JPH06135874A - フェノールとアセトンとの反応生成物の処理方法 - Google Patents

フェノールとアセトンとの反応生成物の処理方法

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JPH06135874A
JPH06135874A JP4316350A JP31635092A JPH06135874A JP H06135874 A JPH06135874 A JP H06135874A JP 4316350 A JP4316350 A JP 4316350A JP 31635092 A JP31635092 A JP 31635092A JP H06135874 A JPH06135874 A JP H06135874A
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phenol
acetone
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distillation
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JP4316350A
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Koji Sakashita
幸司 坂下
Nobuyuki Suda
信幸 須田
Fumihiko Uemura
文彦 植村
Nobuo Moriya
信男 守屋
Akio Shindo
昭夫 進藤
Tsunemitsu Tanaka
恒光 田中
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Chiyoda Corp
Chiyoda Chemical Engineering and Construction Co Ltd
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Chiyoda Corp
Chiyoda Chemical Engineering and Construction Co Ltd
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  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】フェノールとアセトンとの反応工程で得られる
反応生成物の蒸留処理に際し、アセトンを塔頂成分とし
て分離するアセトン蒸留処理工程において見られるアセ
トンが塔底成分に混入するという問題あるいは循環アセ
トンに多量の水が混入するという問題を解決する。 【構成】フェノールとアセトンを酸触媒の存在下で反応
させて得られた反応生成物の処理方法において、該反応
生成物を第1蒸留処理工程において、未反応フェノール
及びビスフェノールAからなる塔底物と、未反応フェノ
ール、未反応アセトン及び水からなる塔頂物とに分離す
る工程と、該塔頂物を第2蒸留処理工程において、未反
応フェノール及び水からなる塔底物と、アセトンからな
る塔頂物に分離する工程からなり、該第1蒸留処理工程
における塔頂物中のフェノールの含有量を40重量%以
下に保持することを特徴とするフェノールとアセトンと
の反応生成物の処理方法。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、フェノールとアセトン
を酸触媒の存在下で反応させて得られる反応生成物の処
理方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】ビスフェノールA〔2,2−ビス(4′
−ヒドロキシフェニル)プロパン〕を得るために、塩酸
や強酸型イオン交換樹脂等の酸触媒の存在下、過剰のフ
ェノールにアセトンを反応させることは知られている。
この反応工程で得られる反応生成物は、ビスフェノール
A、未反応フェノール、未反応アセトン、水及び副生物
を含有する。この反応生成物は、通常、第1蒸留処理工
程に付され、アセトン、水及び重量(通常、60wt%
以上)のフェノールからなる混合物からなる塔頂成分
と、ビスフェノールA及びフェノールからなる塔底成分
とに分離される。そして、塔底成分はビスフェノールA
・フェノール結晶アダクトを析出させるために、晶析工
程に送られる(特公昭55−34779号公報)。
【0003】一方、前記塔頂成分は、さらに第2蒸留処
理工程に付され、アセトンからなる塔頂成分と、水とフ
ェノールからなる塔底成分とに分離される。分離された
アセトンは反応系に循環される。そして、第2蒸留処理
工程の塔底成分は、さらに第3蒸留処理工程に付され、
水からなる塔頂成分と、フェノールからなる塔底成分に
分離される。しかしながら、前記第2蒸留処理工程にお
いては、全アセトンを塔頂成分として分離することは困
難で、第2蒸留処理工程に供給されるアセトンの多量が
塔底成分に混入し、このため、第3蒸留処理工程におい
て塔頂成分として分離される水には、多量のアセトンが
混入するという不都合を生じる。また、第3蒸留処理工
程に多量のアセトンが導入されると、その分第3蒸留工
程の負荷が大きくなり、熱エネルギー的に不利になる。
一方、第2蒸留処理工程において、蒸留温度を高くし
て、全アセトンを塔頂に集めようとすると、多量の水も
塔頂に集まるようになるため、この場合には、反応系に
循環させるアセトンに多量の水が混入するという不都合
を生じる。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、フェノール
とアセトンとの反応工程で得られる反応生成物の蒸留処
理に際し、アセトンを塔頂成分として分離するアセトン
蒸留処理工程において見られるアセトンが塔底成分に混
入するという問題あるいは循環アセトンに多量の水が混
入するという問題を解決することをその課題とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明者は、前記課題を
解決すべく鋭意研究を重ねた結果、本発明を完成するに
至った。即ち、本発明によれば、フェノールとアセトン
を酸触媒の存在下で反応させて得られた反応生成物の処
理方法において、該反応生成物を第1蒸留処理工程にお
いて、未反応フェノール及びビスフェノールAからなる
塔底物と、未反応フェノール、未反応アセトン及び水か
らなる塔頂物とに分離する工程と、該塔頂物を第2蒸留
処理工程において、未反応フェノール及び水からなる塔
底物と、アセトンからなる塔頂物に分離する工程からな
り、該第1蒸留処理工程における塔頂物中のフェノール
の含有量を40重量%以下に保持することを特徴とする
フェノールとアセトンとの反応生成物の処理方法が提供
される。
【0006】次に、本発明を図面を参照しながら説明す
る。図1は、フェノールとアセトンとの反応工程から得
られる反応生成物の蒸留処理系統図を示す。図1におい
て、1は第1蒸留塔、2は第2蒸留塔、3は第3蒸留
塔、4は第4蒸留塔、5はフェノールとアセトンとの反
応装置、6は強酸型イオン交換樹脂処理装置、7は晶析
装置を示す。
【0007】フェノールとアセトンとの反応を行う反応
装置5で得られた生成物は、ライン10を通して、第1
蒸留処理工程を構成する第1蒸留塔1に導入される。反
応装置5から得られる反応生成物は、ビスフェノールA
の他、未反応フェノール、未反応アセトン、水及び副生
物を含むものである。この反応生成物における未反応フ
ェノールの含有量は60〜90wt%、好ましくは70
〜80wt%、未反応アセトンの含有量は0.1〜2.
