JPH06169802A - Special-shape embossment, its manufacture, and shoe with embossment - Google Patents

Special-shape embossment, its manufacture, and shoe with embossment

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JPH06169802A
JPH06169802A JP4351902A JP35190292A JPH06169802A JP H06169802 A JPH06169802 A JP H06169802A JP 4351902 A JP4351902 A JP 4351902A JP 35190292 A JP35190292 A JP 35190292A JP H06169802 A JPH06169802 A JP H06169802A
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Japan
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embossing
stencil
raw material
embossment
hole
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Motoyasu Nakanishi
幹育 中西
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Suzuki Sogyo Co Ltd
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Abstract

PURPOSE:To manufacture special-shape embossment improving the ground holding function, capable of reducing the possibility of a slip while running, and having large ground holding force very easily. CONSTITUTION:The whole of the ground plane 3 of an embossment 2 is formed into a recessed shape, and the peripheral section of the ground plane 3 is formed acute against the side face of the embossment 2. A base sheet 34 is adhered to one face of a hole plate 19, an embossing liquid raw material 36 is poured into hole sections 18 of a hole plate 18 from the other face of the hole plate 19, an embossing liquid raw material 36 is poured into the hole sections 18 of the hole plate 19 from the other face of the hole plate 19, then the embossing liquid raw material liquid level in the hole sections 18 on the other face side of the hole plate 19 is set to the recessed state by squeezing, then the embossing liquid raw material 36 is hardened and released.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の目的】[Object of the Invention]

【産業上の利用分野】本発明は運動靴の靴底に設けられ
るような防滑性のエンボス並びにその製造方法並びにそ
のエンボスを有する靴に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an anti-slip embossing for a shoe sole of an athletic shoe, a method for manufacturing the same, and a shoe having the embossing.

【0002】[0002]

【発明の背景】近年の陸上競技では100分の1秒とい
う近差で勝敗を決することも多く、運動靴にもそれなり
の機能性と高品質性が要求されている。特に接地面底の
滑り止め用のエンボスは、靴の地面把持力に直接関係す
るため、種々の靴底のエンボス形態が開発されている。
しかし現在市場に提供されている運動靴の靴底のエンボ
ス形態は、エンボスの配置やつながり方を変えたものに
すぎず、最も地面把持力に関係があるエンボス接地面の
形状に変化を与えたものは、その成形の困難性からほと
んど製品化されていないのが現状である。
BACKGROUND OF THE INVENTION In recent years, athletics often win or lose with a close difference of 1 / 100th of a second, and athletic shoes are required to have a certain level of functionality and high quality. In particular, various anti-slip embossing forms have been developed because the non-slip embossing of the ground contacting surface is directly related to the ground gripping force of the shoe.
However, the embossed form of the soles of the athletic shoes currently on the market is merely a change in the arrangement and connection of the embosses, and changes the shape of the embossed ground contact surface that is most relevant to the ground gripping force. At present, most of the products have not been commercialized due to the difficulty of molding.

【0003】[0003]

【開発を試みた技術的事項】本発明はこのような背景に
鑑みなされたものであって、地面把持力に優れたエンボ
スとこのエンボスを靴底に有する靴を提供するととも
に、そのエンボスを極めて簡易に製造できる製造方法の
開発を試みたものである。
[Technical Items Attempted to Develop] The present invention has been made in view of such a background, and provides an embossing excellent in ground gripping force and a shoe having the embossing on the sole, and the embossing is extremely excellent. This is an attempt to develop a manufacturing method that can be easily manufactured.

【0004】[0004]

【発明の構成】[Constitution of the invention]

【目的達成の手段】即ち本出願に係る第一の発明である
特殊形状エンボスは、靴底に形成されるエンボスにおい
て、前記エンボスの接地面は全体が凹陥状に形成され、
前記接地面の周端部は前記エンボスの側面に対して鋭角
的に形成されて成ることを特徴として成るものである。
[Means for Achieving the Object] That is, in the special shape embossing which is the first invention of the present application, in the embossing formed on the shoe sole, the grounding surface of the embossing is entirely formed in a concave shape,
The peripheral edge of the ground contact surface is formed at an acute angle with respect to the side surface of the emboss.

【0005】また本出願に係る第二の発明である特殊形
状エンボスの製造方法は、孔版の一面に素地シートを密
着し、前記孔版の他面から孔版の孔部にエンボス液体原
料を流し込んだ後、前記孔版の他面側における孔部中の
エンボス液体原料液面をスキージ処理により凹状態にし
て、その後エンボス液体原料を硬化させ脱版することを
特徴として成るものである。
In the method for producing a specially shaped embossing which is the second invention of the present application, after the base sheet is adhered to one surface of the stencil and the embossing liquid raw material is poured from the other surface of the stencil into the holes of the stencil. The liquid surface of the embossed liquid raw material in the hole on the other surface side of the stencil plate is made concave by a squeegee treatment, and then the embossed liquid raw material is cured to remove the plate.

【0006】更に本出願に係る第三の発明である特殊形
状エンボスを有する靴は、エンボスの接地面全体が凹陥
状に形成され、前記接地面の周端部は前記エンボスの側
面に対して鋭角的に形成されて成るエンボスを靴底に有
することを特徴として成るものである。これら発明によ
り前記目的を達成せんとするものである。
Further, in the shoe having the specially shaped embossing according to the third invention of the present application, the entire grounding surface of the embossing is formed in a concave shape, and the peripheral end portion of the grounding surface has an acute angle with respect to the side surface of the embossing. Is characterized in that it has an emboss formed on the shoe sole. The above objects are achieved by these inventions.

【0007】[0007]

【発明の作用】本発明の特殊形状エンボスは、エンボス
の接地面が凹陥状であり、接地面の周端部はエンボスの
側面に対して鋭角的に形成されるから、エンボスの地面
把持力が大きくなる。
In the specially shaped embossing of the present invention, the grounding surface of the embossing is concave, and the peripheral edge of the grounding surface is formed at an acute angle with respect to the side surface of the embossing. growing.

【0008】また本発明の特殊形状エンボスの製造方法
は、孔版の一面に不織布を密着し、孔版の他面からエン
ボス液体原料を流し込んだ後、孔版の他面側をスキージ
処理し、その後エンボス液体原料を硬化させ脱版するよ
うにしたから、スキージ処理の際にエンボス液体原料と
孔版の孔部並びにスキージ具先端との表面張力、接触
角、濡れなどの関係から、エンボス液体原料の液面が孔
版の面から凹状態に窪み、そのまま硬化脱版されること
でエンボス接地面が凹状態に形成され、接地面の周端部
はエンボス側面に対して鋭角的に形成される。
In the method for producing a specially shaped embossing of the present invention, a nonwoven fabric is adhered to one surface of the stencil, the embossing liquid raw material is poured from the other surface of the stencil, the other surface of the stencil is squeegeeed, and then the embossing liquid is applied. Since the raw material was cured and depressurized, the liquid level of the embossed liquid raw material was changed during the squeegee treatment due to the relationship of surface tension, contact angle, wetting, etc. between the embossed liquid raw material, the hole of the stencil and the tip of the squeegee tool. The embossed ground surface is formed in a concave state by recessing from the surface of the stencil and being cured and demolded as it is, and the peripheral edge portion of the ground surface is formed at an acute angle with respect to the embossed side surface.

