JPH06111302A - 磁気シールド膜の形成方法 - Google Patents
磁気シールド膜の形成方法Info
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- JPH06111302A JPH06111302A JP4277791A JP27779192A JPH06111302A JP H06111302 A JPH06111302 A JP H06111302A JP 4277791 A JP4277791 A JP 4277791A JP 27779192 A JP27779192 A JP 27779192A JP H06111302 A JPH06111302 A JP H06111302A
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Abstract
(57)【要約】
【構成】 磁気記録媒体に磁気情報保護のために設けら
れる磁気シールド膜を形成する方法であって、合成樹脂
のバインダーに磁性粒子を添加した塗料を所定の厚さで
磁気記録層上に塗布して塗膜を形成した後、この塗膜の
表面に、前記バインダーのガラス転移点以上の温度で平
滑な表面を押し付ける平滑化加工を施す。この平滑化加
工により、塗膜内に存在する磁気シールド粒子が塗膜表
面とほぼ平行な方向に配向される。 【効果】 磁気シールド膜内の磁気シールド粒子の配向
により磁気シールド効果が向上し、また磁気ヘッドと磁
気記録層との間の空間ロスがなくなって正確で安定した
書込み、読取り動作が行える。
れる磁気シールド膜を形成する方法であって、合成樹脂
のバインダーに磁性粒子を添加した塗料を所定の厚さで
磁気記録層上に塗布して塗膜を形成した後、この塗膜の
表面に、前記バインダーのガラス転移点以上の温度で平
滑な表面を押し付ける平滑化加工を施す。この平滑化加
工により、塗膜内に存在する磁気シールド粒子が塗膜表
面とほぼ平行な方向に配向される。 【効果】 磁気シールド膜内の磁気シールド粒子の配向
により磁気シールド効果が向上し、また磁気ヘッドと磁
気記録層との間の空間ロスがなくなって正確で安定した
書込み、読取り動作が行える。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、磁気記録層を磁気的
に保護し、一般の磁気ヘッドでは保護された磁気記録層
への記録・再生を不可能とするための磁気シールド膜を
形成する方法に関する。
に保護し、一般の磁気ヘッドでは保護された磁気記録層
への記録・再生を不可能とするための磁気シールド膜を
形成する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】磁気カードにおいて、磁気記録層を磁気
的にシールドすることにより、一般の磁気ヘッドでは保
護された磁気記録層への記録・再生を不可能とする目的
で、たとえば実公昭５８−４７５３号、実公昭５８−５
０４９０号公報等に示されているように、磁気記録層の
上に磁気シールド膜が設けられることがある。この磁気
シールド膜は、合成樹脂バインダーに、一般的にはフレ
ーク状をなす磁性体粒子を配合した塗料を塗布すること
により構成される。また磁気シールド膜の上に、その膜
面を強化する目的で保護層が設けられることもある。
的にシールドすることにより、一般の磁気ヘッドでは保
護された磁気記録層への記録・再生を不可能とする目的
で、たとえば実公昭５８−４７５３号、実公昭５８−５
０４９０号公報等に示されているように、磁気記録層の
上に磁気シールド膜が設けられることがある。この磁気
シールド膜は、合成樹脂バインダーに、一般的にはフレ
ーク状をなす磁性体粒子を配合した塗料を塗布すること
により構成される。また磁気シールド膜の上に、その膜
面を強化する目的で保護層が設けられることもある。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】従来の磁気カードの磁
気シールド膜において、合成樹脂に添加されるフレーク
状固体粒子は一般に数十μｍと比較的大きい粒径のもの
であるために、このフレーク状固体粒子を含有する塗料
を用いて形成された塗膜は、表面に大きい凹凸をゆうす
る。この大きすぎる凹凸は、磁気ヘッドと磁気記録層と
の間の距離を大きくするので、その表面に沿って磁気ヘ
ッドを走行させて磁気記録層に信号を書き込み、または
信号を読取る際に、得られる信号レベルを低下させると
ともに、レベル変動を生じさせる原因となる。