0wt%、好ましくは0.5〜1.5wt%、水の含有
量は0.1〜2.0wt%、好ましくは0.5〜1.5
wt%である。また、ビスフェノールAの含有量は15
〜30wt%、好ましくは18〜25wt%であり、副
生物(ビスフェノールAの異性体等)の含有量は5〜1
5wt%、好ましくは5〜10wt%である。この反応
生成物は、第1蒸留塔1において、未反応フェノール、
ビスフェノールA及び副生物を含む塔底物(I)と、未
反応フェノール、未反応アセトン及び水を含む塔頂物
(I)とに分離される。
【0008】本発明においては、第1蒸留塔1は、その
塔頂物(I)中のフェノール含有量が40wt%以下、
好ましくは30wt%以下の範囲になるように操作す
る。これにより、第2蒸留塔2から得られる塔頂物(I
I)中の水含有量を5wt%以下、特に2wt%以下に
抑制することができる。第1蒸留塔1の塔頂物(I)の
成分組成を示すと、フェノール:40wt%以下、好ま
しくは30wt%以下、アセトン:20〜45wt%、
好ましくは30〜40wt%、水:20〜45wt%、
好ましくは30〜40wt%である。一方、第1蒸留塔
の塔底物(I)の成分組成を示すと、フェノール:55
〜80wt%、好ましくは65〜75wt%、ビスフェ
ノールA:18〜30wt%、好ましくは20〜25w
t%、副生物:5〜15wt%、好ましくは6〜10w
t%である。
【0009】前記第1蒸留塔1で得られた塔頂物(I)
はライン12を通って第2蒸留処理工程を構成する第2
蒸留塔2に導入され、一方、前記第1蒸留塔1で得られ
た塔底物(I)はライン11を通って第4蒸留塔4に導
入される。
【0010】第2蒸留塔2においては、アセトンが塔頂
物(II)として得られ、このものは、ライン13を通っ
て反応装置5に循環される。この循環アセトン中の水含
有量は、10wt%以下、好ましくは5wt%以下であ
る。一方、第2蒸留塔2の塔底からは、フェノールと水
との混合物からなる塔底物(II)が得られ、このものは、
ライン14を通って第3蒸留塔3に導入される。第2蒸
留塔2の塔底物(II)の成分組成は、フェノール:40〜
60wt%、好ましくは40〜50wt%、水:40〜
60wt%、好ましくは50〜60wt%であり、アセ
トンの含有量は1wt%以下である。
【0011】第3蒸留処理工程を構成する第3蒸留塔3
においては、塔頂物(III)として水が得られ、このもの
はライン17を通って排出される。一方、第3蒸留塔3
の塔底からは、フェノールからなる塔底物(III)が得ら
れるが、このものはライン16を通って強酸型イオン交
換樹脂処理装置6で処理された後、第4蒸留処理工程を
構成する第4蒸留塔4に導入される。また、この第3蒸
留塔3の塔底物(III)には、必要に応じ、未精製フェノ
ールをライン15を介して添加し、強酸型イオン交換樹
脂処理装置6に導入することができる。この場合、未精
製フェノールとしては、工業用フェノールや、晶析工程
で得られる母液フェノール、洗浄濾液フェノール等が挙
げられる。
【0012】強酸型イオン交換樹脂処理装置6において
は、その強酸型イオン交換樹脂が触媒となって、第3蒸
留塔3の塔底物(III)(フェノール)中に含まれる着色不
純物や着色不純物前駆体等の縮合性不純物が縮合反応し
て、タール状高沸点物に変換される。この場合、縮合性
不純物としては、ベンゾフラン等が挙げられる。強酸型
イオン交換樹脂としては、スルホン基を有するゲル型の
ものが用いられ、このような強酸型イオン交換樹脂は、
従来良く知られているものである。例えば、ロームアン
ドハース社から入手し得るアンバーライト及びアンバー
リストや、三菱化成社から入手し得るダイヤイオン等を
好ましく用いることができる。この強酸型イオン交換樹
脂を用いる塔底物(III)の処理は、強酸型イオン交換樹
脂を含む充填塔に流通させる方法や、強酸型イオン交換
樹脂を入れた撹拌槽に塔底物(III)を入れて撹拌する方
法等により実施することができる。処理温度は45〜1
50、好ましくは50〜100℃である。強酸型イオン
交換樹脂と塔底物(III)との接触時間は、5〜200
分、好ましくは15〜60分程度である。この強酸型イ
オン交換樹脂を用いて塔底物(III)の処理を行う場合、
塔底物(III)中に水分が混入すると、強酸型イオン交換
樹脂による不純物除去効果が悪化する。本発明において
