JPH06268295A - Solid laser oscillator and method for exciting the same - Google Patents

Solid laser oscillator and method for exciting the same

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JPH06268295A
JPH06268295A JP7761693A JP7761693A JPH06268295A JP H06268295 A JPH06268295 A JP H06268295A JP 7761693 A JP7761693 A JP 7761693A JP 7761693 A JP7761693 A JP 7761693A JP H06268295 A JPH06268295 A JP H06268295A
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light source
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国雄 吉田
Yoshiaki Kato
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Sadao Nakai
貞雄 中井
Kiyoshi Takeuchi
清 武内
Tomoyasu Noda
智靖 野田
Hiroshi Okuda
宏史 奥田
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Abstract

PURPOSE:To achieve a solid state laser oscillator which enables a work having an oxide film or the like to easily be processed, by enabling steep light excitation. CONSTITUTION:On the upper surface 2 side and the lower surface 3 side of a solid state laser medium 3 (YAG or the like), second and first flash lamps 5 and 4 are disposed, respectively. A first power supply 6 for the first flash lamp 4 outputs a first pulse having a standard level and pulse width for performing the normal oscillation. On the other hand, a second power supply 7 for the second flash lamp 5 outputs a steep second pulse having a level about ten times that of the first pulse in synchronism with the first pulse, or after the application of the first pulse. With this, for a work which do not need steep light excitation, it is only necessary to apply only the first pulse, thereby enabling the control of light pumping according to the status of a work.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】この発明は、Nd3+:YAGレー
ザやガラスレーザ等に代表される固体レーザ発振装置の
励起に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to pumping of a solid-state laser oscillator represented by an Nd 3+ : YAG laser and a glass laser.

【0002】[0002]

【従来の技術】(1) 背景技術2. Description of the Related Art (1) Background Art

【0003】固体レーザ発振装置(Nd3+:YAGレー
ザ等)の励起光源には、フラッシュランプ(Xeランプ
やKrランプ等)が広く利用されている。この様な固体
レーザ発振装置をワークの溶接・切断等の加工に用いる
場合には、通常(ノーマル)発振時に比べて急峻なパル
スをフラッシュランプに印加して、強力なレーザ光を瞬
間発振させる必要が生ずることがある。というのは、多
くの場合、ワークは高反射率の金属から成り、しかもそ
の加工表面が酸化膜で被覆されているからである。この
様な場合、瞬時に強力なレーザ光を照射して酸化被膜を
取除く必要がある。又、金属面を切断する際にも、強力
なレーザ光を瞬時に照射して、照射面の温度を一気に溶
融値にまで高め、その後の切断を実行可能とする必要が
ある。通常発振では、金属の高反射率に遮られ、表面温
度を溶融値にまで高めるのが困難だからである。
Flash lamps (Xe lamps, Kr lamps, etc.) are widely used as excitation light sources for solid-state laser oscillators (Nd 3+ : YAG lasers, etc.). When such a solid-state laser oscillator is used for processing such as welding and cutting of a workpiece, it is necessary to apply a sharper pulse to the flash lamp than in normal (normal) oscillation to instantaneously oscillate a powerful laser beam. May occur. This is because, in many cases, the work is made of a metal having a high reflectance, and its processed surface is covered with an oxide film. In such a case, it is necessary to instantaneously irradiate a powerful laser beam to remove the oxide film. Also, when cutting a metal surface, it is necessary to instantaneously irradiate a powerful laser beam to raise the temperature of the irradiation surface to a melting value at a stretch so that the subsequent cutting can be performed. This is because in normal oscillation, it is difficult to raise the surface temperature to the melting value because it is blocked by the high reflectance of metal.

【0004】この様な観点から、フラッシュランプに印
加するパルスを適切に制御する必要がある。その様な従
来技術としては、次の様なものがある。
From this point of view, it is necessary to properly control the pulse applied to the flash lamp. As such a conventional technique, there is the following one.

