｍｐｍ以上のときにはＫ＝１であるので、従来と同様
な高速応答の圧下位置制御が実現する。圧延速度Ｖｒが
低いときには、Ｋの値が１未満となるので、同一偏差
（Ｐｏ−Ｐｆ）に対して８００ｍｐｍ以上の場合よりも
比例項Ｋ・Ｐｐ（Ｐｏ−Ｐｆ）の値が小さく、しかも積
分値Ｋ・Ｐｉ∫（Ｐｏ−Ｐｆ）ｄｔの値も小さい。例え
ば、偏差（Ｐｏ−Ｐｆ）が零の平衡状態（Ｐｏ−Ｐｆ＝
０，∫（Ｐｏ−Ｐｆ）ｄｔ＝０でＰａ＝０）で、圧下目
標値ＰｏがΔＰｏ変化すると、圧延速度Ｖｒが８００ｍ
ｐｍ以上のときにはＰａ＝Ｐｐ・ΔＰｏの圧下位置操作
量が出力されるが、圧延速度Ｖｒが低く例えばＫ＝０．
５が発生されるときには、小さい操作量Ｐａ＝０．５Ｐ
ｐ・ΔＰｏが発生され、これが小さい分積分値が増大す
る。このようにして、圧延速度が低いときには、偏差
（Ｐｏ−Ｐｆ）の変化に対して圧下位置操作量の変化が
緩やかになり、偏差のステップ的な変化に対して圧下位
置操作量はそれを時系列で平滑化したような緩やかな変
化となる。板厚コントロ−ラ１２がデジタル処理で所定
周期で圧下位置目標値Ｐｏを切換えるのでこの切換えに
よりＰｏがステップ的に変化するが、ロ−ル位置制御器
２０の出力は、Ｐｏの変化を平滑化した如きものとな
る。すなわち、板厚コントロ−ラ１２の高周波数のＰｏ
の切換えに対してロ−ル位置制御器２０は低周波応答す
ることになるので、Ｐｏの切換周波数に対応するよう
な、高周波の板厚変化が圧延製品に表われない。ロ−ル
位置制御器２０の応答遅れにより圧延材に残る板厚変化
はしたがっていわば低周波の板厚変化であるので、後段
パスの高速圧延で十分に除去し得る。
【００２０】
【発明の効果】従来は低速圧延において圧下位置目標値
又は検出圧下位置の変化に対して急俊に圧下位置が変化
していたのが、本発明によれば緩やかに圧下位置が変化
することになり、圧延速度が低速であるので、このよう
な緩やかな圧下位置変化による板厚偏差は、いわば低周
波板厚変動であり、次パス又は次スタンドで十分に除去
され、最終製品に残留しない。
又は検出圧下位置の変化に対して急俊に圧下位置が変化
していたのが、本発明によれば緩やかに圧下位置が変化
することになり、圧延速度が低速であるので、このよう
な緩やかな圧下位置変化による板厚偏差は、いわば低周
波板厚変動であり、次パス又は次スタンドで十分に除去
され、最終製品に残留しない。
【図１】 本発明の一実施例を装備したリバ−ス圧延設
備を示すブロック図である。
備を示すブロック図である。
【図２】 本発明の一実施例である、図１に示すロ−ル
位置制御器２０の機能構成を示すブロック図である。
位置制御器２０の機能構成を示すブロック図である。
１：リバ−ス圧延機 ２：鋼板 ３Ｒ，３Ｌ：圧延コイル ４，５：ワ−ク
ロ−ル ６：ミルモ−タ ７：デジタル自
動速度制御器 ９Ｒ，９Ｌ：板厚計 １１：ロ−ドセ
ル １２：板厚コントロ−ラ １２２：フィ−
ドフォワ−ドＡＧＣ １２３：マスフロ−ＡＧＣ １２５：フィ−
ドバックＡＧＣ １２６：ロ−ルフォ−スＡＧＣ １２７：加重加
算器 １７Ｒ，１７Ｌ：デジタル自動電流制御器 １９Ｒ，１９Ｌ：コイル駆動モ−タ ２０：ロ−ル位
置制御器 ２１：圧下位置検出器 ２２：演算器 ２２１：減算器 ２２２：乗算器 ２２３：加算器 ２２４：遅延器 ２２５：乗算器 ２２６：加算器 ２２７：関数発生器 ２２８：乗算器 ２３：サ−ボ弁
ロ−ル ６：ミルモ−タ ７：デジタル自
動速度制御器 ９Ｒ，９Ｌ：板厚計 １１：ロ−ドセ
ル １２：板厚コントロ−ラ １２２：フィ−
ドフォワ−ドＡＧＣ １２３：マスフロ−ＡＧＣ １２５：フィ−
ドバックＡＧＣ １２６：ロ−ルフォ−スＡＧＣ １２７：加重加
算器 １７Ｒ，１７Ｌ：デジタル自動電流制御器 １９Ｒ，１９Ｌ：コイル駆動モ−タ ２０：ロ−ル位
置制御器 ２１：圧下位置検出器 ２２：演算器 ２２１：減算器 ２２２：乗算器 ２２３：加算器 ２２４：遅延器 ２２５：乗算器 ２２６：加算器 ２２７：関数発生器 ２２８：乗算器 ２３：サ−ボ弁
Claims (1)
- 【請求項１】圧下位置調整機構，指示される操作量に応
じて該機構を駆動する手段および圧下目標値を算出する
手段を有する圧延機の、圧下量を検出する手段；前記圧
下目標値に対する前記圧下量の偏差に比例する値を算出
する比例項算出手段；前記偏差の積分値を算出する積分
項算出手段；圧延速度に対応してそれが低いと小さい値
の調整ゲインを算出するゲイン算出手段；および、 算出した調整ゲインを前記比例項に乗じた積、および、
算出した調整ゲインを前記積分項に乗じた積を含む圧下
位置操作量を算出し、前記機構を駆動する手段に該算出
した圧下位置操作量の駆動を指示する手段；を備える、
圧延機の圧下位置制御装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5062250A JPH06269829A (ja) | 1993-03-22 | 1993-03-22 | 圧延機の圧下位置制御装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5062250A JPH06269829A (ja) | 1993-03-22 | 1993-03-22 | 圧延機の圧下位置制御装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06269829A true JPH06269829A (ja) | 1994-09-27 |
Family
ID=13194713
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5062250A Pending JPH06269829A (ja) | 1993-03-22 | 1993-03-22 | 圧延機の圧下位置制御装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06269829A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007118048A (ja) * | 2005-10-28 | 2007-05-17 | Kobe Steel Ltd | 圧延制御装置及び圧延制御方法 |
| JP2012130936A (ja) * | 2010-12-21 | 2012-07-12 | Kobe Steel Ltd | 圧延機の板厚制御方法及び板厚制御装置 |
-
1993
- 1993-03-22 JP JP5062250A patent/JPH06269829A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007118048A (ja) * | 2005-10-28 | 2007-05-17 | Kobe Steel Ltd | 圧延制御装置及び圧延制御方法 |
| JP2012130936A (ja) * | 2010-12-21 | 2012-07-12 | Kobe Steel Ltd | 圧延機の板厚制御方法及び板厚制御装置 |
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