は、前記のように、第3蒸留塔3において、水が塔頂物
として除去され、塔底物として得られるフェノール中に
は、水は殆ど含まれていないことから、その塔底物(II
I)の強酸型イオン交換樹脂処理は円滑に実施される。
【0013】強酸型イオン交換樹脂処理装置6で得られ
る処理生成物はライン18を通って第4蒸留処理工程を
構成する第4蒸留塔4に導入され、ここでフェノールが
塔頂物(IV)として取得される。また、この第4蒸留
塔4には、第1蒸留塔1の塔底物(I)がライン11を
通して導入される。この第4蒸留塔4の運転条件はフェ
ノールと高沸点物質とが完全に分離できる条件であるこ
とが必要があり、フェノール中に高沸点物質が混入しな
い条件で行う必要がある。この際、留意すべきポイント
は蒸留処理温度を190℃以下にすることである。19
0℃以下の温度であれば運転圧力は任意に設定される
が、通常50Torr〜760Torrの減圧ないし常
圧が採用される。運転温度が190℃をこえると高沸点
物質等の分解が著しくなり、留出フェノールの品質を低
下させるので好ましくない。この第4蒸留塔4において
は、導入されるフェノールの95重量%以上、好ましく
は99重量%以上が留出される。第4蒸留塔4の塔頂か
ら得られたフェノールは色相の良好なもので、その色相
APHAは、10以下である。この精製フェノールは、
図1に示すようにその少なくとも一部をライン19を通
して晶析装置7に循環して、高純度ビスフェノールAを
得るための結晶アダクトの洗浄液として使用できる他、
必要に応じ反応工程5に循環使用することができる。第
4蒸留塔4の底部からライン20を通って抜出される塔
底物(IV)は、通常、ビスフェノールを15〜30w
t%、好ましくは、20〜25wt%を含み、フェノー
ルを50〜80wt%、好ましくは65〜75wt%含
み、さらに高沸点物質を5〜15wt%以下の割合で含
む。このものは、晶析工程を構成する晶析装置7に導入
される。
【0014】晶析装置7においては、第4蒸留塔4の塔
底物(I)として得られたフェノールとビスフェノール
Aの混合物が冷却され、ビスフェノールAがフェノール
との結晶アダクトとして晶析され、この結晶アダクト
は、ライン19を通って導入される精製フェノールによ
り洗浄される。この晶析装置7で得られる結晶アダクト
はライン21を通って抜出され、晶析母液及び洗浄排液
として得られるフェノールは、必要に応じ、ライン22
を通って反応器5に循環することができる。
【0015】
【発明の効果】本発明によれば、第1蒸留塔1から得ら
れる塔頂物(I)中のフェノール含有量を40重量%以
下に保持したことにより、第2蒸留塔2に供給されるア
セトンの実質的全量を第2蒸留塔の塔頂物(II)として
分離することができ、第2蒸留塔2の塔底物には、実質
上アセトンの混入はなく、また、アセトンに対する多量
の水の混入もない。この結果、第3蒸留塔3において、
水のほぼ全量が塔頂物(II)として分離され、かつその
塔頂物(III)として分離される水にはアセトンの混入が
なく、その分離水からアセトンを除去するような面倒な
廃水処理の問題は解消される。また、本発明によれば、
第3蒸留塔内には、アセトンが存在しないため、効率よ
くその蒸留操作を行うことができる。
【0016】
【実施例】次に本発明を実施例によりさらに詳細に説明
する。
【0017】実施例1 図1に示す装置系統図に従って、反応装置5で得られた
フェノールとアセトンとの反応生成物を処理した。この
際に用いた主要な操作条件を図1に示したライン又は装
置との関係で以下に示す。 (1)ライン10を通る反応生成物 (i)成分組成 アセトン : 0.8 wt% 水 : 1.0 wt% フェノール : 73.6 wt% ビスフェノールA : 18.8 wt% その他 : 5.8 wt% (2)ライン12を通る塔頂物(I) (i)成分組成 アセトン : 29.0 wt% 水 : 38.8 wt% フェノール : 29.9 wt% その他 : 2.3 wt% (3)ライン13を通る塔頂物(II) (i)成分組成 アセトン : 89.7 wt% 水 : 2.1 wt% その他 : 8.2 wt% (4)ライン14を通る塔底物(II) (i)成分組成 水 : 55.5 wt% フェノール : 44.2 wt% その他 : 0.3 wt% (5)ライン17を通る塔頂物(III) (i)成分組成 水 : 99.7 wt% フェノール : 0.2 wt% その他 : 0.1 wt% (6)ライン16を通る塔底物(III) (i)成分組成 フェノール : 99.0 wt% その他 : 1.0 wt%
