JPH06173003A - Vapor-deposition device - Google Patents

Vapor-deposition device

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JPH06173003A
JPH06173003A JP32409092A JP32409092A JPH06173003A JP H06173003 A JPH06173003 A JP H06173003A JP 32409092 A JP32409092 A JP 32409092A JP 32409092 A JP32409092 A JP 32409092A JP H06173003 A JPH06173003 A JP H06173003A
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JP
Japan
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roll
vapor deposition
cooling
substrate member
vapor
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP32409092A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Makoto Kashiwatani
誠 柏谷
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
Priority to JP32409092A priority Critical patent/JPH06173003A/en
Publication of JPH06173003A publication Critical patent/JPH06173003A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE:To eliminate the electro static charge of a vapor-deposition film and to increase the working rate by carrying the vapor-deposited tape by suspending on a roll coated with polytetrafluoroethylene. CONSTITUTION:A base film 10a is suspended on a cooling can 2 and carried at a velocity V (0.25r/V<20 where (r) is the radius in mm of a roll), a vapor deposition material 3 is deposited on the film when the film passes through the opening 8a of a shield plate 8, and a ferromagnetic layer 10b is formed. A laminated body 10 of the ferromagnetic layers 10b and base film 10a is negatively charged by a part of the electrons constituting an electron beam 5. The laminated body 10 is suspended on a destaticizer roll 20 set close to the cooling can 2. When the laminated body 10 is released from the roll 20, an electrostatic charge is generated between the laminated body and the polytetrafluoroethylene in the surface layer 22 of the roll 20, and hence the destaticized laminate 10 which is electrically neutral is not entangled to a winding roll 7, etc.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は帯状の基板部材に磁性材
料を蒸着させる蒸着装置に関し、詳細には磁性材料が蒸
着された基板部材の帯電を低減させる蒸着装置に関する
ものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a vapor deposition apparatus for vapor-depositing a magnetic material on a belt-shaped substrate member, and more particularly to a vapor deposition apparatus for reducing electrification of a substrate member on which a magnetic material is vapor-deposited.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来より高分子材料からなる帯状のフイ
ルムやテープ等の基板部材に磁性材料を蒸着し磁気記録
媒体を製造する蒸着装置が知られている。この装置は、
円筒状の冷却キャンの周壁に沿わせた上記基板部材に、
抵抗加熱や誘電加熱などの加熱手段によって加熱蒸発さ
せた鉄やコバルト、ニッケル等の強磁性金属あるいはこ
れらの合金からなる磁性材料を堆積させて、飽和磁化が
大きく、高密度記録に適した蒸着テープを製造すること
ができる。
2. Description of the Related Art A vapor deposition apparatus for producing a magnetic recording medium by depositing a magnetic material on a substrate member such as a belt-shaped film or tape made of a polymer material has been known. This device
In the substrate member along the peripheral wall of the cylindrical cooling can,
Evaporation tape suitable for high-density recording with a large saturation magnetization by depositing a magnetic material made of a ferromagnetic metal such as iron, cobalt, nickel, etc. or an alloy thereof that has been heated and evaporated by heating means such as resistance heating or dielectric heating. Can be manufactured.

【0003】近年この蒸着装置の加熱手段として電子ビ
ームを使用するものが登場し、これによれば、偏向コイ
ル等によって上記電子ビームの走査を容易に制御するこ
とができるため、このビームがを加熱する上記磁性材料
の温度分布を制御して、上記基板部材上に堆積される磁
性層の厚さの均一性を向上させることができるという有
用性がある。
In recent years, a device using an electron beam has appeared as a heating means of this vapor deposition device. According to this, since the scanning of the electron beam can be easily controlled by a deflection coil or the like, the beam is heated. There is a usefulness that the temperature distribution of the magnetic material can be controlled to improve the uniformity of the thickness of the magnetic layer deposited on the substrate member.

