JPH06160187A - Spectrum abnormality detecting device for narrow-band laser device - Google Patents

Spectrum abnormality detecting device for narrow-band laser device

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JPH06160187A
JPH06160187A JP30726992A JP30726992A JPH06160187A JP H06160187 A JPH06160187 A JP H06160187A JP 30726992 A JP30726992 A JP 30726992A JP 30726992 A JP30726992 A JP 30726992A JP H06160187 A JPH06160187 A JP H06160187A
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諭樹夫 小林
雅彦 小若
理 若林
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株式会社小松製作所
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Abstract

PURPOSE: To precisely and surely detect a spectrum abnormality by calculating the spectrum purity of an output laser beam based on the measured output of a spectrum wave-form measuring means.
CONSTITUTION: A narrow-band laser beam La is emitted from a front mirror 3, and part of it is reflected by a beam splitter 4 and fed to a spectrum wave- form detecting device 5. The spectrum wave-form detected by the device 5 is inputted to a wavelength controller 8. The controller 8 calculates the spectrum purity J from the spectrum wave-form detected by the device 5 according to the preset equation. The spectrum purity J is compared with the preset value Jc, if J<Jc, the spectrum abnormality signal is outputted to a stepper 7, the closure signal is outputted to an outgoing port shutter 6 to close the shutter 6, and a laser is stopped in emergency.
COPYRIGHT: (C)1994,JPO&Japio

Description

【発明の詳細な説明】 DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】 [0001]

【産業上の利用分野】この発明は縮小投影露光装置(ステッパ)用の光源として用いられる狭帯域エキシマレーザ装置のスペクトル異常検出装置に関する。 BACKGROUND OF relates spectrum abnormality detecting device of the present invention narrowband excimer laser device used as a light source for a reduction projection exposure apparatus (stepper).

【0002】 [0002]

【従来の技術】半導体装置製造用のステッパの光源としてエキシマレーザの利用が注目されている。 Use of an excimer laser has attracted attention as the Related Art stepper light source for semiconductor device fabrication. これは、エキシマレーザの波長が短いことから光露光の限界0.3 This light exposure since the wavelength of the excimer laser is short limit 0.3
5μm以下に延ばせる可能性があること、同じ解像度なら従来用いていた水銀ランプのg線やi線に比較して焦点深度が深いこと、レンズの開口数(NA)が小さくてすみ、露光領域を大きくできること、大きなパワーが得られること等の多くの優れた利点が期待できるからである。 It might put off to 5μm or less, and depth of focus as compared to the g-line or i-line of the same resolution, if the mercury lamp which has been conventionally used, only a small numerical aperture (NA) of the lens is, the exposure area can be increased, many excellent advantages such that a large power obtained can be expected.

【0003】エキシマレーザをステッパの光源として用いる場合は、エキシマレーザの出力光を狭帯域化する必要があり、この狭帯域化された出力レーザ光の波長を高精度に安定化する必要がある。 [0003] When using an excimer laser as a stepper light source, it is necessary to narrowing the output light of the excimer laser, it is necessary to stabilize the wavelength of the narrowed output laser beam with high precision.

【0004】そこで、従来、エキシマレーザ出力光の波長線幅や波長を検出するために、回折格子を用いた分光器やモニタエタロンが用いられている。 [0004] Therefore, conventionally, in order to detect the wavelength linewidth and wavelength of the excimer laser output beam, the spectrometer and monitored etalon using a diffraction grating is used. すなわち、これらモニタエタロン等で検出した波長をレーザ共振器中に配設されている狭帯域化素子(エタロンやグレーティング)にフィードバックし、選択波長のフィードバック制御を行うことで発振波長の安定化を図っている。 That is, it fed back to narrowing elements are disposed wavelengths detected by these monitors etalon or the like during laser cavity (etalon or grating), to stabilize the oscillation wavelength by performing feedback control of the selected wavelengths ing.

