JPH0615504A - 傾斜硬質層被覆超硬合金製切削工具 - Google Patents
傾斜硬質層被覆超硬合金製切削工具Info
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- JPH0615504A JPH0615504A JP19915192A JP19915192A JPH0615504A JP H0615504 A JPH0615504 A JP H0615504A JP 19915192 A JP19915192 A JP 19915192A JP 19915192 A JP19915192 A JP 19915192A JP H0615504 A JPH0615504 A JP H0615504A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 傾斜硬質層が被覆されているチップ、ドリ
ル、エンドミルなどいかなる切削に対しても優れた切削
性能を示す傾斜硬質層被覆超硬合金製切削工具に関する
ものである。 【構成】 超硬合金基体の表面にまたは超硬合金基体の
表面にさらに（Ｔｉ，Ｍ）Ｎ［ただしＭはＡｌ，Ｈｆ，
Ｚｒの内の１種または２種以上］層を被覆した前記（Ｔ
ｉ，Ｍ）Ｎ層の上に、（Ｔｉ，Ｍ）（ＣｘＮｙ）［ｘ＋
ｙ＝１］傾斜硬質層を被覆し、さらにそに上に（Ｔｉ，
Ｍ）Ｃ層を被覆してなる切削工具において、 前記（Ｔ
ｉ，Ｍ）（ＣｘＮｙ）［ｘ＋ｙ＝１］傾斜硬質層におけ
るｘは、超硬合金基体の表面または（Ｔｉ，Ｍ）Ｎ層に
接する面で実質的に０となり、内面から外面に向かって
層厚方向に増加するように変化して（Ｔｉ，Ｍ）Ｃ層に
接する面で実質的に１となり、一方、ｙは、超硬合金基
体の表面または（Ｔｉ，Ｍ）Ｎ層に接する面で実質的に
１となり、内面から外面に向かって層厚方向に減少する
ように変化して（Ｔｉ，Ｍ）Ｃ層に接する面で実質的に
０となる傾斜硬質層被覆超硬合金製切削工具。
ル、エンドミルなどいかなる切削に対しても優れた切削
性能を示す傾斜硬質層被覆超硬合金製切削工具に関する
ものである。 【構成】 超硬合金基体の表面にまたは超硬合金基体の
表面にさらに（Ｔｉ，Ｍ）Ｎ［ただしＭはＡｌ，Ｈｆ，
Ｚｒの内の１種または２種以上］層を被覆した前記（Ｔ
ｉ，Ｍ）Ｎ層の上に、（Ｔｉ，Ｍ）（ＣｘＮｙ）［ｘ＋
ｙ＝１］傾斜硬質層を被覆し、さらにそに上に（Ｔｉ，
Ｍ）Ｃ層を被覆してなる切削工具において、 前記（Ｔ
ｉ，Ｍ）（ＣｘＮｙ）［ｘ＋ｙ＝１］傾斜硬質層におけ
るｘは、超硬合金基体の表面または（Ｔｉ，Ｍ）Ｎ層に
接する面で実質的に０となり、内面から外面に向かって
層厚方向に増加するように変化して（Ｔｉ，Ｍ）Ｃ層に
接する面で実質的に１となり、一方、ｙは、超硬合金基
体の表面または（Ｔｉ，Ｍ）Ｎ層に接する面で実質的に
１となり、内面から外面に向かって層厚方向に減少する
ように変化して（Ｔｉ，Ｍ）Ｃ層に接する面で実質的に
０となる傾斜硬質層被覆超硬合金製切削工具。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、傾斜硬質層が被覆さ
れているチップ、ドリル、エンドミルなど、いかなる切
削に対しても優れた切削性能を示す傾斜硬質層被覆超硬
合金製切削工具に関するものである。
れているチップ、ドリル、エンドミルなど、いかなる切
削に対しても優れた切削性能を示す傾斜硬質層被覆超硬
合金製切削工具に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】一般に、結合相形成成分として、鉄族金
属のうち１種または２種以上を含有し、さらに必要に応
じて周期律表の４ａ、５ａ、および６ａ族金属の炭化
物、窒化物、炭窒化物を０．５〜３０重量％含有し、残
りが炭化タングステン（以下、ＷＣと記す、）および不
可避不純物からなる超硬合金基体（以下、超硬合金基体
という）の表面に、Ｔｉの化合物層を被覆してなる硬質
層被覆超硬合金製切削工具は知られている。
属のうち１種または２種以上を含有し、さらに必要に応
じて周期律表の４ａ、５ａ、および６ａ族金属の炭化
物、窒化物、炭窒化物を０．５〜３０重量％含有し、残
りが炭化タングステン（以下、ＷＣと記す、）および不
可避不純物からなる超硬合金基体（以下、超硬合金基体
という）の表面に、Ｔｉの化合物層を被覆してなる硬質
層被覆超硬合金製切削工具は知られている。
【０００３】これらの硬質層被覆超硬合金製切削工具
は、超硬合金基体の表面に（Ｔｉ，Ｍ）Ｎ層−（Ｔｉ，
Ｍ）ＣＮ層（Ｃ：Ｎ＝一定）−（Ｔｉ，Ｍ）Ｃ層の順に
被覆されており、（Ｔｉ，Ｍ）Ｎ層は超硬合金基体に対
する密着性が優れており、（Ｔｉ，Ｍ）ＣＮ層（Ｃ：Ｎ
＝一定）は（Ｔｉ，Ｍ）Ｎ層と（Ｔｉ，Ｍ）Ｃ層の中間
層とすることにより（Ｔｉ，Ｍ）Ｎ層と耐摩耗性の優れ
た（Ｔｉ，Ｍ）Ｃ層との密着性を一層強固なものとして
いる（特開昭６１−１７０５５９号公報参照）。
は、超硬合金基体の表面に（Ｔｉ，Ｍ）Ｎ層−（Ｔｉ，
Ｍ）ＣＮ層（Ｃ：Ｎ＝一定）−（Ｔｉ，Ｍ）Ｃ層の順に
被覆されており、（Ｔｉ，Ｍ）Ｎ層は超硬合金基体に対
する密着性が優れており、（Ｔｉ，Ｍ）ＣＮ層（Ｃ：Ｎ
＝一定）は（Ｔｉ，Ｍ）Ｎ層と（Ｔｉ，Ｍ）Ｃ層の中間
層とすることにより（Ｔｉ，Ｍ）Ｎ層と耐摩耗性の優れ
た（Ｔｉ，Ｍ）Ｃ層との密着性を一層強固なものとして
いる（特開昭６１−１７０５５９号公報参照）。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかし、前記従来の
（Ｔｉ，Ｍ）ＣＮ層（Ｃ：Ｎ＝一定）を（Ｔｉ，Ｍ）Ｎ
層と（Ｔｉ，Ｍ）Ｃ層との間に介在させて被覆した硬質
層被覆超硬合金製切削工具は、高送りの連続切削、フラ
イス切削などの従来よりも一層過酷な条件の切削に用い
た場合に（Ｔｉ，Ｍ）Ｎ層と（Ｔｉ，Ｍ）Ｃ層との密着
性が十分ではないところから満足のいく使用寿命が得ら
れなかった。
（Ｔｉ，Ｍ）ＣＮ層（Ｃ：Ｎ＝一定）を（Ｔｉ，Ｍ）Ｎ
層と（Ｔｉ，Ｍ）Ｃ層との間に介在させて被覆した硬質
層被覆超硬合金製切削工具は、高送りの連続切削、フラ
イス切削などの従来よりも一層過酷な条件の切削に用い
た場合に（Ｔｉ，Ｍ）Ｎ層と（Ｔｉ，Ｍ）Ｃ層との密着
性が十分ではないところから満足のいく使用寿命が得ら
れなかった。
【０００５】
【課題を解決するための手段】そこで、本発明者らは、
上述のような課題を解決し、高送りの連続切削、フライ
ス切削など過酷な条件の切削に用いた場合にも一層の長
寿命を示す硬質層被覆超硬合金製切削工具を得るべく研
究を行った結果、（ａ） 超硬合金基体の表面に被覆し
た傾斜硬質層を（Ｔｉ，Ｍ）（ＣｘＮｙ）［ただし、Ｍ
はＡｌ，Ｈｆ，Ｚｒの内の１種または２種以上、ｘ＋ｙ
＝１］で表すと、（Ｔｉ，Ｍ）（ＣｘＮｙ）におけるｘ
は内面で実質的に０であり内面から外面に向かって連続
的に増加するように変化し外面で実質的に１となり、同
時にｙは内面で実質的に１となり連続的に減少するよう
に変化し外面で実質的に０となる傾斜硬質層を被覆した
超硬合金製切削工具は、（Ｔｉ，Ｍ）（ＣｘＮｙ）傾斜
硬質層が超硬合金基体に接する面で実質的に（Ｔｉ，
Ｍ）Ｎとなって密着性が改善され、さらに外面で実質的
に（Ｔｉ，Ｍ）Ｃとなって（Ｔｉ，Ｍ）Ｃ層との密着性
がが改善され、従来の（Ｔｉ，Ｍ）ＣＮ層（Ｃ：Ｎ＝一
定）を介在させよりも一層密着性に優れ、したがって使
用寿命が長くなる、（ｂ） 超硬合金基体に（Ｔｉ，
Ｍ）Ｎ硬質層を被覆したのち、前記（Ｔｉ，Ｍ）（Ｃｘ
Ｎｙ）傾斜硬質層を被覆し、さらにその上に（Ｔｉ，
Ｍ）Ｃ硬質層を被覆してもほぼ同等の効果が得られる、
などの知見を得たのである。
上述のような課題を解決し、高送りの連続切削、フライ
ス切削など過酷な条件の切削に用いた場合にも一層の長
寿命を示す硬質層被覆超硬合金製切削工具を得るべく研
究を行った結果、（ａ） 超硬合金基体の表面に被覆し
た傾斜硬質層を（Ｔｉ，Ｍ）（ＣｘＮｙ）［ただし、Ｍ
はＡｌ，Ｈｆ，Ｚｒの内の１種または２種以上、ｘ＋ｙ
＝１］で表すと、（Ｔｉ，Ｍ）（ＣｘＮｙ）におけるｘ
は内面で実質的に０であり内面から外面に向かって連続
的に増加するように変化し外面で実質的に１となり、同
時にｙは内面で実質的に１となり連続的に減少するよう
に変化し外面で実質的に０となる傾斜硬質層を被覆した
超硬合金製切削工具は、（Ｔｉ，Ｍ）（ＣｘＮｙ）傾斜
硬質層が超硬合金基体に接する面で実質的に（Ｔｉ，
Ｍ）Ｎとなって密着性が改善され、さらに外面で実質的
に（Ｔｉ，Ｍ）Ｃとなって（Ｔｉ，Ｍ）Ｃ層との密着性
がが改善され、従来の（Ｔｉ，Ｍ）ＣＮ層（Ｃ：Ｎ＝一
定）を介在させよりも一層密着性に優れ、したがって使
用寿命が長くなる、（ｂ） 超硬合金基体に（Ｔｉ，