【0004】しかし上記電子ビームを加熱手段として使
用した蒸着装置は、この電子ビームの一部の電子が磁性
材料に反射されて、上記基板部材に磁性材料を蒸着させ
て得られた蒸着テープに蓄積し、負の電荷を有して帯電
される(以下、単に負に帯電されるという)。この負に
帯電された蒸着テープは、冷却キャンより離脱し、搬送
用の懸架ロールを介して巻取手段等の次工程へ搬送され
るが、上記蒸着テープは、帯電によって上記冷却キャン
より離脱する離脱位置付近や懸架ロールに絡み付いた
り、またこのテープに皺が発生し、それによってこの装
置を停止させなければならず、装置の稼動率が低下する
という問題がある。
However, in the vapor deposition apparatus using the electron beam as a heating means, some electrons of the electron beam are reflected by the magnetic material and accumulated in the vapor deposition tape obtained by vaporizing the magnetic material on the substrate member. However, it is charged with a negative charge (hereinafter, simply charged to be negative). The negatively charged vapor deposition tape is detached from the cooling can and is transported to the next step such as a winding means via a suspension roll for transport, but the vapor deposition tape is detached from the cooling can by electrification. There is a problem that the tape is entangled in the vicinity of the detached position and the suspension roll, and wrinkles are generated on the tape, which causes the apparatus to be stopped, which lowers the operation rate of the apparatus.

【0005】そこでこの帯電したテープから除電するこ
とを可能にする装置が提案されている。例えば、上記冷
却キャンの周上において蒸着されたテープに対して蒸着
直後にグロー処理を施すことによって上記テープから除
電し得る方法が知られていて、特に高周波によるグロー
処理は効果的な除電を行なうことができる。
Therefore, there has been proposed a device which makes it possible to remove electricity from the charged tape. For example, there is known a method in which a tape deposited on the circumference of the cooling can can be subjected to glow treatment immediately after vapor deposition to eliminate static electricity from the tape. Particularly, high-frequency glow treatment effectively eliminates static electricity. be able to.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】ところで上記従来の除
電作用を行なうグロー処理装置は、コストが非常に高く
また電極の形状、および電極と上記蒸着テープとの位置
関係を種々試行して最適の除電条件を設定しなければな
らないという難点がある。
By the way, the above-mentioned conventional glow processing apparatus for performing static elimination has a very high cost, and the shape of the electrode and the positional relationship between the electrode and the vapor deposition tape are tried variously to obtain the optimum static elimination. The drawback is that you have to set the conditions.

【0007】本発明の目的は上記事情に鑑みなされたも
のであって、蒸着テープの帯電を除去し、装置の稼動率
を向上させて蒸着テープの得率を向上させることのでき
る、低コストの蒸着装置を提供することにある。
The object of the present invention is made in view of the above circumstances, and it is possible to remove the electrostatic charge of the vapor deposition tape, improve the operation rate of the apparatus, and improve the yield rate of the vapor deposition tape. It is to provide a vapor deposition device.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明の第1の蒸着装置
は、冷却キャンの周壁に沿って搬送される帯状の基板部
材が、電子ビームによって加熱蒸発された磁性材料を蒸
着されて、この冷却キャンより離脱する位置に近接して
設けられた、冷却キャンより離脱したこの基板部材を例
えばテープ巻取ロールに案内するために懸架する円筒状
のロールを備えた蒸着装置であって、上記ロールの少な
くとも基板部材に接する部分がポリテトラフルオルエチ
レンにより被覆され、このロールの半径rとロールを離
脱する基板部材の速度vとの比が下記条件式(1) を満足
することを特徴とするものである。
According to a first vapor deposition apparatus of the present invention, a strip-shaped substrate member conveyed along a peripheral wall of a cooling can is vapor-deposited with a magnetic material heated and evaporated by an electron beam, A vapor deposition apparatus provided with a cylindrical roll that is provided near a position where the substrate separates from the cooling can and is suspended to guide the substrate member separated from the cooling can to, for example, a tape take-up roll. Of at least the portion in contact with the substrate member is covered with polytetrafluoroethylene, and the ratio of the radius r of this roll to the speed v of the substrate member leaving the roll satisfies the following conditional expression (1): It is a thing.