【0005】これと共に、上記モニタエタロンによって、発生する干渉縞の半値全幅から出力レーザ光のスペクトルの半値全幅を検出し、この検出した半値全幅が所定値より大きくなると、波長異常と判断し、その旨を表示したりその旨の信号をステッパ側へ出力するようにしていた。 [0005] Along with this, by the monitor etalon detects the full width at half maximum of the spectrum of the output laser beam from the full width at half maximum of the interference fringes generated when the detected FWHM is greater than a predetermined value, it is determined that the wavelength abnormal, the the display effect or signal indicating had to be output to the stepper side.

【0006】 [0006]

【発明が解決しようとする課題】このように従来は、出力レーザ光のスペクトルの半値全幅とステッパのレンズを透過したウェハ上での解像度とが相関があるものとして、スペクトルの半値全幅に基づいて波長異常を検出するようにしていたが、この方法では下記のような場合、 BRIEF Problem to be Solved] Conventional in this way, assuming that the resolution on the wafer that has been transmitted through the full width at half maximum and the stepper lens of the spectrum of the output laser light is correlated on the basis of the full width at half maximum of the spectral If had to detect the wavelength anomalous, in this method as described below,
波長異常を検出できずに露光動作を行ってしまい、不良品を製造するという不具合がある。 Will perform the exposure operation can not detect the wavelength anomalous, there is a problem that the production of defective products.

【0007】すなわち、図8(a)のように自然発振が寄生発振している場合や、図8(b)のようにスペクトル波形がすそ野を引いている場合は、半値全幅FWHMがいくら狭くてもウェハ上での解像度は著しく低下してしまう。 Namely, when and if the natural oscillation as shown in FIG. 8 (a) is a parasitic oscillation, the spectral waveform as shown in FIG. 8 (b) are pulling the foot is full width at half maximum FWHM is much narrower resolution on the wafer also has significantly lowered.
従って、上記従来技術では、スペクトルが異常であるにもかかわらず波長異常が検出されず、そのまま露光動作が行われる事になる。 Therefore, the above conventional technique, the spectrum is not detected is despite wavelength abnormal abnormality, it becomes possible exposure operation is performed.

【0008】この発明はこのような実情に鑑みてなされたもので、スペクトル異常を高精度かつ確実に検出する狭帯域レーザ装置のスペクトル異常検出装置を提供することを目的とする。 [0008] The present invention has been made in view of such circumstances, and an object thereof is to provide a spectral abnormality detecting device of a narrowband laser device for detecting spectral unusually accurate and reliable.

【0009】 [0009]

【課題を解決するための手段及び作用】この発明では、 Means and operation for solving the problem] In the present invention,
出力レーザ光のスペクトル波形を計測するスペクトル波形計測手段と、このスペクトル波形計測手段の計測出力に基づき出力レーザ光のスペクトル純度を演算するスペクトル純度演算手段と、該演算したスペクトル純度を所定の設定値と比較することによりスペクトル異常を検出するスペクトル異常検出手段とを具えるようにしている。 A spectral waveform measuring means for measuring the spectral waveform of the output laser beam, the spectral purity and computation means, said computed spectral purity a predetermined setting value for calculating the spectral purity of the output laser beam on the basis of the measurement output of the spectral waveform measuring means so that comprise the spectral abnormality detecting means for detecting a spectral anomaly by comparing with.

【0010】かかる発明によれば、出力レーザ光のスペクトル純度を測定し、該スペクトル純度が所定の設定値より小さいときにスペクトル異常を検出する様にしている。 [0010] According to the present invention, to measure the spectral purity of the output laser beam, and the like for detecting the spectral abnormality when the spectral purity is less than the predetermined set value. またこの発明では、出力レーザ光のスペクトル波形を計測するスペクトル波形計測手段と、このスペクトル波形計測手段の計測出力に基づき出力レーザ光のスペクトル純度と波長幅との対応関係を求め、この対応関係から所定のスペクトル純度における波長幅を求め、該求めた波長幅を所定の設定値と比較することによりスペクトル異常を検出するスペクトル異常検出手段とを具える様にしている。 In the present invention, determined the spectrum waveform measuring means for measuring the spectral waveform of the output laser light, the correspondence between the spectral purity and the wavelength width of the output laser light based on the measurement output of the spectral waveform measuring means, from this correspondence seeking wavelength width in a given spectral purity, are in the manner comprises a spectral abnormality detecting means for detecting the spectral abnormality by comparing the determined wavelength width with a predetermined set value. かかる発明では、所定のスペクトル純度における波長幅Δλを求め、該求めた波長幅が所定の設定値より小さいときにスペクトル異常を検出するようにしている。 In such invention, determine the wavelength width Δλ in a given spectral purity, and to detect a spectral anomaly when the calculated wavelength width is smaller than the predetermined set value.