Ｍ）Ｎ硬質層を被覆したのち、前記（Ｔｉ，Ｍ）（Ｃｘ
Ｎｙ）傾斜硬質層を被覆し、さらにその上に（Ｔｉ，
Ｍ）Ｃ硬質層を被覆してもほぼ同等の効果が得られる、
などの知見を得たのである。
【０００６】この発明は、かかる知見にもとづいて成さ
れたものであって、 （イ） 超硬合金基体の表面に（Ｔｉ，Ｍ）（ＣｘＮ
ｙ）［ただし、ＭはＡｌ，Ｈｆ，Ｚｒの内の１種または
２種以上、ｘ＋ｙ＝１］傾斜硬質層を被覆し、さらにそ
の傾斜硬質層の上に（Ｔｉ，Ｍ）Ｃ層を被覆してなる切
削工具において、前記（Ｔｉ，Ｍ）（ＣｘＮｙ）傾斜硬
質層におけるｘは超硬合金基体の表面に接する面で実質
的に０となり、内面から外面に向かって層厚方向に増加
するように変化して（Ｔｉ，Ｍ）Ｃ層に接する面で実質
的に１となり、一方、ｙは超硬合金基体の表面に接する
面で実質的に１となり、内面から外面に向かって層厚方
向に減少するように変化して（Ｔｉ，Ｍ）Ｃ層に接する
面で実質的に０となる、傾斜硬質層被覆超硬合金製切削
工具。 （ロ） 超硬合金基体の表面に、（Ｔｉ，Ｍ）Ｎ層を被
覆し、前記窒化チタン層の上に（Ｔｉ，Ｍ）（ＣｘＮ
ｙ）［ただし、ＭはＡｌ，Ｈｆ，Ｚｒの内の１種または
２種以上、ｘ＋ｙ＝１］傾斜硬質層を被覆し、さらにそ
の傾斜硬質層の上に（Ｔｉ，Ｍ）Ｃ層を被覆してなる切
削工具において、前記（Ｔｉ，Ｍ）（ＣｘＮｙ）傾斜硬
質層におけるｘは、（Ｔｉ，Ｍ）Ｎ層に接する面で実質
的に０となり、内面から外面に向かって層厚方向に増加
するように変化して（Ｔｉ，Ｍ）Ｃ層に接する面で実質
的に１となり、一方、ｙは（Ｔｉ，Ｍ）Ｎ層に接する面
で実質的に１となり、内面から外面に向かって層厚方向
に減少するように変化して（Ｔｉ，Ｍ）Ｃ層に接する面
で実質的に０となる、傾斜硬質層被覆超硬合金製切削工
具、に特徴を有するものである。
れたものであって、 （イ） 超硬合金基体の表面に（Ｔｉ，Ｍ）（ＣｘＮ
ｙ）［ただし、ＭはＡｌ，Ｈｆ，Ｚｒの内の１種または
２種以上、ｘ＋ｙ＝１］傾斜硬質層を被覆し、さらにそ
の傾斜硬質層の上に（Ｔｉ，Ｍ）Ｃ層を被覆してなる切
削工具において、前記（Ｔｉ，Ｍ）（ＣｘＮｙ）傾斜硬
質層におけるｘは超硬合金基体の表面に接する面で実質
的に０となり、内面から外面に向かって層厚方向に増加
するように変化して（Ｔｉ，Ｍ）Ｃ層に接する面で実質
的に１となり、一方、ｙは超硬合金基体の表面に接する
面で実質的に１となり、内面から外面に向かって層厚方
向に減少するように変化して（Ｔｉ，Ｍ）Ｃ層に接する
面で実質的に０となる、傾斜硬質層被覆超硬合金製切削
工具。 （ロ） 超硬合金基体の表面に、（Ｔｉ，Ｍ）Ｎ層を被
覆し、前記窒化チタン層の上に（Ｔｉ，Ｍ）（ＣｘＮ
ｙ）［ただし、ＭはＡｌ，Ｈｆ，Ｚｒの内の１種または
２種以上、ｘ＋ｙ＝１］傾斜硬質層を被覆し、さらにそ
の傾斜硬質層の上に（Ｔｉ，Ｍ）Ｃ層を被覆してなる切
削工具において、前記（Ｔｉ，Ｍ）（ＣｘＮｙ）傾斜硬
質層におけるｘは、（Ｔｉ，Ｍ）Ｎ層に接する面で実質
的に０となり、内面から外面に向かって層厚方向に増加
するように変化して（Ｔｉ，Ｍ）Ｃ層に接する面で実質
的に１となり、一方、ｙは（Ｔｉ，Ｍ）Ｎ層に接する面
で実質的に１となり、内面から外面に向かって層厚方向
に減少するように変化して（Ｔｉ，Ｍ）Ｃ層に接する面
で実質的に０となる、傾斜硬質層被覆超硬合金製切削工
具、に特徴を有するものである。
【０００７】この発明の傾斜硬質層被覆超硬合金製切削
工具における（Ｔｉ，Ｍ）Ｎ層、（Ｔｉ，Ｍ）（ＣｘＮ
ｙ）傾斜硬質層および（Ｔｉ，Ｍ）Ｃ層を形成するに
は、イオンプレーティング装置等の物理蒸着装置を用い
る。前記物理蒸着装置に装入されたＴｉ金属およびＭ金
属を加熱蒸発させると共に反応ガスを、最初、窒素ガ
ス：１００％、炭化水素ガス：０％となるように導入
し、この混合ガスは、図１のグラフに示されるように、
物理蒸着の進行にともなって、窒素ガス導入量を連続的
に減少させ、これに反比例するように炭化水素ガスを連
続的に増加するように供給し、最終的に窒素ガス：０
％、炭化水素ガス：１００％となるように導入し、つづ
いて炭化水素ガス：１００％を一定時間導入する。図１
のグラフでは、窒素ガス導入量および炭化水素ガス導入
量を直線的に連続して変化させているが、これに限定さ
れるものではなく、曲線的に連続して変化させてもよ
い。
工具における（Ｔｉ，Ｍ）Ｎ層、（Ｔｉ，Ｍ）（ＣｘＮ
ｙ）傾斜硬質層および（Ｔｉ，Ｍ）Ｃ層を形成するに
は、イオンプレーティング装置等の物理蒸着装置を用い
る。前記物理蒸着装置に装入されたＴｉ金属およびＭ金
属を加熱蒸発させると共に反応ガスを、最初、窒素ガ
ス：１００％、炭化水素ガス：０％となるように導入
し、この混合ガスは、図１のグラフに示されるように、
物理蒸着の進行にともなって、窒素ガス導入量を連続的
に減少させ、これに反比例するように炭化水素ガスを連
続的に増加するように供給し、最終的に窒素ガス：０
％、炭化水素ガス：１００％となるように導入し、つづ
いて炭化水素ガス：１００％を一定時間導入する。図１
のグラフでは、窒素ガス導入量および炭化水素ガス導入
量を直線的に連続して変化させているが、これに限定さ
れるものではなく、曲線的に連続して変化させてもよ
い。
【０００８】このようにして得られた傾斜硬質層を（Ｔ
ｉ，Ｍ）（ＣｘＮｙ）［ｘ＋ｙ＝１］で表すと、ｘおよ
びｙの値は、０≦ｘ≦１および０≦ｙ≦１の範囲内の値
をとり、傾斜硬質層のＣおよびＮの濃度分布は、ほぼ図
２のグラフに示されるようになる。超硬合金基体に接す
る内面がｘ＝０、ｙ＝１となって（Ｔｉ，Ｍ）Ｎ層とな
るために超硬合金基体に対する付着性が優れ、一方、
（Ｔｉ，Ｍ）Ｃ層に接する面がｘ＝１、ｙ＝０となって
（Ｔｉ，Ｍ）Ｃとなり、同一成分となって（Ｔｉ，Ｍ）
Ｃ層に対する密着性が向上し、したがって（Ｔｉ，Ｍ）
（ＣｘＮｙ）［ｘ＋ｙ＝１］傾斜硬質層を介在させるこ
とにより（Ｔｉ，Ｍ）Ｃ層の密着性を改善し、長寿命で
優れた特性を有する硬質層被覆超硬合金製切削工具が得
られるのである。
ｉ，Ｍ）（ＣｘＮｙ）［ｘ＋ｙ＝１］で表すと、ｘおよ
びｙの値は、０≦ｘ≦１および０≦ｙ≦１の範囲内の値
をとり、傾斜硬質層のＣおよびＮの濃度分布は、ほぼ図
２のグラフに示されるようになる。超硬合金基体に接す
る内面がｘ＝０、ｙ＝１となって（Ｔｉ，Ｍ）Ｎ層とな
るために超硬合金基体に対する付着性が優れ、一方、
（Ｔｉ，Ｍ）Ｃ層に接する面がｘ＝１、ｙ＝０となって
（Ｔｉ，Ｍ）Ｃとなり、同一成分となって（Ｔｉ，Ｍ）
Ｃ層に対する密着性が向上し、したがって（Ｔｉ，Ｍ）
（ＣｘＮｙ）［ｘ＋ｙ＝１］傾斜硬質層を介在させるこ
とにより（Ｔｉ，Ｍ）Ｃ層の密着性を改善し、長寿命で
優れた特性を有する硬質層被覆超硬合金製切削工具が得
られるのである。
【０００９】また、図３のグラフに示されるように物理
蒸着装置に導入する反応ガスを流すと、図４のグラフに
示されるような超硬合金基体の表面に（Ｔｉ，Ｍ）Ｎ層
が被覆され、前記（Ｔｉ，Ｍ）Ｎ層の上に前記（Ｔｉ，
Ｍ）（ＣｘＮｙ）［ｘ＋ｙ＝１］傾斜硬質層が被覆さ
れ、さらに（Ｔｉ，Ｍ）Ｃ層が被覆された硬質層被覆超
硬合金製切削工具が得られるのである。。
蒸着装置に導入する反応ガスを流すと、図４のグラフに
示されるような超硬合金基体の表面に（Ｔｉ，Ｍ）Ｎ層
が被覆され、前記（Ｔｉ，Ｍ）Ｎ層の上に前記（Ｔｉ，
Ｍ）（ＣｘＮｙ）［ｘ＋ｙ＝１］傾斜硬質層が被覆さ
れ、さらに（Ｔｉ，Ｍ）Ｃ層が被覆された硬質層被覆超
硬合金製切削工具が得られるのである。。
【００１０】前記（Ｔｉ，Ｍ）（ＣｘＮｙ）傾斜硬質層
の厚さは、３０μｍ以下であることが好ましい。３０μ
ｍを越えると切削時に基体との間に熱膨脹の差が大きく
なり、亀裂が生じて剥離しやすくなる。一方、前記傾斜
硬質層が０．５μｍ未満では硬質層剥離抑制効果が十分
でないために０．５μｍ以上であることが好ましい。
の厚さは、３０μｍ以下であることが好ましい。３０μ
ｍを越えると切削時に基体との間に熱膨脹の差が大きく
なり、亀裂が生じて剥離しやすくなる。一方、前記傾斜
硬質層が０．５μｍ未満では硬質層剥離抑制効果が十分
でないために０．５μｍ以上であることが好ましい。
【００１１】この発明の（Ｔｉ，Ｍ）（ＣｘＮｙ）傾斜
硬質層は、図２および図４のグラフに示されるように、
超硬合金基体に接する面または（Ｔｉ，Ｍ）Ｎ層に接す
る面でｘ＝０、ｙ＝１となり、（Ｔｉ，Ｍ）Ｃ層に接す
る面でｘ＝１、ｙ＝０となって実質的に（Ｔｉ，Ｍ）Ｃ
となるために、最外層の（Ｔｉ，Ｍ）Ｃ層に対する密着
性は向上するが、従来の（Ｔｉ，Ｍ）ＣＮ層はＣ：Ｎ＝
一定であるために（Ｔｉ，Ｍ）Ｃ層に対する密着性が十
分でない。
硬質層は、図２および図４のグラフに示されるように、
