JPH06267827A - Ｓｒ露光装置 - Google Patents
Ｓｒ露光装置Info
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- JPH06267827A JPH06267827A JP5055461A JP5546193A JPH06267827A JP H06267827 A JPH06267827 A JP H06267827A JP 5055461 A JP5055461 A JP 5055461A JP 5546193 A JP5546193 A JP 5546193A JP H06267827 A JPH06267827 A JP H06267827A
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70058—Mask illumination systems
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F9/00—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
- G03F9/70—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically for microlithography
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 歩留まりの悪化、及び露光精度の低下を招く
こと無く、ＳＲ光とアライメント装置との干渉を除去で
きるＳＲ露光装置を提供する。 【構成】 反射ミラーを含む反射ミラー部１１と、反射
ミラーで反射されたＳＲ光の幅を制限するスリットを含
むスキャニングスリット部１２と、アライメントミラー
を有する色収差２重焦点光学系を利用したアライメント
部１３と、反射ミラーを振動させる振動ミラー制御部１
４と、スリットを振動させるスキャニングスリット制御
部１５と、アライメントミラーをＳＲ光の走査領域から
退避させるアライメントミラー制御部１６と、振動ミラ
ーの振動にスリットの振動及びアライメントミラーの退
避を同期させるタイミングコントロール部１７とを備え
ている。
こと無く、ＳＲ光とアライメント装置との干渉を除去で
きるＳＲ露光装置を提供する。 【構成】 反射ミラーを含む反射ミラー部１１と、反射
ミラーで反射されたＳＲ光の幅を制限するスリットを含
むスキャニングスリット部１２と、アライメントミラー
を有する色収差２重焦点光学系を利用したアライメント
部１３と、反射ミラーを振動させる振動ミラー制御部１
４と、スリットを振動させるスキャニングスリット制御
部１５と、アライメントミラーをＳＲ光の走査領域から
退避させるアライメントミラー制御部１６と、振動ミラ
ーの振動にスリットの振動及びアライメントミラーの退
避を同期させるタイミングコントロール部１７とを備え
ている。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ＳＲ露光装置に関し、
特にマスクの位置検出を行うアライメント装置として色
収差２重焦点光学系を備えたＳＲ露光装置に関する。
特にマスクの位置検出を行うアライメント装置として色
収差２重焦点光学系を備えたＳＲ露光装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体ウエハ上に塗布されたレジストに
マスクのパターンを転写する装置として、シンクロトロ
ン放射光（ＳＲ光）を露光媒体とするＳＲ露光装置があ
る。ＳＲ光は、その強度分布が、水平方向に均一で広
く、垂直方法には狭いガウス分布となる。すなわち、Ｓ
Ｒ光は水平方向に伸びる帯状の光である。そこで、ＳＲ
露光装置では、露光領域を広げるために、ＳＲ光をミラ
ーに対して斜めに入射させ、ミラーを振動させてＳＲ光
を垂直方向に走査する。
マスクのパターンを転写する装置として、シンクロトロ
