JPH061625A - Production of quartz base optical fiber - Google Patents

Production of quartz base optical fiber

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JPH061625A
JPH061625A JP4189853A JP18985392A JPH061625A JP H061625 A JPH061625 A JP H061625A JP 4189853 A JP4189853 A JP 4189853A JP 18985392 A JP18985392 A JP 18985392A JP H061625 A JPH061625 A JP H061625A
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JP
Japan
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optical fiber
coating layer
inorganic coating
resin
coating
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Application number
JP4189853A
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Japanese (ja)
Inventor
Kunio Ogura
邦男 小倉
Shinichi Arai
慎一 荒井
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Furukawa Electric Co Ltd
Original Assignee
Furukawa Electric Co Ltd
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Publication date
Application filed by Furukawa Electric Co Ltd filed Critical Furukawa Electric Co Ltd
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Publication of JPH061625A publication Critical patent/JPH061625A/en
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  • Optical Fibers, Optical Fiber Cores, And Optical Fiber Bundles (AREA)
  • Glass Melting And Manufacturing (AREA)
  • Surface Treatment Of Glass Fibres Or Filaments (AREA)

Abstract

PURPOSE:To provide a production method for a quartz optical fiber having sufficient reliability over a long period by securing high mechanical property and ability of preventing permeability of water. CONSTITUTION:An inorganic coating layer 4 is formed on the circumferential surface of the optical fiber after drawing and after that, is irradiated with combination energy to form a compound layer 5 between the optical fiber 3 and the inorganic coating layer 4. As a result, the quartz base optical fiber capable of satisfying reliability over a long period including mechanical property, transmission property, ability of preventing permeability of water is obtained by forming the compound layer 5 between the optical fiber 1 and the inorganic coating layer 4.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は通信、光学の分野で用い
られる石英系の光ファイバを製造するための方法に関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a silica-based optical fiber used in the fields of communication and optics.

【0002】[0002]

【従来の技術】石英系の光ファイバ、たとえば、光通信
に用いられる光ファイバの場合、長期間にわたる使用に
おいて機械的特性、伝送特性が経時変化(劣化)するた
めに、通信システムの信頼性を損なわせることがある。
2. Description of the Related Art In the case of a silica-based optical fiber, for example, an optical fiber used for optical communication, mechanical characteristics and transmission characteristics change (deteriorate) with time during long-term use. It may damage.

【0003】このような経時劣化が生じるのは、光ファ
イバ製造時、接続時の取り扱いにおいて光ファイバ表面
に微小傷がつき、これが水分を含む環境下に長期間布設
されたとき、周囲の水分、布設時の張力が微小傷に作用
し、これを成長させるからである。特に、高温多湿の環
境下においては、前記微小傷に対する水分の作用が顕著
になるので、光ファイバの強度劣化がより進行し、他に
も、水素分子が光ファイバのコア付近にまで侵入したと
き、波長1.24μm付近に吸収ピークがあらわれるの
で、この波長域での伝送特性が低下する。
Such deterioration with time is caused by minute scratches on the surface of the optical fiber during manufacture of the optical fiber and handling at the time of connection, and when this is laid in an environment containing water for a long period of time, ambient moisture, This is because the tension at the time of laying acts on the minute scratches and grows them. In particular, in a hot and humid environment, the action of water on the minute scratches becomes remarkable, so that the strength deterioration of the optical fiber progresses further, and in addition, when hydrogen molecules penetrate to the vicinity of the core of the optical fiber. Since an absorption peak appears near the wavelength of 1.24 μm, the transmission characteristics in this wavelength range deteriorate.

