JPH06148420A - Production of color filter - Google Patents
Production of color filterInfo
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- JPH06148420A JPH06148420A JP31555892A JP31555892A JPH06148420A JP H06148420 A JPH06148420 A JP H06148420A JP 31555892 A JP31555892 A JP 31555892A JP 31555892 A JP31555892 A JP 31555892A JP H06148420 A JPH06148420 A JP H06148420A
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- resin
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- Optical Filters (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明はカラーフィルターの製造
方法に関し、特に大面積カラーディスプレーのカラーフ
ィルターの製造方法に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a color filter, and more particularly to a method for manufacturing a color filter for a large area color display.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来、カラーフィルターとしては、基板
上にゼラチン、カゼイン、グリューあるいはポリビニル
アルコールなどの親水性高分子物質からなる媒染層を設
け、その媒染層を色素で染色して着色層を形成する染色
カラーフィルターが知られている。2. Description of the Related Art Conventionally, as a color filter, a mordant layer made of a hydrophilic polymer such as gelatin, casein, glue or polyvinyl alcohol is provided on a substrate, and the mordant layer is dyed with a dye to form a colored layer. A dyeing color filter that does is known.
【0003】このような染色方法では、使用可能な染料
が多く、カラーフィルターとして要求される分光特性へ
の対応が比較的容易であるが、媒染層の染色工程に染料
を溶解させた染色浴中に媒染層を浸漬するというコント
ロールの難しい湿式工程を採用しており、又各色毎に防
染用の中間層を設けるという複雑な工程を有するため歩
留まりが悪くなるという欠点を有している。また、染色
可能な色素の耐熱性が150℃程度以下と比較的低く、
該カラーフィルターに熱的処理を必要とする場合には、
仕様が困難であるうえ、染色膜自体の耐熱性、耐光性等
の信頼性が劣るという欠点も有している。In such a dyeing method, many dyes can be used and it is relatively easy to meet the spectral characteristics required for a color filter, but in a dyeing bath in which the dye is dissolved in the dyeing step of the mordant layer. A wet process, in which a mordant layer is soaked, is difficult to control, and a complicated process of providing an intermediate layer for dye protection is provided for each color, resulting in a disadvantage of low yield. In addition, the heat resistance of dyeable dyes is relatively low at about 150 ° C or lower,
When the color filter requires thermal treatment,
In addition to the difficulty in specifications, the dyeing film itself has the drawback of being inferior in reliability such as heat resistance and light resistance.
【0004】これに対して、従来、ある種の着色材料が
透明樹脂中に分散されてなる着色樹脂を用いたカラーフ
ィルターが知られている。例えば、感光性樹脂に着色材
料を混合した着色樹脂膜を用いることを特徴とするカラ
ーフィルターによれば、カラーフィルターの製造方法に
とっては一般的なフォトリソ工程のみで微細パターン化
ができ、工程の簡素化は可能となる。On the other hand, conventionally, there is known a color filter using a coloring resin in which a certain coloring material is dispersed in a transparent resin. For example, according to a color filter characterized by using a colored resin film in which a coloring material is mixed with a photosensitive resin, a fine pattern can be formed only by a photolithography process that is common for color filter manufacturing methods, and the process can be simplified. It becomes possible.
【0005】しかし、このような感光性樹脂に着色材料
を混合した着色樹脂を用いてカラーフィルターを形成す
る場合、一般に露光波長域における着色材料自体の光吸
収があるため、感光性樹脂の光硬化に必要な露光エネル
ギーは通常よりかなり大きなものとなる。However, in the case of forming a color filter using a coloring resin obtained by mixing a coloring material with such a photosensitive resin, generally, the coloring material itself absorbs light in the exposure wavelength range, and thus the photosensitive resin is photocured. The exposure energy required for this is much higher than usual.
【0006】一般に、感光性樹脂に対する露光時の光強
度は、光照射面から深さ方向に入っていくに従い、指数
関数的に減少していく。従って、感光性樹脂に、さらに
光吸収性を持つ着色材料の混入による光照射面から深さ
方向に対する露光時の入射光強度の減衰は、著しく大き
くなり、場合によっては感光性着色樹脂膜の底部に当た
る基板との界面付近での光硬化が不充分となり、現像時
に膜はがれ等を生じることがあった。In general, the light intensity of the photosensitive resin at the time of exposure decreases exponentially as it goes into the depth direction from the light irradiation surface. Therefore, the attenuation of the incident light intensity at the time of exposure from the light irradiation surface to the depth direction due to the mixing of the coloring material having the light absorbing property into the photosensitive resin becomes extremely large, and in some cases, the bottom portion of the photosensitive coloring resin film is reduced. The photo-curing in the vicinity of the interface with the substrate, which is exposed to light, becomes insufficient, and film peeling or the like may occur during development.
