JPH0572094A - Continuous measurement system for polution gas - Google Patents

Continuous measurement system for polution gas

Info

Publication number
JPH0572094A
JPH0572094A JP30728991A JP30728991A JPH0572094A JP H0572094 A JPH0572094 A JP H0572094A JP 30728991 A JP30728991 A JP 30728991A JP 30728991 A JP30728991 A JP 30728991A JP H0572094 A JPH0572094 A JP H0572094A
Authority
JP
Grant status
Application
Patent type
Prior art keywords
gas
measurement
air
humidity
temperature
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP30728991A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yoshiyuki Kato
喜之 加藤
Original Assignee
Amenitec:Kk
株式会社アメニテツク
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date

Links

Abstract

PURPOSE:To realize a continuous measurement of values corresponding to odor concentration measured in sensual tests and a continuous measurement of polution gas which automatically corrects water content in the measured gas. CONSTITUTION:The title system is constituted of a preprocessor part 1 and a measuring part 2. The preprocessor part 1 is constituted of a silica gel charger tank 3, a humidifier tank 4, a constant temperature tank 5, a flow controller 6 to control the mixing fraction of dry air and saturated air and a mixing tank 7 to mix uniformly the dry air and the saturated air. The measuring part 2 is constituted of a gas concentration detection sensor 8. By this, automatic correction of humidity in the measured gas and continuous measurement of gas concentration become possible. Also, by using a sensor for detecting gas concentration which has an organic film of bimolecular structure attached to a crystal oscillator, a continuous measurement of values corresponding to the odor concentration measured in sensual tests by the human sense of smell becomes possible.

Description

【発明の詳細な説明】 DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】 [0001]

【産業上の利用分野】本発明は公害ガス、臭気ガスなどの連続測定、監視に関する。 The present invention pollution gas BACKGROUND OF THE, continuous measurement of such odor gas, related to monitoring.

【0002】 [0002]

【従来の技術】従来、官能試験で測定される臭気濃度に対応する値の機器による連続測定は実現されていない。 Conventionally, continuous measurement by the device of the values ​​corresponding to the odor concentration measured by sensory test has not been realized.
また半導体センサーを用いて公害ガスを機器により連続測定する場合、測定ガス中の水分の影響が全く無視されているか測定後計算により水分量の補正をおこなっている。 In the case of continuous measurement of pollution gases by the device using a semiconductor sensor, is performed to correct the moisture content by calculation after measurement or the influence of moisture in the measurement gas is completely ignored.

【0003】 [0003]

【発明が解決しようとする課題】現在ガスセンサーあるいはニオイセンサーとして一般に半導体センサーあるいは脂質二分子膜センサーなどが利用されている。 In general a semiconductor sensor or lipid bilayer sensor is utilized as the current gas sensor or the odor sensor INVENTION Problems to Solved]. 水晶発振子に二分子構造の有機膜を添着したいわゆる脂質二分子膜センサーにおいては、ナノグラム単位のニオイを重量として測定可能であり、かつ人間の嗅細胞が二分子構造であることから人間の嗅覚で測定する官能試験の臭気濃度に対応する値が測定できる利点がある。 In the so-called lipid bilayer sensor impregnated with organic layer, and a molecular structure in the crystal oscillator, it can be measured odor nanograms as weight, and the human olfactory since human olfactory cells are bimolecular structure in the advantage that the value corresponding to the odor concentration of functional test that measures can be measured. しかし、測定ガス中の数十ppm(ppmは百万分の一の単位)のニオイの量を測定する場合にもその測定ガス中には温度にもよるが数千から数万ppmの水分が含まれ水分補正なしでニオイを測定することは困難であり、現実にはニオイを測定しているというより水分重量を測定しているといっても過言でない。 However, several tens of ppm (ppm is parts per million units) smell tens of thousands ppm of moisture from Thousands depending on the temperature during even the measurement gas when measuring the amount of the measurement gas is It included it is difficult to measure the odor without moisture correction, it is not exaggeration to say that in reality are measuring the moisture weight rather than to have to measure the odor. 同様に半導体センサーでも公知の事実として水分の影響が測定値に及ぼす影響が極めて大きく、ゼロ値を設定する標準空気の絶対湿度が測定ガスの絶対湿度と異なればその分誤差となってあらわれる。 Likewise very large Effect of moisture on the measurement value as a fact known in the semiconductor sensor, appears as a correspondingly error Different absolute humidity of the standard air setting a zero value and the absolute humidity of the measurement gas. しかし、測定ガス中の水分の影響を考慮した連続測定方法は実現されておらずゼロ値の設定に用いるべき標準空気すら使用されていない現実である。 However, continuous measurement method considering an influence of moisture measurement gas standard air to be used to set the zero value has not been realized even a reality not being used. 本発明は、測定ガス中に含まれる水分の量を自動的に補正することにより公害ガスの連続測定、監視を目的とするものである。 The present invention, continuous measurement of pollution gas by automatically correcting the amount of water contained in the measurement gas, it is an object of monitoring.