【0004】その対策として、カーボン被膜のごときハ
ーメチック被膜を光ファイバの外周面に形成し、ハーメ
チック被膜の上から樹脂被覆することが行なわれてい
る。ハーメチック被膜は、高密度の組成をもち、樹脂被
膜にはみられない高度の非透過性を有するので、その範
囲内において光ファイバの信頼性を保証する。
As a countermeasure against this, a hermetic coating such as a carbon coating is formed on the outer peripheral surface of the optical fiber, and a resin coating is performed on the hermetic coating. The hermetic coating has a high-density composition and a high degree of non-transparency that is not found in resin coatings, so that the reliability of the optical fiber is guaranteed within that range.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】一般に、ハーメチック
被膜については、つぎのようなことが指摘されている。
その一つは、ハーメチック被膜が脆い性質のものである
ために、光ファイバ接続に際して樹脂被覆層が取り除か
れたとき、その被膜表面が傷つきやすくなることであ
る。他の一つは、石英系光ファイバとハーメチック被膜
との材質が異なるためにこれらの相対密着力が弱く、ハ
ーメチック被膜が光ファイバから剥離しやすいことであ
る。さらに、他の一つは、緻密な原子配列のグラファイ
ト結晶を多く含むカーボン被膜の場合、被膜破断に至る
伸び歪が光ファイバよりも小さいために、通常の樹脂被
覆光ファイバと比べ初期強度が低下することである。そ
れゆえ、ハーメチック被膜をもつ光ファイバは、樹脂被
覆のみの光ファイバと比べて取り扱いが容易でなく、光
ファイバの端末処理、接続作業中における破断事故がか
えって多発する。
Generally, the following points have been pointed out for hermetic coatings.
One of the reasons is that the hermetic coating has a brittle property, so that when the resin coating layer is removed during optical fiber connection, the coating surface is easily damaged. The other is that the silica-based optical fiber and the hermetic coating are made of different materials, so that the relative adhesion between them is weak, and the hermetic coating is easily separated from the optical fiber. In addition, the other is that, in the case of a carbon coating containing many graphite crystals with a dense atomic arrangement, the elongation strain leading to coating breakage is smaller than that of an optical fiber, so the initial strength is lower than that of a normal resin-coated optical fiber. It is to be. Therefore, an optical fiber having a hermetic coating is not easy to handle as compared with an optical fiber only having a resin coating, and breakage accidents frequently occur during terminal processing and connection work of the optical fiber.

【0006】本発明はこのような技術的課題に鑑み、高
度の機械的特性、水分の透過阻止能を確保して、長期信
頼性を満足させることのできる石英系光ファイバの製造
方法を提供しようとするものである。
In view of the above technical problems, the present invention intends to provide a method for producing a silica-based optical fiber which can secure high mechanical properties and moisture permeation inhibiting ability and can satisfy long-term reliability. It is what

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明に係る石英系光フ
ァイバの製造方法は、所期の目的を達成するために、石
英系の光ファイバ母材を加熱延伸手段により線引きして
光ファイバをつくり、その線引き後、光ファイバの外周
面を無機材料で被覆して、光ファイバの外周面に無機被
覆層を形成し、その形成後、無機被覆層に化合エネルギ
を照射して、光ファイバと無機被覆層との間にこれらの
化合物層を形成することを特徴とする。
In order to achieve the intended object, a method for manufacturing a silica-based optical fiber according to the present invention draws an optical fiber by drawing a silica-based optical fiber preform by a heating and drawing means. After the drawing, after the drawing, the outer peripheral surface of the optical fiber is coated with an inorganic material to form an inorganic coating layer on the outer peripheral surface of the optical fiber, and after the formation, the inorganic coating layer is irradiated with compounding energy to form an optical fiber. It is characterized in that these compound layers are formed with the inorganic coating layer.

【0008】[0008]

【作用】本発明方法によるとき、石英系光ファイバの外
周面に無機被覆層(ハーメチック層)を形成するだけで
なく、該各光ファイバ、無機被覆層に、イオンビーム、
レーザビーム、電子線ビームなどのエネルギを照射して
これらの間に化合物層を生成し、この化合物層を介して
光ファイバと無機被覆層とを化合(一体化)している。
このようにして形成された無機被覆層は、脆性破壊に対
する抵抗が大きいために靭性が高く、表面傷を負いがた
く、しかも、組織が緻密であるために水分の透過阻止能
にも優れる。特に、光ファイバと無機被覆層とは、これ
らの化合物層を介して一体化されているために両者の剥
離が起こりがたい。このような無機被覆層をもつ光ファ
イバには、これの取り扱い中あるいは布設後において、
表面傷、破断、水素分子の侵入など、有害な事態を惹き
起こすことがなく、長期間にわたり、安定した機械的特
性、伝送特性を発揮する。
According to the method of the present invention, not only the inorganic coating layer (hermetic layer) is formed on the outer peripheral surface of the silica-based optical fiber, but also an ion beam,
Energy such as a laser beam or an electron beam is applied to generate a compound layer between them, and the optical fiber and the inorganic coating layer are combined (integrated) via the compound layer.
The inorganic coating layer thus formed has a high resistance to brittle fracture and thus has a high toughness, is resistant to surface scratches, and has a dense structure, which is also excellent in water permeation inhibiting ability. Particularly, since the optical fiber and the inorganic coating layer are integrated with each other through these compound layers, they are unlikely to be separated from each other. An optical fiber with such an inorganic coating layer may be used during handling or after installation.
It exhibits stable mechanical and transmission characteristics over a long period of time without causing harmful situations such as surface scratches, breakage, and penetration of hydrogen molecules.