ン放射光（ＳＲ光）を露光媒体とするＳＲ露光装置があ
る。ＳＲ光は、その強度分布が、水平方向に均一で広
く、垂直方法には狭いガウス分布となる。すなわち、Ｓ
Ｒ光は水平方向に伸びる帯状の光である。そこで、ＳＲ
露光装置では、露光領域を広げるために、ＳＲ光をミラ
ーに対して斜めに入射させ、ミラーを振動させてＳＲ光
を垂直方向に走査する。
【０００３】ミラーで反射されたＳＲ光は、マスクを通
してウエハ上に照射される。ここで、マスクの位置は、
ウエハに対する所定の位置に位置しなければならない。
この位置合わせには、アライメント装置が使用される。
ＳＲ光を用いた露光では、マスクの位置合わせに極めて
高い精度を必要とする。例えば、２５６ＭＢから１ＧＢ
の高集積度メモリーを製造する場合は、マスクとウエハ
の位置誤差を０．０２〜０．０５×１０-6ｍ以下にしな
ければならない。これを実現する方法として、特公平５
−４６０１号公報に記載された「軸上色収差を利用した
２重焦点を有する位置検出装置」の色収差２重焦点光学
系を利用したアライメント装置がある。
してウエハ上に照射される。ここで、マスクの位置は、
ウエハに対する所定の位置に位置しなければならない。
この位置合わせには、アライメント装置が使用される。
ＳＲ光を用いた露光では、マスクの位置合わせに極めて
高い精度を必要とする。例えば、２５６ＭＢから１ＧＢ
の高集積度メモリーを製造する場合は、マスクとウエハ
の位置誤差を０．０２〜０．０５×１０-6ｍ以下にしな
ければならない。これを実現する方法として、特公平５
−４６０１号公報に記載された「軸上色収差を利用した
２重焦点を有する位置検出装置」の色収差２重焦点光学
系を利用したアライメント装置がある。
【０００４】図７（ａ）に色収差２重焦点光学系を利用
したアライメント装置の概略図を示す。このアライメン
ト装置は、先端にミラー７１を配置した色収差２重焦点
光学系７２をアライメント光学系として複数（図では２
個）有している。このアライメント光学系は、マスク７
３を保持する可動台（図示せず）に固定されており、マ
スク７３と一体的にウエハ７４の上方で移動する。図７
（ｂ）に示すように、ウエハ７４表面には、露光領域７
５が所定の間隔で配列されており、露光領域７５の間の
領域（スクライブライン；幅約１００×１０-6ｍ）にマ
ーク７６が形成されている。アライメント光学系は、こ
のマーク７６を検出してマスク位置を決定する。
したアライメント装置の概略図を示す。このアライメン
ト装置は、先端にミラー７１を配置した色収差２重焦点
光学系７２をアライメント光学系として複数（図では２
個）有している。このアライメント光学系は、マスク７
３を保持する可動台（図示せず）に固定されており、マ
スク７３と一体的にウエハ７４の上方で移動する。図７
（ｂ）に示すように、ウエハ７４表面には、露光領域７
５が所定の間隔で配列されており、露光領域７５の間の
領域（スクライブライン；幅約１００×１０-6ｍ）にマ
ーク７６が形成されている。アライメント光学系は、こ
のマーク７６を検出してマスク位置を決定する。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】従来の色収差２重焦点
光学系を用いたアライメント光学系は、ＳＲ光との干渉
を防ぐために、ＳＲ光に対して傾きを有するように配置
されている。しかしながら、その先端に取り付けられた
ミラーは、ＳＲ光の照射領域（走査領域）に突き出し、
または、非常に接近して設けられており、ＳＲ光と干渉
するという問題点がある。
光学系を用いたアライメント光学系は、ＳＲ光との干渉
を防ぐために、ＳＲ光に対して傾きを有するように配置
されている。しかしながら、その先端に取り付けられた
ミラーは、ＳＲ光の照射領域（走査領域）に突き出し、
または、非常に接近して設けられており、ＳＲ光と干渉
するという問題点がある。
【０００６】上記問題点は、照射領域からミラーを遠ざ
けることにより解決できる。しかしながら、ミラーを照
