JPH0559019A - アミノスルホニルカルバモイルトリアゾール誘導体の製造法 - Google Patents
アミノスルホニルカルバモイルトリアゾール誘導体の製造法Info
- Publication number
- JPH0559019A JPH0559019A JP21505691A JP21505691A JPH0559019A JP H0559019 A JPH0559019 A JP H0559019A JP 21505691 A JP21505691 A JP 21505691A JP 21505691 A JP21505691 A JP 21505691A JP H0559019 A JPH0559019 A JP H0559019A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- formula
- compound
- derivative
- iii
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Agricultural Chemicals And Associated Chemicals (AREA)
Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【構成】 下記の反応式で表わされる、除草剤として有
用な式（Ｉ）のアミノスルホニルカルバモイルトリアゾ
ール誘導体の製造法。 〔式中、Ｒ１およびＲ２は低級アルキル基、低級アルケ
ニル基など、Ｒ３は置換されてもよいアリール基および
アラルキル基、Ｒ４は水素原子、低級アルキル基、低級
アルケニル基など、Ｘはハロゲン原子を示す〕 【効果】 式（Ｉ）のアミノスルホニルカルバモイルト
リアゾール誘導体を効率的に製造できる。
用な式（Ｉ）のアミノスルホニルカルバモイルトリアゾ
ール誘導体の製造法。 〔式中、Ｒ１およびＲ２は低級アルキル基、低級アルケ
ニル基など、Ｒ３は置換されてもよいアリール基および
アラルキル基、Ｒ４は水素原子、低級アルキル基、低級
アルケニル基など、Ｘはハロゲン原子を示す〕 【効果】 式（Ｉ）のアミノスルホニルカルバモイルト
リアゾール誘導体を効率的に製造できる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はアミノスルホニルカルバ
モイルトリアゾール誘導体の製造法に関し、さらに詳し
くは、除草剤として有用な下記式（Ｉ）、
モイルトリアゾール誘導体の製造法に関し、さらに詳し
くは、除草剤として有用な下記式（Ｉ）、
【０００２】
【化４】 〔式中、Ｒ1 およびＲ2 は同一若しくは異なって低級ア
ルキル基、低級アルケニル基、低級ハロアルケニル基ま
たは低級ハロアルキル基を表わすか、Ｒ1 およびＲ2 が
一緒になって低級アルキル基で置換されてもよい炭素数
３〜６のアルキレン鎖を表わし、Ｒ3は置換されてもよ
いアリール基（但し、ハロゲン置換を除く）、置換され
てもよいアラルキル基を表わし、Ｒ4 は水素原子または
低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル
基、ハロアルキル基、低級ハロアルケニル基、シアノア
ルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基、アル
コキシカルボニルアルキル基、ベンジルオキシ基、フェ
ニルカルボニル基を表わす、〕で示されるカルバモイル
トリアゾール誘導体の製造法に関する。
ルキル基、低級アルケニル基、低級ハロアルケニル基ま
たは低級ハロアルキル基を表わすか、Ｒ1 およびＲ2 が
一緒になって低級アルキル基で置換されてもよい炭素数
３〜６のアルキレン鎖を表わし、Ｒ3は置換されてもよ
いアリール基（但し、ハロゲン置換を除く）、置換され
てもよいアラルキル基を表わし、Ｒ4 は水素原子または
低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル
基、ハロアルキル基、低級ハロアルケニル基、シアノア
ルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基、アル
コキシカルボニルアルキル基、ベンジルオキシ基、フェ
ニルカルボニル基を表わす、〕で示されるカルバモイル
トリアゾール誘導体の製造法に関する。
【０００３】
【従来の技術】従来、前記式（Ｉ）で示される化合物の
製造方法として、下記反応式Ａに示す行程に従い合成す
る方法が知られている（特願平３−１１０７９８号明細
書参照）。
製造方法として、下記反応式Ａに示す行程に従い合成す
る方法が知られている（特願平３−１１０７９８号明細