気シールド膜において、合成樹脂に添加されるフレーク
状固体粒子は一般に数十μｍと比較的大きい粒径のもの
であるために、このフレーク状固体粒子を含有する塗料
を用いて形成された塗膜は、表面に大きい凹凸をゆうす
る。この大きすぎる凹凸は、磁気ヘッドと磁気記録層と
の間の距離を大きくするので、その表面に沿って磁気ヘ
ッドを走行させて磁気記録層に信号を書き込み、または
信号を読取る際に、得られる信号レベルを低下させると
ともに、レベル変動を生じさせる原因となる。
【０００４】本発明は、磁気ヘッドにより信号を記録
し、または信号を読取る際に、磁気シールド膜の存在に
起因する信号のロスを小さくするとともに、磁気ヘッド
の円滑な移動を可能にする磁気シールド膜を形成する方
法を提供することである。
し、または信号を読取る際に、磁気シールド膜の存在に
起因する信号のロスを小さくするとともに、磁気ヘッド
の円滑な移動を可能にする磁気シールド膜を形成する方
法を提供することである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、基体に
設けた磁気記録層上に、合成樹脂のバインダーに磁気シ
ールド粒子を添加した塗料を所定の厚さで塗布して塗膜
を形成し、この塗膜の形成後、その表面に、バインダー
のガラス転移点以上の温度で平滑な表面を押し付けるこ
とにより、磁気シールド粒子をその偏平面が前記塗膜の
表面と平行になるように配向させた磁気シールド膜とす
ることを特徴とするシールド膜の形成方法が提供され
る。
設けた磁気記録層上に、合成樹脂のバインダーに磁気シ
ールド粒子を添加した塗料を所定の厚さで塗布して塗膜
を形成し、この塗膜の形成後、その表面に、バインダー
のガラス転移点以上の温度で平滑な表面を押し付けるこ
とにより、磁気シールド粒子をその偏平面が前記塗膜の
表面と平行になるように配向させた磁気シールド膜とす
ることを特徴とするシールド膜の形成方法が提供され
る。
【０００６】すなわち本発明の方法によれば、磁気シー
ルド膜を形成する材料として、合成樹脂のバインダーに
磁気シールド粒子を添加した塗料を使用し、この塗料を
所定の厚さで塗布して塗膜を形成し、この塗膜の表面
に、前記バインダーのガラス転移点以上の温度で平滑な
表面を押し付ける平滑化加工を施す。この平滑化加工に
より、塗膜形成直後にその表面に存在する磁気シールド
粒子は、その偏平な面が塗膜の表面と平行な方向に配向
される。この結果、塗膜の磁気シールド効果が格段に向
上する。さらに塗膜表面に存在していた凸部と凹部の高
さの差が縮小され、塗膜全体としての見掛けの厚さが減
少し、磁気ヘッドによる信号の書込みおよび読取り際の
空間ロスが減少するとともに、磁気ヘッドの走行も円滑
になり、正確で安定した書込み、読取りが可能になる。
ルド膜を形成する材料として、合成樹脂のバインダーに
磁気シールド粒子を添加した塗料を使用し、この塗料を
所定の厚さで塗布して塗膜を形成し、この塗膜の表面
に、前記バインダーのガラス転移点以上の温度で平滑な
表面を押し付ける平滑化加工を施す。この平滑化加工に
より、塗膜形成直後にその表面に存在する磁気シールド
粒子は、その偏平な面が塗膜の表面と平行な方向に配向
される。この結果、塗膜の磁気シールド効果が格段に向
上する。さらに塗膜表面に存在していた凸部と凹部の高
さの差が縮小され、塗膜全体としての見掛けの厚さが減
少し、磁気ヘッドによる信号の書込みおよび読取り際の
空間ロスが減少するとともに、磁気ヘッドの走行も円滑
になり、正確で安定した書込み、読取りが可能になる。
【０００７】この明細書において、「磁気シールド粒
子」という用語は、磁性体の粒子であって、Ｘ軸、Ｙ
軸、Ｚ軸の少なくとも１つの方向における長さが、他の
軸の方向における長さよりも著しく長い形状を有する粒
子を意味する。一般的には、最も適当な形状は偏平な板
状もしくはフレーク状であるが、棒状あるいは短繊維状
の粒子も使用することができる。
子」という用語は、磁性体の粒子であって、Ｘ軸、Ｙ
軸、Ｚ軸の少なくとも１つの方向における長さが、他の
軸の方向における長さよりも著しく長い形状を有する粒
子を意味する。一般的には、最も適当な形状は偏平な板
状もしくはフレーク状であるが、棒状あるいは短繊維状
の粒子も使用することができる。
【０００８】磁気カードを例にとって詳しく述べると、
本発明により磁気シールド膜が設けられた磁気カード
は、基本的にはカード状の基材と、この基材の表面に設
けられた磁気記録層と、この磁気記録層を磁気的に保護
