JPH0615483A - はんだ付け用フラックス及びはんだペースト組成物 - Google Patents

はんだ付け用フラックス及びはんだペースト組成物

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JPH0615483A
JPH0615483A JP20050992A JP20050992A JPH0615483A JP H0615483 A JPH0615483 A JP H0615483A JP 20050992 A JP20050992 A JP 20050992A JP 20050992 A JP20050992 A JP 20050992A JP H0615483 A JPH0615483 A JP H0615483A
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JP
Japan
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flux
compound
soldering
compd
solder paste
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Application number
JP20050992A
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English (en)
Inventor
Miya Tanioka
みや 谷岡
Hiroki Kodama
啓樹 児玉
Hirohiko Hirao
浩彦 平尾
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Shikoku Chemicals Corp
Original Assignee
Shikoku Chemicals Corp
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Publication date
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    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/30Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor
    • H05K3/32Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits
    • H05K3/34Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits by soldering
    • H05K3/3489Composition of fluxes; Methods of application thereof; Other methods of activating the contact surfaces

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  • Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 優れたはんだ付け特性を有し、はんだ付けし
たのちのフラックスの洗浄を必要としないはんだ付け用
フラックス及びはんだペースト組成物を提供する。 【構成】 ベンズイミダゾール化合物、イミダゾールチ
オール化合物、トリアゾール化合物、ベンゾチアゾール
化合物、ベンゾオキサゾール化合物、チオシアヌル酸化
合物及びヒドラジド化合物のいずれか1種もしくは2種
以上の化合物をフラックスの有効成分として含有するは
んだ付け用フラックス及びはんだペースト組成物。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、電子部品をプリント配
線板にはんだ付けする際に用いられるはんだ付け用フラ
ックス及び電子部品を表面実装する際に用いるはんだペ
ースト組成物に関する。
【0002】
【従来の技術】はんだ付け用フラックス及びはんだペー
スト中のフラックス成分は、はんだ付けを行なう際に、
はんだ付け部分の酸化を防止し、金属表面の酸化物を除
去してはんだ付けを促進させる働きをする。また、はん
だ付けしたのちのフラックス残渣の特性としては、はん
だ付け部の金属を腐食させないこと及び絶縁不良等を起
こさず電気的信頼性が高いことが要求されている。
【0003】一般に、フラックス成分にははんだ付けを
促進させる成分として、ロジン、アミン、アミンハロゲ
ン化水素酸塩及び有機酸等を含有している。これらの成
分は、はんだ付けしたのちも残留してはんだ付け部の金
属を腐食させるものがあるので、フラックス残渣を洗浄
して除去する必要があった。
【0004】フラックス残渣を洗浄する必要がないはん
だ付け用フラツクスとしては、腐食抑制剤としてベンゾ
トリアゾール化合物を添加したものが提案されている。
(特開平3−238195号公報)しかしながら、ベン
ゾトリアゾール化合物は、はんだ付け部の金属の腐食抑
制は可能であるが、はんだ付けそのものを阻害する難点
があった。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、はん
だ付けを阻害せず、はんだ付けしたのちもフラックス残
渣を洗浄する必要が無く、長期にわたってはんだ付け部
の金属腐食を起こさないはんだ付け用フラックス及びは
んだペースト組成物を提供することである。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明者等は、このよう
な事情に鑑み鋭意試験研究を重ねた結果、ベンズイミダ
ゾール化合物、イミダゾールチオール化合物、トリアゾ
ール化合物、ベンゾチアゾール化合物、ベンゾオキサゾ
ール化合物、チオシアヌル酸化合物及びヒドラジド類の
いずれか1種もしくは2種以上をフラックス成分として
用いることにより、所期の目的が達成できることを見い
出し、本発明を完遂するに至った。
【0007】本発明のはんだ付け用フラックス及びはん
だペースト組成物のフラックス成分として用いられるベ
ンズイミダゾール化合物としては、ベンズイミダゾー
ル、4(5)−メチルベンズイミダゾール、5−クロロベン
ズイミダゾール、5−ニトロベンズイミダゾール、ベン