【0011】またこの発明では、出力レーザ光のスペクトル波形を計測するスペクトル波形計測手段と、このスペクトル波形計測手段の計測出力に基づき発生する干渉縞のコントラストを演算し、該演算したコントラストを所定の設定値と比較することによりスペクトル異常を検出するスペクトル異常検出手段とを具えるようにしている。 [0011] In this invention, a spectral waveform measuring means for measuring the spectral waveform of the output laser beam, calculates the contrast of the interference fringes generated on the basis of the measurement output of the spectral waveform measuring means, the contrast of the predetermined that the operational so that comprise the spectral abnormality detecting means for detecting the spectral abnormality by comparing a set value.

【0012】かかる発明によれば、干渉縞のコントラストを所定の設定値と比較することによりスペクトル異常を検出するようにしている。 [0012] According to the invention, and to detect the spectral abnormality by comparing the contrast of the interference fringes with a predetermined set value.

【0013】 [0013]

【実施例】以下この発明を添付図面に示す実施例に従って詳細に説明する。 EXAMPLES The following will be described in detail with examples illustrating the present invention in the accompanying drawings.

【0014】図1は、この発明のー実施例を示すもので、この場合エキシマレーザ10の共振器は、リアミラーや波長選択素子やビームエキスパンダなどで構成される狭帯域化ユニット1とレーザチャンバ2とで構成されている。 [0014] Figure 1 shows an over embodiment of the present invention, the resonator in this case the excimer laser 10 is narrowed unit 1 and the laser chamber comprised of such a rear mirror or a wavelength selection element or a beam expander It is composed of a 2. 3はフロントミラー、Wはウィンドウである。 3 is a front mirror, W is a window.
狭帯域化されたレーザ光Laはフロントミラー3から出射しその一部がビームスプリッタ4によって反射され、スペクトル波形検出装置5に入射される。 Narrowed laser beam La is part of emitted from the front mirror 3 is reflected by the beam splitter 4 is incident on the spectral waveform detection device 5. ビームスプリッタ4を透過したレーザ光Lbは出射口シャッタ6 Laser light Lb transmitted through the beam splitter 4 exit port shutter 6
などを介してステッパ7に入力される。 Is input to the stepper 7 via a.

【0015】スペクトル波形検出装置5はレーザ光のスペクトルを検出するもので、図2にスペクトル波形検出装置としてグレーティングを使用したツェルニターナ型分光器の例を示す。 The spectrum waveform detection device 5 detects the spectrum of the laser light, an example of a Tsuerunitana spectrometer using a grating as a spectral waveform detector in Fig.

【0016】図2において、前記ビームスプリッタ4によってサンプリングしたレーザ光は拡散板20に入射して散乱され、この散乱光は集光レンズ21によって集光される。 [0016] In FIG. 2, the laser beam sampled by the beam splitter 4 is scattered incident on the diffusion plate 20, the scattered light is condensed by the condenser lens 21. 集光レンズ21の焦点面は分光器22の入射スリット23の多少手前側に位置させるようしており、集光されたレーザ光で入射スリット23が照明される。 The focal plane of the condenser lens 21 has such is positioned slightly near side of the entrance slit 23 of the spectroscope 22, entrance slit 23 is illuminated with focused laser beam. 入射スリット23を透過した光は凹面ミラー24に入射して反射されることにより平行光に変換される。 The light transmitted through the entrance slit 23 is converted into parallel light by being incident on and reflected by the concave mirror 24. この平行光はグレーティング25に入射して回折される。 The collimated light is diffracted incident on the grating 25. この回折光は凹面ミラー26に入射して反射される。 The diffracted light is incident on and reflected by the concave mirror 26. 反射された回折光は凹面ミラー26の焦点面に配置されたラインセンサなどのイメージセンサ(ラインセンサ)27に結像される。 The reflected diffracted light is imaged on an image sensor (line sensor) 27, such as arranged line sensors in the focal plane of the concave mirror 26. このイメージセンサ上の結像位置とレーザ光の波長は比例関係にあるので、各結像位置(チャンネル)に対する光の強度分布を検出することにより、サンプル光のスペクトル波形を計測することができる。 Since the wavelength of the imaging position of the laser beam on the image sensor is proportional, by detecting the intensity distribution of the light for each imaging position (channel), it is possible to measure the spectral waveform of the sample light.