【0004】 [0004]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するためには、測定ガス中の水分量すなわち測定ガスの絶対湿度と等しい絶対湿度の空気を製造し、それを標準空気としてゼロ値の設定に用いれば測定値より水分の影響は自動的に補正できる。 To achieve SUMMARY OF for the above objects is to produce a moisture content i.e. air absolute humidity equal absolute humidity of the measurement gas in the measurement gas, which the setting of the zero value as the standard air influence of water than the measured value be used can be automatically corrected. 本発明では、上記目的を達成するため二つの方法を提案するものである。 In the present invention, it is to propose two methods for achieving the above object.

【0005】第1の方法は、任意の温度・湿度の測定ガス並びに標準空気の温度を恒温槽によってある特定の一定の温度、本発明では15℃又は25℃に変換し、測定ガスの絶対湿度と等しい絶対湿度をもった標準空気を造る方法である。 The first method converts the temperature of the measurement gas as well as the standard air arbitrary temperature and humidity specific certain temperature by a constant temperature bath, to 15 ℃ or 25 ° C. In the present invention, the absolute humidity of the sample gas it is a way to build a standard air having an absolute humidity equal to the. 温度が15℃又は25℃のガスあるいは空気を造るには、15℃又は25℃に制御された恒温槽へガス又は空気を通すことによって達成できる。 The temperature build 15 ℃ or 25 ° C. of gas or air may be accomplished by passing the gas or air to 15 ℃ or 25 ° C. to a controlled constant-temperature bath. すると、その温度における測定ガスの相対湿度・絶対湿度は定まる。 Then, relative humidity, absolute humidity of the sample gas at the temperature determined. 一方、同じ絶対湿度をもった標準空気を造るには、測定ガスの相対湿度がその温度でψ%のとき、同じ温度の全く水分を含まない乾燥空気の量とこれ以上水分を含めない飽和空気の量をそれぞれ(1−ψ/100) On the other hand, the same absolute produce standard air having humidity, when the relative humidity of the measurement gas is [psi% at that temperature, saturated free air at all, including the amount and more moisture dry air containing no moisture at the same temperature the amount of each of (1-ψ / 100)
とψ/100の割合で混合すれば達成できる。 If mixed in a ratio of [psi / 100 can be achieved. 乾燥空気の量と飽和空気の量を制御するには流量制御器によって達成できる。 To control the amount the amount of saturated air dry air can be achieved by a flow controller. また、乾燥空気を造るには十分なシリカゲル充填槽に空気を通すことによって得られる。 Also obtained by passing the air to a sufficient gel filled tank to produce dry air. また、十分な接触時間のある水中に空気を通すと湿度の飽和した飽和空気が得られる。 Further, saturated saturated air humidity is obtained when passing the air to a water sufficient contact time. このようにして造られた測定ガスの絶対湿度と等しい絶対湿度の標準空気を用い、水晶発振子に二分子構造の有機膜を添着したガス濃度検知センサーのゼロ値設定を行なうことによって官能試験で測定される臭気濃度に対応する値を連続測定することが可能となる。 In sensory test by performing this way using the absolute humidity of the standard air equal to the absolute humidity of the measurement gas was built, the organic layer zero value of the gas concentration detection sensor settings impregnated with bilayer structure crystal oscillator the measured value corresponding to the odor concentration is becomes possible to continuously measure. 測定部にガス濃度検知センサーとリファレンスセンサーを設置すれば常時連続測定が可能になり、リファレンスセンーを設置しない場合は測定プログラムにしたがった間欠連続測定となる。 The measuring unit enables always continuous measurement By installing the gas concentration detection sensor and the reference sensor, if not installed reference sensor over the intermittent continuous measurement in accordance with the measurement program. 測定ガスの温度を15℃ The temperature of the sample gas 15 ℃
又は25℃に設定する意義は亜硫酸ガスの測定値が15 Or measurement of significance sulfur dioxide to be set to 25 ° C. is 15
℃換算の測定値が規定されていること、さらに人間の嗅覚は25℃近辺で最も鋭敏であることから25℃の測定値は大きな意味をもっている。 ° C. the measured values ​​of the terms are defined, measured values ​​of 25 ° C. Since more human olfaction is most sensitive at around 25 ° C. has a significant meaning. さらに、二分子構造の有機膜を水晶発振子に添着したいわゆる脂質2分子膜センサーは30℃付近に温度変異点があるものもあり、30 Furthermore, so-called lipid bilayer sensor is affixed to the crystal oscillator and the organic layer, and a molecular structure is also what has temperature variations point of about 30 ° C., 30
℃以下での適用が望ましいからである。 ℃ is because the desired application in the following.