【0009】[0009]

【実施例】本発明に係る石英系光ファイバの製造方法に
ついて、図示の実施例を参照して説明する。図1に例示
した光ファイバ製造手段の場合、光ファイバ用の線引装
置11と、無機材料コーティング用の一次被覆装置21
と、化合エネルギ照射装置41、樹脂コーティング用の
二次被覆装置51と、樹脂硬化装置61と、光ファイバ
用の巻取装置71とがタンデムに配置されている。
EXAMPLES A method for manufacturing a silica-based optical fiber according to the present invention will be described with reference to the illustrated examples. In the case of the optical fiber manufacturing means illustrated in FIG. 1, a drawing device 11 for an optical fiber and a primary coating device 21 for coating an inorganic material.
The compound energy irradiation device 41, the secondary coating device 51 for resin coating, the resin curing device 61, and the winding device 71 for optical fiber are arranged in tandem.

【0010】光ファイバ用の線引装置11は、光ファイ
バ母材7を昇降自在に支持するための昇降機(図示せ
ず)と、電気ヒータからなるリング状の線引炉12とが
組み合わされたものであり、線引炉12の下位には、リ
ング状をなす非接触式の外径測定器13が配置されてい
る。
The optical fiber drawing device 11 is a combination of an elevator (not shown) for supporting the optical fiber preform 7 so that it can be moved up and down, and a ring-shaped drawing furnace 12 composed of an electric heater. A ring-shaped non-contact type outer diameter measuring instrument 13 is disposed below the drawing furnace 12.

【0011】光ファイバ母材7としては、コア用ガラス
とクラッド用ガラスとを備えた周知の石英系が用いられ
る。
As the optical fiber preform 7, a well-known quartz system having a core glass and a clad glass is used.

【0012】無機材料コーティング用の一次被覆装置2
1としては、熱CVD装置、スパッタ装置、プラズマ装
置など、任意のものが採用されるが、図に例示された一
次被覆装置21はカーボン成膜用の熱CVD装置からな
る。すなわち、図示例の一次被覆装置21は、純カーボ
ンからなるCVD用の反応管22と、電気ヒータからな
るリング状の加熱炉27と、原料ガス供給系28とが組
み合わされたものである。CVD用の反応管22は、こ
れの上面、下面に入口23と出口24とを有するととも
に、その上部外周にガス導入口25、その下部外周にガ
ス排出口26がそれぞれ形成されており、かつ、反応管
22の外周には加熱炉27が備えつけられている。ちな
みに、反応管22内には、カーボン成膜用の原料ガスと
して、アセチレン(C22 )のごとき炭化水素系の原
料ガスと、He、Ar、N2 のごとき希釈ガスとの混合
ガスをガス導入口25から供給する。一次被覆装置21
は、たとえば、前記の熱CVD装置、スパッタ装置、プ
ラズマ装置のうちから所定仕様のものを採用することに
より、非晶質カーボンのみ、または、グラファイト結晶
のみを成膜することができる。これら以外にも、一次被
覆装置21は、Ti、Zr、V、Nb、Ta、Cr、M
o、Wなどを含む炭素物系、ケイ化物系、ホウ化物系、
チッ化物系の薄膜、アルミナ、ムライト、ゼオライト、
マグネシア、サイアロンなどを含む薄膜をつくることが
できる。
Primary coating device 2 for inorganic material coating
Although any device such as a thermal CVD device, a sputtering device, and a plasma device is adopted as 1, the primary coating device 21 illustrated in the drawing is a thermal CVD device for carbon film formation. That is, the primary coating device 21 in the illustrated example is a combination of a CVD reaction tube 22 made of pure carbon, a ring-shaped heating furnace 27 made of an electric heater, and a source gas supply system 28. The CVD reaction tube 22 has an inlet 23 and an outlet 24 on the upper and lower surfaces thereof, a gas inlet 25 on the upper outer periphery thereof, and a gas outlet 26 on the lower outer periphery thereof, and A heating furnace 27 is attached to the outer circumference of the reaction tube 22. By the way, in the reaction tube 22, a mixed gas of a hydrocarbon-based source gas such as acetylene (C 2 H 2 ) and a diluent gas such as He, Ar, and N 2 is used as a source gas for carbon film formation. Supply from the gas inlet 25. Primary coating device 21
For example, by adopting one of the above-mentioned thermal CVD apparatus, sputtering apparatus, and plasma apparatus having a predetermined specification, it is possible to form only amorphous carbon or only graphite crystal. In addition to these, the primary coating device 21 includes Ti, Zr, V, Nb, Ta, Cr, and M.
carbon-based materials including o, W, silicide-based materials, boride-based materials,
Nitride thin film, alumina, mullite, zeolite,
Thin films containing magnesia, sialon, etc. can be made.