射領域から遠ざけた場合は、ウエハ上のマークも露光領
域から遠ざけなければならない。すなわち、スクライブ
ラインの幅を広げなければならない。しかも、ミラーの
影響を完全に除去するには、スクライブラインの幅を１
〜１．５ｍｍにしなければならなず、ウエハ切断の際に
必要とされるスクライブラインの幅（１００×１０-6程
度）の１０4 倍以上になる。したがって、このような方
法で上記問題を解決しようとすると歩留まりの悪化を招
いてしまう。また、他の工程で使用される装置（例え
ば、光ステッパ）の位置合わせ装置も変更を加えなけれ
ばならなる。
けることにより解決できる。しかしながら、ミラーを照
射領域から遠ざけた場合は、ウエハ上のマークも露光領
域から遠ざけなければならない。すなわち、スクライブ
ラインの幅を広げなければならない。しかも、ミラーの
影響を完全に除去するには、スクライブラインの幅を１
〜１．５ｍｍにしなければならなず、ウエハ切断の際に
必要とされるスクライブラインの幅（１００×１０-6程
度）の１０4 倍以上になる。したがって、このような方
法で上記問題を解決しようとすると歩留まりの悪化を招
いてしまう。また、他の工程で使用される装置（例え
ば、光ステッパ）の位置合わせ装置も変更を加えなけれ
ばならなる。
【０００７】また、上記問題点を解決する方法として露
光中はアライメント装置を退避させる方法が考えられる
が、長い露光時間（１〜３０sec ）中にマスクとウエハ
の相対位置ズレが生じた場合に対応できず、露光精度の
低下を招いてしまう。
光中はアライメント装置を退避させる方法が考えられる
が、長い露光時間（１〜３０sec ）中にマスクとウエハ
の相対位置ズレが生じた場合に対応できず、露光精度の
低下を招いてしまう。
【０００８】本発明は、歩留まりの悪化、及び露光精度
の低下を招くこと無く、ＳＲ光とアライメント装置との
干渉を除去できるＳＲ露光装置を提供することを目的と
する。
の低下を招くこと無く、ＳＲ光とアライメント装置との
干渉を除去できるＳＲ露光装置を提供することを目的と
する。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、帯状の
ＳＲ光を反射する反射ミラーと、該反射ミラーを所定の
回転軸を回転の中心として回転振動させ前記ＳＲ光を走
査させる振動手段と、前記ＳＲ光の走査領域にマスクを
位置させるアライメント手段とを有するＳＲ露光装置で
あって、前記アライメント手段が前記走査領域内に突き
出すアライメントミラーを含む色収差２重焦点光学系を
有するＳＲ露光装置において、前記アライメントミラー
を揺動させる揺動手段と、前記ミラーの振動に同期して
前記揺動手段を揺動させるタイミング制御手段とを設
け、前記ＳＲ光の走査に対応して前記アライメントミラ
ーを前記走査領域から退避させるようにしたことを特徴
とするＳＲ露光装置が得られる。
ＳＲ光を反射する反射ミラーと、該反射ミラーを所定の
回転軸を回転の中心として回転振動させ前記ＳＲ光を走
査させる振動手段と、前記ＳＲ光の走査領域にマスクを
位置させるアライメント手段とを有するＳＲ露光装置で
あって、前記アライメント手段が前記走査領域内に突き
出すアライメントミラーを含む色収差２重焦点光学系を
有するＳＲ露光装置において、前記アライメントミラー
を揺動させる揺動手段と、前記ミラーの振動に同期して
前記揺動手段を揺動させるタイミング制御手段とを設
け、前記ＳＲ光の走査に対応して前記アライメントミラ
ーを前記走査領域から退避させるようにしたことを特徴
とするＳＲ露光装置が得られる。
【００１０】
【実施例】以下、図面を参照して本発明の実施例を説明
する。図１に本発明の一実施例のＳＲ露光装置を示す。
本実施例のＳＲ露光装置は、ＳＲ光（シンクロトロン放
射光）を反射する振動ミラー部１１と、ＳＲ光の幅を制
限するスキャニングスリット部１２と、マスクの位置検
出を行うアライメント部１３と、振動ミラー部を制御す
