JPH06150859A - Electron gun - Google Patents

Electron gun

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JPH06150859A
JPH06150859A JP4302655A JP30265592A JPH06150859A JP H06150859 A JPH06150859 A JP H06150859A JP 4302655 A JP4302655 A JP 4302655A JP 30265592 A JP30265592 A JP 30265592A JP H06150859 A JPH06150859 A JP H06150859A
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JP
Japan
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cathode
ionization chamber
electrons
electron gun
large number
Prior art date
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Application number
JP4302655A
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Japanese (ja)
Inventor
Mina Sakano
美菜 坂野
Sukeyuki Yasui
祐之 安井
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Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Publication date
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Publication of JPH06150859A publication Critical patent/JPH06150859A/en
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Abstract

PURPOSE:To provide a highly efficient electron gun by which strong electron beam intensity can be obtained under low pulse voltage by forming microscopic recesses and projections in a large number on a surface of a cathode housed in a position opposed to an electrically conductive extracting grid. CONSTITUTION:Almost several micron microscopic recesses and projections 20 are formed in a large number on a surface of a cathode 5. When pulse voltage is impressed between an anode wire 1 arranged in an ionization chamber 2 and an ionization chamber wall 3, wire discharge is ignited easily between the anode wire and the ionization chamber wall, and plasma is generated. A cation in this plasma is accelerated toward the cathode 5 in a high voltage chamber 6, and passes through an electrically conductive extracting grid 4, and collides with the cathode 5. Since the almost several (mu) microscopic recesses and projections 20 are formed on the surface of the cathode, an electric field becomes strong in the surface vicinity of an electrode. As a result, since a large number of electrons are supplied even by field emission in addition to a secondary electron emitted by the cation, the number of electrons is increased significantly, and electron beam intensity is also increased.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、高電力電子銃に係り、
特に、電子ビーム強度を容易に増加させることができる
ように改良を施した電子銃に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a high power electron gun,
In particular, the present invention relates to an electron gun improved so that the electron beam intensity can be easily increased.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、化学反応、顕微鏡、分析、溶接等
の多くの先端材料の分野で電子ビームが使用され、この
電子ビームの発生源として電子銃が用いられている。図
3に従来から用いられている電子銃の一例を示した。即
ち、電子銃は、陽極ワイヤ1をその内部に配置したイオ
ン化室2と、後述する導電性抽出グリッド4を介して前
記イオン化室2と連通する高電圧室6とから構成されて
いる。また、前記イオン化室2には、高電圧室6とは反
対側に、電子に対して透過性のある出口窓11が形成さ
れ、さらに、高電圧室6との連結部には、出口窓11の
電圧に等しい電圧の導電性抽出グリッド4が形成されて
いる。
2. Description of the Related Art In recent years, an electron beam has been used in many fields of advanced materials such as chemical reaction, microscopy, analysis, welding, etc., and an electron gun is used as a source of this electron beam. FIG. 3 shows an example of an electron gun conventionally used. That is, the electron gun is composed of an ionization chamber 2 in which an anode wire 1 is arranged, and a high voltage chamber 6 which communicates with the ionization chamber 2 via a conductive extraction grid 4 described later. Further, the ionization chamber 2 is formed with an exit window 11 that is transparent to electrons on the side opposite to the high voltage chamber 6, and the exit window 11 is provided at the connecting portion with the high voltage chamber 6. A conductive extraction grid 4 of a voltage equal to the voltage of is formed.

【0003】一方、前記高電圧室6内には、高い負のバ
イアス電圧にある陰極5が絶縁物8に支持されて収納さ
れ、この陰極5から高電圧室6の外部へ高電圧導入端子
9が引き出されている。また、高電圧室6には排気口1
0が設けられ、これを排気装置(図示せず)に連結する
ことによって、前記イオン化室2及び高電圧室6内の圧
力を制御できるように構成されている。
On the other hand, in the high voltage chamber 6, a cathode 5 having a high negative bias voltage is accommodated by being supported by an insulator 8, and a high voltage introducing terminal 9 from the cathode 5 to the outside of the high voltage chamber 6. Has been pulled out. In addition, the high-voltage chamber 6 has an exhaust port 1
0 is provided and is connected to an exhaust device (not shown) so that the pressures in the ionization chamber 2 and the high voltage chamber 6 can be controlled.