【0009】0.25<r/v<20.0 (1) 但し、r;ロールの半径 (mm) v;ロールを離脱する基板部材の速度 (m/min) また本発明の第2の蒸着装置は、上記第1の蒸着装置に
おいて、上記基板部材がポリエチレンテレフタレートと
ポリエチレンナフタレートとのいずれか一方からなるこ
とを特徴とするものである。
0.25 <r / v <20.0 (1) where, r is the radius of the roll (mm), v is the speed of the substrate member leaving the roll (m / min), and the second vapor deposition apparatus of the present invention is In the first vapor deposition apparatus, the substrate member is made of either polyethylene terephthalate or polyethylene naphthalate.

【0010】[0010]

【作用】本発明の蒸着装置によれば、蒸着材料に反射さ
れた電子が蓄積されて負に帯電した蒸着後のテープを、
冷却キャンより離脱した直後に、ポリテトラフルオルエ
チレンでコーティングされたロールに懸架させて、搬送
することにより、このロールから上記テープが離脱する
際に、ロール表面にコーティングされたポリテトラフル
オルエチレンとテープの基板部材との間で発生する剥離
帯電によって上記基板部材に正の帯電が発生し、このテ
ープが冷却キャンより離脱した際に帯びていた負の帯電
は剥離による正の帯電によって除電される。
According to the vapor deposition apparatus of the present invention, the tape after vapor deposition, in which electrons reflected by the vapor deposition material are accumulated and is negatively charged,
Immediately after the tape is released from the cooling can, it is suspended on a roll coated with polytetrafluoroethylene and conveyed, and when the tape is released from this roll, the polytetrafluoroethylene coated on the roll surface is removed. Peeling electrification generated between the tape and the substrate member of the tape causes positive electrification of the substrate member, and the negative electrification which is tinged when the tape is detached from the cooling can is eliminated by the positive electrification by the exfoliation. It

【0011】上記剥離帯電によって基板部材に発生する
正の帯電の大きさは、上記蒸着後のテープがロールから
離脱する速度vと、離脱時のテープとロールとによって
形成される電界の距離を決定するロールの半径rとによ
って定められ、その比r/vが0.25以下または20.0以上
では上記除電の効果が少なく、さらにより除電の効果を
得るためには、上記比r/vを0.5 を超え10.0未満の範
囲に設定することが望ましい。
The magnitude of the positive charge generated on the substrate member due to the peeling charging determines the speed v at which the vapor-deposited tape separates from the roll, and the distance of the electric field formed by the tape and the roll at the time of separation. When the ratio r / v is 0.25 or less or 20.0 or more, the static elimination effect is small, and in order to obtain a further static elimination effect, the ratio r / v exceeds 0.5 and 10.0. It is desirable to set the range below.

【0012】また上記基板部材がPET(ポリエチレン
テレフタレート)からなるものは、蒸着後のテープの表
面性が優れ、またPEN(ポリエチレンナフタレート)
からなるものは、コストが非常に安価であるという利点
がある。
The substrate member made of PET (polyethylene terephthalate) has excellent surface properties of the tape after vapor deposition, and PEN (polyethylene naphthalate).
The one consisting of has the advantage that the cost is very cheap.

【0013】[0013]

【実施例】以下図面を用いて本発明の実施例について説
明する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0014】図1は本発明にかかる蒸着装置の構成を示
す概略図、図2は図1の破線部Aの拡大図である。
FIG. 1 is a schematic view showing the structure of a vapor deposition apparatus according to the present invention, and FIG. 2 is an enlarged view of a broken line portion A in FIG.