【0017】図3は、スペクトル波形検出装置としてモニタエタロンを使用した場合の構成を示すもので、この場合は前記ビームスプリッタ4によってサンプリングしたレーザ光を拡散板30に入射させて散乱させる。 [0017] Figure 3 shows the configuration when using the monitor etalon as a spectral waveform detecting device, in this case scattering by the incidence of the laser beam sampled by the beam splitter 4 to the diffuser 30. 散乱光はモニタエタロン31に入射され、ここで所定の波長の光が選択されてモニタエタロン31を透過する。 Scattered light is incident on the monitor etalon 31, wherein light of a predetermined wavelength is selected and transmitted through the monitor etalon 31. この透過光は集光レンズ32によって集光され、この集光レンズの焦点面上に干渉縞を発生させる。 The transmitted light is condensed by the condenser lens 32, producing interference fringes at the focal plane of the condenser lens. 前記焦点面上にはラインセンサなどのイメージセンサ27が配置されており、前記干渉縞をイメージセンサ上の位置に対するレーザ光の強度分布として検出する。 Said on the focal plane is disposed an image sensor 27 such as a line sensor, for detecting the interference fringes as the intensity distribution of the laser beam relative to the position on the image sensor. この場合干渉縞の半径の2乗と波長とは比例関係にある。 From this radius squared and wavelength when the interference fringes is proportional. なお、28は遮光板であり、レンズ32とイメージセンサ27の間に遮光板28を配設することにより迷光を防ぐことができ、高精度に干渉縞を検出することができる。 Incidentally, 28 is a light shielding plate, stray light can be prevented by disposing the light shielding plate 28 between the lens 32 and the image sensor 27 can detect the interference fringes with high accuracy.

【0018】上記スペクトル波形検出装置5によって検出されたスペクトル波形は波長コントローラ8に入力される。 The spectral waveform detected by the spectral waveform detector 5 is input to the wavelength controller 8.

【0019】波長コントローラ8は、上記入力されたサンプル光のスペクトル波形から波長λrを計算し、該計算した波長λrと設定波長λcとの偏差にしたがってドライバ9を駆動制御する事により狭帯域化ユニット1内にある波長選択素子の選択波長が前記設定波長λcになるよう制御する。 [0019] Wavelength controller 8, the wavelength λr calculated from the spectral waveform of the input sample light, narrowing unit by driving and controlling the driver 9 in accordance with the deviation between the set wavelength λc wavelength λr that the calculated selected wavelength of the wavelength selection element within 1 controls so that the setting wavelength [lambda] c.

【0020】これと共に、波長コントローラ8は、前記設定波長λcと検出波長λrとの偏差が所定範囲より大きい場合は波長異常信号をステッパに出力するとともに、 [0020] Along with this, the wavelength controller 8, with the deviation between the set wavelength λc and the detection wavelength λr is the larger than the predetermined range and outputs a wavelength abnormal signal to the stepper,
出射口シャッタ6に閉信号を出力してシャッタ6を閉じるように制御する。 The exit opening shutter 6 outputs a closing signal to control so as to close the shutter 6. このシャッタ閉制御の後、波長コントローラ8はレーザ発振を実際に実行させながら波長制御を行い、発振波長が前記所定範囲に入ったら波長正常信号をステッパ7に出力して出射口シャッタ6を開にするように制御する。 After the shutter closing control, the wavelength controller 8 performs wavelength control while actually to perform the laser oscillation, the wavelength normal signal When the oscillation wavelength is entered into the predetermined range the emission port shutter 6 outputs to the stepper 7 in the open It is controlled to be.