【0006】第2の方法は、任意の温度・湿度をもった測定ガスの絶対湿度と等しい標準空気を造る方法である。 The second method is a method of making the same standard air and the absolute humidity of the measurement gas having an arbitrary temperature and humidity. 半導体センサーを用いる場合は特に温度制限がない。 Not particularly temperature limitations in the case of using a semiconductor sensor. したがって、この場合は測定ガスをなんら変化させることなく、標準空気の温度・湿度を測定ガスの温度・ Therefore, without in this case to any change measurement gas, the temperature and the measured gas temperature and humidity of the standard air
湿度に変換する方法である。 It is a method to convert the humidity. 標準空気を造る方法は第1 How to build a standard air is first
の方法と全く同じであり、異なる点は恒温槽の温度を測定ガスの温度に等しく制御することである。 Is the same as the method at all, it differs is to control equal the temperature of the thermostatic bath to a temperature of the measurement gas. また、第1 In addition, the first
の方法では測定ガスを恒温槽に導き、恒温槽の温度における相対湿度の測定が必要であったが、第2の方法では、測定ガスを直接測定部に導くことである。 The method leads to measurement gas in a constant temperature bath, but the measurement of the relative humidity at the temperature of the thermostatic bath was necessary, in the second method is to direct the measuring gas to the direct measurement section. したがって、測定ガスの温度・湿度の測定は測定部において測定してもよく、また全く別の場所例えばガスの発生源で測定してもよい。 Therefore, measurement of the temperature and humidity of the measurement gas may be measured in the measurement unit, or may be determined in exactly the source of another location such as gas. 第2の方法においても、リファレンスセンサーを設ける場合は常時連続測定が可能であり、リファレンスセンサーを設置しない場合はプログラムにしたがった間欠連続測定となる。 In the second method, the case where the reference sensor is capable of always continuous measurement, if not installed reference sensor becomes intermittent continuous measurement in accordance with the program.

【0007】 [0007]

【実施例】本発明の実施例を図によって説明すると、1 When the embodiment of EXAMPLES The invention will be explained with reference to FIG., 1
図はガス濃度検出センサーが水晶発振子に二分子構造の有機膜を添着したセンサーで構成され、かつガス濃度が官能試験で測定される臭気濃度に対応する値を測定する公害ガスの連続測定システムを示す。 Figure consists of a sensor gas concentration detection sensor is impregnated with the organic layer, and a molecular structure in the crystal oscillator and continuous measurement system pollution gas measuring a value corresponding to the odor concentration the gas concentration is measured by a functional test, It is shown.