書参照）。
【０００４】
【化５】 〔式中、Ｘ，Ｒ1 ，Ｒ2 ，Ｒ3 およびＲ4 は上記と同義
であり、Ａはハロゲン原子を表わす。〕
であり、Ａはハロゲン原子を表わす。〕
【０００５】しかしながら、前記反応において使用する
原料の前記式（IV）化合物は、非常に不安定であり、貯
蔵することができず、また反応性の低い前記式(II)で示
される化合物とは反応しがたいという欠点を有してい
る。
原料の前記式（IV）化合物は、非常に不安定であり、貯
蔵することができず、また反応性の低い前記式(II)で示
される化合物とは反応しがたいという欠点を有してい
る。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、優れ
た除草活性を有する化合物である前記式（Ｉ）の化合物
を、入手し易い安価でかつ安定な原料を用いて、短い反
応工程で製造する方法を見い出すことである。
た除草活性を有する化合物である前記式（Ｉ）の化合物
を、入手し易い安価でかつ安定な原料を用いて、短い反
応工程で製造する方法を見い出すことである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、少ない施
用量で高い除草活性を示し、殺草スペクトラムが広く且
つ主要作物に良好な選択性を有する前記式（Ｉ）で示さ
れるカルバモイルトリアゾール誘導体の製法を確立すべ
く鋭意研究努力を重ねた。その結果、従来の文献に未載
の下記式（III)
用量で高い除草活性を示し、殺草スペクトラムが広く且
つ主要作物に良好な選択性を有する前記式（Ｉ）で示さ
れるカルバモイルトリアゾール誘導体の製法を確立すべ
く鋭意研究努力を重ねた。その結果、従来の文献に未載
の下記式（III)
【０００８】
【化６】 〔式中、Ｙ，Ｒ1 およびＲ2 は、上記と同義である。〕
で示されるハロゲン化スルホニルカルバモイルトリアゾ
ール誘導体を前記式（II）で示されるアミン類と反応さ
せることにより、除草剤として非常に有用な前記式
（Ｉ）で示されるアミノスルホニルカルバモイルトリア
ゾール誘導体が有利に製造できることを見い出し本発明
を完成するに至った。
で示されるハロゲン化スルホニルカルバモイルトリアゾ
ール誘導体を前記式（II）で示されるアミン類と反応さ
せることにより、除草剤として非常に有用な前記式
（Ｉ）で示されるアミノスルホニルカルバモイルトリア
ゾール誘導体が有利に製造できることを見い出し本発明
を完成するに至った。
【０００９】かくして、本発明によれば、下記式（Ｉ）
【００１０】
【化７】 〔式中、Ｒ1 およびＲ2 は同一若しくは異なって低級ア
ルキル基、低級アルケニル基、低級ハロアルケニル基ま
たは低級ハロアルキル基を表わすか、Ｒ1 およびＲ2 が
一緒になって低級アルキル基で置換されてもよい炭素数
３〜６のアルキレン鎖を表わし、Ｒ3は置換されてもよ
いアリール基（但し、ハロゲン置換を除く）、置換され
てもよいアラルキル基を表わし、Ｒ4 は水素原子または
低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル
基、ハロアルキル基、低級ハロアルケニル基、シアノア
ルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基、アル
コキシカルボニルアルキル基、ベンジルオキシ基、フェ
ニルカルボニル基を表わす、〕で示されるカルバモイル
トリアゾール誘導体を製造するにあたり、下記式（II）
ルキル基、低級アルケニル基、低級ハロアルケニル基ま
たは低級ハロアルキル基を表わすか、Ｒ1 およびＲ2 が
一緒になって低級アルキル基で置換されてもよい炭素数
３〜６のアルキレン鎖を表わし、Ｒ3は置換されてもよ
いアリール基（但し、ハロゲン置換を除く）、置換され
てもよいアラルキル基を表わし、Ｒ4 は水素原子または
低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル
基、ハロアルキル基、低級ハロアルケニル基、シアノア
ルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基、アル
コキシカルボニルアルキル基、ベンジルオキシ基、フェ
ニルカルボニル基を表わす、〕で示されるカルバモイル
トリアゾール誘導体を製造するにあたり、下記式（II）
【００１１】
【化８】 〔式中、Ｒ3 およびＲ4 は上記と同義である、〕で示さ
れるアミン類と、下記式(III)
れるアミン類と、下記式(III)
【００１２】
【化９】 〔式中、Ｒ1 およびＲ2 は上記と同義であり、Ｘはハロ
ゲン原子を表わす、〕で示されるハロゲン化スルホニル