【0021】また、波長コントローラ8は上記スペクトル波形検出装置5によって検出されたスペクトル波形からスペクトル純度Jを下式(1)にしたがって計算する。 [0021] The wavelength controller 8 calculates the following equation a spectral purity J from the spectrum waveform detected by the spectral waveform detecting device 5 (1).

【0022】J=Sb/Sa …(1) なお、上記(1)式においてSbは所定の波長幅Δλcにおけるスペクトル波形のエネルギーで図4のハッチングを施した部分に対応し、Saはスペクトル全体のエネルギーで図4における(ハッチングを施した部分+空白部分)に対応している。 [0022] J = Sb / Sa ... (1) The above (1) Sb corresponds to energy by hatching subjected portion of FIG. 4 of the spectrum waveform at a predetermined wavelength width Δλc in formula, Sa is the overall spectrum It corresponds to (partial + blank hatched portions) in FIG. 4 in energy.

【0023】図5は、図8の(a)に示した寄生発振を含む波形(グラフU)、図8(b)に示したすそ野を有する波形(グラフV)、図4に示した綺麗な理想に近い波形(グラフW)について、スペクトル純度Jと前記波長幅Δλとの関係を示すものである。 FIG. 5 is a waveform having a foot as shown in waveform (graph U), 8 (b) comprising a parasitic oscillation shown in FIG. 8 (a) (graph V), clean shown in FIG. 4 for nearly ideal waveform (graph W), it shows the relationship between the wavelength width Δλ and spectral purity J. ここで、波長幅Δ Here, the wavelength width Δ
λを6pmとしたときの各スペクトルのスペクトル純度J Spectral purity J of each spectrum when the λ and 6pm
を求めると、図8の(a)に示した寄生発振を含む波形の場合は55%であり、図8(b)に示したすそ野を有する波形の場合は72%であり、図4に示すような綺麗な波形では95%である。 When seeking a 55% in the case of waveform including a parasitic oscillation shown in FIG. 8 (a), in the case of a waveform having a foot that shown in FIG. 8 (b) 72%, shown in FIG. 4 in the clean waveform, such as 95%.

【0024】このように、寄生発振を含む波形(グラフU)やすそ野を有する波形(グラフV)の場合は綺麗な理想に近い波形(グラフW)に比べてスペクトル純度J [0024] Thus, the parasitic waveform including a wave (graph U) and clean nearly ideal waveform when the waveform (graph V) having a foot (graph W) spectral purity J compared to
が著しく悪くなる。 It is significantly worse. したがって、この出力レーザ光のスペクトル純度Jを測定し、このスペクトル純度Jを所定の設定値に対して大きいか小さいかを見ることによりスペクトル異常を検出することができる。 Therefore, it is possible to the spectral purity J of the output laser beam is measured, and detect the spectrum abnormality by looking at how the spectral purity J larger or smaller with respect to a predetermined set value.

【0025】波長コントローラ8は、前記(1)式に従って所定の波長幅Δλcにおけるスペクトル純度Jを測定し、該測定したスペクトル純度Jを所定の設定値Jc The wavelength controller 8, wherein (1) measuring the spectral purity J, a spectral purity J was the measurement of the predetermined set value at a predetermined wavelength width Δλc according formula Jc
と比較し、J<Jcである場合には、スペクトル異常信号をステッパ7に出力するとともに、出射口シャッタ6 Compared, in the case of J <Jc outputs a spectrum abnormality signal to the stepper 7 together with the exit port shutter 6
に閉信号を出力してシャッタ6を閉じるように制御し、 Controlled so as to close the shutter 6 outputs a close signal to,
さらにレーザを緊急停止させる。 To further emergency stop the laser.

