JPH0559537B2 - - Google Patents

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JPH0559537B2
JPH0559537B2 JP63094517A JP9451788A JPH0559537B2 JP H0559537 B2 JPH0559537 B2 JP H0559537B2 JP 63094517 A JP63094517 A JP 63094517A JP 9451788 A JP9451788 A JP 9451788A JP H0559537 B2 JPH0559537 B2 JP H0559537B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
filament
heater
power source
power
discharge
Prior art date
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Expired - Lifetime
Application number
JP63094517A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH01267943A (ja
Inventor
Koji Matsunaga
Fumio Fukumaru
Hiroshi Inami
Yutaka Inai
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology AIST
Original Assignee
Agency of Industrial Science and Technology
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Publication date
Application filed by Agency of Industrial Science and Technology filed Critical Agency of Industrial Science and Technology
Priority to JP63094517A priority Critical patent/JPH01267943A/ja
Publication of JPH01267943A publication Critical patent/JPH01267943A/ja
Publication of JPH0559537B2 publication Critical patent/JPH0559537B2/ja
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  • Electron Sources, Ion Sources (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、イオン源およびそれ用の電源を備
えるイオン源装置装置に関する。
〔従来の技術〕
この種のイオン源装置の従来例を第2図に示
す。
イオン源2は、プラズマ容器4とその開口部付
近に設けたイオンビーム20引出し用の電極6と
によつて構成されたプラズマ生成室8、その中に
設けたフイラメント10およびプラズマ生成室8
を(より厳密に言えばそれを構成するプラズマ容
器4および電極6を)加熱するヒータ12を有し
ている。
そして、フイラメント10にその加熱用のフイ
ラメント電源14を、フイラメント10とプラズ
マ容器4間に両者間でアーク放電を起こさせるた
めの放電電源16を、ヒータ12にその加熱用の
ヒータ電源18をそれぞれ接続している。
プラズマ生成室8内を真空排気すると共にそこ
に図示しない導入口から蒸気またはガス状のイオ
ン源物質を導入し、かつフイラメント10および
ヒータ12に通電してプラズマ生成室8内が熱平
衡状態に達した後フイラメント10とプラズマ容
器4間でアーク放電を起こさせると、イオン源物
質がプラズマ化されてプラズマ生成室8内にプラ
ズマが生成され、そこから電極6によつて電界の
作用でイオンビーム20が引き出される。
〔発明が解決しようとする課題〕
ところが上記イオン源2においては、フイラメ
ント10およびヒータ12を所定の通電状態に設
定してプラズマ生成室8内が熱平衡状態に達した
後アーク放電を開始すると、その放電電力が新た
な熱入力追加分となつてプラズマ生成室8内温度
の過渡的上昇をもたらし、これによつてプラズマ
生成室8内の気体密度が変化して放電状態が変化
する。
この変化は、イオン源物質が、プラズマ生成室
8内温度領域における飽和蒸気圧が10-4〜10-1
Torr程度となる物質(例えば室温〜数百℃にお
けるリンP4)の場合、あるいは解離により上記
物質を生成する化合物(例えばホスフインPH3
の場合に顕著となる。
これに対しては、放電電力による熱入力増加分
を、フイラメント10に供給するフイラメント電
力の調整によつて抑える方法もあるが、フイラメ
ント電力は放電電力と密接な関係があるため、そ
れを独立に調整することは不可能である。
結果として、従来のイオン源装置では、放電状
態を所望とする状態に設定するまでに試行錯誤的
かつ人的操作が必要であり、そのためイオン源2
の定常運転開始までに多大の労力と時間とを要し
ていた。
そこでこの発明は、プラズマ生成室内温度の過
渡的変化を自動的に抑えることによつて、放電状
態を速やかに所望状態に設定することができるよ
うにしたイオン源装置を提供することを主たる目
的とする。
〔課題を解決するための手段〕
上記目的を達成するため、この発明のイオン源
装置は、前述したようなフイラメント電源、放電
電源およびヒータ電源から出力する電力を計測し
てそれらの総和を求め、この総和が所定値になる
ように前記ヒータ電源から出力する電力を制御す
る制御手段を設けたことを特徴とする。
〔作用〕
上記構成によれば、放電開始によつてプラズマ
生成室内に新たな熱入力が追加されても、制御手
段によつてヒータ電源から出力する電力が制御さ