【0009】[0009]

【実施例】以下本発明を運動靴1の靴底のエンボス2を
例にとって、図示の実施例に基づいて説明する。尚、説
明の都合上、図面ではエンボスがうえに凸になるように
描き、以下の説明もこれに合わせる。運動靴1の靴底の
一つのエンボス2は例えば図1において拡大して示すよ
うにほぼ円柱形をしており、図中エンボス2の上面に接
地面3を形成し、円柱形の周囲に側面4を形成して成
る。そして接地面3は全体が多少とも緩やかな凹陥状に
形成されるとともに、接地面3の周端部5は側面4に対
して鋭角的に形成される。このような構造は本発明の特
徴的構成であって、他の種々のエンボス2にも適用でき
る。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described below with reference to the illustrated embodiment, taking the embossing 2 of the shoe sole of an athletic shoe 1 as an example. For convenience of description, the drawing is drawn so that the embossing is convex upward, and the following description is also adapted to this. One embossment 2 on the sole of the athletic shoe 1 has, for example, a substantially cylindrical shape as shown in an enlarged manner in FIG. 1, and a grounding surface 3 is formed on the upper surface of the embossing 2 in the figure, and a side surface is formed around the cylindrical shape. 4 is formed. The grounding surface 3 is formed in a recessed shape which is somewhat gentle, and the peripheral end portion 5 of the grounding surface 3 is formed at an acute angle with respect to the side surface 4. Such a structure is a characteristic configuration of the present invention and can be applied to various other embossings 2.

【0010】例えば図2(a)に示すものは、側面4を
テーパ状に形成したものであり、図2(b)に示すもの
は横断面が長円形に形成されたものであって、それぞれ
のエンボスに上記特徴的構成を適用したものである。ま
た更にこのような構成は、連続的なエンボス2にも適用
できるものである。その例として図2(c)に示すよう
に波形のエンボスの接地面3を凹陥状に形成したり、図
2(d)に示すようにリング状のエンボスのリング部分
の接地面3を凹陥状に形成してもよい。
For example, the one shown in FIG. 2 (a) has a side surface 4 formed in a tapered shape, and the one shown in FIG. 2 (b) has a cross section formed in an oval shape. The above characteristic configuration is applied to the embossing. Furthermore, such a configuration can be applied to the continuous embossing 2. For example, as shown in FIG. 2C, the corrugated embossed ground plane 3 is formed in a concave shape, or as shown in FIG. 2D, the ring-shaped embossed ring ground plane 3 is formed in a concave shape. You may form in.

【0011】次に以上のような特殊形状エンボスの製造
方法について説明する。この製造方法は従来のエンボス
製造法とは異なり、孔版を用いるものであるため、まず
孔版の作成について説明し、そのあとエンボスの成形工
程を説明する。因みに孔版を適用してエンボスを成形す
ることは本発明の一つの特徴でもあり、これにより円柱
形のエンボスは勿論のこと、従来の凹版的な金型を用い
て行なう方法では全く対応できなかった上記図2(c)
(d)のような波形あるいはリング状の接地面3を凹陥
状にしたエンボスも成形可能になったのである。
Next, a method of manufacturing the special shape embossing as described above will be described. Unlike the conventional embossing manufacturing method, this manufacturing method uses a stencil. Therefore, the preparation of the stencil will be described first, and then the embossing molding step will be described. Incidentally, forming an emboss by applying a stencil is also one of the features of the present invention, so that not only the cylindrical embossing but also the conventional method using an intaglio mold cannot be applied at all. FIG. 2 (c) above
The corrugated or ring-shaped grounding surface 3 as shown in (d) can also be molded.

【0012】(1) 孔版の作成 イ)サンドブラストによる方法 まず所望のエンボスデザインを作成し、このエンボスデ
ザインを被転写体Aとして、図3に示すように写真撮影
手法でポジフィルムであるリスフィルム10を作成す
る。尚この手法ではカメラを用いるので、エンボスデザ
インの縮小、拡大は自由である。因みにこのようなポジ
フィルムは、もちろん他のものを適用することも可能で
あるが、後の露光の際に感光部と非感光部との境界を明
確にするため、本実施例では薄く硬調なコントラストが
得られるリスフィルムを採用している。
(1) Preparation of stencil a) Method by sandblasting First, a desired embossed design is prepared, and this embossed design is used as the transferred material A, and as shown in FIG. To create. Since a camera is used in this method, the embossed design can be freely reduced or enlarged. Incidentally, as such a positive film, it is of course possible to apply other ones, but in order to clarify the boundary between the light-sensitive portion and the non-light-sensitive portion at the time of the subsequent exposure, in this embodiment, a thin and hard-tone film is used. Uses a squirrel film that provides contrast.

【0013】次にこのリスフィルム10を図4(a)に
示すように光硬化性樹脂フィルム12に密着させ、リス
フィルム10側から露光して、リスフィルム10のエン
ボスデザイン以外の部分に対応した光硬化性樹脂フィル
ム12の部分を硬化させる。
Next, as shown in FIG. 4A, the squirrel film 10 is brought into close contact with the photocurable resin film 12, and exposed from the squirrel film 10 side so as to correspond to a portion other than the embossed design of the squirrel film 10. The portion of the photocurable resin film 12 is cured.

【0014】なお光硬化性樹脂フィルム12は、サンド
ブラスト保護マスクとなるものであり、例えば光硬化性
樹脂層を透明フィルムで両面から剥離可能にサンドイッ
チし、使用時にリスフィルムとの密着面側の透明フィル
ムあるいは後述の硬質板との密着面側の透明フィルムを
剥離して用いる形態のものが便利である。また光硬化性
樹脂フィルム12は、後述するようにサンドブラストに
対する耐久性を要求される。この観点から選択できる光
硬化性樹脂フィルム12の一例として、ウレタン系感光
フィルムがあり、このものは100μmの薄さでもサン
ドブラストに耐えることができる。尚もちろん種々の樹
脂であっても、精度の点を問題としなければ、厚さを厚
くしてサンドブラストへの耐久性を増すことができるか
ら、作業性やコスト面等を考慮して適宜の樹脂を選択す
ることもできる。
The photo-curable resin film 12 serves as a sandblasting protection mask. For example, the photo-curable resin layer is sandwiched with a transparent film so that it can be peeled from both sides, and the transparent side on the side close to the lith film when used. It is convenient to use a film or a transparent film on the side close to the hard plate, which will be described later, after peeling off the film. Further, the photocurable resin film 12 is required to have durability against sandblast as described later. An example of the photo-curable resin film 12 that can be selected from this viewpoint is a urethane-based photosensitive film, which can withstand sandblasting even at a thickness of 100 μm. Of course, even if various resins are used, if the accuracy is not a problem, it is possible to increase the thickness and increase the durability to sandblasting. You can also select.