【0005】(2) 従来の技術(2) Conventional technology

【0006】 例えば特公昭63−20032号公報
に開示されたポンピングパルス制御技術がある。本技術
では、高周波スイッチ(トランジスタ等)とLCフィル
タとの組合せを用いて、そのパルス幅や周波数を可変で
きる矩形波や、その傾きを可変できる鋸歯状波形のパル
スを実現している。
For example, there is a pumping pulse control technique disclosed in Japanese Patent Publication No. Sho 63-20032. In the present technology, a combination of a high frequency switch (transistor or the like) and an LC filter is used to realize a rectangular wave whose pulse width and frequency can be changed and a sawtooth waveform pulse whose inclination can be changed.

【0007】 他の励起方法としては、ルモニクス社
製の固体レーザ発振装置等において実現されている技術
がある。これは、通常のパルス波形(矩形波)を階段状
に整形したものである。その一例を、図6に示す。この
場合、電圧波形を任意に変えることができる利点があ
る。
As another excitation method, there is a technique realized in a solid-state laser oscillator manufactured by Lumonix Co., Ltd. This is a normal pulse waveform (rectangular wave) shaped in a step shape. An example thereof is shown in FIG. In this case, there is an advantage that the voltage waveform can be changed arbitrarily.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述の
技術,は、溶接・切断時に必要とされる急峻な光励
起を実現するには十分ではなかった。具体的には、各技
術,は、次の様な問題点を有している。
However, the above-mentioned techniques are not sufficient for realizing the steep optical excitation required at the time of welding / cutting. Specifically, each technology has the following problems.

【0009】先ず上記の技術に関しては、鋸歯状波形
の傾きの可変範囲にも限度があり、通常時に較べて10
倍程度のレベルにまでそのレベルを一気に高めることは
困難であるということである。しかも溶接・切断に際し
ては、前述した通り、瞬間時だけ急竣な光励起を行えば
良いのであって、その後は熱源としてレーザ光を発振さ
せれば良いこととなり、この様な観点から見た場合には
本技術は望ましいものではないとも言える。更に本技
術は、LCフィルタを利用した回路構成を採用してい
るため、「加工作業上必要なときだけ急峻なパルス(こ
の場合は、鋸歯状パルス)を出力し、不必要な場合には
矩形波パルスによる通常発振を行う」という様な加工作
業の進渉状況に応じた臨機応変な対応ができないという
問題点をも内包している。
First, regarding the above technique, there is a limit to the variable range of the inclination of the sawtooth waveform, which is 10 as compared with the normal time.
It means that it is difficult to raise the level to double level. Moreover, when welding and cutting, as described above, it is sufficient to perform rapid optical excitation only at the moment, and after that, laser light can be oscillated as a heat source. It can also be said that this technology is not desirable. Furthermore, since the present technology employs a circuit configuration using an LC filter, "a steep pulse (sawtooth pulse in this case) is output only when necessary for machining work, and a rectangular shape is output when unnecessary. It also includes the problem that it is not possible to flexibly respond to the progress of processing work, such as "normal oscillation by wave pulse".

【0010】同様な事が、上記の技術に関しても成立
する。即ち、本来的には通常発振時のレベルを有する1
パルスから階段状の可変パルスを形成しているため、溶
接・切断に要求されるレベルを有する急峻なパルスを発
生させることができない。又、仮に発生させることが可
能であるとしても、1系統による波形コントロールを行
っているため、急峻励起の必要時と不必要時との対応が
できない欠点が残ることとなる。更に、本技術では、
1つのフラッシュランプを、当該ランプに流す電流を大
電流から小電流へと連続的に切替えて使用しているた
め、フラッシュランプの寿命を短くするおそれもある。
The same applies to the above technique. That is, 1 which originally has the level at the time of normal oscillation
Since the stepwise variable pulse is formed from the pulse, a steep pulse having a level required for welding and cutting cannot be generated. Further, even if it can be generated, since the waveform control is performed by one system, there remains a drawback that it is not possible to cope with the case where the sharp excitation is necessary and the case where it is unnecessary. Furthermore, in the present technology,
Since one flash lamp is used by continuously switching the current flowing through the lamp from a large current to a small current, the life of the flash lamp may be shortened.