カルバモイルトリアゾール誘導体とを反応させることを
特徴とする前記式（Ｉ）で示されるアミノスルホニルカ
ルバモイルトリアゾール誘導体の製造法が提供される。
ゲン原子を表わす、〕で示されるハロゲン化スルホニル
カルバモイルトリアゾール誘導体とを反応させることを
特徴とする前記式（Ｉ）で示されるアミノスルホニルカ
ルバモイルトリアゾール誘導体の製造法が提供される。
【００１３】本発明の方法は、前記式（II）で示される
アミン類と、前記式（III)で示されるハロゲン化スルホ
ニルカルバモイルトリアゾール誘導体との反応により、
前記式（Ｉ）で示されるアミノスルホニルカルバモイル
トリアゾール誘導体を工業的に収率よく製造できる有用
な方法である。すなわち、前記式（Ｉ）で示される化合
物は、下記反応式Ｂのとおり、式（II）で示されるアミ
ン類と式（III)で示されるハロゲン化スルホニルカルバ
モイルトリアゾール誘導体とを、塩基の存在下、適当な
溶媒中で反応させることにより製造することができる。
アミン類と、前記式（III)で示されるハロゲン化スルホ
ニルカルバモイルトリアゾール誘導体との反応により、
前記式（Ｉ）で示されるアミノスルホニルカルバモイル
トリアゾール誘導体を工業的に収率よく製造できる有用
な方法である。すなわち、前記式（Ｉ）で示される化合
物は、下記反応式Ｂのとおり、式（II）で示されるアミ
ン類と式（III)で示されるハロゲン化スルホニルカルバ
モイルトリアゾール誘導体とを、塩基の存在下、適当な
溶媒中で反応させることにより製造することができる。
【００１４】
【化１０】 〔式中、Ｙ、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 およびＲ4 は上記と同義
である。〕 本発明の出発原料として用いられる上記式（III)の化合
物は、Ｘが塩素原子または臭素原子の場合、下記反応式
Ｃのとおり式（VI) で示されるベンジルチオカルバモイ
ルトリアゾール誘導体と塩素原子または臭素原子とを反
応させることにより製造することができる。
である。〕 本発明の出発原料として用いられる上記式（III)の化合
物は、Ｘが塩素原子または臭素原子の場合、下記反応式
Ｃのとおり式（VI) で示されるベンジルチオカルバモイ
ルトリアゾール誘導体と塩素原子または臭素原子とを反
応させることにより製造することができる。
【００１５】
【化１１】 〔式中、Ｘ′は塩素原子または臭素原子を表わし、Ｒ1
およびＲ2 は上記と同義である。〕 また、式（III)の化合物においてＸがフッ素原子の場
合、下記反応式Ｄのとおり、反応式Ｃに示される方法で
製造された式（III −ｂ）のクロロスルホニルカルバモ
イルトリアゾール誘導体とフッ素化剤とを反応させるこ
とにより製造することができる。
およびＲ2 は上記と同義である。〕 また、式（III)の化合物においてＸがフッ素原子の場
合、下記反応式Ｄのとおり、反応式Ｃに示される方法で
製造された式（III −ｂ）のクロロスルホニルカルバモ
イルトリアゾール誘導体とフッ素化剤とを反応させるこ
とにより製造することができる。
【００１６】
【化１２】 〔式中、Ｒ1 およびＲ2 は前記と同義である。〕 これらの式（III −ａ）、（III −ｂ）、（III −ｃ）
で示される化合物の製造法は、特願平３−２０６９９２
号明細書に詳細に述べられている。出発原料として用い
られる前記式（II）で示されるアミン類は全て市販され
ており、容易に入手可能である。
で示される化合物の製造法は、特願平３−２０６９９２
号明細書に詳細に述べられている。出発原料として用い
られる前記式（II）で示されるアミン類は全て市販され
ており、容易に入手可能である。
【００１７】さらに、式（III)の化合物の出発原料とし
て用いられる式（VI) で示される化合物の製造法は、例
えばドイツ公開特許第３０３１１９１Ａ１号公報および
特開昭５７−５８６７５号公報等に記載されている。
て用いられる式（VI) で示される化合物の製造法は、例
えばドイツ公開特許第３０３１１９１Ａ１号公報および
特開昭５７−５８６７５号公報等に記載されている。
【００１８】ここで本明細書において、「ハロゲン原
子」としてはたとえばフッ素、塩素、臭素が挙げられ
る。これらの中でも臭素または塩素原子が好ましい。ま
た、本明細書において「低級」なる語はこの語が付され
た原子団または化合物の炭素原子数が６個以下、好まし
くは４個以下であることを意味する。かくして、「低級
アルキル基」は、直鎖状または分岐鎖状のいずれかのタ
イプのものであってもよく、例えばメチル、エチル、ｎ
−プロピル、iso −プロピル、ｎ−ブチル、sec −ブチ
ル、iso −ブチル、tert−ブチル、ｎ−アミル等が挙げ