【0015】ここで光硬化性樹脂は、例えばスチリルピ
リジニウム基を感光基としてポリ酢酸ビニル・ポリビニ
ルアルコールエマルジョンに導入した感光性樹脂や、こ
の他カラギナン、ゼラチン等の天然水溶性ポリマー、カ
ルボキシメチルセルロース、アルギン酸アンモン、でん
ぷん、メチルアミノプロピルエーテル等の半合成水溶性
ポリマー及びベンゾフェノン、チオキサントン、ベンゾ
インエーテル等の光重合開始剤、そしてモノマーとから
成る光重合型のものや、重クロム酸塩、ジアゾ樹脂、ビ
スアジド化合物等の光架橋剤とから成る混合型のものが
ある。
Here, the photocurable resin is, for example, a photosensitive resin obtained by introducing a styrylpyridinium group into a polyvinyl acetate / polyvinyl alcohol emulsion as a photosensitive group, and other natural water-soluble polymers such as carrageenan and gelatin, carboxymethyl cellulose and alginic acid. Semi-synthetic water-soluble polymers such as ammon, starch, methylaminopropyl ether, etc. and photopolymerization initiators such as benzophenone, thioxanthone, benzoin ether, etc. and monomers, dichromate, diazo resin, bisazide There is a mixed type which comprises a photo-crosslinking agent such as a compound.

【0016】尚、光硬化樹脂の「光硬化」とは、可視
光、紫外線、X線、電子線などのエネルギーの高い電磁
波の照射を受けると、エネルギーを吸収して架橋、硬
化、不溶化を起こして固化する物質全般を指すものであ
り、同様に「光」とはこれらエネルギーの高い電磁波を
総称するものである。
The term "photo-curing" of a photo-curing resin means that when it is irradiated with electromagnetic waves having high energy such as visible light, ultraviolet rays, X-rays and electron beams, it absorbs energy to cause crosslinking, curing and insolubilization. The term "light" is a general term for electromagnetic waves with high energy.

【0017】次に光硬化性樹脂フィルム12のうち、リ
スフィルム10のエンボスデザインに対応した非感光部
分を図4(b)に示すように炭酸水中でブラシB等を用
いて洗い流し、これを乾燥した後、感光部分の硬度を上
げる目的で再度露光してマスク13を作成する。そして
図4(c)に示すように、このマスク13を版の原板で
ある硬質板14の表面に密着させ、この状態でマスク1
3側の面にサンドブラスト加工を施す。なおマスク13
を硬質板14に密着させるため、予め硬質板14側に接
着剤を塗布しておくとよい。
Next, of the photocurable resin film 12, the non-photosensitive portion corresponding to the embossed design of the squirrel film 10 is rinsed with carbonated water using a brush B or the like as shown in FIG. 4 (b) and dried. After that, the mask 13 is formed by exposing again for the purpose of increasing the hardness of the exposed portion. Then, as shown in FIG. 4C, the mask 13 is brought into close contact with the surface of the hard plate 14 which is the original plate of the plate, and in this state the mask 1
Sandblasting is applied to the surface on the 3rd side. The mask 13
In order to bring the hard plate 14 into close contact with the hard plate 14, it is preferable to apply an adhesive to the hard plate 14 side in advance.

【0018】ここで硬質板14とは、硬質の素材から成
り、サンドブラスト加工に適する素材をいい、例えばガ
ラス、セラミックス、石材、人工大理石等脆弱性を有す
る素材の他、加工に多少の困難性を伴うものの金属等も
含むものである。尚、硬質板14の中でもガラス板は割
れることさえ気をつければ、安価で入手しやすい上にサ
ンドブラスト加工がおこないやすく、また靴底のエンボ
スの長さ程度であれば数十分という短時間で加工できる
ので作業性が良い。
The hard plate 14 is made of a hard material and is suitable for sandblasting. For example, glass, ceramics, stone, artificial marble, and other fragile materials, as well as some difficulty in processing. It also includes metals and the like. It should be noted that, even if the glass plate among the hard plates 14 is broken, it is cheap and easy to obtain, and sandblasting is easy to perform. Workability is good because it can be processed.

【0019】またブラスト用の研磨材は、通常墓石や表
札などの蝕刻に用いるものでよく、例えば天然硅素、ガ
ーネット、炭化硅素カーボン、ランダム、人造コランダ
ム等が適用できる。もちろんこれら研磨材の選定は、硬
質板14の材質や作業性等を加味して適宜選択すること
になる。
The abrasive for blasting may be one normally used for etching tombstones, nameplates, etc., for example, natural silicon, garnet, silicon carbide carbon, random, artificial corundum and the like can be applied. Of course, selection of these abrasives will be made in consideration of the material of the hard plate 14, workability and the like.

【0020】次にサンドブラストによる蝕刻加工につい
て説明する。予定するエンボスの長さと同じ厚さの硬質
板14を用いて、図4(c)に示すように研磨材を当て
て蝕刻により孔部18を形成して孔版19を作成する。
この場合、通常のサンドブラストでは図6に示すように
孔部にテーパが付き易いため、これを利用してテーパ付
きのエンボスを成形することもできるし、またこのテー
パを抜き勾配として利用することもできる。更に発展し
て例えば靴底の爪先部分のように、なだらかに傾斜しな
がらせり上がるような、言わばなだらかなテーパ面を有
するエンボスの成形にも利用できる。サンドブラストの
距離をおき、時間をかけてブラストすれば、テーパのな
い垂直面を有する孔部も形成できる。尚、蝕刻面は梨地
状になっているから、脱版性向上のため、版使用前に離
型剤を塗布しておくことが好ましい。
Next, the etching process by sandblasting will be described. Using the hard plate 14 having the same thickness as the intended embossing length, as shown in FIG. 4C, an abrasive material is applied to form holes 18 by etching to form a stencil 19.
In this case, since the hole is easily tapered in the ordinary sandblasting as shown in FIG. 6, it is possible to use this to form the tapered embossing, or to use this taper as a draft. it can. With further development, it can also be used for forming embossments having a so-called gentle taper surface, such as a toe portion of a shoe sole, which rises while gently sloping. If the sandblast distance is set and blasting is performed for a long time, a hole having a vertical surface without a taper can be formed. Since the etched surface has a satin finish, it is preferable to apply a release agent before using the plate in order to improve the plate removing property.

【0021】また図7(a)のようにまず範囲a1 を蝕
刻して孔部18を形成し、その後この範囲a1 と一部重
複した範囲a2 に途中まで蝕刻を施せば、このような孔
版を用いて図7(b)のような段差付きのエンボスを形
成することができる。
Further, as shown in FIG. 7A, if the area a 1 is first etched to form the hole 18, and then the area a 2 which partially overlaps the area a 1 is partially etched, It is possible to form a stepped emboss as shown in FIG.

【0022】ロ)マスター型を利用する方法 図8(a)に示すように靴底のエンボス模様と同様な模
様のマスター型25を用意し、これに鉄、ニッケル等の
磁性体金属26を溶射する。そしてこのマスター型25
の各凸部27間に型用樹脂28を流し込んで熱硬化さ
せ、図8(b)のように表面を削ってマスター型25の
凸部27天面に付着している磁性体金属26をとり去
る。最後にマスター型25をはずすことにより、図8
(c)に示すような孔部18を有する孔版19が得られ
る。尚このような孔版19は、孔部18以外の下面に磁
性体金属26が設けられることになるが、これは後述す
るように磁力によって素地シートと孔版19との密着性
を向上させるためのものであって、他の方法で両者の密
着性の向上が図れる場合には、磁性体金属26の存在は
必ずしも必要とされない。
(B) Method of using a master mold As shown in FIG. 8 (a), a master mold 25 having a pattern similar to the embossed pattern of the shoe sole is prepared, and a magnetic metal 26 such as iron or nickel is sprayed on the master mold 25. To do. And this master mold 25
Mold resin 28 is poured between the respective convex portions 27 of FIG. 2 to heat-harden it, and as shown in FIG. 8B, the surface is ground to remove the magnetic metal 26 attached to the top surface of the convex portions 27 of the master mold 25. leave. Finally, by removing the master mold 25, as shown in FIG.
A stencil plate 19 having holes 18 as shown in (c) is obtained. Incidentally, in the stencil 19 as described above, the magnetic metal 26 is provided on the lower surface other than the holes 18, which serves to improve the adhesion between the base sheet and the stencil 19 by magnetic force as described later. However, the presence of the magnetic metal 26 is not necessarily required if the adhesion between the two can be improved by another method.