【0011】本発明は係る問題点に鑑みなされたもので
あり、通常の光励起と急峻な光励起とをその状況に応じ
て容易に切替えることができ、しかも当該急峻な光励起
によって、通常の光励起では加工困難なワークの加工を
も容易に実現できる固体レーザ発振装置の提供を目的と
している。更に本発明は、その様な固体レーザ発振装置
の励起方法をも実現しようとするものである。
The present invention has been made in view of the above problems, and it is possible to easily switch between normal photoexcitation and steep photoexcitation depending on the situation, and the steep photoexcitation causes processing in normal photoexcitation. It is an object of the present invention to provide a solid-state laser oscillating device that can easily realize processing of a difficult work. Furthermore, the present invention is also intended to realize such an excitation method for a solid-state laser oscillator.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】請求項1に係る固体レー
ザ発振装置の励起方法では、第1光源に第1パルスを印
加することにより、第1励起光を固体レーザ媒質に対し
て照射するとともに、第1パルスの印加と同時に又は当
該印加後に、第1パルスと比較してそのレベルが大きく
且つそのパルス幅が短い第2パルスを第2光源に印加し
て、第2励起光を更に固体レーザ媒質に対して照射する
ようにしている。
According to another aspect of the present invention, there is provided a method of exciting a solid-state laser oscillating device, wherein a first pulse is applied to a first light source to irradiate the solid-state laser medium with the first exciting light. Simultaneously with or after the application of the first pulse, a second pulse whose level is higher and whose pulse width is shorter than that of the first pulse is applied to the second light source, and the second excitation light is further supplied to the solid-state laser. The medium is irradiated.

【0013】又、請求項2に係る固体レーザ発振装置で
は、固体レーザ媒質と、固体レーザ媒質の励起光源とし
ての第1及び第2光源と、第1光源に第1パルスを印加
して、第1励起光を第1光源より照射する第1駆動回路
と、第1パルスの印加と同時に又は当該印加後に、第1
パルスと比較してそのレベルが大きく且つそのパルス幅
が短い第2パルスを第2光源に印加して第2励起光を第
2光源より照射する第2駆動回路とを備えるようにして
いる。
Further, in the solid-state laser oscillating device according to the second aspect, the solid-state laser medium, the first and second light sources as the excitation light source of the solid-state laser medium, and the first pulse is applied to the first light source, A first drive circuit for irradiating a first excitation light from a first light source, and a first drive circuit at the same time as or after the first pulse is applied.
A second drive circuit that applies a second pulse having a higher level and a shorter pulse width than the pulse to the second light source to irradiate the second excitation light from the second light source is provided.

【0014】[0014]

【作用】 請求項1に係る発明では、第1光源への第
1パルスの印加によって第1励起光が照射され、当該第
1励起光は固体レーザ媒質に吸収される。その結果、第
1パルスのレベルに応じた強度のレーザ光が発振する。
更に上記第1パルスの印加と同時に、ないしはその印加
後に、第1パルスよりも急峻な(レベル;大,パルス
幅;短)第2パルスが第2光源へ印加される。この印加
により、第1励起光よりも強度が格段に大きい第2励起
光が照射され、当該第2励起光が照射されている時間内
では、レーザ光の強度が格段に増大する。
According to the first aspect of the invention, the first excitation light is irradiated by the application of the first pulse to the first light source, and the first excitation light is absorbed by the solid-state laser medium. As a result, laser light having an intensity corresponding to the level of the first pulse oscillates.
Further, at the same time as or after the application of the first pulse, a second pulse that is steeper (level; large, pulse width; shorter) than the first pulse is applied to the second light source. By this application, the second excitation light whose intensity is significantly higher than that of the first excitation light is irradiated, and the intensity of the laser light is significantly increased within the time during which the second excitation light is irradiated.