る振動ミラー制御部１４と、スキャニングスリット部を
制御するスキャニングスリット制御部１５と、アライメ
ント部１３を制御するアライメントミラー制御部１３
と、振動ミラー制御部１４、スキャニングミラー制御部
１５、及びアライメントミラー制御部１６の動作タイミ
ングを制御するタイミングコントロール部１７とを有し
ている。このＳＲ露光装置では、光源であるＳＲリング
（図示せず）からのＳＲ光は、振動ミラー部１１及びス
キャニングスリット部１２を介してマスク１８に照射さ
れ、マスク１８を通過したＳＲ光が、ウエハ１９の表面
に照射される。
する。図１に本発明の一実施例のＳＲ露光装置を示す。
本実施例のＳＲ露光装置は、ＳＲ光（シンクロトロン放
射光）を反射する振動ミラー部１１と、ＳＲ光の幅を制
限するスキャニングスリット部１２と、マスクの位置検
出を行うアライメント部１３と、振動ミラー部を制御す
る振動ミラー制御部１４と、スキャニングスリット部を
制御するスキャニングスリット制御部１５と、アライメ
ント部１３を制御するアライメントミラー制御部１３
と、振動ミラー制御部１４、スキャニングミラー制御部
１５、及びアライメントミラー制御部１６の動作タイミ
ングを制御するタイミングコントロール部１７とを有し
ている。このＳＲ露光装置では、光源であるＳＲリング
（図示せず）からのＳＲ光は、振動ミラー部１１及びス
キャニングスリット部１２を介してマスク１８に照射さ
れ、マスク１８を通過したＳＲ光が、ウエハ１９の表面
に照射される。
【００１１】以下、図１及び図２乃至図５を参照して、
このＳＲ露光装置の詳細及び動作を説明する。まず、図
１及び図２を参照して振動ミラー部１１について説明す
る。振動ミラー部１１は、図２に示すように、振動ミラ
ーボックス２１の内部に固定された、振動ミラー２２、
ボイスコイルモータ２３、及び静電容量位置センサー２
４を有している。振動ミラー２２は、Ｐｔコートされた
ガラス製ミラーで、その一端が、回転ヒンジ２５を介し
て振動ミラーボックス２１に固定されている。また、振
動ミラー２２の背面には、ボイスコイルモータ２３の振
動部２６の先端が回転ヒンジ２７を介して接続されてい
る。
このＳＲ露光装置の詳細及び動作を説明する。まず、図
１及び図２を参照して振動ミラー部１１について説明す
る。振動ミラー部１１は、図２に示すように、振動ミラ
ーボックス２１の内部に固定された、振動ミラー２２、
ボイスコイルモータ２３、及び静電容量位置センサー２
４を有している。振動ミラー２２は、Ｐｔコートされた
ガラス製ミラーで、その一端が、回転ヒンジ２５を介し
て振動ミラーボックス２１に固定されている。また、振
動ミラー２２の背面には、ボイスコイルモータ２３の振
動部２６の先端が回転ヒンジ２７を介して接続されてい
る。
【００１２】ボイスコイルモータ２３の振動部２６は、
振動ミラー制御部１４の振動ミラー駆動アンプ２８の駆
動信号に応じて、矢印Ａで示す方向（鉛直方向）に振動
する。この振動は、回転ヒンジ２６を介して振動ミラー
２２に与えられ、振動ミラー２２は、回転ヒンジ２５を
回転軸として回転振動する。従って、振動ミラー２２で
反射されたＳＲ光は、鉛直方向に走査される（矢印Ｂ方
向に振られる）。走査速度及び走査パターンは、ウエハ
１９上の露光領域でＳＲ光強度分布が一様となるように
制御される。こうして、鉛直方向の幅が数mm（２mm程
度）、水平方向の幅が数十mmの光源からのＳＲ光を用い
て、２０〜４０mm四方の領域を露光することが可能とな
る。ここで、振動ミラー２２の位置は、静電容量位置セ
ンサー２４によって、検出されており、振動ミラー制御
部１４は、タイミングコントロール部１７からのミラー
位置指令信号と静電容量位置センサー２４からの検出信
号とに基づいて上記駆動信号を出力する。
振動ミラー制御部１４の振動ミラー駆動アンプ２８の駆
動信号に応じて、矢印Ａで示す方向（鉛直方向）に振動
する。この振動は、回転ヒンジ２６を介して振動ミラー
２２に与えられ、振動ミラー２２は、回転ヒンジ２５を