【0007】さらに、着色樹脂表面は、着色材料の混入
により、表面の粗れが生じ、カラーフィルター表面にお
ける散乱を伴い、カラーフィルターの光学的性能を落と
す上、液晶表示素子内面に構成させる場合では、液晶分
子の配向を乱すこともあった。このような欠点を解消せ
しめるカラーフィルターとして、感光性樹脂中に少なく
とも着色材料を分散してなる着色樹脂を用い、フォトリ
ソ工程の繰り返しにより形成される複数のパターン状着
色樹脂層を有するカラーフィルターにおいて、該着色材
料を着色樹脂層の表面部から底部にかけて次第に多く分
散させてなるものがある。Furthermore, the surface of the colored resin is roughened due to the mixing of the coloring material, which causes scattering on the surface of the color filter to deteriorate the optical performance of the color filter. In some cases, the alignment of liquid crystal molecules was disturbed. As a color filter for eliminating such a defect, using a colored resin obtained by dispersing at least a coloring material in a photosensitive resin, in a color filter having a plurality of patterned colored resin layers formed by repeating the photolithography process, There is one in which the coloring material is gradually dispersed from the surface portion to the bottom portion of the colored resin layer.
【0008】[0008]
【発明が解決しようとする課題】上記のカラーフィルタ
ーを基板上に形成するには、感光性樹脂中に少なくとも
着色材料を分散した着色樹脂を用いて、フォトリソ工程
によりパターニングして形成する。パターニングは通
常、着色樹脂を基板上に塗布し、その後ホットプレート
等により仮硬化させ、次いでフォトマスクを通して露
光、これを現像した後、加熱本硬化をさせカラーフィル
ターのパターンを形成している。In order to form the above-mentioned color filter on a substrate, a colored resin in which at least a coloring material is dispersed in a photosensitive resin is used and patterned by a photolithography process. In patterning, usually, a colored resin is applied onto a substrate, then temporarily cured by a hot plate or the like, then exposed through a photomask, developed, and then heat-cured to form a color filter pattern.
【0009】しかしながら、カラーフィルター材料の着
色樹脂は、現像後もガラス基板上に残渣として付着して
いる場合が多く、色の濁りや、色特性の劣化を招く。こ
れを取り除くために、加熱本硬化後にブラシ等による水
洗を施してやる必要がある。しかしながら、前記水洗
後、次色のパターニング形成において、基板上に着色樹
脂を塗布し、加熱仮硬化させた際、前色のパターンに浮
きやハガレが発生する場合が多く、カラーフィルター製
造上著しく歩留まりを低下させる原因となっていた。However, the colored resin of the color filter material is often adhered as a residue on the glass substrate even after development, which causes turbidity of color and deterioration of color characteristics. In order to remove this, it is necessary to wash with water with a brush or the like after the main curing by heating. However, after the washing with water, in the formation of the next color patterning, when the colored resin is applied on the substrate and preliminarily cured by heating, the pattern of the previous color often has floating or peeling, which is a significant yield in color filter production. Was causing the decrease.
【0010】本発明、このような従来技術の欠点に鑑み
てなされたものであり、着色樹脂の残渣を除去する目的
でなされる水洗の後に、再度加熱処理を施し、カラーフ
ィルターパターンの基板上への密着性を向上させ、次色
の形成時における前色のパターンの浮きやハガレを押さ
え、製造上の歩留まりを飛躍的に向上させることを目的
とする。The present invention has been made in view of the above-mentioned drawbacks of the prior art. After washing with water for the purpose of removing the residue of the colored resin, heat treatment is again applied to the substrate having the color filter pattern. It is an object of the present invention to improve the adhesiveness of the above, suppress the floating and peeling of the pattern of the previous color at the time of forming the next color, and dramatically improve the manufacturing yield.