【0015】 請求項2に係る発明では、第1駆動回
路が第1パルスを発生させ、この第1パルスを第1光源
に出力する。第1光源は、第1パルスに同期して、且つ
そのレベルに応じた強度の第1励起光を放出する。
In the invention according to claim 2, the first drive circuit generates the first pulse, and outputs the first pulse to the first light source. The first light source emits the first excitation light having an intensity corresponding to the level thereof in synchronization with the first pulse.

【0016】一方、第2駆動回路は、上記第1パルスの
印加に同期して又は印加後に、当該第1パルスよりも急
峻なパルス(第2パルス)を発生し、この第2パルスを
第2光源へ出力する。その結果、第2光源は、第1励起
光よりも強度が大きく且つ発光時間が短い第2励起光を
照射する。
On the other hand, the second drive circuit generates a pulse (second pulse) that is steeper than the first pulse in synchronization with or after the application of the first pulse, and outputs the second pulse as the second pulse. Output to light source. As a result, the second light source irradiates the second excitation light having a higher intensity and a shorter emission time than the first excitation light.

【0017】この様に本発明では、強度と発光時間とが
異なる2種類の励起光が、それぞれ別々の系統から固体
レーザ媒質内へ導かれる。両励起光が同時に固体レーザ
媒質内に存在するときには、固体レーザ発振装置の発振
出力は急激に高出力となる。
As described above, according to the present invention, two types of pumping light having different intensity and emission time are guided into the solid-state laser medium from different systems. When both pumping lights are present in the solid-state laser medium at the same time, the oscillation output of the solid-state laser oscillator suddenly becomes a high output.

【0018】[0018]

【実施例】A. 固体レーザ発振装置の構成EXAMPLES A. Structure of solid-state laser oscillator

【0019】図1は、この発明の一実施例である固体レ
ーザ発振装置(以下、レーザ発振装置と略す)の主要部
の構成を模式的に示した斜視図である。又、図2は、レ
ーザ発振装置の正面図を同じく模式的に示した図であ
る。両図において、固体レーザ媒質1は、その断面が矩
形となる様に、スラブ型に形成されている。その材質と
しては、例えばNd3+:YAG結晶やガラス等が利用さ
れる。
FIG. 1 is a perspective view schematically showing the structure of the main part of a solid-state laser oscillator (hereinafter abbreviated as laser oscillator) according to an embodiment of the present invention. In addition, FIG. 2 is a diagram schematically showing a front view of the laser oscillator. In both figures, the solid-state laser medium 1 is formed in a slab type so that its cross section is rectangular. As the material thereof, for example, Nd 3+ : YAG crystal or glass is used.

【0020】一方、本レーザ発振装置の励起光源として
は、2つのフラッシュランプ4,5が用いられている。
即ち、固体レーザ媒質1の下面3側には、その長手方向
にわたって第1フラッシュランプ4が配設されており、
当該第1フラッシュランプ4には第1電源6が接続され
ている。又、固体レーザ媒質1の上面2側には第2フラ
ッシュランプ5が配設されており、当該第2フラッシュ
ランプ5には第2電源7が接続されている。第1及び第
2電源6,7の構成及びそれらの電源6,7より出力さ
れる第1及び第2パルスV1 ,V2 の波形については、
後述する。
On the other hand, two flash lamps 4 and 5 are used as the excitation light source of this laser oscillator.
That is, the first flash lamp 4 is arranged on the lower surface 3 side of the solid-state laser medium 1 in the longitudinal direction thereof.
A first power source 6 is connected to the first flash lamp 4. A second flash lamp 5 is provided on the upper surface 2 side of the solid-state laser medium 1, and a second power source 7 is connected to the second flash lamp 5. Regarding the configurations of the first and second power supplies 6 and 7 and the waveforms of the first and second pulses V 1 and V 2 output from the power supplies 6 and 7,
It will be described later.