【0004】なお、イオン化室2と高電圧室6の両者
は、陽イオン化を達成できる極めて低い圧力の気体を含
有しており、通常は、10〜50ミリ・トールのヘリウ
ムが用いられている。また、イオン化室2の壁3と高電
圧室6の壁7は、共にアース電位になっている。さら
に、イオン化を行う際には、陽極ワイヤ1とイオン化室
の壁3との間に、〜10キロ・ボルトのパルス電圧が印
加される。
Both the ionization chamber 2 and the high voltage chamber 6 contain a gas having an extremely low pressure capable of achieving positive ionization, and usually helium of 10 to 50 millitorr is used. The wall 3 of the ionization chamber 2 and the wall 7 of the high voltage chamber 6 are both at the ground potential. Furthermore, during ionization, a pulse voltage of -10 kilovolts is applied between the anode wire 1 and the wall 3 of the ionization chamber.

【0005】一方、陰極5は、高電圧供給源(図示せ
ず)に接続された高電圧導入端子9を通じて、負のバイ
アス電圧(例えば、−150キロ・ボルト)に恒常的に
維持されている。また、出口窓11は、高エネルギーに
対して透過性のある幾分薄いシートで構成されている。
このシートは、アルミニウムまたはチタンのような金属
で作成することが可能であり、数10マイクロ・メータ
の厚さを有している。さらに、この窓幅としては、多く
の適用例、特に照射による材料の処理に関連した適用例
においては、1cmを越える窓幅を要している。
On the other hand, the cathode 5 is constantly maintained at a negative bias voltage (for example, -150 kilovolts) through a high voltage introduction terminal 9 connected to a high voltage supply source (not shown). . The exit window 11 is also composed of a somewhat thin sheet that is transparent to high energy.
This sheet can be made of a metal such as aluminum or titanium and has a thickness of tens of micrometers. Furthermore, this window width requires a window width of more than 1 cm in many applications, especially those relating to the treatment of materials by irradiation.

【0006】この様に構成された従来の電子銃において
は、以下に述べる様にして、電子ビーム源となる電子が
放出される。即ち、イオン化室2に配置された陽極ワイ
ヤ1に、低圧力下でパルス電圧を印加すると、アース電
位にあるイオン化室の壁3との間にワイヤ放電が起こ
り、イオン化室2内の陽極ワイヤとイオン化室の壁との
間にプラズマが発生する。
In the conventional electron gun constructed as described above, electrons serving as an electron beam source are emitted as described below. That is, when a pulse voltage is applied to the anode wire 1 arranged in the ionization chamber 2 under a low pressure, a wire discharge occurs between the anode wire 1 and the wall 3 of the ionization chamber at the ground potential, and the anode wire in the ionization chamber 2 Plasma is generated between the walls of the ionization chamber.

【0007】一方、高電圧室6内に配設された陰極5
は、前記プラズマ中から導電性抽出グリッド4を通して
陽イオンを引き出す。この陽イオンは、イオン化室2と
高電圧室6との間に配設された導電性抽出グリッド4を
通って高電圧室6内に侵入し、陰極5に衝突する。する
と、陰極5の表面において、前記陽イオンの衝撃によっ
て電子が放出される。
On the other hand, the cathode 5 arranged in the high voltage chamber 6
Extract positive ions from the plasma through the conductive extraction grid 4. The cations penetrate into the high voltage chamber 6 through the conductive extraction grid 4 arranged between the ionization chamber 2 and the high voltage chamber 6 and collide with the cathode 5. Then, on the surface of the cathode 5, electrons are emitted by the impact of the cations.