【0026】以下、図6のフローチャートに従って上記スペクトル純度に基づくスペクトル異常処理を詳述する。 [0026] Hereinafter, detailed spectral abnormality processing based on the spectral purity according to the flowchart of FIG.

【0027】まず、波長コントローラ8はスペクトル波形検出装置5内のラインセンサの出力から各位置(チャネル)に対する光の強度分布を計測する(ステップ10 Firstly, the wavelength controller 8 measures the light intensity distribution of for each position (channel) from the output of the line sensor of spectral waveform detecting device 5 (Step 10
1)。 1). そして、これら計測した各位置に対する光強度分布から観測されたスペクトル波形を求める(ステップ1 Then, a spectrum waveform which is observed from the light intensity distribution for each position of these measures (Step 1
02)。 02).

【0028】次に、コントローラ8はスペクトル波形検出装置5の装置関数によって観測データをデコンボリューション処理することにより観測データに逆補正をかけ、真のスペクトル波形を求める(ステップ103)。 Next, the controller 8 is multiplied by the inverse correction to the observed data by deconvolution processing observation data by the device function of the spectral waveform detection device 5 to determine the true spectral waveform (step 103).

【0029】次に、これらデコンボリューション後のスペクトル波形から予め設定した所定の波長範囲Δλcでのスペクトル純度Jを前記(1)式に従って算出する(ステップ104)。 Next, to calculate the spectral purity J at a predetermined wavelength range Δλc previously set from the spectrum waveform after these deconvolution according to the equation (1) (step 104).

【0030】そしてこれら求めたスペクトル純度Jを所定の設定値Jcと比較し(ステップ106)、JがJcより小さいときにスペクトル異常信号をステッパ7に出力するとともに、出射口シャッタ6に閉信号を出力してシャッタ6を閉じるように制御し、さらにレーザを緊急停止させる(ステップ107)。 [0030] Then by comparing these calculated spectral purity J with a predetermined set value Jc (step 106), the J outputs a spectrum abnormality signal to the stepper 7 when less than Jc, a close signal to the exit port shutter 6 controlled so as to close the shutter 6 outputs, an emergency stop further laser (step 107).

【0031】次に、波長コントローラ8におけるスペクトル異常検出方式の他の例について先の図5を参照して説明する。 Next, it will be described with reference preceding Figure 5 another example of a spectral anomaly detection method in a wavelength controller 8.

【0032】この第2の検出方式では、まず前記スペクトル波形計測手段5の計測出力に基づき図5に示すような出力レーザ光のスペクトル純度Jと波長幅Δλとの対応関係を求める。 [0032] In the second detection method, first determine the correspondence between the spectral purity J and the wavelength width Δλ of the spectral waveform measuring means 5 for measuring output as shown in basis Figure 5 the output laser beam. そしてこの場合は先の第1の方式とは逆に、所定のスペクトル純度例えば80%における波長幅Δλを求める。 And in this case, contrary to the first method previously determines the wavelength width Δλ at a given spectral purity, for example, 80%. 図5の例では、寄生発振を含む波形(グラフU)の場合はグラフ上でJ=80%との交点ができず、すそ野を有する波形(グラフV)の場合は波長幅Δλは10、1pm程度の値になり、理想に近い波形(グラフW)の場合は波長幅Δλは2.5pm程度の値になる。 In the example of FIG. 5, can not intersection of the J = 80% on the graph in the case of the waveform (graph U) including parasitic oscillation, the wavelength width Δλ in the case of the waveform (graph V) having a foot 10,1pm becomes a value approximately, the wavelength width Δλ in the case of the near-ideal waveform (graph W) becomes a value of about 2.5 pM. そしてこのようにして求めた波長幅Δλを所定の設定値と比較し、該波長幅が前記設定値より大きいときや交点が発生しないときにスペクトル異常を検出するようにする。 And comparing the wavelength width Δλ obtained in this manner with a predetermined setting value, so as to detect a spectral anomaly when or intersection does not occur when the wavelength width is larger than the set value.

【0033】更に、図7に従ってスペクトル異常検出方式の第3の例について説明する。 Furthermore, a third example of the spectral anomaly detection method will be described with reference to FIG.