【0020】実施例2 第1蒸留塔1の運転条件を変化させて、ライン12を通
る塔頂物中のフェノール含有量を変化させるとともに、
ライン12を通る塔頂物中のフェノール含有量と、ライ
ン13を通る第2蒸留塔2の塔頂物中の水含有量との関
係を調べた。その結果を表1に示す。なお、この実験に
おいては、第2蒸留塔2の塔頂にほぼ全アセトンが集ま
る条件、即ち、ライン14を通る第2蒸留塔の塔底物
(II)中のアセトン含有量を1wt%以下に保持するよ
うに第2蒸留塔2を運転した。
【表1】
【図面の簡単な説明】
【図1】フェノールとアセトンとの反応生成物の蒸留処
理系統図である。
【符号の説明】 1,2,3,4 蒸留塔 5 反応装置 6 強酸型イオン交換樹脂処理装置 7 晶析装置
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 植村 文彦 神奈川県横浜市鶴見区鶴見中央二丁目12番 1号 千代田化工建設株式会社内 (72)発明者 守屋 信男 神奈川県横浜市鶴見区鶴見中央二丁目12番 1号 千代田化工建設株式会社内 (72)発明者 進藤 昭夫 神奈川県横浜市鶴見区鶴見中央二丁目12番 1号 千代田化工建設株式会社内 (72)発明者 田中 恒光 神奈川県横浜市鶴見区鶴見中央二丁目12番 1号 千代田化工建設株式会社内

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 フェノールとアセトンを酸触媒の存在下
    で反応させて得られる反応生成物の処理方法において、
    該反応生成物を第1蒸留処理工程において、未反応フェ
    ノール及びビスフェノールAからなる塔底物(I)と、
    未反応フェノール、未反応アセトン及び水からなる塔頂
    物(I)とに分離する工程と、該塔頂物(I)を第2蒸
    留処理工程において、未反応フェノール及び水からなる
    塔底物(II)と、アセトンからなる塔頂物(II)に分離
    する工程からなり、該第1蒸留処理工程における塔頂物
    (I)中のフェノールの含有量を40重量%以下に保持
    することを特徴とするフェノールとアセトンとの反応生
    成物の処理方法。
  2. 【請求項2】 該第2蒸留処理工程で得られた塔底物
    (II)を、第3蒸留処理工程において、フェノールから
    なる塔底物(III)と、水からなる塔頂物(III)分離する
    ことを特徴とする請求項1の方法。
  3. 【請求項3】 第3蒸留処理工程で得られた塔底物(II
    I)に、未精製フェノールを添加し、得られた混合物を
    強酸型イオン交換樹脂と接触させた後、第4蒸留処理工
    程において、タール状高沸点物からなる塔底物(IV)
    と、フェノールからなる塔頂物(IV)とに分離するこ
    とを特徴とする請求項2の方法。
  4. 【請求項4】 第1蒸留処理工程で得られた塔底物
    (I)を第4蒸留処理工程に導入する請求項2又は3の
    方法。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000154183A (ja) * 1998-09-10 2000-06-06 Basf Ag 3―(2’―アセトキシエチル)―ジヒドロ―2(3h)フラノンにおける不純物の除去方法
JP2005220094A (ja) * 2004-02-06 2005-08-18 Mitsubishi Chemicals Corp ビスフェノールaの製造方法
WO2007086224A1 (ja) 2006-01-27 2007-08-02 Idemitsu Kosan Co., Ltd. フェノール含有水の処理方法及び処理設備
JP2010537995A (ja) * 2007-08-29 2010-12-09 ダウ グローバル テクノロジーズ インコーポレイティド ビスフェノールa製造プロセスにおける循還流中のメタノールの低減方法

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