【0013】化合エネルギ照射装置41は、たとえば、
所定の化合エネルギを発生させるための手段と、その化
合エネルギをターゲットに向けて照射するための手段と
を備えている。具体的には、アルゴンのごとき不活性ガ
スイオンの照射装置、エキシマレーザ照射装置、電子ビ
ーム照射装置などが、化合エネルギ照射装置41として
採用される。
The compound energy irradiation device 41 is, for example,
It is provided with means for generating a predetermined compound energy and means for irradiating the target with the compound energy. Specifically, an irradiation device of an inert gas ion such as argon, an excimer laser irradiation device, an electron beam irradiation device, or the like is adopted as the compound energy irradiation device 41.

【0014】樹脂コーティング用の二次被覆装置51
は、ダイス型のコーティング器からなり、このコーティ
ング器内には、熱可塑性、常温硬化性、熱硬化性、紫外
線硬化性など、これらいずれかの性質をもつ合成樹脂が
液状の状態で収容されている。
Secondary coating device 51 for resin coating
Consists of a die-type coating device, in which a synthetic resin having any of these properties such as thermoplasticity, room temperature curing property, thermosetting property, and ultraviolet curing property is stored in a liquid state. There is.

【0015】樹脂硬化装置61は、二次被覆装置51に
おいて採用される樹脂の材質に基づき選定されるたとえ
ば、熱硬化性樹脂用の硬化装置は加熱手段を備え、紫外
線硬化性樹脂用の硬化装置は紫外線照射手段を備えてい
る。熱可塑性樹脂、常温硬化性樹脂などの場合は、この
ような硬化装置を特に必要としない。
The resin curing device 61 is selected based on the material of the resin used in the secondary coating device 51. For example, the curing device for thermosetting resin has a heating means, and the curing device for ultraviolet curable resin. Is equipped with ultraviolet irradiation means. In the case of a thermoplastic resin or a room temperature curable resin, such a curing device is not particularly required.

【0016】光ファイバ用の巻取装置71は、モータを
介して電動回転するものからなり、これには、図示しな
い被覆光ファイバの巻取ボビンが取り外し可能に装着さ
れるようになっている。
The optical fiber winding device 71 is electrically driven by a motor, and a coated optical fiber winding bobbin (not shown) is detachably attached to the winding device 71.

【0017】本発明方法において作製される被覆光ファ
イバは、図2に例示するように、コア1、クラッド2を
有する石英系の光ファイバ3が無機被覆層4により一次
被覆され、かつ、クラッド2と無機被覆層4とがこれら
の化合物層5を介して一体化されており、さらに、無機
被覆層4の外周が樹脂被覆層6により二次被覆されたも
のである。
As shown in FIG. 2, the coated optical fiber manufactured by the method of the present invention has a silica-based optical fiber 3 having a core 1 and a cladding 2 which is primarily coated with an inorganic coating layer 4 and which has a cladding 2. The inorganic coating layer 4 and the inorganic coating layer 4 are integrated via these compound layers 5, and the outer periphery of the inorganic coating layer 4 is secondarily coated with the resin coating layer 6.