超硬合金基体に接する面または（Ｔｉ，Ｍ）Ｎ層に接す
る面でｘ＝０、ｙ＝１となり、（Ｔｉ，Ｍ）Ｃ層に接す
る面でｘ＝１、ｙ＝０となって実質的に（Ｔｉ，Ｍ）Ｃ
となるために、最外層の（Ｔｉ，Ｍ）Ｃ層に対する密着
性は向上するが、従来の（Ｔｉ，Ｍ）ＣＮ層はＣ：Ｎ＝
一定であるために（Ｔｉ，Ｍ）Ｃ層に対する密着性が十
分でない。
【００１２】
【実施例】つぎに、この発明の傾斜硬質層被覆超硬合金
製切削工具を実施例に基づいて具体的に説明する。
製切削工具を実施例に基づいて具体的に説明する。
【００１３】実施例１ 原料粉末として、それぞれ平均粒径：３μｍのＣｏ粉
末、ＴｉＣ粉末、ＴａＣ粉末、ＷＣ粉末を用意し、これ
ら粉末を、Ｃｏ粉末：９重量％、ＴｉＣ粉末：１重量
％、ＴａＣ粉末：２重量％、残り：ＷＣ粉末となるよう
に配合し、混合したのち、圧粉体に成型し、この圧粉体
を通常の条件で焼結して焼結体を製造し、この焼結体を
研削してＩＳＯ規格ＴＮＧＡ１６０４０８の形状を有す
るＷＣ基超硬合金製チップを作製した。
末、ＴｉＣ粉末、ＴａＣ粉末、ＷＣ粉末を用意し、これ
ら粉末を、Ｃｏ粉末：９重量％、ＴｉＣ粉末：１重量
％、ＴａＣ粉末：２重量％、残り：ＷＣ粉末となるよう
に配合し、混合したのち、圧粉体に成型し、この圧粉体
を通常の条件で焼結して焼結体を製造し、この焼結体を
研削してＩＳＯ規格ＴＮＧＡ１６０４０８の形状を有す
るＷＣ基超硬合金製チップを作製した。
【００１４】つぎに、このＷＣ基超硬合金製チップを通
常のイオンプレーティング装置内の上方に装着し、一
方、前記イオンプレーティング装置内の下方には、Ｔｉ
金属、Ａｌ金属、Ｈｆ金属、Ｚｒ金属を充填した。かか
る状態で前記イオンプレーティング装置内を１×１０-5
Ｔｏｒｒの真空に保持し、昇温速度：６℃／ｍｉｎ．で
７００℃に昇温させ、つづいて、この温度に保持しなが
ら、５×１０-2ＴｏｒｒのＡｒガス雰囲気に保持してボ
ンバードクリーニングした。
常のイオンプレーティング装置内の上方に装着し、一
方、前記イオンプレーティング装置内の下方には、Ｔｉ
金属、Ａｌ金属、Ｈｆ金属、Ｚｒ金属を充填した。かか
る状態で前記イオンプレーティング装置内を１×１０-5
Ｔｏｒｒの真空に保持し、昇温速度：６℃／ｍｉｎ．で
７００℃に昇温させ、つづいて、この温度に保持しなが
ら、５×１０-2ＴｏｒｒのＡｒガス雰囲気に保持してボ
ンバードクリーニングした。
【００１５】さらに、Ｔｉ金属に電子ビームを当てて加
熱蒸発させるとともに、、Ａｌ金属、Ｈｆ金属、Ｚｒ金
属の１種または２種以上にそれぞれ電子ビームを当てて
加熱蒸発させ、イオンプレーティング装置内の圧力を
１．０×１０-4Ｔｏｒｒに維持し、窒素ガスとアセチレ
ンガスの供給量を変化させながら調整して物理蒸着を行
い、 （１） 前記ＷＣ基超硬合金製チップの表面に接
する面で（Ｔｉ，Ａｌ）（ＣｘＮｙ）におけるｘおよび
ｙがｘ＝０、ｙ＝１となって実質的に（Ｔｉ，Ａｌ）Ｎ
となり、外面に向かって（Ｔｉ，Ａｌ）（ＣｘＮｙ）が
ｘ：０→１、ｙ：１→０となるように変化し、外面がｘ
＝１、ｙ＝０となって実質的に（Ｔｉ，Ａｌ）Ｃとなる
厚さ：２．５μｍの（Ｔｉ，Ａｌ）（ＣｘＮｙ）［ただ
し、ｘ＋ｙ＝１］傾斜硬質層を被覆し、さらにその上に
厚さ：０．５μｍの（Ｔｉ，Ａｌ）Ｃ層を被覆した本発
明被覆チップ１、（２） 前記ＷＣ基超硬合金製チップ
の表面に接する面で（Ｔｉ，Ｈｆ）（ＣｘＮｙ）におけ
るｘおよびｙがｘ＝０、ｙ＝１となって実質的に（Ｔ
ｉ，Ｈｆ）Ｎとなり、外面に向かって（Ｔｉ，Ｈｆ）
（ＣｘＮｙ）がｘ：０→１、ｙ：１→０となるように変
化し、外面がｘ＝１、ｙ＝０となって実質的に（Ｔｉ，
Ｈｆ）Ｃとなる厚さ：２．５μｍの（Ｔｉ，Ｈｆ）（Ｃ
ｘＮｙ）［ただし、ｘ＋ｙ＝１］傾斜硬質層を被覆し、
さらにその上に厚さ：０．５μｍの（Ｔｉ，Ｈｆ）Ｃ層
を被覆した本発明被覆チップ２、（３） 前記ＷＣ基超
硬合金製チップの表面に接する面で（Ｔｉ，Ｚｒ）（Ｃ
ｘＮｙ）におけるｘおよびｙがｘ＝０、ｙ＝１となって
実質的に（Ｔｉ，Ｚｒ）Ｎとなり、外面に向かって（Ｔ
ｉ，Ｚｒ）（ＣｘＮｙ）がｘ：０→１、ｙ：１→０とな
るように変化し、外面がｘ＝１、ｙ＝０となって実質的
に（Ｔｉ，Ｚｒ）Ｃとなる厚さ：２．５μｍの（Ｔｉ，
Ｚｒ）（ＣｘＮｙ）［ただし、ｘ＋ｙ＝１］傾斜硬質層
を被覆し、さらにその上に厚さ：０．５μｍの（Ｔｉ，
Ｚｒ）Ｃ層を被覆した本発明被覆チップ３、（４） 前
記ＷＣ基超硬合金製チップの表面に接する面で（Ｔｉ，
Ｈｆ，Ｚｒ）（ＣｘＮｙ）におけるｘおよびｙがｘ＝
０、ｙ＝１となって実質的に（Ｔｉ，Ｈｆ，Ｚｒ）Ｎと
なり、外面に向かって（Ｔｉ，Ｈｆ，Ｚｒ）（ＣｘＮ
ｙ）がｘ：０→１、ｙ：１→０となるように変化し、外
面がｘ＝１、ｙ＝０となって実質的に（Ｔｉ，Ｈｆ，Ｚ
ｒ）Ｃとなる厚さ：２．５μｍの（Ｔｉ，Ｈｆ，Ｚｒ）
（ＣｘＮｙ）［ただし、ｘ＋ｙ＝１］傾斜硬質層を被覆
し、さらにその上に厚さ：０．５ μｍの（Ｔｉ，Ｈ
ｆ，Ｚｒ）Ｃ層を被覆した本発明被覆チップ４、をそれ
ぞれ作製した。
熱蒸発させるとともに、、Ａｌ金属、Ｈｆ金属、Ｚｒ金
属の１種または２種以上にそれぞれ電子ビームを当てて
加熱蒸発させ、イオンプレーティング装置内の圧力を
１．０×１０-4Ｔｏｒｒに維持し、窒素ガスとアセチレ
ンガスの供給量を変化させながら調整して物理蒸着を行
い、 （１） 前記ＷＣ基超硬合金製チップの表面に接
する面で（Ｔｉ，Ａｌ）（ＣｘＮｙ）におけるｘおよび
ｙがｘ＝０、ｙ＝１となって実質的に（Ｔｉ，Ａｌ）Ｎ
となり、外面に向かって（Ｔｉ，Ａｌ）（ＣｘＮｙ）が
ｘ：０→１、ｙ：１→０となるように変化し、外面がｘ
＝１、ｙ＝０となって実質的に（Ｔｉ，Ａｌ）Ｃとなる
厚さ：２．５μｍの（Ｔｉ，Ａｌ）（ＣｘＮｙ）［ただ
し、ｘ＋ｙ＝１］傾斜硬質層を被覆し、さらにその上に
厚さ：０．５μｍの（Ｔｉ，Ａｌ）Ｃ層を被覆した本発
明被覆チップ１、（２） 前記ＷＣ基超硬合金製チップ
の表面に接する面で（Ｔｉ，Ｈｆ）（ＣｘＮｙ）におけ
るｘおよびｙがｘ＝０、ｙ＝１となって実質的に（Ｔ
ｉ，Ｈｆ）Ｎとなり、外面に向かって（Ｔｉ，Ｈｆ）
（ＣｘＮｙ）がｘ：０→１、ｙ：１→０となるように変
化し、外面がｘ＝１、ｙ＝０となって実質的に（Ｔｉ，
Ｈｆ）Ｃとなる厚さ：２．５μｍの（Ｔｉ，Ｈｆ）（Ｃ
ｘＮｙ）［ただし、ｘ＋ｙ＝１］傾斜硬質層を被覆し、
さらにその上に厚さ：０．５μｍの（Ｔｉ，Ｈｆ）Ｃ層
を被覆した本発明被覆チップ２、（３） 前記ＷＣ基超
硬合金製チップの表面に接する面で（Ｔｉ，Ｚｒ）（Ｃ
ｘＮｙ）におけるｘおよびｙがｘ＝０、ｙ＝１となって
実質的に（Ｔｉ，Ｚｒ）Ｎとなり、外面に向かって（Ｔ
ｉ，Ｚｒ）（ＣｘＮｙ）がｘ：０→１、ｙ：１→０とな
るように変化し、外面がｘ＝１、ｙ＝０となって実質的
に（Ｔｉ，Ｚｒ）Ｃとなる厚さ：２．５μｍの（Ｔｉ，
Ｚｒ）（ＣｘＮｙ）［ただし、ｘ＋ｙ＝１］傾斜硬質層
を被覆し、さらにその上に厚さ：０．５μｍの（Ｔｉ，
Ｚｒ）Ｃ層を被覆した本発明被覆チップ３、（４） 前
記ＷＣ基超硬合金製チップの表面に接する面で（Ｔｉ，
Ｈｆ，Ｚｒ）（ＣｘＮｙ）におけるｘおよびｙがｘ＝
０、ｙ＝１となって実質的に（Ｔｉ，Ｈｆ，Ｚｒ）Ｎと
なり、外面に向かって（Ｔｉ，Ｈｆ，Ｚｒ）（ＣｘＮ
ｙ）がｘ：０→１、ｙ：１→０となるように変化し、外
面がｘ＝１、ｙ＝０となって実質的に（Ｔｉ，Ｈｆ，Ｚ
ｒ）Ｃとなる厚さ：２．５μｍの（Ｔｉ，Ｈｆ，Ｚｒ）
（ＣｘＮｙ）［ただし、ｘ＋ｙ＝１］傾斜硬質層を被覆
し、さらにその上に厚さ：０．５ μｍの（Ｔｉ，Ｈ
ｆ，Ｚｒ）Ｃ層を被覆した本発明被覆チップ４、をそれ
ぞれ作製した。
【００１６】（５） また、前記ＷＣ基超硬合金製チッ
プの表面に厚さ：０．５μｍの（Ｔｉ，Ａｌ）Ｎ層を形
成し、ついで、前記（Ｔｉ，Ａｌ）Ｎ層の表面に接する
面で（Ｔｉ，Ａｌ）（ＣｘＮｙ）におけるｘおよびｙが
ｘ＝０、ｙ＝１となって実質的に（Ｔｉ，Ａｌ）Ｎとな
り、外面に向かって（Ｔｉ，Ａｌ）（ＣｘＮｙ）がｘ：
０→１、ｙ：１→０となるように変化し、外面がｘ＝
１、ｙ＝０となって実質的に（Ｔｉ，Ａｌ）Ｃとなる厚
さ：２．０μｍの（Ｔｉ，Ａｌ）（ＣｘＮｙ）［ただ
し、ｘ＋ｙ＝１］傾斜硬質層を被覆し、さらにその上に
厚さ：０．５μｍの（Ｔｉ，Ａｌ）Ｃ層を被覆した本発
明被覆チップ５、（６） 前記ＷＣ基超硬合金製チップ
の表面に厚さ：０．５μｍの（Ｔｉ，Ｈｆ）Ｎ層を形成
し、ついで、前記（Ｔｉ，Ｈｆ）Ｎ層の表面に接する面
で（Ｔｉ，Ｈｆ）（ＣｘＮｙ）におけるｘおよびｙがｘ
＝０、ｙ＝１となって実質的に（Ｔｉ，Ｈｆ）Ｎとな
り、外面に向かって（Ｔｉ，Ｈｆ）（ＣｘＮｙ）がｘ：
０→１、ｙ：１→０となるように変化し、外面がｘ＝