【0015】巻出ロール6に巻き付けられたPET(ポ
リエチレンテレフタレート)からなる帯状のベースフイ
ルム10a は−30〜−10℃程度に冷却された冷却キャン2
およびこの冷却キャン2に近接して設けられた半径rの
除電ロール20を介して巻取ロール7に巻き取られる。こ
の除電ロール20はアルミニウムからなる支持体21の表面
をポリテトラフルオルエチレンからなる表層22により被
覆されている。また、蒸着用の材料3が収容されたるつ
ぼ9が上記冷却キャン2の下方に設けられ、このるつぼ
9内の蒸着材料3を加熱蒸発させる電子ビーム5を射出
する電子ビーム源4が設けられていて、上述の各構成要
素はチャンバ11に収容されている。上記蒸着材料3は例
えばCo80Ni20の合金などが使用される。
A strip-shaped base film 10a made of PET (polyethylene terephthalate) wound around an unwinding roll 6 is cooled to about -30 to -10 ° C.
And it is taken up by the take-up roll 7 via the static eliminating roll 20 having a radius r provided in the vicinity of the cooling can 2. In this charge-eliminating roll 20, the surface of a support 21 made of aluminum is covered with a surface layer 22 made of polytetrafluoroethylene. Further, a crucible 9 containing a material 3 for vapor deposition is provided below the cooling can 2, and an electron beam source 4 for emitting an electron beam 5 for heating and vaporizing the vapor deposition material 3 in the crucible 9 is provided. Thus, each of the above components is housed in the chamber 11. As the vapor deposition material 3, for example, a Co80Ni20 alloy or the like is used.

【0016】次に本実施例の蒸着装置1の作用について
説明する。
Next, the operation of the vapor deposition device 1 of this embodiment will be described.

【0017】チャンバ11の内部は図示しない真空ポンプ
により0.5 μmmHg程度の真空状態にされる。電子ビー
ム源4から射出された電子ビーム5が図示されないビー
ム走査手段によって、るつぼ9に収容された蒸着材料3
に走査され、この蒸着材料3を加熱して蒸発させる。こ
の蒸発された蒸着材料3は遮蔽板8の開口部8aを通過し
て、矢印方向に回転する冷却キャン2の周壁に懸架され
て速度v(ただし0.25<r/v<20)で搬送されるベー
スフイルム10a 上に堆積され、強磁性層10b (図2参
照)を形成する。
The inside of the chamber 11 is evacuated to about 0.5 μmmHg by a vacuum pump (not shown). The electron beam 5 emitted from the electron beam source 4 is accommodated in the crucible 9 by a beam scanning means (not shown).
And the vapor deposition material 3 is heated to evaporate. The evaporated vapor deposition material 3 passes through the opening 8a of the shielding plate 8, is suspended on the peripheral wall of the cooling can 2 rotating in the direction of the arrow, and is transported at a speed v (0.25 <r / v <20). Deposited on the base film 10a to form a ferromagnetic layer 10b (see FIG. 2).

【0018】一方、上記電子ビーム5を形成する電子の
一部が蒸着材料3に反射されて上記遮蔽板8の開口部8a
を通過し、ベースフイルム10a 上に蓄積され、それによ
ってこの強磁性層10b とベースフイルム10a とからなる
積層体10は電気的に負に帯電される。
On the other hand, some of the electrons forming the electron beam 5 are reflected by the vapor deposition material 3 and the opening 8a of the shielding plate 8 is formed.
And is accumulated on the base film 10a, whereby the stack 10 including the ferromagnetic layer 10b and the base film 10a is electrically negatively charged.