【0008】この様にして放出された電子は、陽イオン
とは逆方向に進み、導電性抽出グリッド4に向かって加
速され、さらに、イオン化室2を通過して出口窓11に
至り、電子ビーム源として供給される。
The electrons thus emitted travel in the opposite direction to the cations and are accelerated toward the conductive extraction grid 4, and further pass through the ionization chamber 2 to reach the exit window 11 and the electron beam. Supplied as a source.

【0009】ここで、導電性抽出グリッド4の近辺にお
ける陽イオンの初期エネルギーを無視し、陰極5におけ
る負のバイアス電圧をVHT、陽イオンの電荷量をeとす
れば、陽イオンは(単一の荷電イオンに関係があること
を念頭におけば)、e・VHTに等しいエネルギーをもっ
て陰極5に到達するものと考えることができる。また、
陰極5の表面上で、抽出グリッドより引き出された陽イ
オンの衝撃により2次放出された電子は、導電性抽出グ
リッド4に向かって加速され、そこで電子は、e・VHT
のエネルギーに到達する。これらの状態下において、1
個の陽イオンと、この陽イオンによって放出される電子
は、同じ電場線に対応して、ほぼ重畳する軌道を呈す
る。
Here, ignoring the initial energy of positive ions in the vicinity of the conductive extraction grid 4, and assuming that the negative bias voltage at the cathode 5 is VHT and the charge amount of positive ions is e, the positive ions are (single It can be considered that the cathode 5 reaches the cathode 5 with energy equal to e · VHT. Also,
Electrons secondary emitted on the surface of the cathode 5 by the impact of the cations extracted from the extraction grid are accelerated toward the conductive extraction grid 4, where the electrons are e · VHT.
Reach the energy of. Under these conditions, 1
The individual cations and the electrons emitted by the cations have substantially overlapping orbits corresponding to the same electric field line.

【0010】上記の様な電子銃は、主として、電子銃を
電子励起によるガス・レーザー、マグネット・ハイドロ
ダイナミック発電機に、また、出口窓11をX線発生用
ターゲットに置き換えることで、X線発生装置に適用し
得るものである。
The electron gun as described above mainly generates X-rays by replacing the electron gun with a gas laser or magnet hydrodynamic generator by electronic excitation, and by replacing the exit window 11 with a target for X-ray generation. It is applicable to a device.

【0011】ところで、電子銃より発生する電子ビーム
強度は、適用対象(例えば、電子励起によるガス・レー
ザ等)に著しく依存するものである。そこで、従来は、
上記のビーム強度対策として、図3に示した陽極ワイヤ
1に印加するパルス電圧を変えることによりイオン化室
2内のプラズマ密度を変化させ、高電圧室6に引き出す
陽イオン数を変化させることで、陽イオンによって放出
される電子数を変え、電子ビーム強度を制御する方法が
用いられていた。
By the way, the intensity of the electron beam generated by the electron gun remarkably depends on the object of application (for example, a gas or laser by electron excitation). So, conventionally,
As a measure against the above-mentioned beam intensity, by changing the pulse voltage applied to the anode wire 1 shown in FIG. A method of controlling the electron beam intensity by changing the number of electrons emitted by cations has been used.

【0012】[0012]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た様な従来の電子銃には、以下に述べる様な解決すべき
課題があった。即ち、電子ビーム強度を増加させるため
には、上記の様に、陽イオン数を増加させれば良いわけ
であるが、従来は、この手段として、イオン化室内のプ
ラズマ密度の増加、即ち、陽極ワイヤへ印加するパルス
電圧を増加させることが必要となっていた。そのため、
電子ビーム強度を増加させるためには、パルス電源容量
を大きくしなければならず、非常に効率の悪いものであ
った。
However, the conventional electron gun as described above has the following problems to be solved. That is, in order to increase the electron beam intensity, it suffices to increase the number of positive ions as described above. Conventionally, as this means, an increase in the plasma density in the ionization chamber, that is, the anode wire is used. It was necessary to increase the pulse voltage applied to the. for that reason,
In order to increase the electron beam intensity, the pulse power source capacity must be increased, which is very inefficient.