【0018】本発明方法において、図1の手段を介して
図2に示す被覆光ファイバを作製するとき、以下のよう
になる。
In the method of the present invention, when the coated optical fiber shown in FIG. 2 is manufactured through the means shown in FIG. 1, it is as follows.

【0019】はじめ、石英系の光ファイバ母材7を線引
装置11の線引炉12内に低速挿入し、その線引炉12
内で軟化した母材7の下端を高速で引き取ることによ
り、光ファイバ3をつくる。こうして線引きされた光フ
ァイバ3は、外径測定器13を経由した後、一次被覆装
置21の反応管22内に進入する。
First, the silica-based optical fiber preform 7 is inserted into the drawing furnace 12 of the drawing apparatus 11 at a low speed, and the drawing furnace 12 is inserted.
The lower end of the base material 7 softened inside is taken out at high speed to form the optical fiber 3. The optical fiber 3 thus drawn passes through the outer diameter measuring device 13 and then enters the reaction tube 22 of the primary coating device 21.

【0020】一次被覆装置21において、炭化水素系原
料(C22 )、希釈ガス(He)などの各ガスは、配
管33からガス導入口25を経て高温の反応管22内に
送りこまれる。上記各ガスが導入された反応管22内で
は、これら各ガスの熱酸化反応によりグラファイト結晶
の微粒子、アモルファスカーボンの微粒子が生成され、
これらカーボン微粒子が光ファイバ3の外周面に付着す
るので、光ファイバ3の外周面には、図2で述べた無機
被覆層4が形成される。一次被覆装置21において、グ
ラファイト結晶の微粒子のみ、または、アモルファスカ
ーボンの微粒子のみを生成するとき、そのような成分の
原料ガスを反応管22内に導入して、前記と同様の反応
を行なえばよい。無機被覆層4により一次被覆された後
の光ファイバ3は、つぎの化合エネルギ照射装置41に
至る。
In the primary coating device 21, each gas such as a hydrocarbon-based raw material (C 2 H 2 ) and a diluent gas (He) is sent from the pipe 33 into the high temperature reaction tube 22 through the gas inlet 25. In the reaction tube 22 into which the above gases are introduced, fine particles of graphite crystals and fine particles of amorphous carbon are generated by the thermal oxidation reaction of these gases,
Since these carbon fine particles adhere to the outer peripheral surface of the optical fiber 3, the inorganic coating layer 4 described in FIG. 2 is formed on the outer peripheral surface of the optical fiber 3. When only fine particles of graphite crystals or only fine particles of amorphous carbon are produced in the primary coating device 21, a raw material gas of such a component may be introduced into the reaction tube 22 to carry out the same reaction as described above. . The optical fiber 3 after the primary coating with the inorganic coating layer 4 reaches the next compound energy irradiation device 41.

【0021】化合エネルギ照射装置41は、これから無
機被覆層4に向けて、たとえば、アルゴンイオンビーム
を照射する。かかる化合エネルギを受けた無機被覆層4
は、これの分子が励起されて光ファイバ3のクラッド2
と化合する。すなわち、クラッド(ケイ素)2の一部と
無機被覆層(例:カーボン)4とがSi−C結合して図
2の化合物層5を形成する。この化合物層5の場合、こ
れの一部がダイヤモンド様の結晶構造を呈しているの
で、硬度がきわめて高い。一次被覆光ファイバ3は、ク
ラッド2と無機被覆層4との間に化合物層5が形成され
た後、樹脂コーティング用の二次被覆装置51へ進入す
る。
The compound energy irradiation device 41 irradiates the inorganic coating layer 4 with an argon ion beam, for example. Inorganic coating layer 4 that has received such compounding energy
Is excited by the molecules of it and the cladding 2 of the optical fiber 3
Compound with. That is, a part of the clad (silicon) 2 and the inorganic coating layer (eg, carbon) 4 are Si—C bonded to form the compound layer 5 of FIG. In the case of this compound layer 5, since a part thereof has a diamond-like crystal structure, the hardness is extremely high. After the compound layer 5 is formed between the cladding 2 and the inorganic coating layer 4, the primary coating optical fiber 3 enters the secondary coating device 51 for resin coating.