られる。
子」としてはたとえばフッ素、塩素、臭素が挙げられ
る。これらの中でも臭素または塩素原子が好ましい。ま
た、本明細書において「低級」なる語はこの語が付され
た原子団または化合物の炭素原子数が６個以下、好まし
くは４個以下であることを意味する。かくして、「低級
アルキル基」は、直鎖状または分岐鎖状のいずれかのタ
イプのものであってもよく、例えばメチル、エチル、ｎ
−プロピル、iso −プロピル、ｎ−ブチル、sec −ブチ
ル、iso −ブチル、tert−ブチル、ｎ−アミル等が挙げ
られる。
【００１９】「低級アルケニル基」は、例えば、アリ
ル、２−メチル−２−プロペニル、２−ブテニルおよび
３−ブテニル基等が挙げられる。「低級ハロアルケニル
基」は、例えば３−クロロ−２−プロペニル、２−クロ
ロ−２−プロペニル、４−クロロ−２−ブテニルおよび
３−クロロ−２−ブテニル基等が挙げられる。「低級ハ
ロアルキル基」は、例えば、モノクロロメチル、トリフ
ルオロメチル、２−クロロエチルおよびトリフルオロエ
チル基等が挙げられる。
ル、２−メチル−２−プロペニル、２−ブテニルおよび
３−ブテニル基等が挙げられる。「低級ハロアルケニル
基」は、例えば３−クロロ−２−プロペニル、２−クロ
ロ−２−プロペニル、４−クロロ−２−ブテニルおよび
３−クロロ−２−ブテニル基等が挙げられる。「低級ハ
ロアルキル基」は、例えば、モノクロロメチル、トリフ
ルオロメチル、２−クロロエチルおよびトリフルオロエ
チル基等が挙げられる。
【００２０】「Ｒ1 およびＲ2 が一緒になって低級アル
キル基で置換されていてもよい炭素数３〜６のアルキレ
ン鎖」は、例えば２−メチルピペリジル環基、２，６−
ジメチルピペリジル環基および２−エチルピペリジル環
基等が挙げられる。
キル基で置換されていてもよい炭素数３〜６のアルキレ
ン鎖」は、例えば２−メチルピペリジル環基、２，６−
ジメチルピペリジル環基および２−エチルピペリジル環
基等が挙げられる。
【００２１】「置換されていてもよいアラルキル基」
は、例えば、ベンジル、２−ブロモベンジル、２−クロ
ロベンジル、２−メトキシベンジルおよび２−メチルベ
ンジル基等が挙げられる。「低級アルキニル基」は、例
えば２−プロピニル、２−ブチニルおよび３−ブチニル
基等が挙げられる。「シアノアルキル基」は、例えば、
シアノメチル、シアノエチル、シアノｎ−プロピルおよ
びシアノイソプロピル基等が挙げられる。
は、例えば、ベンジル、２−ブロモベンジル、２−クロ
ロベンジル、２−メトキシベンジルおよび２−メチルベ
ンジル基等が挙げられる。「低級アルキニル基」は、例
えば２−プロピニル、２−ブチニルおよび３−ブチニル
基等が挙げられる。「シアノアルキル基」は、例えば、
シアノメチル、シアノエチル、シアノｎ−プロピルおよ
びシアノイソプロピル基等が挙げられる。
【００２２】「アルコキシ基」は、例えば、メトキシ、
エトキシ、ｎ−プロポキシ、イソプロポキシ、ｎ−ブト
キシ、イソブトキシ、第二ブトキシおよび第三ブトキシ
基等が挙げられる。「アルコキシアルキル基」は、例え
ば、メトキシメチル、１−エトキシエチル、１−メチル
−１−メトキシエチルおよび１−イソプロポキシエチル
基等が挙げられる。
エトキシ、ｎ−プロポキシ、イソプロポキシ、ｎ−ブト
キシ、イソブトキシ、第二ブトキシおよび第三ブトキシ
基等が挙げられる。「アルコキシアルキル基」は、例え
ば、メトキシメチル、１−エトキシエチル、１−メチル
−１−メトキシエチルおよび１−イソプロポキシエチル
基等が挙げられる。
【００２３】また、「アルコキシカルボニルアルキル
基」は、例えば、メトキシカルボニルメチル、エトキシ
カルボニルメチル、ｎ−プロポキシカルボニルメチル基
等が挙げられる。
基」は、例えば、メトキシカルボニルメチル、エトキシ
カルボニルメチル、ｎ−プロポキシカルボニルメチル基
等が挙げられる。
【００２４】上記反応式Ｂで示される本発明方法におい
て、式（II）の化合物に対する式（III)の化合物の使用
割合は特に厳密に制限されるものではないが、通常式
（II）の化合物１当量に対して式（III)の化合物は１〜
１．２当量の範囲内の量で使用するのが好ましい。本発
明方法は、通常塩基の存在下に行うことができ、用いう
る塩基としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリ
ウム、水素化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナ
トリウム、炭酸カリウム、炭酸水素カリウム等の無機塩
基；トリエチルアミン、ジエチルアニリン、ピリジンな
どの有機塩基を好ましく例示することができる。その使