【0019】上述のように負に帯電した積層体10は、さ
らに冷却キャン2の周壁に沿って搬送され、冷却キャン
2に近接して設けられた除電ロール20に懸架される。こ
の除電ロール20に懸架された積層体10のうちのベースフ
イルム10a は、積層体10が除電ロール20から離脱する際
に、除電ロール20の表層22との間で剥離帯電を生ずる。
この剥離帯電によってベースフイルム10a はポリテトラ
フルオルエチレンとの帯電列の関係から電気的に正に帯
電され、電気的に負に帯電されたベースフイルム10a の
帯電を除電する。
The negatively charged laminate 10 as described above is further conveyed along the peripheral wall of the cooling can 2 and suspended on the charge eliminating roll 20 provided in the vicinity of the cooling can 2. The base film 10a of the layered product 10 suspended on the charge removal roll 20 causes peeling charge between the layered product 10 and the surface layer 22 of the charge removal roll 20 when the layered product 10 separates from the charge removal roll 20.
Due to this peel-off charging, the base film 10a is electrically positively charged due to the relationship of the charging sequence with polytetrafluoroethylene, and the base film 10a electrically negatively charged is discharged.

【0020】上述の作用により除電された積層体10は電
気的に中立状態であるから冷却キャン2や巻取ロール7
などに絡み付いたり、また積層体10自身に皺が発生する
ことを防止し、この蒸着装置の稼動率を低下させること
がない。
The laminated body 10 which has been neutralized by the above-mentioned operation is in an electrically neutral state, so that the cooling can 2 and the winding roll 7 are provided.
It is possible to prevent entanglement with the above, and to prevent wrinkles from being generated in the laminated body 10 itself, and to reduce the operation rate of this vapor deposition device.

【0021】また、本実施例の蒸着装置1はアルミニウ
ムとポリテトラフルオルエチレンとからなる安価な除電
ロールを使用しているため、低コストで構成することが
できる。
Further, since the vapor deposition apparatus 1 of this embodiment uses an inexpensive static eliminator made of aluminum and polytetrafluoroethylene, it can be constructed at a low cost.

【0022】上記除電ロール20の支持体21は上記実施例
のアルミニウムのほかSus等を用いることができ、ま
たベースフイルム10a はPETのほかPENなどの、ポ
リテトラフルオルエチレンよりも帯電列において正に帯
電しやすい物質からなる材料を用いることができる。
In addition to the aluminum of the above-mentioned embodiment, Sus or the like can be used as the support 21 of the charge eliminating roll 20, and the base film 10a is more positive in the charging sequence than polytetrafluoroethylene such as PET and PEN. It is possible to use a material composed of a substance that is easily charged.

【0023】また上記積層体10のテンションは蒸着材料
3よりの輻射熱により熱劣化を防止する観点から8〜25
(kgf/幅500mm)程度とすることが望ましい。
The tension of the laminate 10 is 8 to 25 from the viewpoint of preventing thermal deterioration due to radiant heat from the vapor deposition material 3.
(kgf / width 500mm) is desirable.

【0024】以下に本発明の蒸着装置のより具体的な実
験を示す。本実験は幅500mm のベースフイルムを搬送ス
ピード60m/min で冷却キャンの周壁に沿って搬送さ
せ、この搬送スピードvと除電ロールの半径rとの比r
/vを種々変化させ、また除電ロールのコーティングの
有無によって行なった。また蒸着材料はCo80Ni20の
合金を使用し、この蒸着材料を幅750mm のセラミックス
製のるつぼ内に収容し、出力100kWの電子ビームをスキ
ャンさせた。
A more specific experiment of the vapor deposition apparatus of the present invention will be shown below. In this experiment, a base film having a width of 500 mm was conveyed at a conveying speed of 60 m / min along the peripheral wall of the cooling can, and the ratio r of the conveying speed v and the radius r of the static elimination roll was r
/ V was variously changed, and the static elimination roll was coated or not coated. As the vapor deposition material, an alloy of Co80Ni20 was used. The vapor deposition material was placed in a ceramic crucible having a width of 750 mm, and an electron beam with an output of 100 kW was scanned.

【0025】この実験の評価は真空チャンバ内に帯電計
に設置して、帯電位を計測することによって行なった。
The evaluation of this experiment was carried out by installing a charge meter in the vacuum chamber and measuring the charge level.