【0021】尚、記号M1,M2は、それぞれ出力鏡及
び反射鏡を示しており、これらのミラーM1,M2は本
レーザ発振装置の共振器を構成している。又、記号L1
及びL2 は、それぞれ第1フラッシュランプ4より放出
される第1励起光及び第2フラッシュランプ5より放出
される第2励起光を示している。固体レーザ媒質1はこ
れらの励起光L1 ,L2 を吸収した後、レーザ光LBが
出力鏡M1より発振する。
Symbols M1 and M2 respectively indicate an output mirror and a reflecting mirror, and these mirrors M1 and M2 constitute a resonator of the present laser oscillator. Also, the symbol L 1
And L 2 respectively represent the first excitation light emitted from the first flash lamp 4 and the second excitation light emitted from the second flash lamp 5. After the solid-state laser medium 1 absorbs the pumping lights L 1 and L 2 , the laser light LB oscillates from the output mirror M 1.

【0022】B. 電源の構成・パルス波形B. Power supply configuration / pulse waveform

【0023】図3は、前述した第1電源6及び第2電源
7のより詳細な構成を示したブロック図である。第1電
源6は、通常発振時に必要とされるレベルの第1パルス
1を出力する。この第1パルスV1 の波形を図4に示
す。本図4は、時間tに対するパルスの振幅(電圧値)
を示した図であり、第1パルスV1 とともに第2パルス
2 をも示したものである。同図に示す通り、第1パル
スV1 は、レベルv1,パルス幅ΔT1 を有する信号で
ある。ここでは、第1パルスV1 は、時間t1,t2
びt3 において立ち上がり、時間t11,t21及びt31
おいてレベルv1 から0レベルへ立ち下がるものとす
る。
FIG. 3 is a block diagram showing a more detailed structure of the first power source 6 and the second power source 7 described above. The first power supply 6 outputs the first pulse V 1 of a level required during normal oscillation. The waveform of this first pulse V 1 is shown in FIG. FIG. 4 shows the pulse amplitude (voltage value) with respect to time t.
FIG. 5 is a diagram showing the second pulse V 2 together with the first pulse V 1 . As shown in the figure, the first pulse V 1 is a signal having a level v 1 and a pulse width ΔT 1 . Here, it is assumed that the first pulse V 1 rises at times t 1 , t 2 and t 3 and falls from the level v 1 to the 0 level at times t 11 , t 21 and t 31 .

【0024】一方、第2電源7は、その電圧振幅がv2
に、そのパルス幅がΔT2 となる様に、その回路構成が
予め設定されている。上記電圧v2 のレベルは第1パル
スV1 のレベルv1 の約10倍程度に設定されている。
しかもそのパルス幅ΔT2 は、パルス幅ΔT1 に較べて
極めて小さな値に設定される。従って、第2電源7が出
力する第2パルスV2 は、急峻なパルスとなる。尚、両
パルスV1 ,V2 の周期は同一である。
On the other hand, the second power supply 7 has a voltage amplitude of v 2
In addition, the circuit configuration is preset so that the pulse width becomes ΔT 2 . The level of the voltage v 2 is set to about 10 times the level v 1 of the first pulse V 1 .
Moreover, the pulse width ΔT 2 is set to a value extremely smaller than the pulse width ΔT 1 . Therefore, the second pulse V 2 output from the second power supply 7 is a steep pulse. The two pulses V 1 and V 2 have the same cycle.

【0025】両パルスV1 ,V2 の同期は、次の通り行
われる。即ち、トリガー発生回路8が別に設定されてお
り、当該トリガー発生回路8は、両電源6,7に対して
トリガー信号TRGを出力する。このトリガー信号TR
Gを受けて、両電源6,7は、同時に第1パルスV1
第2パルスV2 を出力することとなる。
The two pulses V 1 and V 2 are synchronized as follows. That is, the trigger generation circuit 8 is separately set, and the trigger generation circuit 8 outputs the trigger signal TRG to both power supplies 6 and 7. This trigger signal TR
Upon receiving G, both power supplies 6 and 7 simultaneously generate the first pulse V 1 ,
The second pulse V 2 will be output.