【0023】またこのような方法において孔版19に磁
性を帯びさせるための類似技術として、孔版19に磁性
粉を担持させる手法を採ることもできる。その具体的手
法として、型用樹脂28が液状の段階で、これに磁性粉
を混入し、これをマスター型25に流し込んで孔版19
を製作する方法や、磁性を有しない孔版に後から磁性粉
を付着させる方法が採り得る。因みに磁性粉を付着させ
るには、ガス炎、アーク炎、プラズマ等により磁性体を
細かい溶滴状にして孔版に溶射する方法で容易に行なえ
る。尚、この方法では、磁性粉が孔版の孔部にも付着し
て脱版が行い難くなるおそれがあるから、マスク等をし
て孔部に磁性体が付着しないようにする手立てが必要と
なる。
As a similar technique for imparting magnetism to the stencil 19 in such a method, a method of supporting magnetic powder on the stencil 19 can be adopted. As a concrete method thereof, when the molding resin 28 is in a liquid state, magnetic powder is mixed into the molding resin 28, which is poured into the master mold 25 to form the stencil 19.
Or a method of attaching magnetic powder to a stencil having no magnetism afterwards. Incidentally, the magnetic powder can be easily attached by a method of spraying the magnetic material into fine droplets with a gas flame, an arc flame, plasma or the like and spraying the magnetic material onto the stencil. In this method, the magnetic powder may adhere to the holes of the stencil, which may make it difficult to remove the plate. Therefore, it is necessary to use a mask or the like to prevent the magnetic substance from adhering to the holes. .

【0024】ハ)光硬化樹脂フィルムを利用する方法 まず図9(a)に示すように光硬化樹脂を2mm厚のフ
ィルム状に乾燥成形して、光硬化樹脂フィルム30を作
成する。尚このフィルムは上記サンドブラスト法の中で
説明したものと同じであるが、成形するエンボスの高さ
に応じて厚めのものを適用する。この露光前の光硬化樹
脂フィルム30を、図9(a)に示すように下面を水で
濡らした後、ガラス、アルミ板等の基板31に接着し、
70℃前後で5〜10分間乾燥し、両者を一体化する。
その後図9(b)(c)に示すように、露光前の光硬化
樹脂フィルム30の上に靴底のエンボス模様を形成した
マスク32を密着し、例えば超高圧水銀灯ブロードハン
ド(365nm、5.7mW/cm2 )で10〜15分
露光後、マスク32を外して、ブラシ等を用いて温水シ
ャワー中で未露光部33を取り除く。
C) Method of Utilizing Photocurable Resin Film First, as shown in FIG. 9A, the photocurable resin is dried and molded into a film having a thickness of 2 mm to form a photocurable resin film 30. This film is the same as that described in the sandblast method, but a thicker film is applied according to the height of the emboss to be molded. As shown in FIG. 9 (a), the lower surface of this pre-exposure photocurable resin film 30 is wetted with water, and then adhered to a substrate 31 such as glass or aluminum plate,
Both are integrated by drying at about 70 ° C. for 5 to 10 minutes.
Thereafter, as shown in FIGS. 9B and 9C, a mask 32 having an embossed pattern of the shoe sole is brought into close contact with the pre-exposure photocurable resin film 30, and, for example, an ultrahigh pressure mercury lamp broadhand (365 nm, 5. After exposure at 7 mW / cm 2 for 10 to 15 minutes, the mask 32 is removed, and the unexposed portion 33 is removed in a hot water shower using a brush or the like.

【0025】次に未露光部33が取り除かれた光硬化樹
脂フィルム30を70℃前後で約30分程乾燥し、フィ
ルムを基板31から剥がした後、磁性体金属26を溶射
して図9(c)に示すように未露光部33に孔部18を
形成した孔版19を作成する。尚、孔版19に磁性を帯
びさせる場合には、前記同様磁性粉を適用してもよく、
また光硬化樹脂はフィルムの他、液体状のものを塗布乾
燥して用いてもよい。また尚、光硬化樹脂の光硬化特性
は、その透明度に大きく依存するため、透明度の許す範
囲内で磁力吸引力との兼ね合いをみて磁性粉の添加量を
調整する他、よりエネルギーレベルの高い電子線を用い
て硬化させる必要がある。
Next, the photocurable resin film 30 from which the unexposed portion 33 has been removed is dried at about 70 ° C. for about 30 minutes, the film is peeled off from the substrate 31, and then the magnetic metal 26 is sprayed, as shown in FIG. As shown in c), a stencil 19 having holes 18 formed in the unexposed portion 33 is created. When the stencil plate 19 is to be magnetized, magnetic powder may be applied as described above,
In addition to the film, the photocurable resin may be used by coating and drying a liquid one. In addition, since the photo-curing property of the photo-curing resin largely depends on its transparency, the amount of magnetic powder added is adjusted in view of the balance with the magnetic attraction force within the range of transparency, and the electron with higher energy level is used. Need to be cured using wire.

【0026】また水現像が可能な光硬化樹脂は、硬化前
水溶性であり硬化後も親水性に富むため、油性系の原料
が用いられがちな靴底のエンボス(具体的にはウレタン
エラストマー)に対する離型性、即ち数mm厚もある孔
版19の孔部18からの脱版性を考慮した場合には、好
適なタイプであるといえる。また水現像における水と
は、中性は勿論のことアルカリ性、酸性でも構わない。
Further, since the photo-curable resin which can be developed by water is water-soluble before curing and is highly hydrophilic even after curing, embossing of shoe soles (specifically, urethane elastomer) in which oil-based raw materials are often used. Considering the releasability of the stencil, that is, the ability to remove the stencil 19 from the holes 18 having a thickness of several mm, it can be said to be a suitable type. The water used in the water development may be neutral or alkaline or acidic.

【0027】ニ)その他の方法 以上の方法の他、金属板、樹脂板などにエッチング、ワ
イヤカット、レーザー、パンチング、プレス等による方
法で孔部を形成して孔版を作成してもよい。今日ではエ
ッチング手法によれば、金属板に段差を付けた孔部を形
成することも比較的低コストで行なうことができる。
D) Other methods In addition to the above methods, holes may be formed in a metal plate, a resin plate or the like by etching, wire cutting, laser, punching, pressing or the like to form a stencil. Nowadays, according to the etching method, it is possible to form a stepped hole in a metal plate at a relatively low cost.