【0034】図7(a)(b)(c)は、それぞれ、図8の(a)に示した寄生発振を含む波形、図8(b)に示したすそ野を有する波形、図4に示した綺麗な理想に近い波形について、モニタエタロンの干渉縞の波形を示したものである。 FIG. 7 (a) (b) (c), respectively, shown in the waveform, Figure 4 having a foot as shown in the waveform, and FIG. 8 (b) comprising a parasitic oscillation shown in FIG. 8 (a) for clean nearly ideal waveform shows the waveform of the interference fringes of the monitor etalon.

【0035】ここで、モニタエタロンの干渉縞は各次数の干渉縞が重なり合う。 [0035] Here, the interference fringes of the monitor etalon overlapping fringes of each order. このため、図7(a)(b)に示すように、寄生発振を含む波形やすそ野を有する波形の場合は、干渉縞の最小値Iminが、理想的な波形に比べて高くなる。 Therefore, as shown in FIG. 7 (a) (b), when the waveform having a waveform and foot including parasitic oscillation, minimum value Imin of the interference fringes is higher in comparison with the ideal waveform. そこで、干渉縞の最大値Imaxと最小値Iminを求め、これら最大値Imaxと最小値Iminを用いて下式に従ってコントラストCを求め、該演算したコントラストCを所定の設定値と比較することによりスペクトル異常を検出することができる。 Therefore, the maximum value Imax and the minimum value Imin of the interference fringes, determine the contrast C according to the following equation using these maximum value Imax and the minimum value Imin, the spectrum by comparing the contrast C were the operation with a predetermined set value it is possible to detect the abnormality.

【0036】C=(Imax−Imin)/(Imax+Imin) なお、上記実施例では、スペクトル異常信号と波長異常信号を別々にステッパに送信するようにしているが、スペクトルおよび波長が異常となった場合とも波長異常信号として送信するようにしてもよい。 [0036] C = Note (Imax-Imin) / (Imax + Imin), in the above embodiment, the case has be transmitted to the stepper separately spectral abnormality signal and the wavelength error signal, the spectrum and the wavelength is abnormal both may be transmitted as a wavelength error signal.

【0037】 [0037]

【発明の効果】以上説明したようにこの発明によれば、 According to the present invention as described above, according to the present invention,
出力レーザ光のスペクトル純度又はそれに相当する値を求め、該値を所定の設定値と比較する事に基づきスペクトル異常を検出するようにしたので、スペクトル異常を高精度かつ確実に検出することができるようになり、これによりステッパ側での歩留まりを向上させることができる。 Obtains the spectral purity or value equivalent to that of the output laser beam can be because in order to detect that the basis spectra abnormal comparing said value with a predetermined setting value, detects the spectrum unusually accurate and reliable It becomes way, thereby making it possible to improve the yield of the stepper side.

【図面の簡単な説明】 BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS

【図1】この発明の実施例を示すブロック図。 1 is a block diagram showing an embodiment of the present invention.

【図2】スペクトル波形検出装置の第1例を示す図。 FIG. 2 shows a first example of the spectral waveform detection device.

【図3】スペクトル波形検出装置の第2例を示す図。 3 is a diagram showing a second example of a spectrum waveform detection device.

【図4】スペクトル純度を説明するための図。 4 is a diagram for explaining the spectral purity.

【図5】各種スペクトルについてスペクトル純度と波長幅の関係を示す図。 5 is a diagram showing the relationship between the spectral purity and the wavelength width for the various spectra.

【図6】スペクトル異常検出の為の処理手順を示す図。 FIG. 6 is a diagram showing a processing procedure for the spectral anomaly detection.

【図7】コントラストによるスペクトル異常検出の為の処理を説明するための図。 7 is a diagram for explaining processing for spectral anomaly detection by the contrast.

【図8】寄生発振を含むスペクトル波形およびすそ野を引いているスペクトル波形を示す図。 8 shows a spectrum waveform pulling the spectral waveform and foot including parasitic oscillation.