【0013】本発明は、上記の様な従来技術の欠点を解
消するために提案されたものであり、その目的は、低パ
ルス電圧において強力な電子ビーム強度を得ることがで
きる、効率の良い電子銃を提供することにある。
The present invention has been proposed in order to solve the above-mentioned drawbacks of the prior art, and an object thereof is to provide a highly efficient electron beam capable of obtaining a strong electron beam intensity at a low pulse voltage. To provide a gun.

【0014】[0014]

【課題を解決するための手段】請求項1に記載の発明
は、電子に対して透過性のある出口窓と、その反対側に
設けられた導電性抽出グリッドを備え、また、低圧力で
イオン化すべき気体と、この気体を電離させて陽イオン
を発生させる陽極ワイヤを備えたイオン化室と、前記導
電性抽出グリッドを介してイオン化室と連通され、導電
性抽出グリッドに対向する位置に陰極を収納した高電圧
室から成る電子銃において、前記陰極の表面に、微小な
凹凸を多数形成したことを特徴とするものである。
According to a first aspect of the present invention, there is provided an exit window that is transparent to electrons and a conductive extraction grid provided on the opposite side of the exit window, and ionization is performed at a low pressure. Gas to be ionized, an ionization chamber equipped with an anode wire for ionizing the gas to generate cations, and the ionization chamber through the conductive extraction grid, and the cathode is placed at a position facing the conductive extraction grid. An electron gun comprising a high voltage chamber housed therein is characterized in that a large number of minute irregularities are formed on the surface of the cathode.

【0015】請求項2に記載の発明は、表面に微小な多
数の凹凸が形成されたカーボンフェルトを、陰極の表面
に取り付けたことを特徴とするものである。
The invention described in claim 2 is characterized in that a carbon felt having a large number of minute irregularities formed on the surface is attached to the surface of the cathode.

【0016】[0016]

【作用】本発明の電子銃によれば、高電圧室に収納され
た陰極の表面に、微小な多数の凹凸を設けることによ
り、イオン化室内より引き出された陽イオンが陰極に衝
突することにより放出される電子数を、電界放出効果に
よって大幅に増加させることができる。その結果、電子
ビーム強度を容易に増加させることができる。
According to the electron gun of the present invention, by providing a large number of minute irregularities on the surface of the cathode housed in the high voltage chamber, the cations extracted from the ionization chamber collide with the cathode and are emitted. The number of electrons generated can be significantly increased by the field emission effect. As a result, the electron beam intensity can be easily increased.

【0017】[0017]

【実施例】以下、本発明の実施例を図1及び図2に基づ
いて具体的に説明する。なお、図3に示した従来型と同
一の部材には同一の符号を付して、説明は省略する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENT An embodiment of the present invention will be specifically described below with reference to FIGS. The same members as those of the conventional type shown in FIG. 3 are designated by the same reference numerals, and the description thereof will be omitted.

【0018】(1)第1実施例 本実施例においては、図1に示した様に、陰極5の表面
に数ミクロン程度の微小な凹凸20が多数形成されてい
る。なお、他の構成は図3に示した従来型と同様であ
る。
(1) First Embodiment In this embodiment, as shown in FIG. 1, a large number of minute irregularities 20 of about several microns are formed on the surface of the cathode 5. The other structure is the same as that of the conventional type shown in FIG.

【0019】この様な構成を有する本実施例の電子銃に
おいては、以下に述べる様にして、電子ビーム強度を容
易に増加させることができる。即ち、イオン化室2内に
配設された陽極ワイヤ1とイオン化室の壁3との間にパ
ルス電圧を印加すると、陽極ワイヤとイオン化室の壁と
の間で容易にワイヤ放電が点弧し、プラズマが生成され
る。
In the electron gun of this embodiment having such a structure, the electron beam intensity can be easily increased as described below. That is, when a pulse voltage is applied between the anode wire 1 arranged in the ionization chamber 2 and the wall 3 of the ionization chamber, wire discharge easily ignites between the anode wire and the wall of the ionization chamber, Plasma is generated.