【0022】二次被覆装置(ダイス型のコーティング
器)51は、一例として、これの内部に紫外線硬化性の
液状樹脂を収容している。したがって、一次被覆後の光
ファイバ3が、二次被覆装置51内を通過したとき、無
機被覆層4の外周面には、図2で述べた樹脂被覆層6が
UV樹脂により形成される。樹脂被覆層6は、二次被覆
装置51のつぎに配置された樹脂硬化装置61から紫外
線の照射を受けて硬化される。
The secondary coating device (die type coating device) 51 contains, as an example, an ultraviolet curable liquid resin therein. Therefore, when the optical fiber 3 after the primary coating passes through the inside of the secondary coating device 51, the resin coating layer 6 described in FIG. 2 is formed of the UV resin on the outer peripheral surface of the inorganic coating layer 4. The resin coating layer 6 is cured by being irradiated with ultraviolet rays from a resin curing device 61 arranged next to the secondary coating device 51.

【0023】こうして一次被覆、二次被覆された後の光
ファイバ3は、巻取装置71を介して巻き取られる。
The optical fiber 3 thus primary-coated and secondary-coated is wound up by the winding device 71.

【0024】本発明方法による光ファイバ(具体例)、
従来の光ファイバ(比較例1、2)について、これら機
械的特性を評価したところ、図3に示す結果が得られ
た。具体例のサンプルは、光ファイバが外径125μm
φの石英系、無機被覆層が膜厚200Åのグラファイト
結晶製、樹脂被覆層が外径400μmφのUV樹脂製で
あり、光ファイバ(クラッドの一部)と無機被覆層とが
化合して化合物層を形成している。比較例1のサンプル
は、光ファイバ(クラッドの一部)と無機被覆層とが化
合していない点、すなわち、化合物層が形成されていな
い点を除き、具体例のサンプルと同じ仕様である。比較
例2のサンプルは、化合物層を含む無機被覆層が形成さ
れていない点を除き、具体例のサンプルと同じ仕様であ
る。各例のサンプル長は、いずれも40cmであり、そ
の中間部において10cm長だけ樹脂被覆が取り除かれ
ている。評価のための測定に際しては、光ファイバの樹
脂被覆のない部分に、400粒度のアルミニウム粉末を
落下させつつ、光ファイバに引張荷重をかけてこれに2
%の引張歪を与えた。
Optical fiber (specific example) according to the method of the present invention,
When the mechanical properties of the conventional optical fibers (Comparative Examples 1 and 2) were evaluated, the results shown in FIG. 3 were obtained. In the sample of the specific example, the optical fiber has an outer diameter of 125 μm.
φ quartz type, inorganic coating layer is made of graphite crystal with a film thickness of 200Å, resin coating layer is made of UV resin with an outer diameter of 400 μm φ, and a compound layer is formed by combining the optical fiber (a part of the clad) and the inorganic coating layer. Is formed. The sample of Comparative Example 1 has the same specifications as the sample of the specific example, except that the optical fiber (a part of the clad) and the inorganic coating layer are not combined, that is, the compound layer is not formed. The sample of Comparative Example 2 has the same specifications as the sample of the specific example, except that the inorganic coating layer including the compound layer is not formed. The sample length of each example is 40 cm, and the resin coating is removed by 10 cm in the middle portion. In the measurement for evaluation, a tensile load is applied to the optical fiber while dropping the aluminum powder of 400 grain size on the portion of the optical fiber where the resin coating is not applied.
% Tensile strain was applied.

【0025】図3を参照して明らかなように、具体例の
光ファイバは、強度分布が良好で低強度部も少なく、破
断確率50%のレベルにおいて破断強度が2.2GPa
を越えている。それに対し、比較例1、2の光ファイバ
は、強度分布が広く、破断確率50%のレベルにおける
破断強度が、具体例のものをかなり下回っている。
As is apparent from FIG. 3, the optical fiber of the specific example has a good strength distribution, a small number of low strength parts, and a breaking strength of 2.2 GPa at a break probability level of 50%.
Is over. On the other hand, the optical fibers of Comparative Examples 1 and 2 have a wide strength distribution, and the breaking strength at a level with a breaking probability of 50% is considerably lower than that of the specific example.