【0008】2図は恒温槽5の温度を測定ガスの温度と等しく制御する場合の公害ガスの連続測定方システムを示す。 [0008] Figure 2 shows a continuous measurement side system pollution gases in the case of controlling the same temperature of the thermostatic chamber 5 and the temperature of the measurement gas.

【0009】1図において、測定ガスはガス吸引ポンプ11によって前処理部1の測定ガス接続口20より系内に流入し、15℃又は25℃の一定の温度に保持された恒温槽5を通過する間に15℃又は25℃に調整され、 [0009] In Figure 1, the measurement gas flows into the system from the measurement gas connecting port 20 of the preprocessing unit 1 by the gas suction pump 11, passed through the thermostatic chamber 5 held at a constant temperature of 15 ℃ or 25 ° C. is adjusted to 15 ℃ or 25 ° C. during which,
温湿度センサー10によって相対湿度ψ%が測定される。 Relative humidity [psi% is measured by the temperature and humidity sensor 10. 一方、原料空気はエアポンプ14によって空気取入接続口21より系内に流入しエアフィルター13を通過したのち恒温槽5に設けられたシリカゲル充填槽3及び増湿槽4に送られる。 On the other hand, the feed air is fed to silica gel-filled tank 3 and the humidified chamber 4 provided in a constant temperature bath 5 after passing through the air filter 13 flows into the system from the incoming port 21 intake air by the air pump 14. シリカゲル充填槽では乾燥空気が造られ、増湿槽では飽和空気がつくられる。 The silica gel filled tank dry air is made, in the humidifying tank made saturated air. 乾燥空気と飽和付空気の割合は流量制御器6によって(1−ψ/1 Proportion of saturated with air and the dry air by flow controller 6 (1-ψ / 1
00)とψ/100の割合で制御され、混合槽7で均一に混合され測定ガスの絶対湿度と常に等しい絶対湿度の標準空気がつくられ測定部2に送られる。 00) and is controlled at a rate of [psi / 100, standard air absolute humidity always equal absolute humidity of the homogeneously mixed sample gas in the mixing tank 7 is sent to the measurement section 2 is made.

【0010】測定部2においては、ゼロ値設定・洗浄工程と測定工程の2工程に分けられる。 [0010] In the measurement unit 2 is divided into two steps of a zero value setting-washing step and measurement step.

【0011】ゼロ値設定・洗浄工程ではガス吸引ポンプ11及び12が作動すると、電磁弁15、17及び19 [0011] Gas suction pump 11 and 12 at zero value setting-cleaning process is activated, the solenoid valve 15, 17 and 19
が開き電磁弁16及び18は閉じた状態になる。 It becomes closed solenoid valve 16 and 18 opens. 前処理部1でつくられた測定ガスと絶対湿度の等しい標準空気はガス濃度検出センサー8及びリファレンスセンサー9 Before equal standard air processing unit measuring gas and absolute humidity made with 1 gas concentration detection sensor 8 and the reference sensor 9
に送られ各センサーを洗浄したのち、ガス吸引ポンプ1 After sent washed each sensor, the gas suction pump 1
2によって系外に排出される。 2 by being discharged out of the system.

【0012】測定工程ではカス吸引ポンプ11は停止、 [0012] scum suction pump 11 is stopped in the measurement process,
ガス吸引ポンプ12が作動している。 Gas suction pump 12 is operating. 電磁弁15、17 Electromagnetic valve 15, 17
及び19は閉じ、電磁弁16及び18が開く。 And 19 closed, solenoid valve 16 and 18 opens. 測定ガスの絶対湿度と等しい標準空気はエアポンプ14によってリファレンスセンサー9、電磁弁18を経由して系外に排出される。 Absolute humidity equal to standard air measurement gas reference sensor 9 by the air pump 14, and is discharged out of the system via a solenoid valve 18. 測定ガスはガス吸引ポンプ12によって電磁弁16、ガス濃度検出センサー8を経由して系外に排出される。 Measurement gas is discharged from the system via a solenoid valve 16, the gas concentration detection sensor 8 by the gas suction pump 12.