１、ｙ＝０となって実質的に（Ｔｉ，Ｈｆ）Ｃとなる厚
さ：２．０μｍの（Ｔｉ，Ｈｆ）（ＣｘＮｙ）［ただ
し、ｘ＋ｙ＝１］傾斜硬質層を被覆し、さらにその上に
厚さ：０．５μｍの（Ｔｉ，Ｈｆ）Ｃ層を被覆した本発
明被覆チップ６、（７） 前記ＷＣ基超硬合金製チップ
の表面に厚さ：０．５μｍの（Ｔｉ，Ｚｒ）Ｎ層を形成
し、ついで、前記（Ｔｉ，Ｚｒ）Ｎ層の表面に接する面
で（Ｔｉ，Ｚｒ）（ＣｘＮｙ）におけるｘおよびｙがｘ
＝０、ｙ＝１となって実質的に（Ｔｉ，Ｚｒ）Ｎとな
り、外面に向かって（Ｔｉ，Ｚｒ）（ＣｘＮｙ）がｘ：
０→１、ｙ：１→０となるように変化し、外面がｘ＝
１、ｙ＝０となって実質的に（Ｔｉ，Ｚｒ）Ｃとなる厚
さ：２．０μｍの（Ｔｉ，Ｚｒ）（ＣｘＮｙ）［ただ
し、ｘ＋ｙ＝１］傾斜硬質層を被覆し、さらにその上に
厚さ：０．５μｍの（Ｔｉ，Ｚｒ）Ｃ層を被覆した本発
明被覆チップ７、（８） 前記ＷＣ基超硬合金製チップ
の表面に厚さ：０．５μｍの（Ｔｉ，Ｈｆ，Ｚｒ）Ｎ層
を形成し、ついで、前記（Ｔｉ，Ｈｆ，Ｚｒ）Ｎ層の表
面に接する面で（Ｔｉ，Ｈｆ，Ｚｒ）（ＣｘＮｙ）にお
けるｘおよびｙがｘ＝０、ｙ＝１となって実質的に（Ｔ
ｉ，Ｈｆ，Ｚｒ）Ｎとなり、外面に向かって（Ｔｉ，Ｈ
ｆ，Ｚｒ）（ＣｘＮｙ）がｘ：０→１、ｙ：１→０とな
るように変化し、外面がｘ＝１、ｙ＝０となって実質的
に（Ｔｉ，Ｈｆ，Ｚｒ）Ｃとなる厚さ：２．０μｍの
（Ｔｉ，Ｈｆ，Ｚｒ）（ＣｘＮｙ）［ただし、ｘ＋ｙ＝
１］傾斜硬質層を被覆し、さらにその上に厚さ：０．５
μｍの（Ｔｉ，Ｈｆ，Ｚｒ）Ｃ層を被覆した本発明被覆
チップ８、をそれぞれ作製した。
プの表面に厚さ：０．５μｍの（Ｔｉ，Ａｌ）Ｎ層を形
成し、ついで、前記（Ｔｉ，Ａｌ）Ｎ層の表面に接する
面で（Ｔｉ，Ａｌ）（ＣｘＮｙ）におけるｘおよびｙが
ｘ＝０、ｙ＝１となって実質的に（Ｔｉ，Ａｌ）Ｎとな
り、外面に向かって（Ｔｉ，Ａｌ）（ＣｘＮｙ）がｘ：
０→１、ｙ：１→０となるように変化し、外面がｘ＝
１、ｙ＝０となって実質的に（Ｔｉ，Ａｌ）Ｃとなる厚
さ：２．０μｍの（Ｔｉ，Ａｌ）（ＣｘＮｙ）［ただ
し、ｘ＋ｙ＝１］傾斜硬質層を被覆し、さらにその上に
厚さ：０．５μｍの（Ｔｉ，Ａｌ）Ｃ層を被覆した本発
明被覆チップ５、（６） 前記ＷＣ基超硬合金製チップ
の表面に厚さ：０．５μｍの（Ｔｉ，Ｈｆ）Ｎ層を形成
し、ついで、前記（Ｔｉ，Ｈｆ）Ｎ層の表面に接する面
で（Ｔｉ，Ｈｆ）（ＣｘＮｙ）におけるｘおよびｙがｘ
＝０、ｙ＝１となって実質的に（Ｔｉ，Ｈｆ）Ｎとな
り、外面に向かって（Ｔｉ，Ｈｆ）（ＣｘＮｙ）がｘ：
０→１、ｙ：１→０となるように変化し、外面がｘ＝
１、ｙ＝０となって実質的に（Ｔｉ，Ｈｆ）Ｃとなる厚
さ：２．０μｍの（Ｔｉ，Ｈｆ）（ＣｘＮｙ）［ただ
し、ｘ＋ｙ＝１］傾斜硬質層を被覆し、さらにその上に
厚さ：０．５μｍの（Ｔｉ，Ｈｆ）Ｃ層を被覆した本発
明被覆チップ６、（７） 前記ＷＣ基超硬合金製チップ
の表面に厚さ：０．５μｍの（Ｔｉ，Ｚｒ）Ｎ層を形成
し、ついで、前記（Ｔｉ，Ｚｒ）Ｎ層の表面に接する面
で（Ｔｉ，Ｚｒ）（ＣｘＮｙ）におけるｘおよびｙがｘ
＝０、ｙ＝１となって実質的に（Ｔｉ，Ｚｒ）Ｎとな
り、外面に向かって（Ｔｉ，Ｚｒ）（ＣｘＮｙ）がｘ：
０→１、ｙ：１→０となるように変化し、外面がｘ＝
１、ｙ＝０となって実質的に（Ｔｉ，Ｚｒ）Ｃとなる厚
さ：２．０μｍの（Ｔｉ，Ｚｒ）（ＣｘＮｙ）［ただ
し、ｘ＋ｙ＝１］傾斜硬質層を被覆し、さらにその上に
厚さ：０．５μｍの（Ｔｉ，Ｚｒ）Ｃ層を被覆した本発
明被覆チップ７、（８） 前記ＷＣ基超硬合金製チップ
の表面に厚さ：０．５μｍの（Ｔｉ，Ｈｆ，Ｚｒ）Ｎ層
を形成し、ついで、前記（Ｔｉ，Ｈｆ，Ｚｒ）Ｎ層の表
面に接する面で（Ｔｉ，Ｈｆ，Ｚｒ）（ＣｘＮｙ）にお
けるｘおよびｙがｘ＝０、ｙ＝１となって実質的に（Ｔ
ｉ，Ｈｆ，Ｚｒ）Ｎとなり、外面に向かって（Ｔｉ，Ｈ
ｆ，Ｚｒ）（ＣｘＮｙ）がｘ：０→１、ｙ：１→０とな
るように変化し、外面がｘ＝１、ｙ＝０となって実質的
に（Ｔｉ，Ｈｆ，Ｚｒ）Ｃとなる厚さ：２．０μｍの
（Ｔｉ，Ｈｆ，Ｚｒ）（ＣｘＮｙ）［ただし、ｘ＋ｙ＝
１］傾斜硬質層を被覆し、さらにその上に厚さ：０．５
μｍの（Ｔｉ，Ｈｆ，Ｚｒ）Ｃ層を被覆した本発明被覆
チップ８、をそれぞれ作製した。
【００１７】従来例１ 一方、比較のために、実施例１で作製したＩＳＯ規格Ｔ
ＮＧＡ１６０４０８の形状を有するＷＣ基超硬合金製チ
ップを実施例１で使用したイオンプレーティング装置内
の下方にＴｉ金属、Ａｌ金属、Ｈｆ金属、Ｚｒ金属を充
填し、実施例１と同様にボンバードクリーニングしたの
ち、まず供給口より、窒素ガスを供給し、続いて窒素ガ
ス：アセチレンガス＝０．５：０．５の混合ガスを供給
し、さらに続いてアセチレンガスを供給し、（１） 前
記ＷＣ基超硬合金製チップの表面に、厚さ：０．５μｍ
の（Ｔｉ，Ａｌ）Ｎ層、厚さ：２．０μｍの（Ｔｉ，Ａ
ｌ）ＣＮ層、および厚さ：０．５μｍの（Ｔｉ，Ａｌ）
Ｃ層からなる３層を被覆した従来被覆チップ１、（２）
前記ＷＣ基超硬合金製チップの表面に、厚さ：０．５
μｍの（Ｔｉ，Ｈｆ）Ｎ層、厚さ：２．０μｍの（Ｔ
ｉ，Ｈｆ）ＣＮ層、および厚さ：０．５μｍの（Ｔｉ，
Ｈｆ）Ｃ層からなる３層を被覆した従来被覆チップ２、
（３） 前記ＷＣ基超硬合金製チップの表面に、厚さ：
０．５μｍの（Ｔｉ，Ｚｒ）Ｎ層、厚さ：２．０μｍの
（Ｔｉ，Ｚｒ）ＣＮ層、および厚さ：０．５μｍの（Ｔ
ｉ，Ｚｒ）Ｃ層からなる３層を被覆した従来被覆チップ
３、（４） 前記ＷＣ基超硬合金製チップの表面に、厚
さ：０．５μｍの（Ｔｉ，Ｈｆ，Ｚｒ）Ｎ層、厚さ：
２．０μｍの（Ｔｉ，Ｈｆ，Ｚｒ）ＣＮ層、および厚
さ：０．５μｍの（Ｔｉ，Ｈｆ，Ｚｒ）Ｃ層からなる３
層を被覆した従来被覆チップ４、をそれぞれ作製した。
ＮＧＡ１６０４０８の形状を有するＷＣ基超硬合金製チ
ップを実施例１で使用したイオンプレーティング装置内
の下方にＴｉ金属、Ａｌ金属、Ｈｆ金属、Ｚｒ金属を充
填し、実施例１と同様にボンバードクリーニングしたの
ち、まず供給口より、窒素ガスを供給し、続いて窒素ガ
ス：アセチレンガス＝０．５：０．５の混合ガスを供給
し、さらに続いてアセチレンガスを供給し、（１） 前
記ＷＣ基超硬合金製チップの表面に、厚さ：０．５μｍ
の（Ｔｉ，Ａｌ）Ｎ層、厚さ：２．０μｍの（Ｔｉ，Ａ
ｌ）ＣＮ層、および厚さ：０．５μｍの（Ｔｉ，Ａｌ）
Ｃ層からなる３層を被覆した従来被覆チップ１、（２）
前記ＷＣ基超硬合金製チップの表面に、厚さ：０．５
μｍの（Ｔｉ，Ｈｆ）Ｎ層、厚さ：２．０μｍの（Ｔ
ｉ，Ｈｆ）ＣＮ層、および厚さ：０．５μｍの（Ｔｉ，
Ｈｆ）Ｃ層からなる３層を被覆した従来被覆チップ２、
（３） 前記ＷＣ基超硬合金製チップの表面に、厚さ：
０．５μｍの（Ｔｉ，Ｚｒ）Ｎ層、厚さ：２．０μｍの
（Ｔｉ，Ｚｒ）ＣＮ層、および厚さ：０．５μｍの（Ｔ
ｉ，Ｚｒ）Ｃ層からなる３層を被覆した従来被覆チップ
３、（４） 前記ＷＣ基超硬合金製チップの表面に、厚
さ：０．５μｍの（Ｔｉ，Ｈｆ，Ｚｒ）Ｎ層、厚さ：
２．０μｍの（Ｔｉ，Ｈｆ，Ｚｒ）ＣＮ層、および厚
さ：０．５μｍの（Ｔｉ，Ｈｆ，Ｚｒ）Ｃ層からなる３
層を被覆した従来被覆チップ４、をそれぞれ作製した。
【００１８】これら本発明被覆チップ１〜８および従来
被覆チップ１〜４について、下記の条件で連続切削試験
および断続切削試験を実施し、それらの結果を表１に示
した。 １ 連続乾式切削試験 （１） 高速切削試験 被削材：ＳＮＣＭ４３９（ブリネル硬さ：２５０）、 切削速度：２１０ｍ／ｍｉｎ、 送り：０．２５ｍｍ／ｒｅｖ．、 切込み：１．５ｍｍ、 の条件で連続乾式切削し、２０分切削後のクレーター摩
耗深さ（μｍ）を測定し、さらに切刃の逃げ面摩耗幅Ｖ
B が０．３ｍｍになるまでの時間（分）を測定し、それ
らの測定結果を表１に示した。
被覆チップ１〜４について、下記の条件で連続切削試験
および断続切削試験を実施し、それらの結果を表１に示
した。 １ 連続乾式切削試験 （１） 高速切削試験 被削材：ＳＮＣＭ４３９（ブリネル硬さ：２５０）、 切削速度：２１０ｍ／ｍｉｎ、 送り：０．２５ｍｍ／ｒｅｖ．、 切込み：１．５ｍｍ、 の条件で連続乾式切削し、２０分切削後のクレーター摩
耗深さ（μｍ）を測定し、さらに切刃の逃げ面摩耗幅Ｖ
B が０．３ｍｍになるまでの時間（分）を測定し、それ
らの測定結果を表１に示した。
【００１９】（２） 中低速切削試験 被削材：ＳＮＣＭ４３９（ブリネル硬さ：２５０）、 切削速度：１５０ｍ／ｍｉｎ、 送り：０．２５ｍｍ／ｒｅｖ．、 切込み：１．５ｍｍ、 の条件で連続乾式切削し、切刃の逃げ面摩耗幅ＶB が
０．３ｍｍになるまでの時間（分）を測定し、それらの
測定結果を表１に示した。