するためにその上に設けられた磁気シールド膜とからな
るが、必要に応じて、磁気シールド膜の上に保護層を設
けることができる。この保護層は、磁気カードとして取
扱に適した物理的、化学的特性を与えるとともに、その
表面に接触する磁気ヘッドのヘッドタッチを改善するよ
うな性能を有するものである。
本発明により磁気シールド膜が設けられた磁気カード
は、基本的にはカード状の基材と、この基材の表面に設
けられた磁気記録層と、この磁気記録層を磁気的に保護
するためにその上に設けられた磁気シールド膜とからな
るが、必要に応じて、磁気シールド膜の上に保護層を設
けることができる。この保護層は、磁気カードとして取
扱に適した物理的、化学的特性を与えるとともに、その
表面に接触する磁気ヘッドのヘッドタッチを改善するよ
うな性能を有するものである。
【０００９】基材は、たとえばポリエチレンテレフタレ
ート、エポキシ樹脂、ポリアミド、ポリエチレン、ポリ
プロピレン、ポリイミド、ポリアセテート、ポリスチレ
ン、ポリ塩化ビニル、ポリカーボネート、ポリメタクリ
ル酸メチル等の合成樹脂類やコート紙、アート紙、ラミ
ネート紙、合成紙等の紙類から選択された材料を単独で
あるいは組み合わせてフィルム状、シート状あるいはカ
ード状にしたものを用いることができる。また基材の好
ましい厚さは５０μｍ〜１ｍｍ程度である。
ート、エポキシ樹脂、ポリアミド、ポリエチレン、ポリ
プロピレン、ポリイミド、ポリアセテート、ポリスチレ
ン、ポリ塩化ビニル、ポリカーボネート、ポリメタクリ
ル酸メチル等の合成樹脂類やコート紙、アート紙、ラミ
ネート紙、合成紙等の紙類から選択された材料を単独で
あるいは組み合わせてフィルム状、シート状あるいはカ
ード状にしたものを用いることができる。また基材の好
ましい厚さは５０μｍ〜１ｍｍ程度である。
【００１０】また磁気記録層としては、Ｂａ−フェライ
ト、Ｓｒ−フェライト、γ−酸化鉄等の磁性材料の粉末
を適当なバインダーに分散させた塗料を塗布して形成し
た公知のものを使用することができる。
ト、Ｓｒ−フェライト、γ−酸化鉄等の磁性材料の粉末
を適当なバインダーに分散させた塗料を塗布して形成し
た公知のものを使用することができる。
【００１１】磁気記録層の上に設けられる磁気シールド
膜は、ポリエステル系樹脂、セルロース系樹脂、ウレタ
ン系樹脂、ビニル系樹脂、エポキシ系樹脂、アクリル系
樹脂等の合成樹脂バインダーに、微細な固体粒子を添加
し、これを通常の塗布手段を用いて塗布し、乾燥後、表
面平滑化加工を施すことにより形成される。本発明方法
においては、この表面平滑化加工は、バインダーのガラ
ス転移点以上の温度で塗膜表面に、平滑な表面を有する
板またはロールを用いてプレス加工やカレンダー加工を
施すことにより行なわれる。この平滑化加工により、磁
気シールド膜内に存在する磁気シールド粒子は、その最
も長い面が磁気シールド膜の表面とほぼ平行になるよう
に配向され、この結果、隣接する磁気シールド粒子間の
空間がなくなり、きわめて良好な磁気シールド性能を有
するようになる。また磁気シールド膜の表面は、磁気シ
ールド粒子を含有しない層の平滑な表面よりもやや粗い
が、平滑化加工される前の表面よりも凹凸が微細になっ
ており、磁気ヘッドの走行に対してきわめて小さい抵抗
を保持しながら、磁気記録層に対する磁気ヘッドの距離
を一定に保ち、円滑で正確な書込み／読出し動作を行な
うことを可能にする。
膜は、ポリエステル系樹脂、セルロース系樹脂、ウレタ
ン系樹脂、ビニル系樹脂、エポキシ系樹脂、アクリル系
樹脂等の合成樹脂バインダーに、微細な固体粒子を添加
し、これを通常の塗布手段を用いて塗布し、乾燥後、表
面平滑化加工を施すことにより形成される。本発明方法
においては、この表面平滑化加工は、バインダーのガラ
ス転移点以上の温度で塗膜表面に、平滑な表面を有する
板またはロールを用いてプレス加工やカレンダー加工を
施すことにより行なわれる。この平滑化加工により、磁
気シールド膜内に存在する磁気シールド粒子は、その最
も長い面が磁気シールド膜の表面とほぼ平行になるよう
に配向され、この結果、隣接する磁気シールド粒子間の
空間がなくなり、きわめて良好な磁気シールド性能を有
するようになる。また磁気シールド膜の表面は、磁気シ
ールド粒子を含有しない層の平滑な表面よりもやや粗い
が、平滑化加工される前の表面よりも凹凸が微細になっ
ており、磁気ヘッドの走行に対してきわめて小さい抵抗
を保持しながら、磁気記録層に対する磁気ヘッドの距離