用量は適宜に選択できるが、例えば式（II）の化合物１
モルに対して通常１〜５モル、好ましくは１〜２モルの
範囲内の使用量を例示することができる。
て、式（II）の化合物に対する式（III)の化合物の使用
割合は特に厳密に制限されるものではないが、通常式
（II）の化合物１当量に対して式（III)の化合物は１〜
１．２当量の範囲内の量で使用するのが好ましい。本発
明方法は、通常塩基の存在下に行うことができ、用いう
る塩基としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリ
ウム、水素化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナ
トリウム、炭酸カリウム、炭酸水素カリウム等の無機塩
基；トリエチルアミン、ジエチルアニリン、ピリジンな
どの有機塩基を好ましく例示することができる。その使
用量は適宜に選択できるが、例えば式（II）の化合物１
モルに対して通常１〜５モル、好ましくは１〜２モルの
範囲内の使用量を例示することができる。
【００２５】反応温度は、氷冷下ないし溶媒の沸点の温
度範囲で任意に設定できる。反応時間は、設定条件によ
って変化するが、通常１〜２４時間で終了させることが
できる。上記の反応は通常溶媒中で行うことができ、使
用しうる溶媒としては、例えば、アセトンなどのケトン
類；テトラヒドロフラン、ジオキサン、エーテルなどの
エーテル類；酢酸エチルなどのエステル類；ジクロロメ
タンなどのハロゲン化炭化水素類；ベンゼン、クロロベ
ンゼンなどの芳香族炭化水素類；ジメチルホルムアミド
などの極性溶媒などの単独または混合溶媒を例示するこ
とができる。更に、水と上記溶媒類との混合溶媒も使用
可能である。
度範囲で任意に設定できる。反応時間は、設定条件によ
って変化するが、通常１〜２４時間で終了させることが
できる。上記の反応は通常溶媒中で行うことができ、使
用しうる溶媒としては、例えば、アセトンなどのケトン
類；テトラヒドロフラン、ジオキサン、エーテルなどの
エーテル類；酢酸エチルなどのエステル類；ジクロロメ
タンなどのハロゲン化炭化水素類；ベンゼン、クロロベ
ンゼンなどの芳香族炭化水素類；ジメチルホルムアミド
などの極性溶媒などの単独または混合溶媒を例示するこ
とができる。更に、水と上記溶媒類との混合溶媒も使用
可能である。
【００２６】溶媒の使用量は適当に選択変更でき、例え
ば式（II）の化合物に対して５〜２０重量倍量の如き使
用量を例示することができる。かくして式（Ｉ）の目的
化合物を製造することができる。
ば式（II）の化合物に対して５〜２０重量倍量の如き使
用量を例示することができる。かくして式（Ｉ）の目的
化合物を製造することができる。
【００２７】本発明の出発原料として用いられる式（II
I)の化合物は、Ｘが塩素原子または臭素原子の場合、前
記反応式Ｃで示されるとおり、式（VI) の化合物に、適
当な溶媒中、−１０℃〜１０℃の温度範囲内で５〜１０
時間塩素を吹き込むか、または攪拌しながら臭素を滴下
することにより製造することができる。この反応に使用
しうる溶媒としては、例えば５〜２０％食塩水、水−塩
化鉄混合溶媒などを、あるいはＸが塩素原子の場合は１
〜５規定塩酸、Ｘが臭素原子の場合は１〜５規定臭化水
素酸などを例示することができる。
I)の化合物は、Ｘが塩素原子または臭素原子の場合、前
記反応式Ｃで示されるとおり、式（VI) の化合物に、適
当な溶媒中、−１０℃〜１０℃の温度範囲内で５〜１０
時間塩素を吹き込むか、または攪拌しながら臭素を滴下
することにより製造することができる。この反応に使用
しうる溶媒としては、例えば５〜２０％食塩水、水−塩
化鉄混合溶媒などを、あるいはＸが塩素原子の場合は１
〜５規定塩酸、Ｘが臭素原子の場合は１〜５規定臭化水
素酸などを例示することができる。
【００２８】溶媒の使用量は適当に選択変更でき、例え
ば（VI）の化合物に対して５〜２０重量倍が適当であ
る。式（III)の化合物において、Ｘがフッ素原子の場合
は、前記反応式Ｄで示されるとおり、式（III −ｂ）の
化合物に、適当な溶媒の存在下、フッ素化剤を反応させ
ることにより製造することができる。
ば（VI）の化合物に対して５〜２０重量倍が適当であ
る。式（III)の化合物において、Ｘがフッ素原子の場合
は、前記反応式Ｄで示されるとおり、式（III −ｂ）の
化合物に、適当な溶媒の存在下、フッ素化剤を反応させ
ることにより製造することができる。
【００２９】反応に使用しうるフッ素化剤としては例え
ばフッ化カリウムなどを使用することができ、その使用
量は化合物（III −ｂ）１当量に対して１〜３当量が適