回転軸として回転振動する。従って、振動ミラー２２で
反射されたＳＲ光は、鉛直方向に走査される（矢印Ｂ方
向に振られる）。走査速度及び走査パターンは、ウエハ
１９上の露光領域でＳＲ光強度分布が一様となるように
制御される。こうして、鉛直方向の幅が数mm（２mm程
度）、水平方向の幅が数十mmの光源からのＳＲ光を用い
て、２０〜４０mm四方の領域を露光することが可能とな
る。ここで、振動ミラー２２の位置は、静電容量位置セ
ンサー２４によって、検出されており、振動ミラー制御
部１４は、タイミングコントロール部１７からのミラー
位置指令信号と静電容量位置センサー２４からの検出信
号とに基づいて上記駆動信号を出力する。
【００１３】次に、図１及び図３を参照してスキャニン
グスリット部１２について説明する。なお、図３に示す
スキャニングスリット部１２は、図１のスキャニングス
リット部を左方から見た図である。
グスリット部１２について説明する。なお、図３に示す
スキャニングスリット部１２は、図１のスキャニングス
リット部を左方から見た図である。
【００１４】スキャニングスリット部１２は、リニアガ
イド３１に、摺動可能に取り付けられたステージ３２
と、ステージ３２に取り付けられ、ステージ３２に設け
られた透過窓３３の鉛直方向の幅を調整するスリットブ
レード３４と、ステージ３２を鉛直方向に振動させるボ
イスコイルモータ３５と、ステージの位置を検出するリ
ニアポテンショメータ３６を有している。
イド３１に、摺動可能に取り付けられたステージ３２
と、ステージ３２に取り付けられ、ステージ３２に設け
られた透過窓３３の鉛直方向の幅を調整するスリットブ
レード３４と、ステージ３２を鉛直方向に振動させるボ
イスコイルモータ３５と、ステージの位置を検出するリ
ニアポテンショメータ３６を有している。
【００１５】スキャニングスリット制御部１５は、タイ
ミングコントロール部１７からのスリット位置指令信号
とリニアポテンショメータ３６からのスリット位置検出
信号とに基づいて、スリット駆動信号をボイスコイルモ
ータ３５に供給する。タイミングコントロール部１７か
らのスリット位置指令信号は、振動ミラー位置指令信号
と同期しており、これにより、ステージ３２は、振動ミ
ラー２２の振動に同期して鉛直方向（矢印Ｃ方向）に摺
動する。従って、振動ミラー２２で反射されたＳＲ光
は、走査を妨げられること無く、その鉛直方向の幅が制
限される。
ミングコントロール部１７からのスリット位置指令信号
とリニアポテンショメータ３６からのスリット位置検出
信号とに基づいて、スリット駆動信号をボイスコイルモ
ータ３５に供給する。タイミングコントロール部１７か
らのスリット位置指令信号は、振動ミラー位置指令信号
と同期しており、これにより、ステージ３２は、振動ミ
ラー２２の振動に同期して鉛直方向（矢印Ｃ方向）に摺
動する。従って、振動ミラー２２で反射されたＳＲ光
は、走査を妨げられること無く、その鉛直方向の幅が制
限される。
【００１６】次に、図１、図４、及び図５を参照して、
アライメント部１３について説明する。アライメント部
１３は、中央に開口部を有するアライメント台４１と、
アライメント台４１の開口部に配設されたマスクホルダ
４２と、開口部に対して傾きを有するようにアライメン
ト台４１に固定された複数のアライメント光学系４３と
を有している。
アライメント部１３について説明する。アライメント部
１３は、中央に開口部を有するアライメント台４１と、
アライメント台４１の開口部に配設されたマスクホルダ
４２と、開口部に対して傾きを有するようにアライメン
ト台４１に固定された複数のアライメント光学系４３と
を有している。
【００１７】アライメント光学系４３は、その先端に、
アライメント用光をマスクに垂直に入射させるためのア
ライメントミラー４４を有している。このアライメント
ミラー４４は、弾性ヒンジ拡大機構４５を介してアライ
メント光学系４３に固定されている。また、アライメン