【0026】尚、トリガー発生回路8と第2電源7との
間に遅延回路9を設けることによって、トリガー信号T
RGを任意の時間だけ遅延させることができる。これに
よって、当該遅延時間だけ第2パルスV2 の出力タイミ
ングを遅らすことができる。遅延回路9によって遅延時
間Δtd だけ第2パルスV2 の出力を遅らせた一例を、
同じく図4に示す。
By providing the delay circuit 9 between the trigger generation circuit 8 and the second power supply 7, the trigger signal T
RG can be delayed by any amount of time. This makes it possible to delay the output timing of the second pulse V 2 by the delay time. An example in which the output of the second pulse V 2 is delayed by the delay circuit 9 by the delay time Δt d ,
Also shown in FIG.

【0027】この様に通常の第1パルスV1 を第1フラ
ッシュランプ4へ、急峻な第2パルスV2 を第2フラッ
シュランプ5へそれぞれ印加させているため、第2パル
スV2 が印加されている時間、即ちパルス幅ΔT2 に相
当する時間内では、急峻な光励起が固体レーザ媒質1内
で発生し、強力なレーザ光LBが発振される。これに対
して、第2パルスV2 が0レベルに立ち下がった時刻
(例えば時刻t1 ' )から第1パルスV1 が0レベルに
まで立ち下がる時間(例えば時間t11)までの間は、通
常の発振が生じ、当該レーザ光LBはワーク加工時の熱
源として機能する。 C. 加工作業の手順
As described above, since the normal first pulse V 1 is applied to the first flash lamp 4 and the steep second pulse V 2 is applied to the second flash lamp 5, the second pulse V 2 is applied. During a certain period of time, that is, a period corresponding to the pulse width ΔT 2 , steep optical excitation occurs in the solid-state laser medium 1 and strong laser beam LB is oscillated. On the other hand, from the time when the second pulse V 2 falls to 0 level (for example, time t 1 ') to the time when the first pulse V 1 falls to 0 level (for example, time t 11 ), Normal oscillation occurs, and the laser beam LB functions as a heat source during work processing. C. Processing procedure

【0028】図5は、本レーザ発振装置を溶接や切断等
の加工作業に適用した場合の手順を示すフローチャート
である。先ず、ステップS1では、加工面が高反射率の
金属から成るか否かが、又、その加工面が酸化膜で被覆
されているか否かが判断される。この様な判断は、作業
者自ら行っても良く、又、予めワークの形状が既知であ
る場合にはコンピュータを用いて判断することもでき
る。
FIG. 5 is a flow chart showing the procedure when the present laser oscillator is applied to a working operation such as welding or cutting. First, in step S1, it is judged whether or not the processed surface is made of a metal having high reflectance, and whether or not the processed surface is covered with an oxide film. Such a determination may be made by the operator himself, or when the shape of the work is known in advance, it may be determined using a computer.

【0029】上記ステップS1でYESと判断された場
合には、ステップS2及びS3において、第1パルスV
1 及び第2パルスV2 が、各フラッシュランプ4,5へ
印加される。この印加により、急峻な光励起が行われ、
レーザ光LBの強度は瞬時に急激に増大する。これによ
り、酸化被膜等が瞬時に除去され、その後の第1パルス
1 によるレーザ光LBによって加工作業が続行され
る。
If YES is determined in the above step S1, the first pulse V is detected in steps S2 and S3.
One and the second pulse V 2 are applied to each flash lamp 4, 5. By this application, steep optical excitation is performed,
The intensity of the laser light LB instantly and rapidly increases. As a result, the oxide film and the like are instantaneously removed, and the working operation is continued by the laser beam LB by the subsequent first pulse V 1 .