【符号の説明】 DESCRIPTION OF SYMBOLS

1…狭帯域化ユニット 2…レーザチャンバ 3…フロントミラー 4…ビームスプリッタ 5…スペクトル波形検出装置 6…出射口シャッタ 7…ステッパ 8…波長コントローラ 9…ドライバ 10…エキシマレーザ 1 ... narrowing unit 2 ... laser chamber 3 ... front mirror 4 ... beam splitter 5 ... spectral waveform detector 6 ... exit port shutter 7 ... stepper 8 ... wavelength controller 9 ... Driver 10 ... excimer laser

Claims (3)

    【特許請求の範囲】 [The claims]
  1. 【請求項1】出力レーザ光のスペクトル波形を計測するスペクトル波形計測手段と、 このスペクトル波形計測手段の計測出力に基づき出力レーザ光のスペクトル純度を演算するスペクトル純度演算手段と、 該演算したスペクトル純度を所定の設定値と比較することによりスペクトル異常を検出するスペクトル異常検出手段と、 を具えることを特徴とする狭帯域レーザ装置のスペクトル異常検出装置。 1. A spectral waveform measuring means for measuring the spectral waveform of the output laser beam, the spectral purity calculating means for calculating a spectral purity of the output laser beam on the basis of the measurement output of the spectral waveform measuring means, the spectral purity was the operational the spectral abnormality detecting device of a predetermined set value and comparing the narrow band laser apparatus characterized by comprising a spectral abnormality detecting means, the detecting spectral anomaly by.
  2. 【請求項2】出力レーザ光のスペクトル波形を計測するスペクトル波形計測手段と、 このスペクトル波形計測手段の計測出力に基づき出力レーザ光のスペクトル純度と波長幅との対応関係を求め、 2. A spectral waveform measuring means for measuring the spectral waveform of the output laser light, the correspondence between the spectral purity and the wavelength width of the output laser light based on the measurement output of the spectral waveform measuring means obtains,
    この対応関係から所定のスペクトル純度における波長幅を求め、該求めた波長幅を所定の設定値と比較することによりスペクトル異常を検出するスペクトル異常検出手段と、 を具えることを特徴とする狭帯域レーザ装置のスペクトル異常検出装置。 Seeking wavelength width from the correspondence in the predetermined spectral purity, narrow band, characterized in that it comprises a spectrum abnormality detecting means for detecting the spectral abnormality by comparing the determined wavelength width with a predetermined set value spectrum abnormality detecting device of a laser device.
  3. 【請求項3】出力レーザ光のスペクトル波形を計測するスペクトル波形計測手段と、 このスペクトル波形計測手段の計測出力に基づき発生する干渉縞のコントラストを演算し、該演算したコントラストを所定の設定値と比較することによりスペクトル異常を検出するスペクトル異常検出手段と、 を具えることを特徴とする狭帯域レーザ装置のスペクトル異常検出装置。 3. A spectral waveform measuring means for measuring the spectral waveform of the output laser beam, calculates the contrast of the interference fringes generated on the basis of the measurement output of the spectral waveform measuring means, and said computed predetermined set value Contrast comparative spectrum abnormality detecting device of a narrowband laser device characterized in that it comprises a spectral abnormality detecting means, the detecting spectral anomaly by.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2008536333A (en) * 2005-04-13 2008-09-04 コーニング インコーポレイテッド Mode-matching system for the tunable external cavity laser
US7653095B2 (en) 2005-06-30 2010-01-26 Cymer, Inc. Active bandwidth control for a laser
JP2011049528A (en) * 2009-08-27 2011-03-10 Samsung Mobile Display Co Ltd Connection unit, and laser oscillation apparatus including the same

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008536333A (en) * 2005-04-13 2008-09-04 コーニング インコーポレイテッド Mode-matching system for the tunable external cavity laser
US7653095B2 (en) 2005-06-30 2010-01-26 Cymer, Inc. Active bandwidth control for a laser
JP2011049528A (en) * 2009-08-27 2011-03-10 Samsung Mobile Display Co Ltd Connection unit, and laser oscillation apparatus including the same
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