【0026】表1に実験結果を示す。Table 1 shows the experimental results.

【0027】[0027]

【表1】 [Table 1]

【0028】上記のとおり除電ロールにポリテトラフル
オルエチレンをコーティングし、除電ロールの半径rと
ベースフイルムの搬送スピードvとの比r/vが前記式
(1)を満足するように設定することにより帯電したベー
スフイルムを除電する効果が示された。
As described above, the charge eliminating roll is coated with polytetrafluoroethylene, and the ratio r / v between the radius r of the charge eliminating roll and the conveying speed v of the base film is expressed by the above formula.
The effect of removing static electricity from the charged base film was shown by setting so as to satisfy (1).

【0029】[0029]

【発明の効果】本発明の蒸着装置によれば、蒸着時に基
板部材に蓄積された、電気的に負の帯電を低コストで効
果的に除電することができる。そして除電された基板部
材は電気的に略中立であるため、搬送のために設置され
るロールなどに絡み付くことを防止し、またこの基板部
材に皺が発生するのを防止することができ、それによっ
てこの蒸着装置を停止させて修理するなどの稼動率低下
を防止することができる。
According to the vapor deposition apparatus of the present invention, the electrically negative charge accumulated on the substrate member during vapor deposition can be effectively eliminated at low cost. And since the neutralized substrate member is electrically neutral, it is possible to prevent entanglement with a roll or the like installed for transportation, and to prevent wrinkles from being generated on the substrate member. Thus, it is possible to prevent a decrease in operating rate such as repairing by stopping the vapor deposition device.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明にかかる蒸着装置の構成を示す概略図FIG. 1 is a schematic diagram showing the configuration of a vapor deposition device according to the present invention.

【図2】図1に示した蒸着装置の破線部Aの拡大図FIG. 2 is an enlarged view of a broken line portion A of the vapor deposition device shown in FIG.

【符号の説明】 1 蒸着装置 2 冷却キャン 3 蒸着材料 4 電子ビーム源 5 電子ビーム 6 巻出ロール 7 巻取ロール 8 遮蔽板 9 るつぼ 10 積層体 10a ベースフイルム 10b 強磁性層 20 除電ロール 21 支持体 22 ポリテトラフルオルエチレンからなる表層 r 除電ロールの半径 v 積層体の搬送速度[Explanation of symbols] 1 vapor deposition device 2 cooling can 3 vapor deposition material 4 electron beam source 5 electron beam 6 unwinding roll 7 winding roll 8 shielding plate 9 crucible 10 laminated body 10a base film 10b ferromagnetic layer 20 static elimination roll 21 support 22 Surface layer made of polytetrafluoroethylene r Radius of static eliminator roll v Transfer speed of laminate

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─────────────────────────────────────────────────── ───

【手続補正書】[Procedure amendment]

【提出日】平成5年1月6日[Submission date] January 6, 1993

【手続補正1】[Procedure Amendment 1]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0017[Correction target item name] 0017

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction content]

【0017】チャンバ11の内部は図示しない真空ポンプ
により1.0 ×10-4Torr以下の真空状態にされる。電子ビ
ーム源4から射出された電子ビーム5が図示されないビ
ーム走査手段によって、るつぼ9に収容された蒸着材料
3に走査され、この蒸着材料3を加熱して蒸発させる。
この蒸発された蒸着材料3は遮蔽板8の開口部8aを通過
して、矢印方向に回転する冷却キャン2の周壁に懸架さ
れて速度v(ただし0.25<r/v<20)で搬送されるベ
ースフイルム10a 上に堆積され、強磁性層10b(図2参
照)を形成する。
The inside of the chamber 11 is brought to a vacuum state of 1.0 × 10 −4 Torr or less by a vacuum pump (not shown). The electron beam 5 emitted from the electron beam source 4 is scanned by the beam scanning means (not shown) on the vapor deposition material 3 contained in the crucible 9, and the vapor deposition material 3 is heated and evaporated.
The evaporated vapor deposition material 3 passes through the opening 8a of the shielding plate 8, is suspended on the peripheral wall of the cooling can 2 rotating in the direction of the arrow, and is transported at a speed v (0.25 <r / v <20). Deposited on the base film 10a to form a ferromagnetic layer 10b (see FIG. 2).