【0013】第1の方法を用いて測定した結果を表1に示す。 [0013] Table 1 shows the results of measurement using the first method.

【0014】 [0014]

【表1】 [Table 1]

【0015】第2図において半導体センサーを用いる場合、測定部2はゼロ値設定工程、測定工程及びパージ工程の3工程に分かれる。 [0015] When using a semiconductor sensor in Fig. 2, the measurement section 2 is divided into three steps of zero value setting step, measurement step and purge step.

【0016】ゼロ値設定工程では、電磁弁16、17及び19が開き、電磁弁15及び18は閉じた状態となる。 [0016] In the zero-value setting step, it opens the solenoid valve 16, 17 and 19, the closed electromagnetic valve 15 and 18. ガス吸引ポンプ11及び12が作動する。 Gas suction pump 11 and 12 is activated. 測定ガスはガス吸引ポンプ11によって測定ガス接続口20より系内に流入し、電磁弁17を経由して温湿度センサー1 Measurement gas flows into the system from the measurement gas connecting port 20 by the gas suction pump 11, the temperature and humidity sensor 1 via the solenoid valve 17
0によって温度・湿度が測定されたのち系外に排出される。 0 temperature and humidity is discharged out later system measured by. なお温湿度センサーは必ずしも測定部2に設置される必要はなく、全く別の場所ガス発生源等に設置されていてもよい。 Incidentally temperature and humidity sensor is not necessarily installed in the measurement section 2, it may be installed completely different location gas source or the like. 測定された温度・湿度は電気信号として前処理部1に伝達される。 Measured temperature and humidity are transmitted to the preprocessing unit 1 as an electrical signal. 前処理部1では 測定ガスの温度と等しくなるよう恒温槽5の温度が制御され、同時に測定ガスの相対湿度ψ%にしたがって乾燥空気と飽和空気の量が(1−ψ/100)とψ/100の割合で流量制御器6によって制御され混合槽7で均一に混合されて測定ガスの絶対湿度と等しい標準空気が造られ 測定部2へ送られ、電磁弁16、ガス濃度検知センサー8、電磁弁19を経由して系外に排出される。 Preprocessing section temperature of thermostatic chamber 5 to be equal to the temperature of 1, the measurement gas is controlled, the amount of saturated air and dry air in accordance with a relative humidity of [psi% of the measurement gas at the same time (1-ψ / 100) and [psi / at a rate of 100 is uniformly mixed in the mixing tank 7 is controlled by the flow controller 6 is the absolute humidity equal to standard air measuring gas is sent to the forged measurement unit 2, the solenoid valve 16, the gas concentration detection sensor 8, an electromagnetic via a valve 19 and is discharged out of the system.

【0017】測定工程では ガス吸引ポンプ11及びエアポンプ14は停止し、ガス吸引ポンプ12が作動する。 The gas suction pump 11 and air pump 14 in the measuring step is stopped and the gas suction pump 12 is operated. 電磁弁16、17及び18は閉じ、電磁弁15及び19は開いた状態となる。 Solenoid valves 16, 17 and 18 are closed, the solenoid valve 15 and 19 is in a state of open. 測定ガスはガス吸引ポンプ1 Measurement gas is a gas suction pump 1
2によって、電磁弁15、19を経由して系外に排出される。 By 2, and is discharged out of the system via a solenoid valve 15 and 19.