【0020】こうして生成したプラズマ中の陽イオン
は、高電圧室6内の陰極5に向かって加速され、導電性
抽出グリッド4を通過して、陰極5に衝突する。この
時、本実施例の電子銃においては、陰極5の表面に数ミ
クロン程度の微小な凹凸20が形成されているため、電
極表面近傍での電界が強くなる。その結果、陽イオンに
よって2次放出される電子に加えて、電界放出によって
も多数の電子が供給されることになるため、電子数が大
幅に増加し、電子ビーム強度も増大する。従って、陽極
ワイヤ1とイオン化室の壁3との間に印加されるパルス
電圧が低い場合であっても、大きな電子ビーム強度を得
ることができる。
The positive ions in the plasma thus generated are accelerated toward the cathode 5 in the high voltage chamber 6, pass through the conductive extraction grid 4, and collide with the cathode 5. At this time, in the electron gun of this embodiment, since the minute irregularities 20 of about several microns are formed on the surface of the cathode 5, the electric field near the electrode surface becomes strong. As a result, in addition to the electrons secondary-emitted by the cations, a large number of electrons are also supplied by the field emission, so that the number of electrons is significantly increased and the electron beam intensity is also increased. Therefore, even when the pulse voltage applied between the anode wire 1 and the wall 3 of the ionization chamber is low, a high electron beam intensity can be obtained.

【0021】さらに、本実施例は、従来型に対して付加
的電気回路の増設や構造的な改造を伴わないので、高い
電子ビーム強度が得られるにもかかわらず、装置は従来
例と同様に非常に簡便な構成で済むという利点もある。
Furthermore, since the present embodiment does not involve the addition of additional electric circuits or structural modification to the conventional type, the apparatus is the same as the conventional example although a high electron beam intensity can be obtained. There is also an advantage that a very simple structure is sufficient.

【0022】この様に本実施例によれば、陰極より放出
される電子数を容易に増加させることができ、また、従
来と同じ電子ビーム強度を得る場合でも、陽極ワイヤに
印加するパルス電圧を低減することができる。さらに、
陽極ワイヤに印加するパルス電圧を低減することができ
るので、パルス電源の長寿命化及びパルスの高繰返し化
が容易に実現できる。
As described above, according to this embodiment, the number of electrons emitted from the cathode can be easily increased, and the pulse voltage applied to the anode wire can be changed even when the same electron beam intensity as in the conventional case is obtained. It can be reduced. further,
Since the pulse voltage applied to the anode wire can be reduced, it is possible to easily realize a long life of the pulse power supply and a high repetition rate of the pulse.

【0023】(2)第2実施例 本実施例においては、図2に示した様に、金属製の陰極
21には、導電性抽出グリッド4と対向する面の全体に
わたって、カーボンフェルト22が取り付けられてい
る。このカーボンフェルト22には、その表面にミクロ
ンオーダーの微小な凹凸が多数形成されている。なお、
金属製の陰極21にカーボンフェルト22を取り付ける
方法としては、陰極21の所定の部分を数ミリ程度の深
さで切削し、その切削部を充填できる厚さ及び形状を有
するカーボンフェルト22を切削部に配設する方法が用
いられている。なお、他の構成は図3に示した従来型と
同様である。
(2) Second Embodiment In this embodiment, as shown in FIG. 2, a carbon felt 22 is attached to the metal cathode 21 over the entire surface facing the conductive extraction grid 4. Has been. The carbon felt 22 has a large number of microscopic irregularities on the surface thereof. In addition,
As a method of attaching the carbon felt 22 to the metal cathode 21, a predetermined portion of the cathode 21 is cut to a depth of about several millimeters, and the carbon felt 22 having a thickness and shape capable of filling the cut portion is cut. Is used. The other structure is the same as that of the conventional type shown in FIG.