【0011】[0011]
【課題を解決するための手段】即ち、本発明は、感光性
樹脂中に少なくとも着色材料を分散してなる着色樹脂を
基板上に塗布し、フォトリソ工程によりパターニングし
てカラーフィルターを形成する方法において、着色樹脂
を基板上に塗布し、加熱仮硬化させた後、露光、現像
し、次いで加熱本硬化させた後、水洗して基板上に残つ
た残渣を除去し、さらに再度加熱処理することを特徴と
するカラーフィルターの製造方法である。That is, the present invention provides a method for forming a color filter by applying a colored resin obtained by dispersing at least a colored material in a photosensitive resin onto a substrate and patterning it by a photolithography process. After applying the colored resin on the substrate, heating and temporarily curing it, exposing and developing, then heating and main curing, washing with water to remove the residue left on the substrate, and heat treatment again. It is a method for producing a characteristic color filter.
【0012】以下、本発明を詳細に説明する。本発明に
おいて、感光性樹脂中に少なくとも着色材料を分散して
なる着色樹脂からなるカラーフィルター材料を基板上に
塗布する場合には、塗布方法として通常スピンナー方法
による。次に、塗布された着色樹脂膜は、ホットプレー
トにより均一な温度で加熱して仮硬化させ、所望のパタ
ーンが描画されているフォトマスクにより露光し、末露
光部分を現像液により現像除去する。The present invention will be described in detail below. In the present invention, when a color filter material comprising a colored resin in which at least a coloring material is dispersed in a photosensitive resin is applied on a substrate, a spinner method is usually used as an application method. Next, the applied colored resin film is heated by a hot plate at a uniform temperature to be temporarily cured, exposed by a photomask on which a desired pattern is drawn, and the final exposed portion is developed and removed by a developing solution.
【0013】このとき、未露光部分は現像液により完全
に除去されることは困難であり、その結果、残渣として
基板上にわずかに付着した状態で存在している。この残
渣をこの状態において除去することは困難であり、残渣
と同時にカラーフィルターパターンをはがす危険性があ
るため、パターンの本硬化後に除去させる。At this time, it is difficult for the unexposed portion to be completely removed by the developing solution, and as a result, the unexposed portion remains as a residue slightly attached to the substrate. Since it is difficult to remove this residue in this state and there is a risk of peeling off the color filter pattern at the same time as the residue, it is removed after the main curing of the pattern.
【0014】現像後は、リンスをしホットプレートまた
はクリーンオーブンにより加熱し、本硬化させる。本硬
化後は水洗いをしながらブラシ等で残渣を除去する。水
洗後は、通常のエアブロー程度の乾燥方法ではカラーフ
ィルター上および基板とフィルター界面に浸透した水分
子を充分に取り除くことができず、水が残存した状態で
あり、この状態で次色の着色樹脂を塗布し、加熱仮硬化
をすると水分子の影響により前色のカラーフィルターパ
ターンが基板上から浮き上がったりあるいは剥がれたり
する。After development, the substrate is rinsed and heated by a hot plate or a clean oven to be fully cured. After the main curing, remove the residue with a brush while washing with water. After washing with water, it is not possible to sufficiently remove the water molecules that have permeated on the color filter and the interface between the substrate and the filter by a drying method such as an ordinary air blow, and the water remains in this state. When applied and heat-cured, the color filter pattern of the previous color is lifted or peeled off from the substrate due to the influence of water molecules.
【0015】従って、本発明においては、残渣除去工程
の後、本硬化時の加熱工程と同様な方法及び同温度によ
り再度熱処理を行い、残存する水分子を除去しカラーフ
ィルターパターンの基板からの浮きおよびハガレを抑え
るようにしたものである。前記再加熱処理工程における
加熱温度は200℃以上で、加熱処理時間は5分以上で
あるのが好ましい。Therefore, in the present invention, after the residue removing step, the heat treatment is performed again by the same method and at the same temperature as the heating step at the time of the main curing to remove the remaining water molecules and lift the color filter pattern from the substrate. It is also designed to suppress peeling. The heating temperature in the reheat treatment step is preferably 200 ° C. or higher, and the heat treatment time is preferably 5 minutes or longer.