【0018】パージ工程ではガス吸引ポンプ11及び1 The gas suction pump 11 and 1 in the purge step
2は停止し、エアポンプ14が作動する。 2 stops, the air pump 14 is operated. 電磁弁15、 Electromagnetic valve 15,
17及び19が閉じ、電磁弁16及び18が開いた状態となる。 17 and 19 are closed, a state of the solenoid valves 16 and 18 are opened. 前処理部1では飽和空気の流量が流量制御器6 Before the processing unit 1 the flow rate of the saturated air flow controller 6
によりゼロとなり、すべての流量が乾燥空気として製造され、測定部2に送られ、電磁弁16、ガス濃度検知センサー8、電磁弁18を経由して系外に排出される。 Becomes zero, all the flow will be produced as a dry air is sent to the measurement section 2, the electromagnetic valve 16, the gas concentration detection sensor 8, and is discharged out of the system via a solenoid valve 18. リファレンスセンサー9を設置する場合は常時連続測定が可能であり、リファレンスセンサーを設置しない場合は測定プログラムによる間欠連続測定となる。 When installing a reference sensor 9 is capable of always continuous measurement, if not installed reference sensor becomes intermittent continuous measurement by the measurement program.

【0019】 [0019]

【作用】前処理部1を設けることにより常に測定ガスの絶対湿度と等しい標準空気が製造でき、測定ガス中の水分を自動補正できる。 [Action] can standard air preparation equals the absolute humidity of the pre-processing unit always measured gas by providing a 1, a water content in the measurement gas can be automatically corrected. 前処理部におけるシリカゲル充填槽は湿度ゼロの乾燥空気をつくる作用し、増湿槽は飽和湿度の空気をつくる作用をする。 Silica gel plug tank in the pretreatment unit acts make dry air humidity zero, increasing humidity vessel acts to make air saturation humidity. 恒温槽は取入空気を測定ガスの温度と等しくする作用があり、流量制御器は測定ガスの絶対湿度と等しい標準空気を製造するための混合割合を決める作用があり、混合槽は測定ガスの絶対湿度と等しい標準空気をつくる作用がある。 Thermostatic bath has the effect of equalizing the temperature of the measurement gas intake air flow controller has the effect of determining the mixing ratio for producing the same standard air and the absolute humidity of the measurement gas, the mixing vessel of the measurement gas It has the effect of making the absolute humidity equal to standard air. また、恒温槽の温度を15℃の一定の温度に制御し測定ガスの温度を15℃にすることは亜硫酸ガスの測定値が常に15℃に換算した値を求める規定に対応できる作用がある。 Further, to the temperature control and measurement gas at a constant temperature of the temperature of the thermostatic chamber 15 ℃ to 15 ℃ has the effect to accommodate provisions for obtaining a value converted always 15 ℃ measured value of sulfur dioxide. また恒温槽の温度を25℃の一定の温度に制御し、測定ガスの温度を25℃にすることは官能試験で臭気を最も鋭敏に感じる温度であり、かつガス濃度検出センサーとして水晶発振子に二分子構造の有機膜を添着したセンサーを用いることは、官能試験で測定される臭気濃度に対応する値が得られる作用をする。 The temperature of the thermostatic chamber controlled at a constant temperature of 25 ° C., to a temperature of the measurement gas to 25 ° C. is the most sensitive feel temperature odor in sensory tests, and the crystal oscillator as a gas concentration detection sensor the use of sensors impregnated with organic layer, and a molecular structure acts to values ​​corresponding to the odor concentration measured by sensory test is obtained.

【0020】 [0020]

【効果】測定ガスの水分に影響されない公害ガスの連続測定が可能となる。 [Effect] it is possible to continuous measurement of the moisture is not affected by the pollution gas of the measurement gas.

【0021】 [0021]

【図面の簡単な説明】 BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS

【図1】水晶発振子に二分子構造の有機膜を添着したセンサーを用い、官能試験で測定される臭気濃度に対応する値を測定する公害ガスの連続測定方システムである。 [1] using the sensor impregnated with organic layer, and a molecular structure in the crystal oscillator, a continuous measurement side system pollution gas measuring a value corresponding to the odor concentration measured by sensory test.