当である。反応温度は、氷冷下ないし、溶媒の沸点の温
度範囲内で任意に設定できる。反応時間は、設定条件に
よって変化し、特に限定されないが、通常１〜２４時間
が適当である。
ばフッ化カリウムなどを使用することができ、その使用
量は化合物（III −ｂ）１当量に対して１〜３当量が適
当である。反応温度は、氷冷下ないし、溶媒の沸点の温
度範囲内で任意に設定できる。反応時間は、設定条件に
よって変化し、特に限定されないが、通常１〜２４時間
が適当である。
【００３０】上記反応は通常溶媒中で行うことができ、
使用しうる溶媒としては、例えば、アセトンなどのケト
ン類；テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチルエーテ
ルなどのエーテル類；酢酸エチルなどのエステル類；ジ
クロロメタンなどのハロゲン化炭化水素類；ベンセン、
クロロベンゼンなどの芳香族炭化水素類；ジメチルホル
ムアミドなどの極性溶媒などの単独または混合溶媒を例
示することができる。更に、水と前記溶媒類との混合系
も使用可能である。溶媒の使用量には特別な制限はない
が、通常式（III −ｂ）の化合物に対して５〜２０重量
倍が適当である。
使用しうる溶媒としては、例えば、アセトンなどのケト
ン類；テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチルエーテ
ルなどのエーテル類；酢酸エチルなどのエステル類；ジ
クロロメタンなどのハロゲン化炭化水素類；ベンセン、
クロロベンゼンなどの芳香族炭化水素類；ジメチルホル
ムアミドなどの極性溶媒などの単独または混合溶媒を例
示することができる。更に、水と前記溶媒類との混合系
も使用可能である。溶媒の使用量には特別な制限はない
が、通常式（III −ｂ）の化合物に対して５〜２０重量
倍が適当である。
【００３１】かくして式（III ）の本発明の原料として
用いられる化合物を製造することができる。以上に述べ
た本発明方法により得られた生成物の反応混合物からの
分離及び／又は精製は、それ自体既知の方法、例えば抽
出、再結晶、カラムクロマトグラフィー等の方法で行な
うことができる。
用いられる化合物を製造することができる。以上に述べ
た本発明方法により得られた生成物の反応混合物からの
分離及び／又は精製は、それ自体既知の方法、例えば抽
出、再結晶、カラムクロマトグラフィー等の方法で行な
うことができる。
【００３２】
【実施例】次に実施例により本発明の方法をさらに具体
的に説明する。 実施例１：Ｎ−ベンジル［１−（ジエチルカルバモイ
ル）−１，２，４−トリアゾール−３−イル］スルホン
アミドの製造； ドイツ公開特許第３０３１１９１Ａ１号公報および特開
昭５７−５８６７５号公報に記載の方法に準じて合成し
た１−ジエチルカルバモイル−３−ベンジルチオ−１，
２，４−トリアゾール２０ｇを２規定塩酸２５０ｍｌに
溶解し、−５〜０℃で攪拌しながら塩素を１０時間吹き
込んだ。生じた粗結晶を水で洗浄、さらに副生するベン
ジルクロリドをヘキサンで除去した後、溶媒を留去して
１−ジエチルカルバモイル−３−クロロスルホニル１，
２，４−トリアゾール１１．５ｇを得た（収率６２％；
融点５５〜５７℃）。
的に説明する。 実施例１：Ｎ−ベンジル［１−（ジエチルカルバモイ
ル）−１，２，４−トリアゾール−３−イル］スルホン
アミドの製造； ドイツ公開特許第３０３１１９１Ａ１号公報および特開
昭５７−５８６７５号公報に記載の方法に準じて合成し
た１−ジエチルカルバモイル−３−ベンジルチオ−１，
２，４−トリアゾール２０ｇを２規定塩酸２５０ｍｌに
溶解し、−５〜０℃で攪拌しながら塩素を１０時間吹き
込んだ。生じた粗結晶を水で洗浄、さらに副生するベン
ジルクロリドをヘキサンで除去した後、溶媒を留去して
１−ジエチルカルバモイル−３−クロロスルホニル１，
２，４−トリアゾール１１．５ｇを得た（収率６２％；
融点５５〜５７℃）。
【００３３】次に、ベンジルアミン０．４１ｇをテトラ
ヒドロフラン１０ｍｌに溶解し、攪拌ながらトリエチル
アミン０．２８ｍｌを加えた。さらに氷冷下、攪拌しな
がら上記で合成した１−ジエチルカルバモイル−３−ク
ロロスルホニル−１，２，４−トリアゾール０．５０ｇ
を徐々に加え、室温で１５時間攪拌した。テトラヒドロ
フランを減圧下で留去し、２Ｎ塩酸１０ｍｌを加え、粗
結晶を得た。これをｎ−ヘキサン−酢酸エチルから再結
晶して標題化合物０．９４ｇを得た（収率７３％）。
ヒドロフラン１０ｍｌに溶解し、攪拌ながらトリエチル
アミン０．２８ｍｌを加えた。さらに氷冷下、攪拌しな
がら上記で合成した１−ジエチルカルバモイル−３−ク
ロロスルホニル−１，２，４−トリアゾール０．５０ｇ