【0016】本発明において、フォトリソ工程で用いら
れる感光性樹脂としては、その機械的特性をはじめ、耐
熱性、耐光性、耐溶剤性等の耐久性にすぐれたものがよ
く、そのような感光性樹脂を用いて形成したカラーフィ
ルターの耐久性も非常に良好なものとなる。また、残渣
除去後の再加熱工程では可能な限り高温であることが望
ましく、このことからも特に耐熱性にすぐれた感光性樹
脂であることが必要である。そこで、このような観点か
ら具体例を挙げると、リソコートPA−1000(宇部
興産(株)製)、リソコートPI−400(宇部興産
(株)製)等の感光性ポリアミドおよび感光性ポリイミ
ドが挙げられる。In the present invention, the photosensitive resin used in the photolithography step is preferably one having excellent durability such as heat resistance, light resistance and solvent resistance in addition to its mechanical characteristics. The durability of the color filter formed using the resin also becomes very good. Further, it is desirable that the temperature is as high as possible in the reheating step after removing the residue, and also from this point of view, it is necessary that the photosensitive resin has excellent heat resistance. Therefore, specific examples from this point of view include photosensitive polyamides and photosensitive polyimides such as Lithocoat PA-1000 (manufactured by Ube Industries, Ltd.) and Lithocoat PI-400 (manufactured by Ube Industries, Ltd.). .
【0017】また、カラーフィルターの有する着色樹脂
層を形成する着色材料としては、有機顔料、無機顔料、
染料等のうち所望の分光特性が得られるものであれば、
特に限定されるものではない。この場合、各材料を単体
で用いることも、これらのうちいくつかの混合物を用い
ることもできる。但し、染料を用いた場合には、染料自
体の耐久性により、カラーフィルターの性能が支配され
てしまうが、上記樹脂系を用いれば、通常の染料カラー
フィルターに比べ性能のすぐれたものが形成可能であ
る。従って、カラーフィルターの色特性および諸性能か
ら勘案すると有機顔料が着色材料としてもっとも望まし
い。As the coloring material for forming the colored resin layer of the color filter, organic pigments, inorganic pigments,
If the desired spectral characteristics of the dye etc. can be obtained,
It is not particularly limited. In this case, each material can be used alone or a mixture of some of them can be used. However, when a dye is used, the performance of the color filter is governed by the durability of the dye itself, but using the above resin system, it is possible to form a dye that has better performance than an ordinary dye color filter. Is. Therefore, considering the color characteristics and various performances of the color filter, the organic pigment is most desirable as the coloring material.
【0018】[0018]
【作用】本発明のカラーフィルターの製造方法は、感光
性樹脂中に少なくとも着色材料を分散してなる着色樹脂
を基板上に塗布し、加熱仮硬化、露光、現像、加熱本硬
化等の通常のフォトリソ工程によりパターニングをした
後、残渣除去の水洗を経たカラーフィルターパターンを
再度加熱処理するため、次色の形成時に発生する、前色
のパターン欠陥となる浮きやハガレが抑えされ、優れた
カラーフィルターパターンが全面均一に形成することが
できる。The method for producing a color filter according to the present invention comprises applying a coloring resin obtained by dispersing at least a coloring material in a photosensitive resin onto a substrate, and subjecting it to a usual heat curing, exposure, development, heating main curing or the like. After patterning by the photolithography process, the color filter pattern that has been washed with water to remove the residue is heat-treated again, so that the floating and peeling that are pattern defects of the previous color that occur during the formation of the next color are suppressed, making it an excellent color filter. The pattern can be formed uniformly over the entire surface.
【0019】[0019]
【実施例】以下、実施例を示し、本発明をさらに具体的
に説明する。EXAMPLES The present invention will be described more specifically below with reference to examples.
【0020】実施例1 縦300mm、横300mm、厚さ1.1mmの青板ガ
ラス基板(研磨品)にポリアミド系の着色樹脂をスピナ
ー方法にて膜厚18000Åに塗布した。この着色樹脂
を塗布した基板を、80℃±2℃に温度を保ったホット
プレートにのせ3分間仮硬化をさせた。その後、カラー
フィルターパターンの描画されたフォトマスクを用い露
光機により露光硬化させた。さらに、これを現像液にて
現像処理を行い、カラーフィルターパターンを得た。こ
のとき、未露光エリアの完全な除去は困難であるため、
基板全面に弱冠の残渣が発生した。Example 1 A blue glass substrate (polished product) having a length of 300 mm, a width of 300 mm and a thickness of 1.1 mm was coated with a polyamide-based colored resin by a spinner method to a film thickness of 18,000 Å. The substrate coated with this colored resin was placed on a hot plate kept at a temperature of 80 ° C. ± 2 ° C. and temporarily cured for 3 minutes. Then, it was exposed and cured by an exposure machine using a photomask on which a color filter pattern was drawn. Further, this was developed with a developing solution to obtain a color filter pattern. At this time, it is difficult to completely remove the unexposed area,
A weak crown residue was generated on the entire surface of the substrate.