【図2】半導体センサを利用し測定ガスの水分に影響されない公害ガスの連続測定システムである。 2 is a continuous measurement system moisture is not affected by pollution gas measurement gas using a semiconductor sensor.

【符号の説明】 DESCRIPTION OF SYMBOLS

1 前処理部 2 測定部 3 シリカゲル充填槽 4 増湿槽 5 恒温槽 6 流量制御器 7 混合槽 8 ガス濃度検知センサー 9 リファレンスセンサー 10 温湿度センサー 11 12 ガス吸引ポンプ 13 エアフィルター 14 エアポンプ 15 16、17、18、19 電磁弁 20 測定ガス接続口 21 空気取入接続口 22 連絡配管 1 pre-processing unit 2 measuring unit 3 silica gel filling tank 4 up humidity bath 5 thermostatic chamber 6 flow controller 7 mixing tank 8 gas concentration detection sensor 9 the reference sensor 10 temperature and humidity sensor 11 12 gas suction pump 13 Air Filter 14 air pump 15 16, 17, 18, 19 solenoid valve 20 measured gas connecting port 21 air intake joint 22 connecting pipe

Claims (5)

    【特許請求の範囲】 [The claims]
  1. 【請求項1】 測定ガスの絶対湿度と等しい絶対湿度をもった空気を製造するための前処理部1と測定ガスのガス濃度を検出する測定部2で構成されることを特徴とした公害ガスの連続測定システム。 1. A pollution gas characterized in that it is constituted by a measuring unit 2 for detecting a gas concentration of the pre-processing unit 1 and the measurement gas for the production of absolute humidity equal absolute humidity with air gas measurement continuous measurement system.
  2. 【請求項2】 前処理部1は乾燥空気を製造するシリカゲル充填槽3、飽和湿度の空気を製造する増湿槽4、温度を一定に保つための恒温槽5、乾燥空気と飽和湿度の空気の量を制御する流量制御器6ならびに乾燥空気と飽和湿度の空気を均一に混合する混合槽7で構成され、シリカゲル充填槽3で造られる乾燥空気の量と増湿槽4で造られる飽和湿度の空気の量の混合割合が測定ガスの相対湿度をψ%とするとき流量制御器6によって(1−ψ 2. A pre-processing unit 1 silica gel filling tank 3 for producing dry air, humidified chamber 4 to produce air saturation humidity thermostatic chamber 5 for maintaining the temperature constant, dry air and air saturation humidity It consists of a mixing tank 7 for mixing of an amount for controlling the flow controller 6 as well as the dry air and saturated humidity air uniformly, saturated humidity, built in an amount and humidified chamber 4 of the drying air, built on silica gel filling tank 3 the flow controller 6 when the mixing ratio of the amount of air to a relative humidity of the measurement gas and ψ% (1-ψ
    /100)とψ/100の割合で自動制御され、混合槽7で均一に混合されたのち、測定部2に設けられたガス濃度検知センサー8に送られることを特徴とした請求項1記載の公害ガスの連続測定システム。 / 100) and is automatically controlled at a rate of [psi / 100, after being homogeneously mixed in the mixing tank 7, according to claim 1 wherein characterized in that is sent to the gas concentration detection sensor 8 provided in the measurement unit 2 continuous measurement system of pollution gas.
  3. 【請求項3】 前処理部1の恒温槽5の温度が15℃又は25℃の一定の温度に制御されることを特徴とした請求項2記載の公害ガスの連続測定システム。 3. A continuous measurement system pollution gas pretreatment unit 1 according to claim 2, wherein the temperature of the thermostatic chamber 5 is being controlled at a constant temperature of 15 ℃ or 25 ° C..
  4. 【請求項4】 測定部2のガス濃度検知センサー8が水晶発振子に二分子構造の有機膜を添着したセンサーで構成され、かつガス濃度が官能試験で測定される臭気濃度に対応する値を測定することを特徴とした請求項3記載の公害ガスの連続測定システム。 4. A gas concentration detection sensor 8 of the measurement unit 2 is constituted by a sensor which is impregnated with the organic layer, and a molecular structure in the crystal oscillator, and the values ​​which the gas concentration corresponding to the odor concentration measured by sensory test continuous measuring system according to claim 3, wherein the pollution gas and measuring.
  5. 【請求項5】 前処理部1の恒温槽5の温度が測定ガスの温度と等しく制御されることを特徴とした請求項2記載の公害ガスの連続測定システム。 5. The continuous measurement system preprocessing unit 1 of the pollution gas of claim 2, wherein the temperature of the thermostatic chamber 5 is characterized in that it is temperature equal control of the measurement gas.
JP30728991A 1991-09-10 1991-09-10 Continuous measurement system for polution gas Pending JPH0572094A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP30728991A JPH0572094A (en) 1991-09-10 1991-09-10 Continuous measurement system for polution gas