【0024】この様な構成を有する本実施例の電子銃に
おいては、以下に述べる様にして、電子ビーム強度を容
易に増加させることができる。即ち、イオン化室2内に
配設された陽極ワイヤ1とイオン化室の壁3との間にパ
ルス電圧を印加すると、陽極ワイヤとイオン化室の壁と
の間で容易にワイヤ放電が点弧し、プラズマが生成され
る。
In the electron gun of this embodiment having such a structure, the electron beam intensity can be easily increased as described below. That is, when a pulse voltage is applied between the anode wire 1 arranged in the ionization chamber 2 and the wall 3 of the ionization chamber, wire discharge easily ignites between the anode wire and the wall of the ionization chamber, Plasma is generated.

【0025】こうして生成したプラズマ中の陽イオン
は、高電圧室6内の陰極21に向かって加速され、導電
性抽出グリッド4を通過して、陰極21上に取り付けら
れたカーボンフェルト22に衝突する。この時、カーボ
ンフェルト22の表面には数ミクロンオーダーの微小な
凹凸が形成されているため、電極表面近傍での電界が強
くなる。その結果、陽イオンによって2次放出される電
子に加えて、電界放出によっても多数の電子が供給され
ることになるため、電子数が大幅に増加し、電子ビーム
強度も増大する。従って、陽極ワイヤ1とイオン化室の
壁3との間に印加されるパルス電圧が低い場合であって
も、大きな電子ビーム強度を得ることができる。
The cations in the plasma thus generated are accelerated toward the cathode 21 in the high voltage chamber 6, pass through the conductive extraction grid 4, and collide with the carbon felt 22 mounted on the cathode 21. . At this time, since minute irregularities of the order of several microns are formed on the surface of the carbon felt 22, the electric field near the electrode surface becomes strong. As a result, in addition to the electrons secondary-emitted by the cations, a large number of electrons are also supplied by the field emission, so that the number of electrons is significantly increased and the electron beam intensity is also increased. Therefore, even when the pulse voltage applied between the anode wire 1 and the wall 3 of the ionization chamber is low, a high electron beam intensity can be obtained.

【0026】また、本実施例においても、従来型に対し
て付加的電気回路の増設や構造的な改造を伴わないの
で、高い電子ビーム強度が得られるにもかかわらず、装
置は従来例と同様に非常に簡便な構成で済むという利点
もある。
Also, in this embodiment, since the addition of an additional electric circuit and the structural modification to the conventional type are not required, the apparatus is the same as the conventional example although a high electron beam intensity can be obtained. There is also an advantage that a very simple structure is sufficient.

【0027】この様に本実施例においても、第1実施例
と同様に、陰極より放出される電子数を容易に増加させ
ることができ、また、従来と同じ電子ビーム強度を得る
場合でも、陽極ワイヤに印加するパルス電圧を低減する
ことができる。さらに、陽極ワイヤに印加するパルス電
圧を低減することができるので、パルス電源の長寿命化
及びパルスの高繰返し化が容易に実現できる。
Thus, also in this embodiment, as in the first embodiment, the number of electrons emitted from the cathode can be easily increased, and even when the same electron beam intensity as in the conventional case is obtained, the anode The pulse voltage applied to the wire can be reduced. Furthermore, since the pulse voltage applied to the anode wire can be reduced, it is possible to easily realize a long life of the pulse power supply and a high pulse repetition rate.

【0028】なお、本発明は上述した実施例に限定され
るものではなく、従来から用いられている陰極の表面の
所定の部分に、その表面にミクロンオーダーの微小な凹
凸が形成されたカーボンフェルト箔を貼り付けても、上
記実施例と同様の効果が得られる。
The present invention is not limited to the above-described embodiment, but a carbon felt in which microscopic irregularities are formed on a predetermined portion of the surface of a conventionally used cathode is formed. Even if the foil is attached, the same effect as in the above embodiment can be obtained.