れ、フイラメント電源、放電電源およびヒータ電
源から出力する電力の総和、即ちプラズマ生成室
内へ投入する電力の総和が所定値に維持される。
その結果、プラズマ生成室内温度の過渡的変化が
自動的に抑えられるので、放電状態を速やかに所
望状態に設定することができるようになる。
〔実施例〕
第1図は、この発明の一実施例に係るイオン源
装置を示す図である。第2図の例と同一または相
当する部分には同一符号を付し、以下においては
従来例との相違点を主に説明する。
この実施例においては、前述したような制御手
段を、フイラメント電源14、放電電源16、ヒ
ータ電源18の出力側にそれぞれ設けた電力計測
回路24,26,28およびそれらとヒータ電源
18とに接続された制御回路30によつて構成し
ている。
電力計測回路24は、電圧計測器24a、電流
計測器24bおよび電力演算器24cを有してお
り、フイラメント電源14から出力する電力を計
測する。電力計測回路26および28もそれと同
様の構成をしており、放電電源16およびヒータ
電源18から出力する電力をそれぞれ計測する。
制御回路30は、各電力計測回路24,26,
28によつて計測した電力の総和を演算し、かつ
その総和を所定の設定値と比較して、両者が一致
するようにヒータ電源18から出力する電力を制
御(増減)する。
上記構成によれば、フイラメント10およびヒ
ータ12に通電してプラズマ生成室8内が熱平衡
状態に達した後、フイラメント10とプラズマ容
器4間のアーク放電開始による放電電力によつて
プラズマ生成室8内に新たな熱入力が追加されて
も、制御回路30によつてヒータ電源18から出
力する電力が制御され、それによつてフイラメン
ト電源14、放電電源16およびヒータ電源18
から出力する電力の総和、即ちプラズマ生成室8
内へ投入する電力の総和が所定の設定値に維持さ
れる。
その結果、プラズマ生成室8内温度の過渡的変
化が自動的に最小限に抑えられるので、放電状態
を速やかに所望状態に設定することができるよう
になり、イオン源2の定常運転開始までの労力お
よび時間を従来の装置に比べて大幅に軽減するこ
とができるようになる。
また、イオン源2の運転中に、予測不可能な原
因によつて放電電力が増大した場合でも、必要以
上にプラズマ生成室8内温度が上昇する危険性が
無いので、放電状態の安定性、ひいてはイオンビ
ーム20のビーム量の安定性が向上する他、プラ
ズマ容器4や電極6等の構造物が熱的に破壊され
るようなトラブルの発生も防止される。
〔発明の効果〕
以上のようにこの発明によれば、上述したよう
な制御手段を設けることによつて、プラズマ生成
室内温度の過渡的変化が自動的に抑えられるの
で、放電状態を速やかに所望状態に設定すること
ができるようになり、その結果イオン源の定常運
転開始までの労力および時間を大幅に軽減するこ
とができるようになる。
また、イオン源運転中の放電電力の不測の増大
に対しても対処することができるようになる。
【図面の簡単な説明】
第1図は、この発明の一実施例に係るイオン源
装置を示す図である。第2図は、従来のイオン源
装置の一例を示す図である。 2……イオン源、4……プラズマ容器、6……
電極、8……プラズマ生成室、10……フイラメ
ント、12……ヒータ、14……フイラメント電
源、16……放電電源、18……ヒータ電源、2
4,26,28……電力計測回路、30……制御
回路。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 プラズマ容器とその開口部付近に設けたイオ
    ンビーム引出し用の電極とによつて構成されたプ
    ラズマ生成室、その中に設けたフイラメントおよ
    びプラズマ生成室を加熱するヒータを有するイオ
    ン源と、前記フイラメントを加熱するフイラメン
    ト電源と、前記フイラメントとプラズマ容器間で
    アーク放電を起こさせる放電電源と、前記ヒータ
    を加熱するヒータ電源とを備えるイオン源装置に
    おいて、前記フイラメント電源、放電電源および
    ヒータ電源から出力する電力を計測してそれらの
    総和を求め、この総和が所定値になるように前記
    ヒータ電源から出力する電力を制御する制御手段
    を設けたことを特徴とするイオン源装置。
JP63094517A 1988-04-19 1988-04-19 イオン源装置 Granted JPH01267943A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP63094517A JPH01267943A (ja) 1988-04-19 1988-04-19 イオン源装置

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JP63094517A JPH01267943A (ja) 1988-04-19 1988-04-19 イオン源装置

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JPH01267943A JPH01267943A (ja) 1989-10-25
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US8909861B2 (en) 2004-10-21 2014-12-09 Microsoft Corporation Using external memory devices to improve system performance
US8914557B2 (en) 2005-12-16 2014-12-16 Microsoft Corporation Optimizing write and wear performance for a memory

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JPH01267943A (ja) 1989-10-25

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