を一定に保ち、円滑で正確な書込み／読出し動作を行な
うことを可能にする。
【００１２】
【実施例】ポリエチレンテレフタレートの厚さ１８８μ
ｍの樹脂シートからなる基材の一方の表面に、厚さ６μ
ｍの磁気記録層を形成し、さらにこの磁気記録層の上
に、塗膜をそれぞれ厚さ２１μｍ、２４μｍ、および２
６μｍで形成した。
ｍの樹脂シートからなる基材の一方の表面に、厚さ６μ
ｍの磁気記録層を形成し、さらにこの磁気記録層の上
に、塗膜をそれぞれ厚さ２１μｍ、２４μｍ、および２
６μｍで形成した。
【００１３】塗膜の組成は下記のとおりである。
【００１４】 ポリウレタン系樹脂 １０ 重量部 溶媒 ３０ 重量部 鱗片状センダスト （平均粒径２５μｍ） ２．５重量部 得られた３種のサンプル１，２，３について、平滑に研
磨されたステンレス板を用いて平滑化加工を施した。プ
レス時の板表面の温度は１３０℃、圧力は２０Kg/cm2、
時間は１０分であった。
磨されたステンレス板を用いて平滑化加工を施した。プ
レス時の板表面の温度は１３０℃、圧力は２０Kg/cm2、
時間は１０分であった。
【００１５】各サンプルの平滑化加工前および加工後の
性質を表１に示す。
性質を表１に示す。
【００１６】
【表１】 なお磁気異方性エネルギーは、磁気シールド膜の磁化容
易方向と困難方向との磁化曲線の差を、単位体積当りの
エネルギーとして算出したもので、磁気シールド粒子の
配向特性の指標となる。また保磁力は、磁気シールド特
性の評価基準となる。表１の結果から、平滑化加工によ
り、磁気シールド粒子の配向特性および磁気シールド膜
の磁気シールド特性がともに向上していることが明らか
である。またサンプル１について、平滑化加工前および
後の表面および断面を電子顕微鏡で観察したところ、図
１の状態から図２の状態に変化し、表面が平滑になると
ともに、フレーク状の磁気シールド粒子の配向性が改善
されていることが分かった。また同サンプルの平滑化加
工前および後の表面の凹凸の大きさおよび分布をそれぞ
れ図３および図４の３次元チャートに示す。この図か
ら、加工前に存在していた表面の大きなうねりが平滑化
加工により小さくなり、均一に分布していることがわか
る。
易方向と困難方向との磁化曲線の差を、単位体積当りの
エネルギーとして算出したもので、磁気シールド粒子の
配向特性の指標となる。また保磁力は、磁気シールド特
性の評価基準となる。表１の結果から、平滑化加工によ
り、磁気シールド粒子の配向特性および磁気シールド膜
の磁気シールド特性がともに向上していることが明らか
である。またサンプル１について、平滑化加工前および
後の表面および断面を電子顕微鏡で観察したところ、図
１の状態から図２の状態に変化し、表面が平滑になると
ともに、フレーク状の磁気シールド粒子の配向性が改善
されていることが分かった。また同サンプルの平滑化加
工前および後の表面の凹凸の大きさおよび分布をそれぞ
れ図３および図４の３次元チャートに示す。この図か
ら、加工前に存在していた表面の大きなうねりが平滑化
加工により小さくなり、均一に分布していることがわか
る。
【００１７】また前記と同じ条件で磁気シールド膜を形
成し、さらに前記塗膜上に、粒径０．３μｍの酸化チタ
ンとポリエチレンワックスを分散させた塗料（酸化チタ
ン：ポリエチレン＝１：７）を厚さ３μｍで塗布し、つ
いで乾燥させて保護層とした。これに直接に前記と同じ
条件で加熱ステンレス板を押し付けて平坦化加工を行っ
たサンプルについても、前記と同等の効果が得られた。
成し、さらに前記塗膜上に、粒径０．３μｍの酸化チタ
ンとポリエチレンワックスを分散させた塗料（酸化チタ
ン：ポリエチレン＝１：７）を厚さ３μｍで塗布し、つ
いで乾燥させて保護層とした。これに直接に前記と同じ
条件で加熱ステンレス板を押し付けて平坦化加工を行っ
たサンプルについても、前記と同等の効果が得られた。
【００１８】
【発明の効果】以上のように本発明の方法によれば、合
成樹脂のバインダーに固体粒子を添加した塗料を所定の
厚さで塗布して塗膜を形成して乾燥させた後、この塗膜
の表面に、前記バインダーのガラス転移点以上の温度で
表面平滑化加工を施すことにより、塗膜表面に存在して
いた凸部と凹部の高さの差が縮小されて、塗膜全体とし
ての見掛けの厚さが減少し、磁気ヘッドによる信号の書
込みおよび読取り際の空間ロスが減少するとともに、磁
気ヘッドの走行も円滑になり、正確で安定した書込み、
読取りが可能になる。
成樹脂のバインダーに固体粒子を添加した塗料を所定の
厚さで塗布して塗膜を形成して乾燥させた後、この塗膜