ズイミダゾールチオール、5−メチルベンズイミダゾー
ルチオール及び5−ニトロベンズイミダゾールチオール
等である。
【0008】イミダゾールチオール化合物としては、イ
ミダゾールチオール、4ーメチルイミダゾールチオー
ル、4−クロロ−5−メチルイミダゾールチオール及び
4−アミノイミダゾールチオール等である。
【0009】トリアゾール化合物としては、1,2,4
−トリアゾール、3−アミノ−1,2,4−トリアゾー
ル、3−アミノ−4−メチル−1,2,4−トリアゾー
ル、3−サリチロイルアミノ−1,2,4−トリアゾー
ル及び4−メチル−1,2,4−トリアゾール−3−チ
オール等である。
【0010】ベンゾチアゾール化合物またはベンゾオキ
サゾール化合物としては、ベンゾチアゾールチオール、
2−メチルメルカプトベンゾチアゾール、4−メチルベ
ンゾチアゾールチオール、5−クロロベンゾチアゾール
チオール、5−ニトロベンゾチアゾール、5−ニトロベ
ンゾチアゾールチオール、5−アミノベンゾチアゾール
チオール、4−メチルベンゾオキサゾール、ベンゾオキ
サゾールチオール、2−メルカプトベンゾオキサゾール
及び5−アミノベンゾオキサゾール等である。
【0011】チオシアヌル酸化合物またはヒドラジド化
合物としては、トリチオシアヌル酸、アジピン酸ジヒド
ラジド、セバシン酸ジヒドラジド、ドテカンジカルボン
酸ヒドラジド、イソフタル酸ジヒドラジド及びデカメチ
レンジカルボン酸ジサリチロイルヒドラジド等である。
【0012】本発明のはんだ付け用フラックス及びはん
だペースト組成物のフラックス成分の製造に当たって
は、イソプロピルアルコール、トルエン、ジエチレング
リコールエチルエーテル、エチレングリコール−n−ブ
チルエーテルアセテート及びヘキシレングリコール等の
溶剤にベンズイミダゾール化合物、イミダゾールチオー
ル化合物、トリアゾール化合物、ベンゾチアゾール化合
物、ベンゾオキサゾール化合物、チオシアヌル酸化合物
及びヒドラジド化合物のいずれか1種もしくは2種以上
の化合物、種々のロジン及び合成樹脂等の樹脂成分並び
にアミン,アミンハロゲン化水素酸塩及び有機酸等の活
性剤を添加することにより目的のフラックスが得られ、
必要に応じてこのフラックスに艶消し剤,界面活性剤及
び増粘剤等の添加剤を添加することは差し支えない。
【0013】本発明のはんだ付け用フラックス及びはん
だペースト組成物のフラックス成分の製造において、ベ
ンズイミダゾール化合物、イミダゾールチオール化合
物、トリアゾール化合物、ベンゾチアゾール化合物、ベ
ンゾオキサゾール化合物、チオシアヌル酸化合物及びヒ
ドラジド化合物のいずれか1種もしくは2種以上の化合
物をフラックス中に含有させる割合は、0.001〜5
重量%の範囲、好ましくは0.01〜2重量%の範囲で
含有させればよい。
【0014】本発明のはんだペースト組成物は、ベンズ
イミダゾール化合物、イミダゾールチオール化合物、ト
リアゾール化合物、ベンゾチアゾール化合物、ベンゾオ
キサゾール化合物、チオシアヌル酸化合物及びヒドラジ
ド化合物のいずれか1種もしくは2種以上の化合物を有
効成分として含有する液状またはペースト状のフラック
ス成分をはんだ粉と混合することにより得られる。
【0015】本発明のはんだペースト組成物の製造に当
たって用いられるはんだ粉は、錫及び鉛の合金成分に必
要に応じて銀、ビスマス、金及びインジウム等を混合し
て得られ、その形状は特に限定されるものではないが、
粒径は10〜1000メッシュ、好ましくは200〜6
25メッシュが適当である。また、はんだペースト組成
物中のはんだ粉の含有量としては、通常80〜95重量
%の範囲である。
【0016】
【実施例】
(実施例1〜3及び比較例1〜5)表1に示すとおりの
配合割合ではんだ付け用フラックス組成物を調製し、得
られたはんだ付け用フラックスを用いて、はんだ付け性
と腐食性の評価試験を行った。その結果は、表1に示す
とおりであった。
【0017】なお、はんだ付け性の評価試験は、JIS
Z 3197に規定されているはんだ広がり試験に準
拠して行い、その評価は次の4段階で表した。 ◎:広がり率90%以上 ○:広がり率75〜90% △:広がり率50〜75% ×:広がり率50%以下
【0018】また、腐食性の評価試験は、JIS Z
3197に規定されている銅板腐食試験に準拠して行
い、比較試験片と比較して腐食のないものを「合格」と
した。
【0019】
【表1】
【0020】
【実施例】
(実施例4〜7及び比較例6〜8)表2に示すとおりの
配合割合ではんだペースト組成物を調製し、得られたは
んだペースト組成物を用いて、実施例1と同様の方法に
よりはんだ付け性と腐食性の評価試験を行った。その結
果は、表2に示すとおりであった。
【0021】
【表2】
【0022】
【発明の効果】本発明のはんだ付け用フラックスを用い
てはんだ付けを行えば、優れたはんだ付け性が得られ、
且つフラックス残渣を洗浄しなくてもはんだ付け部が腐
食され難いので、はんだ付け後の洗浄工程を必要としな
い。また、本発明のはんだペースト組成物も、はんだ付
け性に優れ、はんだ付けをしたのちも、フラックス残渣
を洗浄する必要がない。このため、電子部品の実装時に
おけるはんだ付けの際に、本発明のはんだ付け用フラッ
クスあるいははんだペースト組成物を用いれば、作業効
率の向上とコストダウンを図ることが可能である。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ベンズイミダゾール化合物、イミダゾー
    ルチオール化合物、トリアゾール化合物、ベンゾチアゾ
    ール化合物、ベンゾオキサゾール化合物、チオシアヌル
    酸化合物及びヒドラジド化合物のいずれか1種もしくは
    2種以上を含有することを特徴とするはんだ付け用フラ
    ックス。
  2. 【請求項2】 フラックス成分としてベンズイミダゾー
    ル化合物、イミダゾールチオール化合物、トリアゾール
    化合物、ベンゾチアゾール化合物、ベンゾオキサゾール
    化合物、チオシアヌル酸化合物及びヒドラジド化合物の
    いずれか1種もしくは2種以上を含有することを特徴と
    するはんだペースト組成物。
JP20050992A 1992-07-02 1992-07-02 はんだ付け用フラックス及びはんだペースト組成物 Pending JPH0615483A (ja)

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