【0028】(2) 孔版と素地シートとのセット 次に図10のように素地シート34の上に孔版19を密
着させる。尚、素地シート34と孔版19との密着が悪
いと液が浸み出してエンボスの回りに柄として出てしま
うため、接着、貼着、磁力吸着あるいは素地シート34
の下にクッション材を敷き孔版の上から押圧させるなど
の適宜の手段で確実に密着させる。
(2) Set of stencil and base sheet Next, as shown in FIG. 10, the stencil 19 is brought into close contact with the base sheet 34. If the adhesion between the base sheet 34 and the stencil plate 19 is poor, the liquid will seep out and appear as a handle around the embossing.
A cushion material is laid underneath and pressed firmly from the top of the stencil so as to ensure close contact.

【0029】因みに素地シート34と孔版19との密着
方法には、バキュームを利用したり、粘着による方法も
考えられるが、バキュームによるとマスクされていない
孔部分ばかりから吸引され、この状態でエラストマーを
流し込むとそれを不織布内に吸引してしまう。そのため
結局、版全体を均一に吸引するのは困難である。また粘
着による方法では、その都度粘着剤を塗布し直す必要が
生じる。これに対し例えば、上記磁力による方法では、
吸引作用の断通が確実に制御でき、全面にほぼ均一に吸
引作用を及ぼすことができるとともに、素地シート34
と孔版19との密着を維持したまま加熱を行うことがで
きる。
Incidentally, as a method for adhering the base sheet 34 and the stencil plate 19 to each other, it is possible to use a vacuum or a method by adhesion. If it is poured, it will be sucked into the nonwoven fabric. Therefore, after all, it is difficult to suck the entire plate uniformly. Further, in the method using adhesive, it is necessary to apply the adhesive again each time. On the other hand, for example, in the method using the magnetic force described above,
The disconnection of the suction action can be reliably controlled, the suction action can be exerted almost uniformly on the entire surface, and the base sheet 34
The heating can be performed while maintaining the close contact between the stencil and the stencil 19.

【0030】尚、上記孔版の作成において孔版19に磁
性体を具えていないものはクッション材を敷き、孔版の
適宜数カ所を上から押圧させるなどの方法で密着させる
のが好ましく、また孔版19に磁性体を具えている場合
は、図11に示すように強力な永久磁石板35を用意
し、その上に素地シート34を敷き、更にその上に孔版
19を乗せることで、孔版19の磁性体金属26が永久
磁石板35に磁力で吸引される作用によって、素地シー
ト34は孔版19と密着状態となる。
In the preparation of the stencil, if the stencil 19 is not provided with a magnetic material, it is preferable that a cushioning material is laid and the stencil is brought into close contact with the stencil by pressing several points from above. When the body is provided, a strong permanent magnet plate 35 is prepared as shown in FIG. 11, a base sheet 34 is laid on the plate, and a stencil 19 is placed on the base sheet 34. The base sheet 34 is brought into close contact with the stencil plate 19 due to the action of magnetic attraction of 26 to the permanent magnet plate 35.

【0031】この場合、永久磁石板35の替わりに電磁
石を適用してもよく、また孔版19をすべて鉄等の磁性
体で構成したり、孔版19に永久磁石あるいは他の磁性
体を埋め込むなどの構成を採ることもできる。また磁石
板は、平面研削盤の工作物保持装置として広く利用され
ている永磁チャック、電磁チャックのような形態を採れ
ば便利であり、このようなものを永久磁石板の代わりに
セットするのがよい。
In this case, an electromagnet may be applied instead of the permanent magnet plate 35, the stencil 19 may be made of a magnetic material such as iron, or the stencil 19 may be embedded with a permanent magnet or another magnetic material. A configuration can also be adopted. Further, it is convenient for the magnet plate to take a form such as a permanent magnet chuck or an electromagnetic chuck which is widely used as a work holding device for a surface grinder, and such a member is set in place of the permanent magnet plate. Is good.

【0032】また素地シート34は、例えば合成樹脂、
ゴム、不織布など従来使用されている素材が適用でき
る。素地シート34として不織布を適用する場合には、
熱可塑性繊維、熱硬化性繊維のいずれによるものでもよ
く、その一例としてバックスキン状人工皮革である東レ
株式会社製のエクセーヌ(登録商標)などを適用するこ
とができる。因みにこのエクセーヌ(登録商標)には、
黄色、オレンジ色など種々の色があるので、エンボスを
黒色系とすることで色彩的なコントラストによる意匠を
靴底に施すことができる。
The base sheet 34 is made of synthetic resin, for example.
Conventional materials such as rubber and non-woven fabric can be applied. When a non-woven fabric is applied as the base sheet 34,
It may be either a thermoplastic fiber or a thermosetting fiber, and as one example, backskin-like artificial leather such as Exaine (registered trademark) manufactured by Toray Industries, Inc. can be applied. By the way, in this Exaine (registered trademark),
Since there are various colors such as yellow and orange, by making the embossing black, it is possible to give the shoe sole a design with a color contrast.

【0033】この他、引裂強度、引張強度、耐磨耗性の
ある通常の不織布シートをはじめ、厚手のフィルムシー
ト等も適用できるし、接着性を具えるものや樹脂皮膜コ
ートによる防水性を具えるものでもよい。通常の不織布
シートとしては、ウレタン等の弾性長繊維を自己接着さ
せたものが好適である。この場合、例えば厚さ1cm程
度の厚手の不織布シートを適用すれば、緩衝性に優れた
靴底を提供することができる。尚、フィルムシートを素
地シート34として用いるときは、人工皮革や不織布に
比較すると素材の対比を意匠的に表現しにくいが、色彩
的なコントラストにより意匠性を高めることができる。
In addition to the usual non-woven fabric sheet having tear strength, tensile strength and abrasion resistance, thick film sheets and the like can be applied, and those having adhesive property and waterproof property by resin film coat can be used. It may be a fertilizer. As a normal non-woven sheet, one obtained by self-bonding elastic long fibers such as urethane is suitable. In this case, for example, if a thick non-woven sheet having a thickness of about 1 cm is applied, it is possible to provide a shoe sole having excellent cushioning properties. When the film sheet is used as the base sheet 34, it is difficult to express the contrast of the material in design as compared with artificial leather or non-woven fabric, but the color contrast can enhance the design.

【0034】(3) エンボス液体原料の流し込み 孔版19を素地シート34と密着状態でセットしたら、
図12(a)に示すように孔版19における孔部18に
エンボス液体原料の一例としてポリウレタンエラストマ
ー36を流し込む。尚、ポリウレタンエラストマー36
の流し込み方法は、図12(a)のように容器内で原料
の二液を混合し脱泡して注ぐ方法の他、図示しないがノ
ズル内で二液が混合される方法や、図12(a')のよう
にノズル先端で原料の二液を混合しながら吹き付けるよ
うにしてもよい。
(3) Pouring of embossed liquid raw material After setting the stencil 19 in close contact with the base sheet 34,
As shown in FIG. 12A, a polyurethane elastomer 36 is poured into the holes 18 of the stencil plate 19 as an example of an embossing liquid raw material. Incidentally, the polyurethane elastomer 36
As for the pouring method of (2), in addition to the method of mixing the two liquids of the raw material in the container as shown in FIG. As in a '), the two liquids of the raw materials may be sprayed while being mixed at the tip of the nozzle.