の表面に、前記バインダーのガラス転移点以上の温度で
表面平滑化加工を施すことにより、塗膜表面に存在して
いた凸部と凹部の高さの差が縮小されて、塗膜全体とし
ての見掛けの厚さが減少し、磁気ヘッドによる信号の書
込みおよび読取り際の空間ロスが減少するとともに、磁
気ヘッドの走行も円滑になり、正確で安定した書込み、
読取りが可能になる。
【図１】平滑化加工されていない磁気シールド膜を示
し、（Ａ）はその表面、（Ｂ）はその断面をそれぞれ示
す説明図。
し、（Ａ）はその表面、（Ｂ）はその断面をそれぞれ示
す説明図。
【図２】平滑化加工後の磁気シールド膜を示し、（Ａ）
はその表面、（Ｂ）はその断面をそれぞれ示す説明図。
はその表面、（Ｂ）はその断面をそれぞれ示す説明図。
【図３】図１（Ａ）の表面を示す３次元チャート図。
【図４】図２（Ａ）の表面を示す３次元チャート図。
Claims (4)
- 【請求項１】 基体に設けた磁気記録層上に、合成樹脂
のバインダーに磁気シールド粒子を添加した塗料を所定
の厚さで塗布して塗膜を形成し、この塗膜の形成後、そ
の表面に、前記バインダーのガラス転移点以上の温度で
平滑な表面を押し付けることにより、前記磁気シールド
粒子をその偏平面が前記塗膜の表面と平行になるように
配向させたシールド膜とすることを特徴とするシールド
膜の形成方法。 - 【請求項２】 前記磁気シールド粒子がフレーク状、棒
状、または繊維状である請求項１に記載の方法。 - 【請求項３】 前記磁気シールド膜の上に保護層を設け
る工程を含む請求項１または２に記載の方法。 - 【請求項４】 前記保護層の表面にマット加工を施す工
程を含む請求項１に記載の方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4277791A JPH06111302A (ja) | 1992-09-24 | 1992-09-24 | 磁気シールド膜の形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4277791A JPH06111302A (ja) | 1992-09-24 | 1992-09-24 | 磁気シールド膜の形成方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06111302A true JPH06111302A (ja) | 1994-04-22 |
Family
ID=17588344
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4277791A Pending JPH06111302A (ja) | 1992-09-24 | 1992-09-24 | 磁気シールド膜の形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06111302A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008071244A (ja) * | 2006-09-15 | 2008-03-27 | Toppan Printing Co Ltd | Ｉｃカード及びｉｃカードの製造方法 |
| KR20140112800A (ko) * | 2013-03-14 | 2014-09-24 | 삼성전자주식회사 | 디지타이저 및 그 제조 방법 |
-
1992
- 1992-09-24 JP JP4277791A patent/JPH06111302A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008071244A (ja) * | 2006-09-15 | 2008-03-27 | Toppan Printing Co Ltd | Ｉｃカード及びｉｃカードの製造方法 |
| KR20140112800A (ko) * | 2013-03-14 | 2014-09-24 | 삼성전자주식회사 | 디지타이저 및 그 제조 방법 |
| US10761671B2 (en) | 2013-03-14 | 2020-09-01 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Digitizer and method of manufacturing the same |
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