【手続補正2】[Procedure Amendment 2]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0024[Name of item to be corrected] 0024

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction content]

【0024】以下に本発明の蒸着装置のより具体的な実
験を示す。本実験は幅500mm のベースフイルムを搬送ス
ピード60m/min で冷却キャンの周壁に沿って搬送さ
せ、この搬送スピードvと除電ロールの半径rとの比r
/vを種々変化させ、また除電ロールのコーティングの
有無によって行なった。また蒸着材料はCo80Ni20の
合金を使用し、この蒸着材料を幅750mm のセラミックス
製のるつぼ内に収容し、出力90〜100kWの電子ビームを
スキャンさせた。
A more specific experiment of the vapor deposition apparatus of the present invention will be shown below. In this experiment, a base film having a width of 500 mm was conveyed at a conveying speed of 60 m / min along the peripheral wall of the cooling can, and the ratio r of the conveying speed v and the radius r of the static elimination roll was r
/ V was variously changed, and the static elimination roll was coated or not coated. An alloy of Co80Ni20 was used as the vapor deposition material, and the vapor deposition material was housed in a ceramic crucible having a width of 750 mm and scanned with an electron beam having an output of 90 to 100 kW.

【手続補正3】[Procedure 3]

【補正対象書類名】図面[Document name to be corrected] Drawing

【補正対象項目名】図1[Name of item to be corrected] Figure 1

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction content]

【図1】 [Figure 1]

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 円筒状の冷却キャンと、蒸着用の材料を
収容するるつぼと、該るつぼに収容された材料を加熱せ
しめる電子ビームを射出する電子ビーム源と、前記冷却
キャンの周壁に沿って搬送される帯状の基板部材が該冷
却キャンより離脱する位置に近接して設けられ、前記基
板部材を懸架する円筒状のロールとを備えた蒸着装置に
おいて、 前記ロールの少なくとも前記基板部材に接する部分がポ
リテトラフルオルエチレンにより被覆されてなり、 該ロールの半径と該ロールを離脱する前記基板部材の速
度との比が下記条件式(1) を満足することを特徴とする
蒸着装置。 0.25<r/v<20.0 (1) 但し、r;ロールの半径 (mm) v;ロールを離脱する基板部材の速度 (m/min)
1. A cylindrical cooling can, a crucible containing a material for vapor deposition, an electron beam source for emitting an electron beam to heat the material contained in the crucible, and a peripheral wall of the cooling can. A vapor deposition apparatus provided with a cylindrical roll for suspending the substrate member, wherein the belt-like substrate member to be conveyed is provided in the vicinity of a position where it is separated from the cooling can, and at least a portion of the roll that is in contact with the substrate member. Is coated with polytetrafluoroethylene, and the ratio of the radius of the roll and the speed of the substrate member leaving the roll satisfies the following conditional expression (1). 0.25 <r / v <20.0 (1) where r: roll radius (mm) v: speed of substrate member leaving roll (m / min)
【請求項2】 前記基板部材がポリエチレンテレフタレ
ートとポリエチレンナフタレートとのうちいずれか一方
からなることを特徴とする請求項1記載の蒸着装置。
2. The vapor deposition apparatus according to claim 1, wherein the substrate member is made of one of polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN112368413A (en) * 2019-03-12 2021-02-12 株式会社爱发科 Vacuum evaporation device

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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CN112368413A (en) * 2019-03-12 2021-02-12 株式会社爱发科 Vacuum evaporation device

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