を徐々に加え、室温で１５時間攪拌した。テトラヒドロ
フランを減圧下で留去し、２Ｎ塩酸１０ｍｌを加え、粗
結晶を得た。これをｎ−ヘキサン−酢酸エチルから再結
晶して標題化合物０．９４ｇを得た（収率７３％）。
【００３４】この化合物の 1Ｈ−ＮＭＲデータ（δ pp
m；CDCl3 中）は次のとおりであった。 １．２８（６Ｈ，ｔ）、３．５４（４Ｈ，ｑ）、４．３
３（２Ｈ，ｄ）、５．７４（１Ｈ，ｂｒ，ｔ）、７．２
２（５Ｈ，ｓ）、８．６７（１Ｈ，ｓ）。
m；CDCl3 中）は次のとおりであった。 １．２８（６Ｈ，ｔ）、３．５４（４Ｈ，ｑ）、４．３
３（２Ｈ，ｄ）、５．７４（１Ｈ，ｂｒ，ｔ）、７．２
２（５Ｈ，ｓ）、８．６７（１Ｈ，ｓ）。
【００３５】実施例２：Ｎ−エチル−Ｎ−ベンジル［１
−（ジエチルカルバモイル）−１，２，４−トリアゾー
ル−３−イル］スルホンアミドの製造； Ｎ−エチルアニリン０．４５ｇをテトラヒドロフラン１
０ｍｌに溶解し、攪拌しながらトリエチルアミン０．２
８ｍｌを加える。さらに氷冷下、攪拌しながら実施例１
で合成した１−ジエチルカルバモイル−３−クロロスル
ホニル−１，２，４−トリアゾール０．５０ｇを徐々に
加え、室温で１５時間攪拌した。実施例１と同様の後処
理をして標題化合物０．６６ｇを得た（収率５０％）。
−（ジエチルカルバモイル）−１，２，４−トリアゾー
ル−３−イル］スルホンアミドの製造； Ｎ−エチルアニリン０．４５ｇをテトラヒドロフラン１
０ｍｌに溶解し、攪拌しながらトリエチルアミン０．２
８ｍｌを加える。さらに氷冷下、攪拌しながら実施例１
で合成した１−ジエチルカルバモイル−３−クロロスル
ホニル−１，２，４−トリアゾール０．５０ｇを徐々に
加え、室温で１５時間攪拌した。実施例１と同様の後処
理をして標題化合物０．６６ｇを得た（収率５０％）。
【００３６】この化合物の 1Ｈ−ＮＭＲデータ（δ pp
m；CDCl3 中）は次のとおりであった。 １．１６（３Ｈ，ｔ）、１．２３（６Ｈ，ｔ）、３．５
４（４Ｈ，ｑ）、３．９０（２Ｈ，ｑ）、７．６（５
Ｈ，ｓ）、８．８３（１Ｈ，ｓ）。
m；CDCl3 中）は次のとおりであった。 １．１６（３Ｈ，ｔ）、１．２３（６Ｈ，ｔ）、３．５
４（４Ｈ，ｑ）、３．９０（２Ｈ，ｑ）、７．６（５
Ｈ，ｓ）、８．８３（１Ｈ，ｓ）。
Claims (1)
- 【請求項１】 下記式（Ｉ） 【化１】 〔式中、Ｒ1 およびＲ2 は同一若しくは異なって低級ア
ルキル基、低級アルケニル基、低級ハロアルケニル基ま
たは低級ハロアルキル基を表わすか、Ｒ1 およびＲ2 が
一緒になって低級アルキル基で置換されてもよい炭素数
３〜６のアルキレン鎖を表わし、Ｒ3は置換されてもよ
いアリール基（但し、ハロゲン置換を除く）、置換され
てもよいアラルキル基を表わし、Ｒ4 は水素原子または
低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニル
基、ハロアルキル基、低級ハロアルケニル基、シアノア
ルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基、アル
コキシカルボニルアルキル基、ベンジルオキシ基、フェ
ニルカルボニル基を表わす、〕で示されるカルバモイル
トリアゾール誘導体を製造するにあたり、下記式（II） 【化２】 〔式中、Ｒ3 およびＲ4 は上記と同義である、〕で示さ
れるアミン類と、下記式（III) 【化３】 〔式中、Ｒ1 およびＲ2 は上記と同義であり、Ｘはハロ
ゲン原子を表わす、〕で示されるハロゲン化スルホニル
カルバモイルトリアゾール誘導体とを反応させることを
特徴とする前記式（Ｉ）で示されるアミノスルホニルカ
ルバモイルトリアゾール誘導体の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21505691A JPH0559019A (ja) | 1991-08-27 | 1991-08-27 | アミノスルホニルカルバモイルトリアゾール誘導体の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21505691A JPH0559019A (ja) | 1991-08-27 | 1991-08-27 | アミノスルホニルカルバモイルトリアゾール誘導体の製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0559019A true JPH0559019A (ja) | 1993-03-09 |
Family
ID=16666032