【0030】一方、ステップS1においてNOと判断さ
れた場合には、第2パルスV2 を印加する必要はないた
め、第2電源7はOFFとされ、第1パルスV1 のみが
第1フラッシュランプ4へ印加される。この場合は、通
常発振したレーザ光LBによって加工作業が続行される
(ステップS4)。
On the other hand, if NO is determined in step S1, it is not necessary to apply the second pulse V 2 , so the second power source 7 is turned off and only the first pulse V 1 is applied to the first flash lamp. 4 is applied. In this case, the working operation is continued by the normally oscillated laser beam LB (step S4).

【0031】最後にステップS5では、加工作業が終了
したか否かが判断される。終了した場合には、一連の作
業は終了する。それに対して加工終了でない場合には、
上記ステップS1〜S4までの各ステップが再度続行さ
れることとなる。
Finally, in step S5, it is determined whether or not the machining work has been completed. When completed, the series of operations is completed. On the other hand, if processing is not complete,
The above steps S1 to S4 will be continued again.

【0032】[0032]

【発明の効果】 請求項1及び2に係る発明では、第
1光源及び第2光源に印加すべき電圧を別々にコントロ
ールすることができる。そのため、第1パルスと比較し
て急峻なパルス(第2パルス)を容易に発生させること
が可能となる。しかも、当該第2パルスを第1パルスの
任意な位置(第1パルス印加中の任意な時間:第1パル
スが0のときに第2パルスを出力してもよい)に容易に
重畳することができ、ワークの加工状況に応じて臨機応
変に急峻な第2パルスの印加をコントロールすることが
可能となる。
According to the first and second aspects of the invention, the voltages to be applied to the first light source and the second light source can be controlled separately. Therefore, it is possible to easily generate a steep pulse (second pulse) as compared with the first pulse. Moreover, it is possible to easily superimpose the second pulse on an arbitrary position of the first pulse (arbitrary time during application of the first pulse: the second pulse may be output when the first pulse is 0). Therefore, it is possible to control the application of the steep second pulse flexibly according to the machining situation of the workpiece.

【0033】以上の効果を通じて、両発明は、高反射率
の金属から成るワークや、加工面が酸化膜で被覆されて
いるワーク等の加工(溶接・切断等)を容易に実行でき
る固体レーザ発振装置の実現を可能とする。
Through the above effects, both inventions can easily perform processing (welding, cutting, etc.) of a work made of a metal having a high reflectance or a work whose work surface is covered with an oxide film. Enables realization of the device.

【0034】 又、請求項2に係る発明では、第1光
源及び第2光源をそれぞれ第1駆動回路及び第2駆動回
路によって発光せしめているため、ワークの状況に応じ
て(高出力の)第2励起光の照射を自在にコントロール
することができる。即ち、ワークが酸化被膜等を有する
場合には、通常の発振パワー以上のパワーを要するた
め、第1及び第2パルスを共にONレベルとし、逆にそ
の様な急峻なパルスを不要とする作業に於いては、第2
パルスをOFFレベルとして、第1パルスのみをONレ
ベルに設定すれば良いこととなる。
In the invention according to claim 2, the first light source and the second light source are made to emit light by the first drive circuit and the second drive circuit, respectively. 2 The irradiation of excitation light can be freely controlled. That is, when the work has an oxide film or the like, more power than the normal oscillation power is required. Therefore, both the first and second pulses are set to the ON level, and conversely, such a steep pulse is unnecessary. In the second
It is only necessary to set the pulse to the OFF level and set only the first pulse to the ON level.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】固体レーザ発振装置の主要部を模式的に示した
斜視図である。
FIG. 1 is a perspective view schematically showing a main part of a solid-state laser oscillator.

【図2】固体レーザ発振装置の主要部を模式的に示した
正面図である。
FIG. 2 is a front view schematically showing a main part of a solid-state laser oscillator.

【図3】電源部を示したブロック図である。FIG. 3 is a block diagram showing a power supply unit.