トミラーは、位置検出用光線がマスクに対して垂直に入
射するようにその角度が調整されている。
アライメント用光をマスクに垂直に入射させるためのア
ライメントミラー４４を有している。このアライメント
ミラー４４は、弾性ヒンジ拡大機構４５を介してアライ
メント光学系４３に固定されている。また、アライメン
トミラーは、位置検出用光線がマスクに対して垂直に入
射するようにその角度が調整されている。
【００１８】弾性ヒンジ拡大機構４５は、その駆動部と
してＰＺＴ素子４６を有している。この弾性ヒンジ拡大
機構４５の拡大図を図５に示す。ＰＺＴ素子４６に電圧
を印加すると、ＰＺＴ素子４６は、矢印ａ方向に伸び
る。ＰＺＴ素子４６に接続されたアーム５１は、矢印ｂ
方向に押され、弾性ヒンジ５２を支点に傾く。アーム５
１に連続しているアーム５２は、アーム５１に傾きに従
って、その先端が矢印ｃ方向に移動する。アーム５３
は、アーム５２に図の左方に引っ張られる。従って、ア
ーム５３は、弾性ヒンジ５４を支点として矢印ｄ方向に
傾く。アライメントミラー４４が配設されたアーム５５
は、アーム３３によって、図の左方に引っ張られ、弾性
ヒンジ５６を支点として矢印ｅ方向に傾く。この様にし
て、アライメントミラー４４は、ＳＲ光走査領域から退
避する。
してＰＺＴ素子４６を有している。この弾性ヒンジ拡大
機構４５の拡大図を図５に示す。ＰＺＴ素子４６に電圧
を印加すると、ＰＺＴ素子４６は、矢印ａ方向に伸び
る。ＰＺＴ素子４６に接続されたアーム５１は、矢印ｂ
方向に押され、弾性ヒンジ５２を支点に傾く。アーム５
１に連続しているアーム５２は、アーム５１に傾きに従
って、その先端が矢印ｃ方向に移動する。アーム５３
は、アーム５２に図の左方に引っ張られる。従って、ア
ーム５３は、弾性ヒンジ５４を支点として矢印ｄ方向に
傾く。アライメントミラー４４が配設されたアーム５５
は、アーム３３によって、図の左方に引っ張られ、弾性
ヒンジ５６を支点として矢印ｅ方向に傾く。この様にし
て、アライメントミラー４４は、ＳＲ光走査領域から退
避する。
【００１９】アライメントミラー４４の位置は、図示し
ない静電容量センサーによって検出され、アライメント
ミラー制御部１６にフィードバックされる。アライメン
ト制御部１６は、タイミングコントロール部１７からの
アライメントミラー位置指令信号と、静電容量センサー
からの検出信号に従って、アライメントミラー４４をＳ
Ｒ光走査領域から退避させる。タイミングコントロール
部１７からのアライメントミラー位置指令信号は、振動
ミラー位置指令信号と同期して出力され、退避は、ＳＲ
光の走査に同期して行われる。すなわち、アライメント
部１３は、アライメントミラー４４がＳＲ光と干渉する
場合にはミラー４４を退避させて、マスクの位置検出を
中断するが、干渉しない場合には、マスクの位置検出を
行う。従って、露光中であってもマスク１８とウエハ１
９の位置ずれを検出することができる。
ない静電容量センサーによって検出され、アライメント
ミラー制御部１６にフィードバックされる。アライメン
ト制御部１６は、タイミングコントロール部１７からの
アライメントミラー位置指令信号と、静電容量センサー
からの検出信号に従って、アライメントミラー４４をＳ
Ｒ光走査領域から退避させる。タイミングコントロール
部１７からのアライメントミラー位置指令信号は、振動
ミラー位置指令信号と同期して出力され、退避は、ＳＲ
光の走査に同期して行われる。すなわち、アライメント
部１３は、アライメントミラー４４がＳＲ光と干渉する
場合にはミラー４４を退避させて、マスクの位置検出を
中断するが、干渉しない場合には、マスクの位置検出を
行う。従って、露光中であってもマスク１８とウエハ１
９の位置ずれを検出することができる。
【００２０】なお、上述したタイミングコントロール部
１７は、露光時間、振動ミラー２２の振動速度、及び振
動パターン、及び振動数、アライメント部１３の配置、
及び露光領域のサイズに応じて、決定されたタイミング