【0026】具体例の光ファイバについて、その無機被
覆層を電子線回折とラマン分光分析とで構造分析したと
ころ、グラファイト微結晶の存在が確認され、Si−C
結合による化合物層の存在も認められた。具体例の光フ
ァイバは、このような化合物層を含む無機被覆層が形成
されているために機械的特性が改善され、前記評価測定
試験において外傷を受けなかったといえる。
Structural analysis of the inorganic coating layer of the optical fiber of the specific example by electron beam diffraction and Raman spectroscopic analysis confirmed the presence of graphite crystallites and confirmed that Si--C was present.
Presence of compound layer due to binding was also observed. It can be said that the optical fiber of the specific example has improved mechanical properties due to the formation of the inorganic coating layer containing such a compound layer, and is not damaged in the evaluation measurement test.

【0027】[0027]

【発明の効果】本発明によるときは、線引き後の光ファ
イバ外周面に無機被覆層を形成し、その後、無機被覆層
に化合エネルギを照射して、光ファイバと無機被覆層と
の間にこれらを化学的に一体化するための化合物層を形
成するから、伝送特性、水分の透過阻止能はもちろんの
こと、機械的特性をも含めた長期信頼性を満足させるこ
とのできる石英系光ファイバが得られる。
According to the present invention, an inorganic coating layer is formed on the outer peripheral surface of an optical fiber after drawing, and then the inorganic coating layer is irradiated with compounding energy so that the inorganic coating layer is exposed between the optical fiber and the inorganic coating layer. Since a compound layer for chemically unifying is formed, a silica-based optical fiber that can satisfy long-term reliability including mechanical characteristics as well as transmission characteristics and water permeation blocking ability is provided. can get.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明方法の一実施例を略示した断面図であ
る。
FIG. 1 is a sectional view schematically showing an embodiment of the method of the present invention.

【図2】本発明方法の一実施例において製造された光フ
ァイバの断面図である。
FIG. 2 is a sectional view of an optical fiber manufactured in one embodiment of the method of the present invention.

【図3】光ファイバの機械的特性を評価するための測定
結果を示した説明図である。
FIG. 3 is an explanatory diagram showing measurement results for evaluating mechanical properties of an optical fiber.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

3 石英系光ファイバ 4 無機被覆層 5 化合物層 7 石英系光ファイバ母材 11 光ファイバ用の線引装置 12 線引炉 21 一次被覆装置 22 反応管 27 加熱炉 41 化合エネルギ照射装置 3 Quartz Optical Fiber 4 Inorganic Coating Layer 5 Compound Layer 7 Quartz Optical Fiber Base Material 11 Optical Fiber Drawing Device 12 Drawing Furnace 21 Primary Coating Device 22 Reaction Tube 27 Heating Furnace 41 Chemical Energy Irradiation Device

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 石英系の光ファイバ母材を加熱延伸手段
により線引きして光ファイバをつくり、その線引き後、
光ファイバの外周面を無機材料で被覆して、光ファイバ
の外周面に無機被覆層を形成し、その形成後、無機被覆
層に化合エネルギを照射して、光ファイバと無機被覆層
との間にこれらの化合物層を形成することを特徴とする
石英系光ファイバの製造方法。
1. An optical fiber is produced by drawing a quartz optical fiber preform by a heating and drawing means, and after the drawing,
The outer peripheral surface of the optical fiber is coated with an inorganic material to form an inorganic coating layer on the outer peripheral surface of the optical fiber, and after the formation, the inorganic coating layer is irradiated with compounding energy so as to form a gap between the optical fiber and the inorganic coating layer. A method for manufacturing a silica-based optical fiber, characterized in that these compound layers are formed on.
JP4189853A 1992-06-24 1992-06-24 Production of quartz base optical fiber Pending JPH061625A (en)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102249557A (en) * 2011-05-12 2011-11-23 北京化工大学 Surface modification method for quartz fibre

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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CN102249557A (en) * 2011-05-12 2011-11-23 北京化工大学 Surface modification method for quartz fibre

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