【0021】この状態で、クリーンオーブンで200
℃、1時間加熱本硬化をした。さらに、本硬化後の基板
をPVAのブラシを用いて水浴中で残渣の除去を行っ
た。その後、クリーンオーブンで200℃、1時間の再
加熱を行い、次色の着色樹脂を塗布し、加熱仮硬化させ
たところ、前色のパターンのハガレや、浮きが全くみと
められず、良好なカラーフィルターパターンが得られ
た。In this state, 200 in a clean oven
Main curing was performed by heating at ℃ for 1 hour. Further, the substrate after the main curing was subjected to residue removal in a water bath using a PVA brush. After that, it was reheated in a clean oven at 200 ° C for 1 hour, and when the next color of the colored resin was applied and heat-cured, peeling of the pattern of the previous color and floating were not found at all, and a good color was obtained. A filter pattern was obtained.
【0022】このようにして基板上にカラーフィルター
R(赤),G(緑),B(青)を形成し、この上に保護
膜を設け、さらに透明電極(セグメント電極)を形成
し、パターニングし、補助電極用のメタル電極を形成
し、その上に絶縁膜および配向膜を形成した。この基板
を、もう一方のコモン電極を形成し、メタル電極、絶縁
膜、配向膜を形成してある対向基板と貼り合わせ、強誘
電性液晶を注入、封口して作成した大面積ディスプレイ
は、パターンムラもなく、その色特性も非常に良好なも
のであった。In this way, the color filters R (red), G (green) and B (blue) are formed on the substrate, the protective film is provided thereon, and further the transparent electrode (segment electrode) is formed and patterned. Then, a metal electrode for the auxiliary electrode was formed, and an insulating film and an alignment film were formed thereon. A large area display created by bonding this substrate to another counter electrode on which the other common electrode is formed and having a metal electrode, an insulating film and an alignment film formed, and injecting and sealing the ferroelectric liquid crystal There was no unevenness and the color characteristics were also very good.
【0023】なお、着色樹脂材料としては、PA−10
12G、PA−1012B、PA−1012R(宇部興
産社製品)を用いた。As the colored resin material, PA-10
12G, PA-1012B, PA-1012R (product of Ube Industries, Ltd.) were used.
【0024】図1にこのカラーフィルターを形成した基
板の分光透過率を示す。また、図2にカラーフィルター
の色度図を示す。FIG. 1 shows the spectral transmittance of the substrate provided with this color filter. Further, FIG. 2 shows a chromaticity diagram of the color filter.
【0025】実施例2 縦300mm、横300mm、厚さ1.1mmの青板ガ
ラス基板(研磨品)にポリアミド系の着色樹脂をスピナ
ー方法にて膜厚18000Åに塗布した。この着色樹脂
を塗布した基板を、80℃±2℃に温度を保ったホット
プレートにのせ3分間の仮硬化をさせた。その後、カラ
ーフィルターパターンの描画されたフォトマスクを用い
露光機により露光硬化させた。さらに、これを現像液に
て現像処理を行い、カラーフィルターパターンを得た。
このとき、未露光エリアの完全な除去は困難であるた
め、基板全面に弱冠の残渣が発生した。Example 2 A blue-colored glass substrate (polished product) having a length of 300 mm, a width of 300 mm, and a thickness of 1.1 mm was coated with a polyamide-based colored resin by a spinner method to a film thickness of 18,000 Å. The substrate coated with this colored resin was placed on a hot plate kept at a temperature of 80 ° C. ± 2 ° C. and temporarily cured for 3 minutes. Then, it was exposed and cured by an exposure machine using a photomask on which a color filter pattern was drawn. Further, this was developed with a developing solution to obtain a color filter pattern.
At this time, since it is difficult to completely remove the unexposed area, a weak crown residue was generated on the entire surface of the substrate.
【0026】この状態で、ホットプレートで250℃、
5分間加熱本硬化をした。さらに、本硬化後の基板をP
VAのブラシを用いて水浴中で残渣の除去を行った。そ
の後、ホットプレートで250℃、5分間の再加熱を行
い、次色の着色樹脂を塗布し、加熱仮硬化させたとこ
ろ、前色のパターンのハガレや、浮きが全く認められ
ず、良好なカラーフィルターパターンが得られた。In this state, a hot plate at 250 ° C.