０．３ｍｍになるまでの時間（分）を測定し、それらの
測定結果を表１に示した。
【００２０】２ 断続乾式切削試験 被削材：ＳＣＭ４４０（ブリネル硬さ：３００）製で軸
方向外周に４本の溝の付いた円柱体、 切削速度：１００ｍ／ｍｉｎ、 送り：０．２１ｍｍ／ｒｅｖ．、 切込み：１．０ｍｍ、 の条件で乾式切削し、１０個の試験切刃のうちの欠損が
発生した切刃数を測定し、それらの測定結果を表１に示
した。
方向外周に４本の溝の付いた円柱体、 切削速度：１００ｍ／ｍｉｎ、 送り：０．２１ｍｍ／ｒｅｖ．、 切込み：１．０ｍｍ、 の条件で乾式切削し、１０個の試験切刃のうちの欠損が
発生した切刃数を測定し、それらの測定結果を表１に示
した。
【００２１】
【表１】
【００２２】表１に示される結果から、本発明被覆チッ
プ１〜８は従来被覆チップ１〜４に比べて切削特性が優
れていることが分かる。
プ１〜８は従来被覆チップ１〜４に比べて切削特性が優
れていることが分かる。
【００２３】実施例２ ＪＩＳ規格Ｂ４１０４のＫ１０に相当する組成を有し、
外径：１０ｍｍのドリルを用意し、このドリルの表面に
実施例１と同様にして物理蒸着を行い、前記ドリルの表
面に、それぞれ、（１） 前記ドリルの表面に接する面
で（Ｔｉ，Ａｌ）（ＣｘＮｙ）におけるｘおよびｙがｘ
＝０、ｙ＝１となって実質的に（Ｔｉ，Ａｌ）Ｎとな
り、外面に向かって（Ｔｉ，Ａｌ）（ＣｘＮｙ）がｘ：
０→１、ｙ：１→０となるように変化し、外面がｘ＝
１、ｙ＝０となって実質的に（Ｔｉ，Ａｌ）Ｃとなる厚
さ：２．５μｍの（Ｔｉ，Ａｌ）（ＣｘＮｙ）［ただ
し、ｘ＋ｙ＝１］傾斜硬質層を被覆し、さらにその上に
厚さ：０．５μｍの（Ｔｉ，Ａｌ）Ｃ層を被覆した本発
明被覆ドリル１、（２） 前記ドリルの表面に接する面
で（Ｔｉ，Ｈｆ）（ＣｘＮｙ）におけるｘおよびｙがｘ
＝０、ｙ＝１となって実質的に（Ｔｉ，Ｈｆ）Ｎとな
り、外面に向かって（Ｔｉ，Ｈｆ）（ＣｘＮｙ）がｘ：
０→１、ｙ：１→０となるように変化し、外面がｘ＝
１、ｙ＝０となって実質的に（Ｔｉ，Ｈｆ）Ｃとなる厚
さ：２．５μｍの（Ｔｉ，Ｈｆ）（ＣｘＮｙ）［ただ
し、ｘ＋ｙ＝１］傾斜硬質層を被覆し、さらにその上に
厚さ：０．５μｍの（Ｔｉ，Ｈｆ）Ｃ層を被覆した本発
明被覆ドリル２、（３） 前記ドリルの表面に接する面
で（Ｔｉ，Ｚｒ）（ＣｘＮｙ）におけるｘおよびｙがｘ
＝０、ｙ＝１となって実質的に（Ｔｉ，Ｚｒ）Ｎとな
り、外面に向かって（Ｔｉ，Ｚｒ）（ＣｘＮｙ）がｘ：
０→１、ｙ：１→０となるように変化し、外面がｘ＝
１、ｙ＝０となって実質的に（Ｔｉ，Ｚｒ）Ｃとなる厚
さ：２．５μｍの（Ｔｉ，Ｚｒ）（ＣｘＮｙ）［ただ
し、ｘ＋ｙ＝１］傾斜硬質層を被覆し、さらにその上に
厚さ：０．５μｍの（Ｔｉ，Ｚｒ）Ｃ層を被覆した本発
明被覆ドリル３、（４） 前記ドリルの表面に接する面
で（Ｔｉ，Ｈｆ，Ｚｒ）（ＣｘＮｙ）におけるｘおよび
ｙがｘ＝０、ｙ＝１となって実質的に（Ｔｉ，Ｈｆ，Ｚ
ｒ）Ｎとなり、外面に向かって（Ｔｉ，Ｈｆ，Ｚｒ）
（ＣｘＮｙ）がｘ：０→１、ｙ：１→０となるように変
化し、外面がｘ＝１、ｙ＝０となって実質的に（Ｔｉ，
Ｈｆ，Ｚｒ）Ｃとなる厚さ：２．５μｍの（Ｔｉ，Ｈ
ｆ，Ｚｒ）（ＣｘＮｙ）［ただし、ｘ＋ｙ＝１］傾斜硬
質層を被覆し、さらにその上に厚さ：０．５μｍの（Ｔ
ｉ，Ｈｆ，Ｚｒ）Ｃ層を被覆した本発明被覆ドリル４、
をそれぞれ作製した。
外径：１０ｍｍのドリルを用意し、このドリルの表面に
実施例１と同様にして物理蒸着を行い、前記ドリルの表
面に、それぞれ、（１） 前記ドリルの表面に接する面
で（Ｔｉ，Ａｌ）（ＣｘＮｙ）におけるｘおよびｙがｘ
＝０、ｙ＝１となって実質的に（Ｔｉ，Ａｌ）Ｎとな
り、外面に向かって（Ｔｉ，Ａｌ）（ＣｘＮｙ）がｘ：
０→１、ｙ：１→０となるように変化し、外面がｘ＝
１、ｙ＝０となって実質的に（Ｔｉ，Ａｌ）Ｃとなる厚
さ：２．５μｍの（Ｔｉ，Ａｌ）（ＣｘＮｙ）［ただ
し、ｘ＋ｙ＝１］傾斜硬質層を被覆し、さらにその上に
厚さ：０．５μｍの（Ｔｉ，Ａｌ）Ｃ層を被覆した本発
明被覆ドリル１、（２） 前記ドリルの表面に接する面
で（Ｔｉ，Ｈｆ）（ＣｘＮｙ）におけるｘおよびｙがｘ
＝０、ｙ＝１となって実質的に（Ｔｉ，Ｈｆ）Ｎとな
り、外面に向かって（Ｔｉ，Ｈｆ）（ＣｘＮｙ）がｘ：
０→１、ｙ：１→０となるように変化し、外面がｘ＝
１、ｙ＝０となって実質的に（Ｔｉ，Ｈｆ）Ｃとなる厚
さ：２．５μｍの（Ｔｉ，Ｈｆ）（ＣｘＮｙ）［ただ
し、ｘ＋ｙ＝１］傾斜硬質層を被覆し、さらにその上に
厚さ：０．５μｍの（Ｔｉ，Ｈｆ）Ｃ層を被覆した本発
明被覆ドリル２、（３） 前記ドリルの表面に接する面
で（Ｔｉ，Ｚｒ）（ＣｘＮｙ）におけるｘおよびｙがｘ
＝０、ｙ＝１となって実質的に（Ｔｉ，Ｚｒ）Ｎとな
り、外面に向かって（Ｔｉ，Ｚｒ）（ＣｘＮｙ）がｘ：
０→１、ｙ：１→０となるように変化し、外面がｘ＝
１、ｙ＝０となって実質的に（Ｔｉ，Ｚｒ）Ｃとなる厚
さ：２．５μｍの（Ｔｉ，Ｚｒ）（ＣｘＮｙ）［ただ
し、ｘ＋ｙ＝１］傾斜硬質層を被覆し、さらにその上に
厚さ：０．５μｍの（Ｔｉ，Ｚｒ）Ｃ層を被覆した本発
明被覆ドリル３、（４） 前記ドリルの表面に接する面
で（Ｔｉ，Ｈｆ，Ｚｒ）（ＣｘＮｙ）におけるｘおよび
ｙがｘ＝０、ｙ＝１となって実質的に（Ｔｉ，Ｈｆ，Ｚ
ｒ）Ｎとなり、外面に向かって（Ｔｉ，Ｈｆ，Ｚｒ）
（ＣｘＮｙ）がｘ：０→１、ｙ：１→０となるように変
化し、外面がｘ＝１、ｙ＝０となって実質的に（Ｔｉ，
Ｈｆ，Ｚｒ）Ｃとなる厚さ：２．５μｍの（Ｔｉ，Ｈ
ｆ，Ｚｒ）（ＣｘＮｙ）［ただし、ｘ＋ｙ＝１］傾斜硬
質層を被覆し、さらにその上に厚さ：０．５μｍの（Ｔ
ｉ，Ｈｆ，Ｚｒ）Ｃ層を被覆した本発明被覆ドリル４、
をそれぞれ作製した。
【００２４】（５） さらに、前記ドリルの表面に厚
さ：０．５μｍの（Ｔｉ，Ａｌ）Ｎ層を形成し、つい
で、前記（Ｔｉ，Ａｌ）Ｎ層の表面に接する面で（Ｔ
ｉ，Ａｌ）（ＣｘＮｙ）におけるｘおよびｙがｘ＝０、
ｙ＝１となって実質的に（Ｔｉ，Ａｌ）Ｎとなり、外面
に向かって（Ｔｉ，Ａｌ）（ＣｘＮｙ）がｘ：０→１、
ｙ：１→０となるように変化し、外面がｘ＝１、ｙ＝０
となって実質的に（Ｔｉ，Ａｌ）Ｃとなる厚さ：２．０
μｍの（Ｔｉ，Ａｌ）（ＣｘＮｙ）［ただし、ｘ＋ｙ＝
１］傾斜硬質層を被覆し、さらにその上に厚さ：０．５
μｍの（Ｔｉ，Ａｌ）Ｃ層を被覆した本発明被覆ドリル
５、（６） 前記ドリルの表面に厚さ：０．５μｍの
（Ｔｉ，Ｈｆ）Ｎ層を形成し、ついで、前記（Ｔｉ，Ｈ
ｆ）Ｎ層の表面に接する面で（Ｔｉ，Ｈｆ）（ＣｘＮ
ｙ）におけるｘおよびｙがｘ＝０、ｙ＝１となって実質
的に（Ｔｉ，Ｈｆ）Ｎとなり、外面に向かって（Ｔｉ，
Ｈｆ）（ＣｘＮｙ）がｘ：０→１、ｙ：１→０となるよ
うに変化し、外面がｘ＝１、ｙ＝０となって実質的に
（Ｔｉ，Ｈｆ）Ｃとなる厚さ：２．０μｍの（Ｔｉ，Ｈ
ｆ）（ＣｘＮｙ）［ただし、ｘ＋ｙ＝１］傾斜硬質層を
被覆し、さらにその上に厚さ：０．５μｍの（Ｔｉ，Ｈ
ｆ）Ｃ層を被覆した本発明被覆ドリル６、（７） 前記
ドリルの表面に厚さ：０．５μｍの（Ｔｉ，Ｚｒ）Ｎ層
を形成し、ついで、前記（Ｔｉ，Ｚｒ）Ｎ層の表面に接
する面で（Ｔｉ，Ｚｒ）（ＣｘＮｙ）におけるｘおよび
ｙがｘ＝０、ｙ＝１となって実質的に（Ｔｉ，Ｚｒ）Ｎ
となり、外面に向かって（Ｔｉ，Ｚｒ）（ＣｘＮｙ）が
ｘ：０→１、ｙ：１→０となるように変化し、外面がｘ
＝１、ｙ＝０となって実質的に（Ｔｉ，Ｚｒ）Ｃとなる
厚さ：２．０μｍの（Ｔｉ，Ｚｒ）（ＣｘＮｙ）［ただ
し、ｘ＋ｙ＝１］傾斜硬質層を被覆し、さらにその上に
厚さ：０．５μｍの（Ｔｉ，Ｚｒ）Ｃ層を被覆した本発
明被覆ドリル７、（８） 前記ドリルの表面に厚さ：
０．５μｍの（Ｔｉ，Ｈｆ，Ｚｒ）Ｎ層を形成し、つい
で、前記（Ｔｉ，Ｈｆ，Ｚｒ）Ｎ層の表面に接する面で
（Ｔｉ，Ｈｆ，Ｚｒ）（ＣｘＮｙ）におけるｘおよびｙ
がｘ＝０、ｙ＝１となって実質的に（Ｔｉ，Ｈｆ，Ｚ
ｒ）Ｎとなり、外面に向かって（Ｔｉ，Ｈｆ，Ｚｒ）
（ＣｘＮｙ）がｘ：０→１、ｙ：１→０となるように変
化し、外面がｘ＝１、ｙ＝０となって実質的に（Ｔｉ，
Ｈｆ，Ｚｒ）Ｃとなる厚さ：２．０μｍの（Ｔｉ，Ｈ
ｆ，Ｚｒ）（ＣｘＮｙ）［ただし、ｘ＋ｙ＝１］傾斜硬
質層を被覆し、さらにその上に厚さ：０．５μｍの（Ｔ
ｉ，Ｈｆ，Ｚｒ）Ｃ層を被覆した本発明被覆ドリル８、
をそれぞれ作製した。
さ：０．５μｍの（Ｔｉ，Ａｌ）Ｎ層を形成し、つい
で、前記（Ｔｉ，Ａｌ）Ｎ層の表面に接する面で（Ｔ
ｉ，Ａｌ）（ＣｘＮｙ）におけるｘおよびｙがｘ＝０、
ｙ＝１となって実質的に（Ｔｉ，Ａｌ）Ｎとなり、外面
に向かって（Ｔｉ，Ａｌ）（ＣｘＮｙ）がｘ：０→１、
ｙ：１→０となるように変化し、外面がｘ＝１、ｙ＝０