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP30728991A JPH0572094A (en) 1991-09-10 1991-09-10 Continuous measurement system for polution gas

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH0572094A true true JPH0572094A (en) 1993-03-23

Family

ID=17967344

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP30728991A Pending JPH0572094A (en) 1991-09-10 1991-09-10 Continuous measurement system for polution gas

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0572094A (en)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07198641A (en) * 1993-12-27 1995-08-01 Agency Of Ind Science & Technol Method of identifying chemical/physical value and device therefor
JP2006030167A (en) * 2004-06-15 2006-02-02 Seiko Instruments Inc Micro-chip system
US7216527B2 (en) 2002-05-28 2007-05-15 Sony Corporation Gas detection device
CN104267018A (en) * 2014-10-27 2015-01-07 武汉四方光电科技有限公司 Method for processing gas concentration signal in Raman gas analyzer

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07198641A (en) * 1993-12-27 1995-08-01 Agency Of Ind Science & Technol Method of identifying chemical/physical value and device therefor
US7216527B2 (en) 2002-05-28 2007-05-15 Sony Corporation Gas detection device
JP2006030167A (en) * 2004-06-15 2006-02-02 Seiko Instruments Inc Micro-chip system
CN104267018A (en) * 2014-10-27 2015-01-07 武汉四方光电科技有限公司 Method for processing gas concentration signal in Raman gas analyzer

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4419190A (en) Method and apparatus to measure the operating temperature of solid electrolyte-type gas sensors
US5072737A (en) Method and apparatus for metabolic monitoring
US5235843A (en) Method and apparatus for analyzing volatile chemical components in a liquid
Hussam et al. Rapid and precise method for the measurement of vapor/liquid equilibria by headspace gas chromatography
US2621671A (en) Electrolytic titrimeter
EP0215669A2 (en) Analytical device and method for analysis of biochemicals, microbes and cells
EP0330892A2 (en) Dialysis system
US6355150B1 (en) Analyzer for measuring H2S and its use for a sulfur oxidation reactor
US4775634A (en) Method and apparatus for measuring dissolved organic carbon in a water sample
US4713618A (en) On-line calibration system for chemical monitors
US6374662B1 (en) Devices and methods for measuring odor
US5755939A (en) Polyion sensor with molecular weight differentiation
CN1453584A (en) Fast non-destructive detection method and device of food smell based on gas sensor array technology
CN1687765A (en) Portable gas detector
US2949345A (en) Sulfur dioxide determination
US5608154A (en) Carbon monoxide sensor
US4972730A (en) System for dosing and determining saturation pressure in a volumetric sorption analyzer
US6494077B2 (en) Odor identifying apparatus
CN101393099A (en) Continuous measurement method for tobacco moisture percentage and apparatus thereof
Chiou et al. Amperometric SO2 gas sensors based on solid polymer electrolytes
Bergströ A computerized automatic apparatus for determination of mercury in biological samples
US3611790A (en) Method and apparatus for quantitative analysis
US20030172716A1 (en) Method and device for the monitoring of gases
US4454229A (en) Determination of the acid-base status of blood
US4833909A (en) Gas-sensing apparatus