The main curing was performed by heating for 5 minutes. Furthermore, the substrate after the main curing is
The residue was removed in a water bath using a VA brush. After that, reheating with a hot plate at 250 ° C. for 5 minutes, applying a coloring resin of the next color and preliminarily curing with heating, no peeling of the pattern of the previous color or floating was observed, and a good color was obtained. A filter pattern was obtained.
【0027】このようにして基板上にカラーフィルター
R(赤),G(緑),B(青)を形成し、この上に保護
膜を設け、さらに透明電極(セグメント電極)を形成
し、パターニングし、補助電極用のメタル電極を形成
し、その上に絶縁膜および配向膜を形成した。この基板
を、もう一方のコモン電極を形成し、メタル電極、絶縁
膜、配向膜を形成してある対向基板と貼り合わせ、強誘
電性液晶を注入、封口して作成した大面積ディスプレイ
は、パターンムラもなく、その色特性も非常に良好なも
のであった。In this way, color filters R (red), G (green) and B (blue) are formed on the substrate, a protective film is provided thereon, and further transparent electrodes (segment electrodes) are formed and patterned. Then, a metal electrode for the auxiliary electrode was formed, and an insulating film and an alignment film were formed thereon. A large area display created by bonding this substrate to another counter electrode on which the other common electrode is formed and having a metal electrode, an insulating film and an alignment film formed, and injecting and sealing the ferroelectric liquid crystal There was no unevenness and the color characteristics were also very good.
【0028】なお、着色樹脂材料としては、PA−10
12G、PA−1012B、PA−1012R(宇部興
産社製品)を用いた。As the colored resin material, PA-10
12G, PA-1012B, PA-1012R (product of Ube Industries, Ltd.) were used.
【0029】[0029]
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
感光性着色樹脂を用いてカラーフィルターを形成する際
に、加熱本硬化後の残渣除去工程の後、本硬化工程時と
同温度で再加熱処理することにより、次色の形成時に発
生しやすいカラーフィルターパターンのハガレや浮きが
発生せず、基板全面に渡ってムラのないかつ色特性の優
れた均一なパターンを形成することができた。As described above, according to the present invention,
When a color filter is formed using a photosensitive colored resin, a color that is likely to occur when the next color is formed by reheating at the same temperature as in the main curing step after the residue removal step after heating and main curing. No peeling or floating of the filter pattern occurred, and it was possible to form a uniform pattern having no unevenness and excellent color characteristics over the entire surface of the substrate.
【図1】本発明の実施例1の製造方法により作成された
カラーフィルターの分光特性を示す図である。FIG. 1 is a diagram showing spectral characteristics of a color filter created by a manufacturing method according to a first embodiment of the present invention.
【図2】本発明の実施例1の製造方法により作成された
カラーフィルターの色度図である。FIG. 2 is a chromaticity diagram of a color filter created by the manufacturing method according to the first embodiment of the present invention.
Claims (3)
散してなる着色樹脂を基板上に塗布し、フォトリソ工程
によりパターニングしてカラーフィルターを形成する方
法において、着色樹脂を基板上に塗布し、加熱仮硬化さ
せた後、露光、現像し、次いで加熱本硬化させた後、水
洗して基板上に残つた残渣を除去し、さらに再度加熱処
理することを特徴とするカラーフィルターの製造方法。1. A method of forming a color filter by coating a colored resin comprising a photosensitive resin in which at least a coloring material is dispersed on a substrate, and patterning by a photolithography process to form the color filter. A method for producing a color filter, which comprises heat-temporarily curing, exposing and developing, followed by heat-main curing, washing with water to remove residues left on the substrate, and heat treatment again.
200℃以上である請求項1記載のカラーフィルターの
製造方法。2. The method for producing a color filter according to claim 1, wherein the heating temperature in the reheating step is 200 ° C. or higher.
間が5分以上である請求項1記載のカラーフィルターの
製造方法。3. The method for producing a color filter according to claim 1, wherein the heat treatment time in the reheat treatment step is 5 minutes or more.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP31555892A JPH06148420A (en) | 1992-11-02 | 1992-11-02 | Production of color filter |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP31555892A JPH06148420A (en) | 1992-11-02 | 1992-11-02 | Production of color filter |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06148420A true JPH06148420A (en) | 1994-05-27 |
Family
ID=18066796
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP31555892A Pending JPH06148420A (en) | 1992-11-02 | 1992-11-02 | Production of color filter |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JPH06148420A (en) |
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1992
- 1992-11-02 JP JP31555892A patent/JPH06148420A/en active Pending
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