で、ミラー位置指令信号、スリット位置指令信号、及び
アライメントミラー一指令信号を出力する。
１７は、露光時間、振動ミラー２２の振動速度、及び振
動パターン、及び振動数、アライメント部１３の配置、
及び露光領域のサイズに応じて、決定されたタイミング
で、ミラー位置指令信号、スリット位置指令信号、及び
アライメントミラー一指令信号を出力する。
【００２１】また、上記実施例では、スキャニングスリ
ット部１２によって、ＳＲ光の幅を制限する例に付いて
説明したが、図６に示すように、振動ミラー部１１の前
段にスリット６１を設けるようにしても良い。この場合
は、スリット６１を摺動させる必要がないので、スキャ
ニングスリット制御部を設ける必要がなく、構成が単純
になる。
ット部１２によって、ＳＲ光の幅を制限する例に付いて
説明したが、図６に示すように、振動ミラー部１１の前
段にスリット６１を設けるようにしても良い。この場合
は、スリット６１を摺動させる必要がないので、スキャ
ニングスリット制御部を設ける必要がなく、構成が単純
になる。
【００２２】
【発明の効果】本発明によれば、色収差２重焦点光学系
を利用したアライメント部のアライメントミラーを揺動
させて、アライメントミラーをＳＲ光の走査領域から退
避させるようにしたことで、ＳＲ光とアライメント部の
干渉を防ぐことができる。
を利用したアライメント部のアライメントミラーを揺動
させて、アライメントミラーをＳＲ光の走査領域から退
避させるようにしたことで、ＳＲ光とアライメント部の
干渉を防ぐことができる。
【００２３】また、アライメントミラーの退避を、振動
ミラーの振動に同期させて行うようにしたことで、露光
中であってもマスクとウエハの位置ずれを検出でき、露
光精度を向上させることができる。
ミラーの振動に同期させて行うようにしたことで、露光
中であってもマスクとウエハの位置ずれを検出でき、露
光精度を向上させることができる。
【００２４】さらに、スクライブラインの幅を広げる必
要がないので、生産性の低下を招くこともなく、他の装
置とのミックスアンドマッチを損なうこともない。
要がないので、生産性の低下を招くこともなく、他の装
置とのミックスアンドマッチを損なうこともない。
【００２５】さらにまた、スリットを用いて、ＳＲ光の
幅を制限するようにしたことで、ＳＲ光の光強度分布が
均一になり、露光精度が向上する。
幅を制限するようにしたことで、ＳＲ光の光強度分布が
均一になり、露光精度が向上する。
【図１】本発明の一実施例の概略図である。
【図２】図１のＳＲ露光装置に使用される振動ミラー部
の詳細を示す図である。
の詳細を示す図である。
【図３】図１のＳＲ露光装置に使用されるスキャニング
スリット部の詳細を示す図である。
スリット部の詳細を示す図である。
【図４】図１のＳＲ露光装置に使用されるアライメント
部の詳細を示す図である。
部の詳細を示す図である。
【図５】図４のアライメント部に使用される弾性ヒンジ
拡大機構の拡大図である。
拡大機構の拡大図である。
【図６】本発明の他の実施例の概略図である。
【図７】従来のアライメント装置を説明するための、
（ａ）アライメント装置の概略図、及び（ｂ）ウエハ平
面図である。
（ａ）アライメント装置の概略図、及び（ｂ）ウエハ平
面図である。
１１ 振動ミラー部 １２ スキャニングスリット部 １３ アライメント部 １４ 振動ミラー制御部 １５ スキャニングスリット制御部 １６ アライメントミラー制御部 １７ タイミングコントロール部 １８ マスク １９ ウエハ ２１ 振動ミラーボックス ２２ 振動ミラー ２３ ボイスコイルモータ ２４ 静電容量位置センサー ２５ 回転ヒンジ ２６ 振動部 ２７ 回転ヒンジ ２８ 振動ミラー駆動アンプ ３１ リニアガイド ３２ ステージ ３３ 透過窓 ３４ スリットブレード ３５ ボイスコイルモータ ３６ リニアポテンショメータ ４１ アライメント台 ４２ マスクホルダ ４３ アライメント光学系 ４４ アライメントミラー ４５ 弾性ヒンジ拡大機構 ４６ ＰＺＴ素子 ７１ ミラー ７２ 色収差２重焦点光学系 ７３ マスク ７４ ウエハ ７５ 露光領域 ７６ マーク