【0035】このポリウレタンエラストマー36は、プ
レポリマーとポリイソシアネートとの混合液から成り、
これを加熱することによって硬化するものであり、本実
施例ではプレポリマーである日本ポリウレタン工業株式
会社のニッポラン(登録商標)に、ポリイソシアネート
である大日本インキ株式会社のパンデックス(登録商
標)を混合して用いた。尚、プレポリマーとポリイソシ
アネートとの混合液は真空脱泡したものを孔部18に流
し込む。またノズルから吹き付けて供給するポリウレタ
ンエラストマーとして好適なものに、日本合成化学工業
株式会社の無溶剤即硬ウレタン樹脂などがある。
The polyurethane elastomer 36 is composed of a mixed liquid of a prepolymer and polyisocyanate,
This is to be cured by heating, and in this example, Nipolan (registered trademark) of Nippon Polyurethane Industry Co., Ltd., which is a prepolymer, and Pandex (registered trademark) of Dainippon Ink and Chemicals, Inc., which is a polyisocyanate, are used. The mixture was used. The mixed solution of the prepolymer and polyisocyanate, which has been degassed in vacuum, is poured into the holes 18. Further, as a polyurethane elastomer which is sprayed and supplied from a nozzle, there is a solventless quick-hardening urethane resin manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd.

【0036】上記ニッポラン、パンデックスのような硬
化までに比較的時間を要する二液注型熱硬化性のポリウ
レタンは、加熱硬化させるときに図16に示すように一
旦粘度が減少した後に粘度が上昇するので、粘度減少点
(図中P点)において、孔版からの流出や不織布へのに
じみを防止する必要がある。そこでこれら原料には、増
粘剤を混入することが好ましい。
The two-component injection type thermosetting polyurethane, which requires a relatively long time to cure, such as Nipporan and Pandex, has a viscosity which once decreases as shown in FIG. Therefore, it is necessary to prevent the outflow from the stencil and the bleeding into the nonwoven fabric at the viscosity reduction point (point P in the figure). Therefore, it is preferable to mix a thickener with these raw materials.

【0037】尚、増粘剤の具体例として、日本アエロジ
ル株式会社製造販売のAEROSIL(登録商標)があ
る。このものは工業的に得られる最高純度のシリカ(S
iO2 99.8%)であり、7mμ〜50mμの超微粒
子から成り、高表面積、高分散性を有する無害の物質で
ある。このAEROSIL(登録商標)は、表面に有す
るシラノール基の水素架橋結合の働きにより、少量の添
加でポリエステルやエポキシ樹脂等の液状物質の加工に
必要なレオロジー特性を与えることができるため増粘剤
としての機能を有する。
A specific example of the thickener is AEROSIL (registered trademark) manufactured and sold by Nippon Aerosil Co., Ltd. This is the highest purity silica (S
iO 2 99.8%), is composed of ultrafine particles of 7 mμ to 50 mμ, and is a harmless substance having high surface area and high dispersibility. This AEROSIL (registered trademark) serves as a thickener because it can impart the rheological properties necessary for processing liquid substances such as polyester and epoxy resin with a small amount of addition due to the action of hydrogen cross-linking of silanol groups on the surface. It has the function of.

【0038】因みに増粘剤を加えることと、孔版19を
磁力により素地シート34に密着させることで、ポリウ
レタンエラストマー36が孔版19と素地シート34と
の間ににじみ込むことが一層防止されるため、エンボス
と不織布との色の境目がはっきりしてコントラストが明
瞭となり、靴底の意匠的効果を高めることができる。
Incidentally, by adding a thickener and bringing the stencil 19 into close contact with the base sheet 34 by magnetic force, the polyurethane elastomer 36 is further prevented from oozing between the stencil 19 and the base sheet 34. The color boundary between the embossing and the non-woven fabric becomes clear and the contrast becomes clear, so that the design effect of the shoe sole can be enhanced.

【0039】またエンボス部分の色を他の不織布部分の
色と変える他の手段として、エンボスを形成する不織布
部分にあらかじめ対比色で印刷しておき、その部分に透
明な樹脂を用いてエンボスを形成するようにしてもよ
い。この場合には、対比色のインクで印刷したエンボス
パターン上に、エンボスパターンに対応した位置に孔部
が形成された孔版を密着させ、孔部に透明なポリウレタ
ン樹脂を流し込んだのち加熱硬化させ、孔版を離版する
ようにすればよい。
As another means for changing the color of the embossed portion to the color of the other non-woven fabric portion, the non-woven fabric portion to be embossed is preliminarily printed with a contrasting color, and the embossed portion is formed using a transparent resin. You may do it. In this case, on the embossed pattern printed with the ink of a contrasting color, a stencil having a hole formed at a position corresponding to the embossed pattern is brought into close contact, and a transparent polyurethane resin is poured into the hole and then heat-cured, The stencil may be separated.

【0040】また他のエンボス液体原料として光硬化樹
脂を適用することもできる。ここで用いる光硬化樹脂も
上記と同意義のものである、ここでは光硬化樹脂のう
ち、紫外線の照射により短時間で硬化する紫外線硬化樹
脂39を例にとって以下説明する。尚このものは、光重
合性プレポリマーと光重合性モノマーと光開始剤とを主
成分とする。
Further, a photo-curing resin can be applied as another embossing liquid raw material. The photo-curable resin used here has the same meaning as described above. Here, of the photo-curable resins, an ultraviolet-curable resin 39 that is cured in a short time by irradiation with ultraviolet rays will be described as an example. In addition, this thing has a photopolymerizable prepolymer, a photopolymerizable monomer, and a photoinitiator as a main component.

【0041】紫外線硬化樹脂39の選択にあたっては、
紫外線が孔部18の深くまで届くように、あるいは素地
シート34に印刷されたパターンの色が透けて見えるよ
うに、硬化前および硬化後において透明ないし半透明の
ものを適用する。しかも本発明ではエンボスは靴底とし
て用いられるから、硬化したものが適度な弾力を有し、
引張強度、引き裂き強度、耐磨耗性、その他の要求され
るべき物性面で靴底のエンボスとして耐えられるような
紫外線硬化樹脂39を適用する。この場合、引き裂き強
度を向上させるため、硬化を阻害しない程度に短繊維等
のフィラーを紫外線硬化樹脂39に混入しておいてもよ
い。
In selecting the ultraviolet curable resin 39,
A transparent or translucent material is applied before and after curing so that the ultraviolet rays reach the deep portion of the hole 18 or the color of the pattern printed on the base sheet 34 can be seen through. Moreover, since the emboss is used as a shoe sole in the present invention, the cured product has an appropriate elasticity,
The ultraviolet curable resin 39 is applied so that it can withstand the embossment of the shoe sole in terms of tensile strength, tear strength, abrasion resistance, and other required physical properties. In this case, in order to improve the tear strength, a filler such as short fibers may be mixed in the ultraviolet curable resin 39 to the extent that curing is not hindered.