となって実質的に（Ｔｉ，Ａｌ）Ｃとなる厚さ：２．０
μｍの（Ｔｉ，Ａｌ）（ＣｘＮｙ）［ただし、ｘ＋ｙ＝
１］傾斜硬質層を被覆し、さらにその上に厚さ：０．５
μｍの（Ｔｉ，Ａｌ）Ｃ層を被覆した本発明被覆ドリル
５、（６） 前記ドリルの表面に厚さ：０．５μｍの
（Ｔｉ，Ｈｆ）Ｎ層を形成し、ついで、前記（Ｔｉ，Ｈ
ｆ）Ｎ層の表面に接する面で（Ｔｉ，Ｈｆ）（ＣｘＮ
ｙ）におけるｘおよびｙがｘ＝０、ｙ＝１となって実質
的に（Ｔｉ，Ｈｆ）Ｎとなり、外面に向かって（Ｔｉ，
Ｈｆ）（ＣｘＮｙ）がｘ：０→１、ｙ：１→０となるよ
うに変化し、外面がｘ＝１、ｙ＝０となって実質的に
（Ｔｉ，Ｈｆ）Ｃとなる厚さ：２．０μｍの（Ｔｉ，Ｈ
ｆ）（ＣｘＮｙ）［ただし、ｘ＋ｙ＝１］傾斜硬質層を
被覆し、さらにその上に厚さ：０．５μｍの（Ｔｉ，Ｈ
ｆ）Ｃ層を被覆した本発明被覆ドリル６、（７） 前記
ドリルの表面に厚さ：０．５μｍの（Ｔｉ，Ｚｒ）Ｎ層
を形成し、ついで、前記（Ｔｉ，Ｚｒ）Ｎ層の表面に接
する面で（Ｔｉ，Ｚｒ）（ＣｘＮｙ）におけるｘおよび
ｙがｘ＝０、ｙ＝１となって実質的に（Ｔｉ，Ｚｒ）Ｎ
となり、外面に向かって（Ｔｉ，Ｚｒ）（ＣｘＮｙ）が
ｘ：０→１、ｙ：１→０となるように変化し、外面がｘ
＝１、ｙ＝０となって実質的に（Ｔｉ，Ｚｒ）Ｃとなる
厚さ：２．０μｍの（Ｔｉ，Ｚｒ）（ＣｘＮｙ）［ただ
し、ｘ＋ｙ＝１］傾斜硬質層を被覆し、さらにその上に
厚さ：０．５μｍの（Ｔｉ，Ｚｒ）Ｃ層を被覆した本発
明被覆ドリル７、（８） 前記ドリルの表面に厚さ：
０．５μｍの（Ｔｉ，Ｈｆ，Ｚｒ）Ｎ層を形成し、つい
で、前記（Ｔｉ，Ｈｆ，Ｚｒ）Ｎ層の表面に接する面で
（Ｔｉ，Ｈｆ，Ｚｒ）（ＣｘＮｙ）におけるｘおよびｙ
がｘ＝０、ｙ＝１となって実質的に（Ｔｉ，Ｈｆ，Ｚ
ｒ）Ｎとなり、外面に向かって（Ｔｉ，Ｈｆ，Ｚｒ）
（ＣｘＮｙ）がｘ：０→１、ｙ：１→０となるように変
化し、外面がｘ＝１、ｙ＝０となって実質的に（Ｔｉ，
Ｈｆ，Ｚｒ）Ｃとなる厚さ：２．０μｍの（Ｔｉ，Ｈ
ｆ，Ｚｒ）（ＣｘＮｙ）［ただし、ｘ＋ｙ＝１］傾斜硬
質層を被覆し、さらにその上に厚さ：０．５μｍの（Ｔ
ｉ，Ｈｆ，Ｚｒ）Ｃ層を被覆した本発明被覆ドリル８、
をそれぞれ作製した。
【００２５】従来例２ 一方、比較のために、実施例２で用意したＪＩＳ規格Ｂ
４１０４のＫ１０に相当する組成を有し、外径：１０ｍ
ｍのドリルを従来例１で使用したイオンプレーティング
装置内の下方にＴｉ金属、Ａｌ金属、Ｈｆ金属、Ｚｒ金
属を充填し、従来例１と同様にボンバードクリーニング
したのち、まず供給口より、窒素ガスを供給し、続いて
窒素ガス：アセチレンガス＝０．５：０．５の混合ガス
を供給し、さらに続いてアセチレンガスを供給し、
（１） 前記ドリルの表面に、厚さ：０．５μｍの（Ｔ
ｉ，Ａｌ）Ｎ層、厚さ：２．０μｍの（Ｔｉ，Ａｌ）Ｃ
Ｎ層、および厚さ：０．５μｍの（Ｔｉ，Ａｌ）Ｃ層か
らなる３層を被覆した従来被覆ドリル１、（２） 前記
ドリルの表面に、厚さ：０．５μｍの（Ｔｉ，Ｈｆ）Ｎ
層、厚さ：２．０μｍの（Ｔｉ，Ｈｆ）ＣＮ層、および
厚さ：０．５μｍの（Ｔｉ，Ｈｆ）Ｃ層からなる３層を
被覆した従来被覆ドリル２、（３） 前記ドリルの表面
に、厚さ：０．５μｍの（Ｔｉ，Ｚｒ）Ｎ層、厚さ：
２．０μｍの（Ｔｉ，Ｚｒ）ＣＮ層、および厚さ：０．
５μｍの（Ｔｉ，Ｚｒ）Ｃ層からなる３層を被覆した従
来被覆ドリル３、（４） 前記ドリルの表面に、厚さ：
０．５μｍの（Ｔｉ，Ｈｆ，Ｚｒ）Ｎ層、厚さ：２．０
μｍの（Ｔｉ，Ｈｆ，Ｚｒ）ＣＮ層、および厚さ：０．
５μｍの（Ｔｉ，Ｈｆ，Ｚｒ）Ｃ層からなる３層を被覆
した従来被覆ドリル４、をそれぞれ作製した。
４１０４のＫ１０に相当する組成を有し、外径：１０ｍ
ｍのドリルを従来例１で使用したイオンプレーティング
装置内の下方にＴｉ金属、Ａｌ金属、Ｈｆ金属、Ｚｒ金
属を充填し、従来例１と同様にボンバードクリーニング
したのち、まず供給口より、窒素ガスを供給し、続いて
窒素ガス：アセチレンガス＝０．５：０．５の混合ガス
を供給し、さらに続いてアセチレンガスを供給し、
（１） 前記ドリルの表面に、厚さ：０．５μｍの（Ｔ
ｉ，Ａｌ）Ｎ層、厚さ：２．０μｍの（Ｔｉ，Ａｌ）Ｃ
Ｎ層、および厚さ：０．５μｍの（Ｔｉ，Ａｌ）Ｃ層か
らなる３層を被覆した従来被覆ドリル１、（２） 前記
ドリルの表面に、厚さ：０．５μｍの（Ｔｉ，Ｈｆ）Ｎ
層、厚さ：２．０μｍの（Ｔｉ，Ｈｆ）ＣＮ層、および
厚さ：０．５μｍの（Ｔｉ，Ｈｆ）Ｃ層からなる３層を
被覆した従来被覆ドリル２、（３） 前記ドリルの表面
に、厚さ：０．５μｍの（Ｔｉ，Ｚｒ）Ｎ層、厚さ：
２．０μｍの（Ｔｉ，Ｚｒ）ＣＮ層、および厚さ：０．
５μｍの（Ｔｉ，Ｚｒ）Ｃ層からなる３層を被覆した従
来被覆ドリル３、（４） 前記ドリルの表面に、厚さ：
０．５μｍの（Ｔｉ，Ｈｆ，Ｚｒ）Ｎ層、厚さ：２．０
μｍの（Ｔｉ，Ｈｆ，Ｚｒ）ＣＮ層、および厚さ：０．
５μｍの（Ｔｉ，Ｈｆ，Ｚｒ）Ｃ層からなる３層を被覆
した従来被覆ドリル４、をそれぞれ作製した。
【００２６】これら本発明被覆ドリル１〜８および従来
被覆ドリル１〜４について、下記の条件で穴明け試験を
実施し、それらの結果を表２に示した。 ３ 穴明け試験 被削材：厚さ：２０ｍｍのＳＣＭ４４０（ブリネル硬
さ：２２０）からなる厚板 切削速度：６０ｍ／ｍｉｎ、 送り：０．２ｍｍ／ｒｅｖ．、 の条件で２５００穴の貫通穴明けし、全切削長：５０ｍ
の穴明けを行い、ドリルのマージン部の摩耗量および刃
裏部の摩耗量を測定し、それらの測定結果を表２に示し
た。
被覆ドリル１〜４について、下記の条件で穴明け試験を
実施し、それらの結果を表２に示した。 ３ 穴明け試験 被削材：厚さ：２０ｍｍのＳＣＭ４４０（ブリネル硬
さ：２２０）からなる厚板 切削速度：６０ｍ／ｍｉｎ、 送り：０．２ｍｍ／ｒｅｖ．、 の条件で２５００穴の貫通穴明けし、全切削長：５０ｍ
の穴明けを行い、ドリルのマージン部の摩耗量および刃
裏部の摩耗量を測定し、それらの測定結果を表２に示し
た。
【００２７】
【表２】
【００２８】表２に示される結果から、本発明被覆ドリ
ル１〜８は従来被覆ドリル１〜４に比べて耐摩耗性に優
れ、使用寿命が長いことが分かる。
ル１〜８は従来被覆ドリル１〜４に比べて耐摩耗性に優
れ、使用寿命が長いことが分かる。
【００２９】実施例３ ＪＩＳ規格Ｍ２０に相当する組成を有し、外径：６ｍｍ
のエンドミル用意し、このエンドミルの表面に実施例１
と同様にして物理蒸着を行い、それぞれ、（１） 前記
エンドミルの表面に接する面で（Ｔｉ，Ａｌ）（ＣｘＮ
ｙ）におけるｘおよびｙがｘ＝０、ｙ＝１となって実質
的に（Ｔｉ，Ａｌ）Ｎとなり、外面に向かって（Ｔｉ，
Ａｌ）（ＣｘＮｙ）がｘ：０→１、ｙ：１→０となるよ
うに変化し、外面がｘ＝１、ｙ＝０となって実質的に
（Ｔｉ，Ａｌ）Ｃとなる厚さ：２．５μｍの（Ｔｉ，Ａ
ｌ）（ＣｘＮｙ）［ただし、ｘ＋ｙ＝１］傾斜硬質層を
被覆し、さらにその上に厚さ：０．５μｍの（Ｔｉ，Ａ
ｌ）Ｃ層を被覆した本発明被覆エンドミル１、（２）
前記エンドミルの表面に接する面で（Ｔｉ，Ｈｆ）（Ｃ
ｘＮｙ）におけるｘおよびｙがｘ＝０、ｙ＝１となって
実質的に（Ｔｉ，Ｈｆ）Ｎとなり、外面に向かって（Ｔ
ｉ，Ｈｆ）（ＣｘＮｙ）がｘ：０→１、ｙ：１→０とな
るように変化し、外面がｘ＝１、ｙ＝０となって実質的
に（Ｔｉ，Ｈｆ）Ｃとなる厚さ：２．５μｍの（Ｔｉ，
Ｈｆ）（ＣｘＮｙ）［ただし、ｘ＋ｙ＝１］傾斜硬質層
を被覆し、さらにその上に厚さ：０．５μｍの（Ｔｉ，
Ｈｆ）Ｃ層を被覆した本発明被覆エンドミル２、（３）
前記エンドミルの表面に接する面で（Ｔｉ，Ｚｒ）
（ＣｘＮｙ）におけるｘおよびｙがｘ＝０、ｙ＝１とな
って実質的に（Ｔｉ，Ｚｒ）Ｎとなり、外面に向かって
（Ｔｉ，Ｚｒ）（ＣｘＮｙ）がｘ：０→１、ｙ：１→０
となるように変化し、外面がｘ＝１、ｙ＝０となって実
質的に（Ｔｉ，Ｚｒ）Ｃとなる厚さ：２．５μｍの（Ｔ
ｉ，Ｚｒ）（ＣｘＮｙ）［ただし、ｘ＋ｙ＝１］傾斜硬
質層を被覆し、さらにその上に厚さ：０．５μｍの（Ｔ
ｉ，Ｚｒ）Ｃ層を被覆した本発明被覆エンドミル３、
（４） 前記エンドミルの表面に接する面で（Ｔｉ，Ｈ
ｆ，Ｚｒ）（ＣｘＮｙ）におけるｘおよびｙがｘ＝０、
ｙ＝１となって実質的に（Ｔｉ，Ｈｆ，Ｚｒ）Ｎとな
り、外面に向かって（Ｔｉ，Ｈｆ，Ｚｒ）（ＣｘＮｙ）
がｘ：０→１、ｙ：１→０となるように変化し、外面が
ｘ＝１、ｙ＝０となって実質的に（Ｔｉ，Ｈｆ，Ｚｒ）
Ｃとなる厚さ：２．５μｍの（Ｔｉ，Ｈｆ，Ｚｒ）（Ｃ
ｘＮｙ）［ただし、ｘ＋ｙ＝１］傾斜硬質層を被覆し、
さらにその上に厚さ：０．５μｍの（Ｔｉ，Ｈｆ，Ｚ
ｒ）Ｃ層を被覆した本発明被覆エンドミル４、をそれぞ
れ作製した。