【図4】第1パルスと第2パルスのタイミングと波形と
を示した説明図である。
FIG. 4 is an explanatory diagram showing timings and waveforms of a first pulse and a second pulse.

【図5】加工手順を示したフローチャートである。FIG. 5 is a flowchart showing a processing procedure.

【図6】従来の励起方法を示す説明図である。FIG. 6 is an explanatory diagram showing a conventional excitation method.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 固体レーザ媒質 4 第1フラッシュランプ(第1光源) 5 第2フラッシュランプ(第2光源) 6 第1電源 7 第2電源 V1 第1パルス V2 第2パルス L1 第1励起光 L2 第2励起光1 Solid State Laser Medium 4 First Flash Lamp (First Light Source) 5 Second Flash Lamp (Second Light Source) 6 First Power Supply 7 Second Power Supply V 1 First Pulse V 2 Second Pulse L 1 First Excitation Light L 2 Second excitation light

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 武内 清 兵庫県西宮市田近野町6番107号 新明和 工業株式会社開発技術本部内 (72)発明者 野田 智靖 兵庫県西宮市田近野町6番107号 新明和 工業株式会社開発技術本部内 (72)発明者 奥田 宏史 兵庫県西宮市田近野町6番107号 新明和 工業株式会社開発技術本部内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Kiyoshi Takeuchi 6-10 107 Takino-cho, Nishinomiya-shi, Hyogo Prefecture Shinmeiwa Industrial Co., Ltd. Development Technology Headquarters (72) Inventor Chiyasu Noda 6-Takino-cho, Nishinomiya-shi Hyogo No. 107 Shin-Maywa Industrial Co., Ltd. Development Technology Headquarters (72) Inventor Hiroshi Okuda No. 107 Takino-cho, Nishinomiya-shi, Hyogo No. 107 Shin-Maywa Industrial Co., Ltd. Development Technology Headquarters

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 固体レーザ媒質と第1及び第2光源とを
有する固体レーザ発振装置の励起方法において、 前記第1光源に第1パルスを印加して、第1励起光を前
記固体レーザ媒質に対して照射し、 前記第1パルスの印加と同時に又は当該印加後に、前記
第1パルスと比較してそのレベルが大きく且つそのパル
ス幅が短い第2パルスを前記第2光源に印加して、第2
励起光を前記固体レーザ媒質に対して照射することを特
徴とする固体レーザ発振装置の励起方法。
1. A pumping method for a solid-state laser oscillating device having a solid-state laser medium and first and second light sources, wherein a first pulse is applied to the first light source to apply the first pumping light to the solid-state laser medium. Simultaneously with or after the application of the first pulse, a second pulse having a higher level and a shorter pulse width than the first pulse is applied to the second light source, Two
A pumping method for a solid-state laser oscillator, comprising irradiating pumping light to the solid-state laser medium.
【請求項2】 固体レーザ媒質と、 前記固体レーザ媒質の励起光源としての第1及び第2光
源と、 前記第1光源に第1パルスを印加して、第1励起光を前
記第1光源より照射する第1駆動回路と、 前記第1パルスと比較してそのレベルが大きく且つその
パルス幅が短い第2パルスを、前記第1パルスの印加と
同時に又は当該印加後に、前記第2光源に印加して第2
励起光を前記第2光源より照射する第2駆動回路とを、 備えたことを特徴とする固体レーザ発振装置。
2. A solid-state laser medium, first and second light sources as excitation light sources for the solid-state laser medium, a first pulse is applied to the first light source, and the first excitation light is emitted from the first light source. A first drive circuit that emits light and a second pulse whose level is higher and whose pulse width is shorter than that of the first pulse are applied to the second light source simultaneously with or after the application of the first pulse. Then second
A second drive circuit that emits excitation light from the second light source, the solid-state laser oscillator.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2001091255A1 (en) * 1998-08-25 2001-11-29 Toni Ilorinne A dye laser for generating laser pulses of long duration

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