【0042】尚、素地シート34と孔版19との密着性
を高めても、紫外線硬化樹脂39の浸み出しを生じた場
合には、これによって素地シート34とエンボスとの色
の境目が不明瞭になることがある。この場合には、溶剤
的役割を担う光重合性モノマーの混合割合を低くした紫
外線硬化樹脂39や、粘度の高い光重合性プレポリマー
の混合割合を高くした紫外線硬化樹脂39を適用すれ
ば、紫外線硬化樹脂39の浸み出しを防止することがで
きる。尚、エンボス液体原料としてポリウレタンエラス
トマー36を用いたときのエンボス作成過程は図12と
図13に示し、エンボス液体原料として紫外線硬化樹脂
39を用いたときのエンボス作成過程は図14と図15
に示す。
Even if the adhesiveness between the base sheet 34 and the stencil plate 19 is increased, if the UV curable resin 39 seeps out, the color boundary between the base sheet 34 and the embossing is unclear. May become. In this case, if the UV curable resin 39 in which the mixing ratio of the photopolymerizable monomer that plays a role of a solvent is reduced or the UV curable resin 39 in which the mixing ratio of the photopolymerizable prepolymer having high viscosity is increased is applied, It is possible to prevent the cured resin 39 from seeping out. 12 and 13 show the embossing process when the polyurethane elastomer 36 is used as the embossing liquid material, and FIGS. 14 and 15 show the embossing process when the ultraviolet curable resin 39 is used as the embossing liquid material.
Shown in.

【0043】(4) スキージ処理 ポリウレタンエラストマー36あるいは紫外線硬化樹脂
39を孔版19の孔部18に流し込んだら、図12
(b)あるいは図14(c)に示すようにスキージ具3
7を用いて、孔部18の上面からはみ出て存在するポリ
ウレタンエラストマー36あるいは紫外線硬化樹脂39
を除去する。このとき各孔部18中のポリウレタンエラ
ストマー36あるいは紫外線硬化樹脂39のうち、孔部
上面直下付近に存在するものの一部を、これらエンボス
液体原料と孔版19の孔部18並びにスキージ具37の
先端との表面張力、接触角、濡れなどの関係から、スキ
ージ具37先端で引きずるようにして一緒に取り去るよ
うにする。即ちこのようなスキージ処理により、各孔部
18中のエンボス液体原料の上部が、全体にわたり凹陥
状に窪んで形成されるようになる。
(4) Squeegee Treatment After pouring the polyurethane elastomer 36 or the ultraviolet curable resin 39 into the hole portion 18 of the stencil plate 19, FIG.
As shown in FIG. 14B or FIG. 14C, the squeegee tool 3
7, the polyurethane elastomer 36 or the ultraviolet curable resin 39 protruding from the upper surface of the hole 18 is present.
To remove. At this time, a part of the polyurethane elastomer 36 or the ultraviolet curable resin 39 in each hole 18 which exists immediately below the upper surface of the hole is used as a part of the embossed liquid raw material, the hole 18 of the stencil 19 and the tip of the squeegee tool 37. Due to the surface tension, contact angle, wetting, etc., the tip of the squeegee tool 37 is dragged and removed together. That is, by such a squeegee process, the upper portion of the embossed liquid raw material in each hole 18 is formed to be depressed in a concave shape throughout.

【0044】尚、このようにエンボス液体原料の上部を
凹陥状にするスキージ処理は、格別なスキージ具やスキ
ージ手法を用いなくても、実施例例示のエンボス液体原
料や普通の材質のスキージ具を用いて、通常のスキージ
作業を丁寧に行なえば達成できるものである。また凹陥
状態の程度は、スキージの技法よりもむしろ、エンボス
液体原料と孔版19の孔部18並びにスキージ具37の
先端との表面張力、接触角、濡れなどの因子が関係し、
これらの因子の決定によりそのほとんどが定まるのであ
る。因みにこのようにスキージ処理を施した面は、エン
ボス2の接地面3を規定することになる。
The squeegee treatment for making the upper portion of the embossed liquid raw material into a concave shape as described above does not require the use of a special squeegee tool or a squeegee method, but the embossed liquid raw material or the squeegee tool made of an ordinary material of the embodiment is used. This can be achieved by carefully performing a normal squeegee work. Further, the degree of the recessed state is related to factors such as the surface tension, the contact angle, and the wetting of the embossing liquid raw material, the hole 18 of the stencil 19 and the tip of the squeegee tool 37, rather than the squeegee technique.
Most of them are determined by the determination of these factors. Incidentally, the squeegeeed surface in this way defines the ground contact surface 3 of the embossing 2.

【0045】(5) エンボスの硬化及び脱版 スキージ作業が終了したら、エンボス液体原料がポリウ
レタンエラストマー36である場合には、図12(c)
に示すように孔版19と素地シート34の密着状態のま
まオーブン38に入れ、120℃で45分間加熱してポ
リウレタンエラストマー36を硬化させ、この状態で図
13(a)に示すように脱版した後、更にエラストマー
を安定させる目的で図13(b)に示すように90℃で
600分間オーブン加熱し、これを冷却し脱版すること
で、図13(c)に示すように接地面3が全体にわたり
凹陥状に形成され、接地面3の周端部5がエンボスの側
面4に対して鋭角的に形成されるようなエンボス2が完
成する。
(5) Hardening and depressurization of embossing When the squeegee work is completed and the embossing liquid raw material is the polyurethane elastomer 36, FIG.
As shown in Fig. 13, the stencil 19 and the base sheet 34 are placed in the oven 38 while they are in close contact with each other, and heated at 120 ° C for 45 minutes to cure the polyurethane elastomer 36. In this state, the plate is removed as shown in Fig. 13 (a). After that, for the purpose of further stabilizing the elastomer, by heating in an oven at 90 ° C. for 600 minutes as shown in FIG. 13 (b), and then cooling and depressurizing the plate, the ground plane 3 is formed as shown in FIG. 13 (c). The embossment 2 is completed in which the embossing 2 is formed in a concave shape as a whole, and the peripheral end portion 5 of the grounding surface 3 is formed at an acute angle with respect to the side surface 4 of the embossing.

【0046】またエンボス液体原料が紫外線硬化樹脂3
9の場合には、図15(a)に示すように紫外線照射器
40により紫外線を照射して、比較的短時間のうちに紫
外線硬化樹脂39を硬化させて図15(b)のようにエ
ンボス2が完成する。
Further, the embossing liquid material is the ultraviolet curable resin 3
In the case of No. 9, as shown in FIG. 15 (a), ultraviolet rays are radiated by the ultraviolet ray irradiator 40 to cure the ultraviolet curing resin 39 within a relatively short time and emboss as shown in FIG. 15 (b). 2 is completed.

【0047】[0047]

【発明の効果】本発明の特殊形状エンボスは、エンボス
の接地面が凹陥状であり、接地面の周端部はエンボスの
側面に対して鋭角的に形成されるから、エンボスの地面
把持力が向上し、また走行時のスリップの可能性も減少
し、これにより陸上競技での好記録達成が期待できる。
According to the special shape embossing of the present invention, the grounding surface of the embossing is concave, and the peripheral edge of the grounding surface is formed at an acute angle with respect to the side surface of the embossing. It also improves and reduces the possibility of slipping while driving, which is expected to set a good record in athletics.

【0048】また本発明の特殊形状エンボスの製造方法
では、スキージ処理を行うことでエンボス液体原料の液
面を孔版の面から凹状態に窪ませ、そのまま硬化脱版し
てエンボス接地面を凹陥状態に形成するから、極めて容
易に地面把持力の大きいエンボスが製造できる。
Further, in the method for producing a specially shaped embossing of the present invention, the liquid surface of the embossing liquid raw material is recessed from the surface of the stencil by performing squeegee treatment, and then cured and depressurized as it is so that the embossed ground surface is depressed. Therefore, the embossing having a large ground gripping force can be manufactured very easily.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の特殊形状エンボスを運動靴の靴底に適
用した実施例を示す斜視図である。
FIG. 1 is a perspective view showing an embodiment in which the specially shaped embossing of the present invention is applied to the sole of an athletic shoe.