【0029】[0029]

【発明の効果】以上述べた様に、本発明によれば、陰極
の表面に微小な凹凸を多数形成し、あるいは、表面に微
小な多数の凹凸が形成されたカーボンフェルトを、陰極
の表面に取り付けることにより、低パルス電圧において
強力な電子ビーム強度を得ることができる、効率の良い
電子銃を提供することができる。
As described above, according to the present invention, a carbon felt having a large number of minute irregularities formed on the surface of the cathode or a carbon felt having a large number of minute irregularities formed on the surface is formed on the surface of the cathode. By attaching it, it is possible to provide an efficient electron gun capable of obtaining a strong electron beam intensity at a low pulse voltage.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の電子銃の第1実施例を示す断面図FIG. 1 is a sectional view showing a first embodiment of an electron gun of the present invention.

【図2】本発明の電子銃の第2実施例を示す断面図FIG. 2 is a sectional view showing a second embodiment of the electron gun of the present invention.

【図3】従来の電子銃の一例を示す断面図FIG. 3 is a sectional view showing an example of a conventional electron gun.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…陽極ワイヤ 2…イオン化室 3…イオン化室の壁 4…導電性抽出グリッド 5…陰極 6…高電圧室 7…高電圧室の壁 8…絶縁物 9…高電圧導入端子 10…排気口 11…出口窓 20…凹凸 21…陰極 22…カーボンフェルト 1 ... Anode wire 2 ... Ionization chamber 3 ... Ionization chamber wall 4 ... Conductive extraction grid 5 ... Cathode 6 ... High voltage chamber 7 ... High voltage chamber wall 8 ... Insulator 9 ... High voltage introduction terminal 10 ... Exhaust port 11 … Exit window 20… Unevenness 21… Cathode 22… Carbon felt

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 電子に対して透過性のある出口窓と、そ
の反対側に設けられた導電性抽出グリッドを備え、ま
た、低圧力でイオン化すべき気体と、この気体を電離さ
せて陽イオンを発生させる陽極ワイヤを備えたイオン化
室と、前記導電性抽出グリッドを介してイオン化室と連
通され、導電性抽出グリッドに対向する位置に陰極を収
納した高電圧室から成る電子銃において、 前記陰極の表面に、微小な凹凸を多数形成したことを特
徴とする電子銃。
1. An exit window permeable to electrons, and a conductive extraction grid provided on the opposite side of the exit window, the gas to be ionized at a low pressure, and the cation by ionizing the gas. In an electron gun comprising an ionization chamber equipped with an anode wire for generating an ionization chamber, and a high-voltage chamber communicating with the ionization chamber via the conductive extraction grid, and containing a cathode at a position facing the conductive extraction grid, the cathode An electron gun having a large number of minute irregularities formed on its surface.
【請求項2】 電子に対して透過性のある出口窓と、そ
の反対側に設けられた導電性抽出グリッドを備え、ま
た、低圧力でイオン化すべき気体と、この気体を電離さ
せて陽イオンを発生させる陽極ワイヤを備えたイオン化
室と、前記導電性抽出グリッドを介してイオン化室と連
通され、導電性抽出グリッドに対向する位置に陰極を収
納した高電圧室から成る電子銃において、 表面に微小な多数の凹凸が形成されたカーボンフェルト
を、前記陰極の表面に取り付けたことを特徴とする電子
銃。
2. An exit window permeable to electrons, and a conductive extraction grid provided on the opposite side of the exit window, the gas to be ionized at a low pressure, and the cation by ionizing the gas. In an electron gun comprising an ionization chamber equipped with an anode wire for generating an ionization chamber and a high voltage chamber communicating with the ionization chamber through the conductive extraction grid and containing a cathode at a position facing the conductive extraction grid, An electron gun comprising a carbon felt having a large number of minute irregularities formed on the surface of the cathode.
JP4302655A 1992-11-12 1992-11-12 Electron gun Pending JPH06150859A (en)

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