Claims (3)
- 【請求項１】 帯状のＳＲ光を反射する反射ミラーと、
該反射ミラーを所定の回転軸を回転の中心として回転振
動させ前記ＳＲ光を走査させる振動手段と、前記ＳＲ光
の走査領域にマスクを位置させるアライメント手段とを
有するＳＲ露光装置であって、前記アライメント手段が
前記走査領域内に突き出すアライメントミラーを含む色
収差２重焦点光学系を有するＳＲ露光装置において、前
記アライメントミラーを揺動させる揺動手段と、前記ミ
ラーの振動に同期して前記揺動手段を揺動させるタイミ
ング制御手段とを設け、前記ＳＲ光の走査に対応して前
記アライメントミラーを前記走査領域から退避させるよ
うにしたことを特徴とするＳＲ露光装置。 - 【請求項２】 前記ＳＲ光の光路上であって、前記ミラ
ーの下流かつ前記マスクの上流に、前記ＳＲ光の幅を規
定するスリットを設けるとともに、該スリットを所定方
向に摺動させる摺動手段と、該摺動手段を前記ミラーに
同期させて制御するスリット制御手段とを設けたことを
特徴とする請求項１のＳＲ露光装置。 - 【請求項３】 前記ＳＲ光の光路上であって、前記ミラ
ーの上流に前記ＳＲ光の幅を規定するスリットを設けた
ことを特徴とする請求項１のＳＲ露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5055461A JPH06267827A (ja) | 1993-03-16 | 1993-03-16 | Ｓｒ露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5055461A JPH06267827A (ja) | 1993-03-16 | 1993-03-16 | Ｓｒ露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06267827A true JPH06267827A (ja) | 1994-09-22 |
Family
ID=12999247
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5055461A Withdrawn JPH06267827A (ja) | 1993-03-16 | 1993-03-16 | Ｓｒ露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06267827A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7061580B2 (en) | 2003-04-15 | 2006-06-13 | Canon Kabushiki Kaisha | Exposure apparatus and device fabrication method |
-
1993
- 1993-03-16 JP JP5055461A patent/JPH06267827A/ja not_active Withdrawn
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7061580B2 (en) | 2003-04-15 | 2006-06-13 | Canon Kabushiki Kaisha | Exposure apparatus and device fabrication method |
| US7253878B2 (en) | 2003-04-15 | 2007-08-07 | Canon Kabushiki Kaisha | Exposure apparatus and device fabrication method |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20000530 |