【図2】本発明の特殊形状エンボスの種々の実施例を示
す斜視図である。
FIG. 2 is a perspective view showing various embodiments of the special shape embossing of the present invention.

【図3】サンドブラストによる孔版作成の過程を段階的
に示す説明図であって、このうち被転写体からリスフィ
ルムが作成されるまでの過程を示す斜視図である。
FIG. 3 is an explanatory view showing a step of making a stencil by sandblasting step by step, and is a perspective view showing a step of making a lith film from a transferred material.

【図4】同上このリスフィルムを用いてマスクを作成
し、更にこのマスクを用いて、サンドブラスト加工によ
り孔版が作成されるまでの過程を示す骨格的縦断面図で
ある。
FIG. 4 is a skeletal vertical cross-sectional view showing a process until a mask is created using this lith film and the stencil is created by sandblasting using this mask.

【図5】サンドブラスト加工により作成された孔版の一
部を拡大して示す斜視図である。
FIG. 5 is an enlarged perspective view showing a part of a stencil prepared by sandblasting.

【図6】同上孔部にテーパを設けた実施例を示す斜視図
である。
FIG. 6 is a perspective view showing an embodiment in which a hole is provided with a taper.

【図7】同上段差付きの孔部を有する孔版の一部を拡
大、破断して示す斜視図並びに当該孔版により作成され
る段差付きのエンボスを破断して示す斜視図である。
FIG. 7 is an enlarged perspective view showing a part of a stencil having a stepped hole portion and a perspective view showing a stepped emboss made by the stencil.

【図8】マスター型を利用しての孔版作成の過程を段階
的に示す説明図である。
FIG. 8 is an explanatory view showing step by step a process of making a stencil using a master mold.

【図9】光硬化樹脂フィルムを利用した場合の孔版作成
の過程を段階的に示す説明図である。
FIG. 9 is an explanatory diagram showing stepwise a process of making a stencil when using a photocurable resin film.

【図10】上記各手法により作成された孔版を素地シー
トにセットする状態を示す斜視図である。
FIG. 10 is a perspective view showing a state in which the stencil prepared by each of the above methods is set on the base sheet.

【図11】同上孔版が磁性体を具えている場合の永久磁
石板との磁力作用による素地シートとの密着状態を示す
縦断面図である。
FIG. 11 is a vertical cross-sectional view showing a close contact state with a base sheet by a magnetic force action with a permanent magnet plate in the case where the stencil has a magnetic substance.

【図12】ポリウレタンエラストマーを用いて本発明の
特殊形状エンボスを作成するまでの過程を段階的に示す
説明図であって、このうち原料液の注入、スキージ、加
熱硬化の各状態を示す斜視図である。
FIG. 12 is an explanatory view showing a step-by-step process of producing the specially shaped embossing of the present invention using a polyurethane elastomer, of which perspective views showing respective states of injecting a raw material liquid, squeegee, and heat curing. Is.

【図13】同上脱版、再加熱の各状態及びこれらにより
作成された本発明の特殊形状エンボスを具えた靴底を示
す斜視図である。
FIG. 13 is a perspective view showing the respective states of depressurization and reheating and the shoe sole provided with the specially shaped embossing of the present invention produced by these.

【図14】紫外線硬化樹脂を用いて本発明の特殊形状エ
ンボスの形成過程を段階的に示す説明図であって、この
うちパターン印刷された素地シートに孔版をセットし、
原料液を注入後、スキージ処理をするまでの過程を示す
斜視図である。
FIG. 14 is an explanatory view showing a step of forming a special shape emboss of the present invention using an ultraviolet curable resin, in which a stencil is set on a pattern-printed base sheet,
It is a perspective view showing a process after injecting the raw material liquid to a squeegee process.

【図15】同上紫外線を照射し、孔版を脱版し、エンボ
スが形成されるまでの過程を示す縦断面図並びに斜視図
である。
FIG. 15 is a vertical cross-sectional view and a perspective view showing a process until the emboss is formed by irradiating ultraviolet rays, removing the stencil from the same, and FIG.

【図16】二液注型熱硬化性のポリウレタンを加熱硬化
した場合の粘度の変化を示すグラフである。
FIG. 16 is a graph showing a change in viscosity when a two-component injection type thermosetting polyurethane is heat-cured.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 運動靴 2 エンボス 3 接地面 4 側面 5 周端部 10 リスフィルム 12 光硬化樹脂フィルム 13 マスク 14 硬質板 18 孔部 19 孔版 25 マスター型 26 磁性体金属 27 凸部 28 型用樹脂 30 光硬化樹脂フィルム 31 基板 32 マスク 33 未露光部 34 素地シート 35 永久磁石板 36 ポリウレタンエラストマー 37 スキージ具 38 オーブン 39 紫外線硬化樹脂 40 紫外線照射器 A 被写体 B ブラシ a1 、a2 範囲1 Athletic Shoes 2 Embossing 3 Grounding Surface 4 Side 5 Peripheral Edge 10 Squirrel Film 12 Photocurable Resin Film 13 Mask 14 Hard Plate 18 Hole 19 Hole Plate 25 Master Type 26 Magnetic Metal 27 Convex 28 Type Resin 30 Photocurable Resin Film 31 Substrate 32 Mask 33 Unexposed part 34 Base sheet 35 Permanent magnet plate 36 Polyurethane elastomer 37 Squeegee tool 38 Oven 39 UV curable resin 40 UV illuminator A Subject B Brush a 1 , a 2 Range

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 靴底に形成されるエンボスにおいて、前
記エンボスの接地面は全体が凹陥状に形成され、前記接
地面の周端部は前記エンボスの側面に対して鋭角的に形
成されて成ることを特徴とする特殊形状エンボス。
1. An embossing formed on a shoe sole, wherein a grounding surface of the embossing is formed in a concave shape as a whole, and a peripheral end portion of the grounding surface is formed at an acute angle with respect to a side surface of the embossing. Special shape embossing that is characterized.
【請求項2】 孔版の一面に素地シートを密着し、前記
孔版の他面から孔版の孔部にエンボス液体原料を流し込
んだ後、前記孔版の他面側における孔部中のエンボス液
体原料液面をスキージ処理により凹状態にして、その後
エンボス液体原料を硬化させ脱版することを特徴とする
特殊形状エンボスの製造方法。
2. The embossed liquid raw material liquid surface in the hole on the other surface side of the stencil after the base sheet is adhered to one surface of the stencil and the embossed liquid raw material is poured from the other surface of the stencil into the hole of the stencil. Is made into a concave state by a squeegee treatment, and then the embossing liquid raw material is cured to remove the plate, and a method for producing a specially shaped embossing.
【請求項3】 エンボスの接地面全体が凹陥状に形成さ
れ、前記接地面の周端部は前記エンボスの側面に対して
鋭角的に形成されて成るエンボスを靴底に有することを
特徴とする特殊形状エンボスを有する靴。
3. The embossed ground contact surface is formed in a concave shape as a whole, and a peripheral end portion of the ground contact surface has an embossment formed at an acute angle with respect to a side surface of the embossment on a shoe sole. Shoes with a specially shaped emboss.
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