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21505691A Pending JPH0559019A (ja) | 1991-08-27 | 1991-08-27 | アミノスルホニルカルバモイルトリアゾール誘導体の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0559019A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE102017217205A1 (de) | 2016-09-27 | 2018-03-29 | Musashi Seimitsu Industry Co., Ltd. | Anlaufscheibe und Differenzialvorrichtung |
-
1991
- 1991-08-27 JP JP21505691A patent/JPH0559019A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE102017217205A1 (de) | 2016-09-27 | 2018-03-29 | Musashi Seimitsu Industry Co., Ltd. | Anlaufscheibe und Differenzialvorrichtung |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2001524539A (ja) | アシル化環状１，３−ジカルボニル化合物の製造方法 | |
| JPH09110844A (ja) | 置換チアゾールの製造方法 | |
| WO2003076374A1 (fr) | Procede de production de derive d'acide trans-4-amino-1-cyclohexanecarboxylique | |
| JP3180192B2 (ja) | ジチオカルバミン酸の塩類、その製造方法及び該ジチオカルバミン酸の塩類を使用するイソチオシアネート類の製造方法 | |
| JPH0559019A (ja) | アミノスルホニルカルバモイルトリアゾール誘導体の製造法 | |
| JPH07267931A (ja) | スルホンアミド誘導体の製造方法 | |
| JP3004957B2 (ja) | スルホニルクロライド誘導体の製造方法 | |
| KR100674098B1 (ko) | Ｎ,ｎ-디알킬아릴아민 촉매의 존재하에서ｎ-알크(엔)옥시(또는 아릴옥시)카보닐이소티오시아네이트 및 그의 유도체를 제조하는 방법 | |
| EP0169375A2 (en) | Process for producing 2-tert.-butyl-4,5-dichloro-3(2H)-pyridazinone | |
| JP3496078B2 (ja) | 新規なヒドラゾン誘導体及びその製造法 | |
| JPH02289563A (ja) | ｏ―カルボキシピリジル―およびｏ―カルボキシキノリルイミダゾリノンの改良製造法 | |
| SU921466A3 (ru) | Способ получени 1,2,3-тиадиазол-5-ил-мочевин | |
| JPH0543557A (ja) | ハロゲン化スルホニルカルバモイルトリアゾール誘導体 | |
| JPS6236366A (ja) | ２−シアノアミノ−ピリミジン誘導体の製造方法 | |
| JPH0559020A (ja) | 置換フエノキシスルホニルカルバモイルトリアゾール誘導体の製造法 | |
| JPH01143878A (ja) | ケイ素アジド化合物の製造方法 | |
| JPS6051180A (ja) | １，２，４−トリアゾリン−５−オン類の製造方法 | |
| JP2815476B2 (ja) | ベンゼンスルホンアミド化合物の改良された製造法 | |
| US5877323A (en) | Process for preparing 1-aryl-4-carbamoyl-tetrazolinones | |
| JP4265259B2 (ja) | クロロ蟻酸ベンジルエステル類の製造方法 | |
| JPS60158182A (ja) | 置換されたキナゾリン‐２，４（１ｈ，３ｈ）‐ジオン類の製造方法 | |
| JPH107648A (ja) | １，２−二置換−３−ニトロイソチオウレア類の製造法 | |
| JPH0236164A (ja) | ２‐ニトロ‐５‐（置換アリールオキシ）ベンゾヒドロキシム酸誘導体の製造法 | |
| JPS6155504B2 (ja) | ||
| JPH1135563A (ja) | アゾール−１−イルアルキルニトリル類の製造法 |