のエンドミル用意し、このエンドミルの表面に実施例１
と同様にして物理蒸着を行い、それぞれ、（１） 前記
エンドミルの表面に接する面で（Ｔｉ，Ａｌ）（ＣｘＮ
ｙ）におけるｘおよびｙがｘ＝０、ｙ＝１となって実質
的に（Ｔｉ，Ａｌ）Ｎとなり、外面に向かって（Ｔｉ，
Ａｌ）（ＣｘＮｙ）がｘ：０→１、ｙ：１→０となるよ
うに変化し、外面がｘ＝１、ｙ＝０となって実質的に
（Ｔｉ，Ａｌ）Ｃとなる厚さ：２．５μｍの（Ｔｉ，Ａ
ｌ）（ＣｘＮｙ）［ただし、ｘ＋ｙ＝１］傾斜硬質層を
被覆し、さらにその上に厚さ：０．５μｍの（Ｔｉ，Ａ
ｌ）Ｃ層を被覆した本発明被覆エンドミル１、（２）
前記エンドミルの表面に接する面で（Ｔｉ，Ｈｆ）（Ｃ
ｘＮｙ）におけるｘおよびｙがｘ＝０、ｙ＝１となって
実質的に（Ｔｉ，Ｈｆ）Ｎとなり、外面に向かって（Ｔ
ｉ，Ｈｆ）（ＣｘＮｙ）がｘ：０→１、ｙ：１→０とな
るように変化し、外面がｘ＝１、ｙ＝０となって実質的
に（Ｔｉ，Ｈｆ）Ｃとなる厚さ：２．５μｍの（Ｔｉ，
Ｈｆ）（ＣｘＮｙ）［ただし、ｘ＋ｙ＝１］傾斜硬質層
を被覆し、さらにその上に厚さ：０．５μｍの（Ｔｉ，
Ｈｆ）Ｃ層を被覆した本発明被覆エンドミル２、（３）
前記エンドミルの表面に接する面で（Ｔｉ，Ｚｒ）
（ＣｘＮｙ）におけるｘおよびｙがｘ＝０、ｙ＝１とな
って実質的に（Ｔｉ，Ｚｒ）Ｎとなり、外面に向かって
（Ｔｉ，Ｚｒ）（ＣｘＮｙ）がｘ：０→１、ｙ：１→０
となるように変化し、外面がｘ＝１、ｙ＝０となって実
質的に（Ｔｉ，Ｚｒ）Ｃとなる厚さ：２．５μｍの（Ｔ
ｉ，Ｚｒ）（ＣｘＮｙ）［ただし、ｘ＋ｙ＝１］傾斜硬
質層を被覆し、さらにその上に厚さ：０．５μｍの（Ｔ
ｉ，Ｚｒ）Ｃ層を被覆した本発明被覆エンドミル３、
（４） 前記エンドミルの表面に接する面で（Ｔｉ，Ｈ
ｆ，Ｚｒ）（ＣｘＮｙ）におけるｘおよびｙがｘ＝０、
ｙ＝１となって実質的に（Ｔｉ，Ｈｆ，Ｚｒ）Ｎとな
り、外面に向かって（Ｔｉ，Ｈｆ，Ｚｒ）（ＣｘＮｙ）
がｘ：０→１、ｙ：１→０となるように変化し、外面が
ｘ＝１、ｙ＝０となって実質的に（Ｔｉ，Ｈｆ，Ｚｒ）
Ｃとなる厚さ：２．５μｍの（Ｔｉ，Ｈｆ，Ｚｒ）（Ｃ
ｘＮｙ）［ただし、ｘ＋ｙ＝１］傾斜硬質層を被覆し、
さらにその上に厚さ：０．５μｍの（Ｔｉ，Ｈｆ，Ｚ
ｒ）Ｃ層を被覆した本発明被覆エンドミル４、をそれぞ
れ作製した。
【００３０】（５） また、前記エンドミルの表面に厚
さ：０．５μｍの（Ｔｉ，Ａｌ）Ｎ層を形成し、つい
で、前記（Ｔｉ，Ａｌ）Ｎ層の表面に接する面で（Ｔ
ｉ，Ａｌ）（ＣｘＮｙ）におけるｘおよびｙがｘ＝０、
ｙ＝１となって実質的に（Ｔｉ，Ａｌ）Ｎとなり、外面
に向かって（Ｔｉ，Ａｌ）（ＣｘＮｙ）がｘ：０→１、
ｙ：１→０となるように変化し、外面がｘ＝１、ｙ＝０
となって実質的に（Ｔｉ，Ａｌ）Ｃとなる厚さ：２．０
μｍの（Ｔｉ，Ａｌ）（ＣｘＮｙ）［ただし、ｘ＋ｙ＝
１］傾斜硬質層を被覆し、さらにその上に厚さ：０．５
μｍの（Ｔｉ，Ａｌ）Ｃ層を被覆した本発明被覆エンド
ミル５、（６） 前記エンドミルの表面に厚さ：０．５
μｍの（Ｔｉ，Ｈｆ）Ｎ層を形成し、ついで、前記（Ｔ
ｉ，Ｈｆ）Ｎ層の表面に接する面で（Ｔｉ，Ｈｆ）（Ｃ
ｘＮｙ）におけるｘおよびｙがｘ＝０、ｙ＝１となって
実質的に（Ｔｉ，Ｈｆ）Ｎとなり、外面に向かって（Ｔ
ｉ，Ｈｆ）（ＣｘＮｙ）がｘ：０→１、ｙ：１→０とな
るように変化し、外面がｘ＝１、ｙ＝０となって実質的
に（Ｔｉ，Ｈｆ）Ｃとなる厚さ：２．０μｍの（Ｔｉ，
Ｈｆ）（ＣｘＮｙ）［ただし、ｘ＋ｙ＝１］傾斜硬質層
を被覆し、さらにその上に厚さ：０．５μｍの（Ｔｉ，
Ｈｆ）Ｃ層を被覆した本発明被覆エンドミル６、（７）
前記エンドミルの表面に厚さ：０．５μｍの（Ｔｉ，
Ｚｒ）Ｎ層を形成し、ついで、前記（Ｔｉ，Ｚｒ）Ｎ層
の表面に接する面で（Ｔｉ，Ｚｒ）（ＣｘＮｙ）におけ
るｘおよびｙがｘ＝０、ｙ＝１となって実質的に（Ｔ
ｉ，Ｚｒ）Ｎとなり、外面に向かって（Ｔｉ，Ｚｒ）
（ＣｘＮｙ）がｘ：０→１、ｙ：１→０となるように変
化し、外面がｘ＝１、ｙ＝０となって実質的に（Ｔｉ，
Ｚｒ）Ｃとなる厚さ：２．０μｍの（Ｔｉ，Ｚｒ）（Ｃ
ｘＮｙ）［ただし、ｘ＋ｙ＝１］傾斜硬質層を被覆し、
さらにその上に厚さ：０．５μｍの（Ｔｉ，Ｚｒ）Ｃ層
を被覆した本発明被覆エンドミル７、（８） 前記エン
ドミルの表面に厚さ：０．５μｍの（Ｔｉ，Ｈｆ，Ｚ
ｒ）Ｎ層を形成し、ついで、前記（Ｔｉ，Ｈｆ，Ｚｒ）
Ｎ層の表面に接する面で（Ｔｉ，Ｈｆ，Ｚｒ）（ＣｘＮ
ｙ）におけるｘおよびｙがｘ＝０、ｙ＝１となって実質
的に（Ｔｉ，Ｈｆ，Ｚｒ）Ｎとなり、外面に向かって
（Ｔｉ，Ｈｆ，Ｚｒ）（ＣｘＮｙ）がｘ：０→１、ｙ：
１→０となるように変化し、外面がｘ＝１、ｙ＝０とな
って実質的に（Ｔｉ，Ｈｆ，Ｚｒ）Ｃとなる厚さ：２．
０μｍの（Ｔｉ，Ｈｆ，Ｚｒ）（ＣｘＮｙ）［ただし、
ｘ＋ｙ＝１］傾斜硬質層を被覆し、さらにその上に厚
さ：０．５μｍの（Ｔｉ，Ｈｆ，Ｚｒ）Ｃ層を被覆した
本発明被覆エンドミル８、をそれぞれ作製した。
さ：０．５μｍの（Ｔｉ，Ａｌ）Ｎ層を形成し、つい
で、前記（Ｔｉ，Ａｌ）Ｎ層の表面に接する面で（Ｔ
ｉ，Ａｌ）（ＣｘＮｙ）におけるｘおよびｙがｘ＝０、
ｙ＝１となって実質的に（Ｔｉ，Ａｌ）Ｎとなり、外面
に向かって（Ｔｉ，Ａｌ）（ＣｘＮｙ）がｘ：０→１、
ｙ：１→０となるように変化し、外面がｘ＝１、ｙ＝０
となって実質的に（Ｔｉ，Ａｌ）Ｃとなる厚さ：２．０
μｍの（Ｔｉ，Ａｌ）（ＣｘＮｙ）［ただし、ｘ＋ｙ＝
１］傾斜硬質層を被覆し、さらにその上に厚さ：０．５
μｍの（Ｔｉ，Ａｌ）Ｃ層を被覆した本発明被覆エンド
ミル５、（６） 前記エンドミルの表面に厚さ：０．５
μｍの（Ｔｉ，Ｈｆ）Ｎ層を形成し、ついで、前記（Ｔ
ｉ，Ｈｆ）Ｎ層の表面に接する面で（Ｔｉ，Ｈｆ）（Ｃ
ｘＮｙ）におけるｘおよびｙがｘ＝０、ｙ＝１となって
実質的に（Ｔｉ，Ｈｆ）Ｎとなり、外面に向かって（Ｔ
ｉ，Ｈｆ）（ＣｘＮｙ）がｘ：０→１、ｙ：１→０とな
るように変化し、外面がｘ＝１、ｙ＝０となって実質的
に（Ｔｉ，Ｈｆ）Ｃとなる厚さ：２．０μｍの（Ｔｉ，
Ｈｆ）（ＣｘＮｙ）［ただし、ｘ＋ｙ＝１］傾斜硬質層
を被覆し、さらにその上に厚さ：０．５μｍの（Ｔｉ，
Ｈｆ）Ｃ層を被覆した本発明被覆エンドミル６、（７）
前記エンドミルの表面に厚さ：０．５μｍの（Ｔｉ，
Ｚｒ）Ｎ層を形成し、ついで、前記（Ｔｉ，Ｚｒ）Ｎ層
の表面に接する面で（Ｔｉ，Ｚｒ）（ＣｘＮｙ）におけ
るｘおよびｙがｘ＝０、ｙ＝１となって実質的に（Ｔ
ｉ，Ｚｒ）Ｎとなり、外面に向かって（Ｔｉ，Ｚｒ）
（ＣｘＮｙ）がｘ：０→１、ｙ：１→０となるように変
化し、外面がｘ＝１、ｙ＝０となって実質的に（Ｔｉ，
Ｚｒ）Ｃとなる厚さ：２．０μｍの（Ｔｉ，Ｚｒ）（Ｃ
ｘＮｙ）［ただし、ｘ＋ｙ＝１］傾斜硬質層を被覆し、
さらにその上に厚さ：０．５μｍの（Ｔｉ，Ｚｒ）Ｃ層
を被覆した本発明被覆エンドミル７、（８） 前記エン
ドミルの表面に厚さ：０．５μｍの（Ｔｉ，Ｈｆ，Ｚ
ｒ）Ｎ層を形成し、ついで、前記（Ｔｉ，Ｈｆ，Ｚｒ）
Ｎ層の表面に接する面で（Ｔｉ，Ｈｆ，Ｚｒ）（ＣｘＮ
ｙ）におけるｘおよびｙがｘ＝０、ｙ＝１となって実質
的に（Ｔｉ，Ｈｆ，Ｚｒ）Ｎとなり、外面に向かって
（Ｔｉ，Ｈｆ，Ｚｒ）（ＣｘＮｙ）がｘ：０→１、ｙ：
１→０となるように変化し、外面がｘ＝１、ｙ＝０とな
って実質的に（Ｔｉ，Ｈｆ，Ｚｒ）Ｃとなる厚さ：２．
０μｍの（Ｔｉ，Ｈｆ，Ｚｒ）（ＣｘＮｙ）［ただし、
ｘ＋ｙ＝１］傾斜硬質層を被覆し、さらにその上に厚
さ：０．５μｍの（Ｔｉ，Ｈｆ，Ｚｒ）Ｃ層を被覆した
本発明被覆エンドミル８、をそれぞれ作製した。
【００３１】従来例３ 一方、比較のために、実施例３で用意したＪＩＳ規格Ｍ
２０に相当する組成を有し、外径：６ｍｍのエンドミル
を従来例１で使用したイオンプレーティング装置内の下
方にＴｉ金属、Ａｌ金属、Ｈｆ金属、Ｚｒ金属を充填
し、従来例１と同様にボンバードクリーニングしたの
ち、まず供給口より、窒素ガスを供給し、続いて窒素ガ
ス：アセチレンガス＝０．５：０．５の混合ガスを供給
し、さらに続いてアセチレンガスを供給し、（１） 前
記エンドミルの表面に、厚さ：０．５μｍの（Ｔｉ，Ａ
ｌ）Ｎ層、厚さ：２．０μｍの（Ｔｉ，Ａｌ）ＣＮ層、
および厚さ：０．５μｍの（Ｔｉ，Ａｌ）Ｃ層からなる
３層を被覆した従来被覆エンドミル１、（２） 前記エ
ンドミルの表面に、厚さ：０．５μｍの（Ｔｉ，Ｈｆ）
Ｎ層、厚さ：２．０μｍの（Ｔｉ，Ｈｆ）ＣＮ層、およ
び厚さ：０．５μｍの（Ｔｉ，Ｈｆ）Ｃ層からなる３層
を被覆した従来被覆エンドミル２、（３） 前記エンド
ミルの表面に、厚さ：０．５μｍの（Ｔｉ，Ｚｒ）Ｎ
層、厚さ：２．０μｍの（Ｔｉ，Ｚｒ）ＣＮ層、および
厚さ：０．５μｍの（Ｔｉ，Ｚｒ）Ｃ層からなる３層を
被覆した従来被覆エンドミル３、（４） 前記エンドミ
ルの表面に、厚さ：０．５μｍの（Ｔｉ，Ｈｆ，Ｚｒ）
Ｎ層、厚さ：２．０μｍの（Ｔｉ，Ｈｆ，Ｚｒ）ＣＮ
層、および厚さ：０．５μｍの（Ｔｉ，Ｈｆ，Ｚｒ）Ｃ
層からなる３層を被覆した従来被覆エンドミル４、をそ
れぞれ作製した。
２０に相当する組成を有し、外径：６ｍｍのエンドミル
を従来例１で使用したイオンプレーティング装置内の下
方にＴｉ金属、Ａｌ金属、Ｈｆ金属、Ｚｒ金属を充填
し、従来例１と同様にボンバードクリーニングしたの
ち、まず供給口より、窒素ガスを供給し、続いて窒素ガ
ス：アセチレンガス＝０．５：０．５の混合ガスを供給
し、さらに続いてアセチレンガスを供給し、（１） 前
記エンドミルの表面に、厚さ：０．５μｍの（Ｔｉ，Ａ
ｌ）Ｎ層、厚さ：２．０μｍの（Ｔｉ，Ａｌ）ＣＮ層、
および厚さ：０．５μｍの（Ｔｉ，Ａｌ）Ｃ層からなる
３層を被覆した従来被覆エンドミル１、（２） 前記エ
ンドミルの表面に、厚さ：０．５μｍの（Ｔｉ，Ｈｆ）
Ｎ層、厚さ：２．０μｍの（Ｔｉ，Ｈｆ）ＣＮ層、およ
び厚さ：０．５μｍの（Ｔｉ，Ｈｆ）Ｃ層からなる３層
を被覆した従来被覆エンドミル２、（３） 前記エンド
ミルの表面に、厚さ：０．５μｍの（Ｔｉ，Ｚｒ）Ｎ
層、厚さ：２．０μｍの（Ｔｉ，Ｚｒ）ＣＮ層、および
厚さ：０．５μｍの（Ｔｉ，Ｚｒ）Ｃ層からなる３層を
被覆した従来被覆エンドミル３、（４） 前記エンドミ
ルの表面に、厚さ：０．５μｍの（Ｔｉ，Ｈｆ，Ｚｒ）
Ｎ層、厚さ：２．０μｍの（Ｔｉ，Ｈｆ，Ｚｒ）ＣＮ
層、および厚さ：０．５μｍの（Ｔｉ，Ｈｆ，Ｚｒ）Ｃ
層からなる３層を被覆した従来被覆エンドミル４、をそ
れぞれ作製した。
【００３２】これら本発明被覆エンドミル１〜８および
従来被覆エンドミル１〜４について、下記の条件でダウ
ンカット方式による鋼の湿式片削り試験を実施し、それ
らの結果を表３に示した。 ４ ダウンカット方式による鋼の湿式片削り試験 被削材 ：Ｓ４３Ｃ、 切削速度 ：６０ｍ／ｍｉｎ、 一刃当たりの送り：０．０１ｍｍ／ｒｅｖ．、 切り込み深さ ：１５ｍｍ、 切り込み幅 ：０．０５ｍｍ、 の条件で湿式片削り試験を行い、エンドミルのマージン
部の摩耗量が０．２ｍｍ以上もしくは被削材垂直面の表
面粗さ（Ｒｍａｘ）が３．０μｍ以上となった時点を寿
命とし、この寿命に至までの時間を５分単位で測定し
た。
従来被覆エンドミル１〜４について、下記の条件でダウ
ンカット方式による鋼の湿式片削り試験を実施し、それ
らの結果を表３に示した。 ４ ダウンカット方式による鋼の湿式片削り試験 被削材 ：Ｓ４３Ｃ、 切削速度 ：６０ｍ／ｍｉｎ、 一刃当たりの送り：０．０１ｍｍ／ｒｅｖ．、 切り込み深さ ：１５ｍｍ、 切り込み幅 ：０．０５ｍｍ、 の条件で湿式片削り試験を行い、エンドミルのマージン
部の摩耗量が０．２ｍｍ以上もしくは被削材垂直面の表
面粗さ（Ｒｍａｘ）が３．０μｍ以上となった時点を寿
命とし、この寿命に至までの時間を５分単位で測定し
た。
【００３３】
【表３】
【００３４】表３に示される結果から、本発明被覆エン
ドミル１〜８は従来被覆エンドミル１〜４比べて切削寿
命が優れていることが分かる。
ドミル１〜８は従来被覆エンドミル１〜４比べて切削寿
命が優れていることが分かる。
【００３５】
【発明の効果】前記実施例１〜３および従来例１〜３に
示される結果から、この発明の傾斜硬質層被覆超硬合金
製切削工具は、従来の硬質層被覆超硬合金製切削工具に
比べて優れた性能を有し、工業上優れた効果をもたらす
ものである。
示される結果から、この発明の傾斜硬質層被覆超硬合金
製切削工具は、従来の硬質層被覆超硬合金製切削工具に
比べて優れた性能を有し、工業上優れた効果をもたらす
ものである。
【図１】この発明の傾斜硬質層被覆超硬合金製切削工具
を製造するために物理蒸着装置に窒素ガスおよび炭化水
素ガスを導入する量を模型的に示したグラフである。
を製造するために物理蒸着装置に窒素ガスおよび炭化水
素ガスを導入する量を模型的に示したグラフである。
【図２】この発明の傾斜硬質層被覆超硬合金製切削工具
における傾斜硬質層の構造を模型的に示した断面図であ
る。
における傾斜硬質層の構造を模型的に示した断面図であ
る。
【図３】この発明の傾斜硬質層被覆超硬合金製切削工具
を製造するために物理蒸着装置に窒素ガスおよび炭化水
素ガスを導入する量を模型的に示したグラフである。
を製造するために物理蒸着装置に窒素ガスおよび炭化水
素ガスを導入する量を模型的に示したグラフである。
【図４】この発明の傾斜硬質層被覆超硬合金製切削工具
における傾斜硬質層の構造を模型的に示した断面図であ
る。
における傾斜硬質層の構造を模型的に示した断面図であ
る。
Claims (2)
- 【請求項１】 超硬合金基体の表面に（Ｔｉ，Ｍ）（Ｃ
ｘＮｙ）［ただし、ＭはＡｌ，Ｈｆ，Ｚｒの内の１種ま
たは２種以上、ｘ＋ｙ＝１］傾斜硬質層を被覆し、さら
にその傾斜硬質層の上に（Ｔｉ，Ｍ）Ｃ層を被覆してな
る切削工具において、 前記（Ｔｉ，Ｍ）（ＣｘＮｙ）傾斜硬質層におけるｘ
は、超硬合金基体の表面に接する面で実質的に０とな
り、内面から外面に向かって層厚方向に増加するように
変化して（Ｔｉ，Ｍ）Ｃ層に接する面で実質的に１とな
り、 一方、ｙは超硬合金基体の表面に接する面で実質的に１
となり、内面から外面に向かって層厚方向に減少するよ
うに変化して（Ｔｉ，Ｍ）Ｃ層に接する面で実質的に０
となる、ことを特徴とする傾斜硬質層被覆超硬合金製切
削工具。 - 【請求項２】 超硬合金基体の表面に、（Ｔｉ，Ｍ）Ｎ
層を被覆し、前記窒化チタン層の上に（Ｔｉ，Ｍ）（Ｃ
ｘＮｙ）［ただし、ＭはＡｌ，Ｈｆ，Ｚｒの内の１種ま
たは２種以上、ｘ＋ｙ＝１］傾斜硬質層を被覆し、さら
にその傾斜硬質層の上に（Ｔｉ，Ｍ）Ｃ層を被覆してな
る切削工具において、 前記（Ｔｉ，Ｍ）（ＣｘＮｙ）傾斜硬質層におけるｘ
は、（Ｔｉ，Ｍ）Ｎ層に接する面で実質的に０となり、
内面から外面に向かって層厚方向に増加するように変化
して（Ｔｉ，Ｍ）Ｃ層に接する面で実質的に１となり、 一方、ｙは（Ｔｉ，Ｍ）Ｎ層に接する面で実質的に１と
なり、内面から外面に向かって層厚方向に減少するよう
に変化して（Ｔｉ，Ｍ）Ｃ層に接する面で実質的に０と
なる、ことを特徴とする傾斜硬質層被覆超硬合金製切削
工具。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19915192A JPH0615504A (ja) | 1992-07-02 | 1992-07-02 | 傾斜硬質層被覆超硬合金製切削工具 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19915192A JPH0615504A (ja) | 1992-07-02 | 1992-07-02 | 傾斜硬質層被覆超硬合金製切削工具 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0615504A true JPH0615504A (ja) | 1994-01-25 |
Family
ID=16403004
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19915192A Pending JPH0615504A (ja) | 1992-07-02 | 1992-07-02 | 傾斜硬質層被覆超硬合金製切削工具 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0615504A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6065910A (en) * | 1997-07-07 | 2000-05-23 | Mitsubishi Heavy Industries, Ltd. | Gear shaper cutting method and apparatus |
-
1992
- 1992-07-02 JP JP19915192A patent/JPH0615504A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6065910A (en) * | 1997-07-07 | 2000-05-23 | Mitsubishi Heavy Industries, Ltd. | Gear shaper cutting method and apparatus |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20000704 |