JPH0558652A - 多孔質ガラス母材の製造方法 - Google Patents
多孔質ガラス母材の製造方法Info
- Publication number
- JPH0558652A JPH0558652A JP24417091A JP24417091A JPH0558652A JP H0558652 A JPH0558652 A JP H0558652A JP 24417091 A JP24417091 A JP 24417091A JP 24417091 A JP24417091 A JP 24417091A JP H0558652 A JPH0558652 A JP H0558652A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- porous glass
- silica fine
- deposition
- glass preform
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/01413—Reactant delivery systems
- C03B37/0142—Reactant deposition burners
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2207/00—Glass deposition burners
- C03B2207/50—Multiple burner arrangements
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2207/00—Glass deposition burners
- C03B2207/50—Multiple burner arrangements
- C03B2207/52—Linear array of like burners
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2207/00—Glass deposition burners
- C03B2207/60—Relationship between burner and deposit, e.g. position
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- General Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)
- Glass Melting And Manufacturing (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 本発明は合成シリカガラスの前駆体となる多
孔質ガラス母材を製造する方法において、生産性よく而
も推積むらが生じる事なく大型の母材（スート体）の製
造が可能な製造方法を提供する事を目的とする。 【構成】本発明は本発明は図１に示すように見掛け上、
より具体的には基体１の軸方向と平行な正面投影方向に
おいてはバーナ２間の隣接距離Ｂを短くしつつ、実際の
レイアウト、言換えればスート体３の展開図において隣
接する火炎照射距離（推積部位距離Ｔ）を互いに干渉が
生じない距離に設定するために、火炎照射位置（推積部
位１０）、言換えれば推積部位１０を前記展開図におい
て軸方向にジグザグ状に配置した点を特徴とするもので
ある。
孔質ガラス母材を製造する方法において、生産性よく而
も推積むらが生じる事なく大型の母材（スート体）の製
造が可能な製造方法を提供する事を目的とする。 【構成】本発明は本発明は図１に示すように見掛け上、
より具体的には基体１の軸方向と平行な正面投影方向に
おいてはバーナ２間の隣接距離Ｂを短くしつつ、実際の
レイアウト、言換えればスート体３の展開図において隣
接する火炎照射距離（推積部位距離Ｔ）を互いに干渉が
生じない距離に設定するために、火炎照射位置（推積部
位１０）、言換えれば推積部位１０を前記展開図におい
て軸方向にジグザグ状に配置した点を特徴とするもので
ある。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は合成シリカガラスの前駆
体となる多孔質ガラス母材を製造する方法に係り、特に
シリカ微粒子を耐熱性基体上に中空円筒状に若しくは該
耐熱基体の軸端より中実状に堆積させながら多孔質ガラ
ス母材（以下スート体という）を製造する方法に関す
る。
体となる多孔質ガラス母材を製造する方法に係り、特に
シリカ微粒子を耐熱性基体上に中空円筒状に若しくは該
耐熱基体の軸端より中実状に堆積させながら多孔質ガラ
ス母材（以下スート体という）を製造する方法に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】従来より、SiCl4その他の珪素化合物を
酸水素炎その他の熱源により加熱し、その火炎加水分解
反応及び高温熱酸化反応によって生成されるすす状シリ
カ微粒子を石英ガラス、アルミナ（Al2O3）等の耐熱性
基体上若しくは該基体軸端より軸方向に沿って中実状に
に堆積させて、合成石英ガラス体の前駆体となるスート
体を生成した後、該スート体を真空又は不活性ガス雰囲
気中で加熱して焼結／溶融する事により透明状のガラス
体を得る、いわゆる気相による合成石英ガラス体の製造
方法は公知である。
酸水素炎その他の熱源により加熱し、その火炎加水分解
反応及び高温熱酸化反応によって生成されるすす状シリ
カ微粒子を石英ガラス、アルミナ（Al2O3）等の耐熱性
基体上若しくは該基体軸端より軸方向に沿って中実状に
に堆積させて、合成石英ガラス体の前駆体となるスート
体を生成した後、該スート体を真空又は不活性ガス雰囲
気中で加熱して焼結／溶融する事により透明状のガラス
体を得る、いわゆる気相による合成石英ガラス体の製造
方法は公知である。
【０００３】かかる合成シリカガラスの前駆体となるス
ート体の製造装置は、シリカ微粒子生成手段、例えばSi
Cl4等の珪素化合物と酸素及び水素を同時に供給可能な
同心円状の環状炎バーナと、石英ガラス、アルミナ、炭
素、炭化珪素から形成される回転可能な軸状を耐熱性基
体を備え、前記バーナ若しくは耐熱性基体の少なくとも
一方を基体軸方向に順次移動させながら、回転している
該基体上にシリカ微粒子を積層してスート体を製造する
技術（特開昭４９ー９５２３号）が開示されている。
ート体の製造装置は、シリカ微粒子生成手段、例えばSi
Cl4等の珪素化合物と酸素及び水素を同時に供給可能な
同心円状の環状炎バーナと、石英ガラス、アルミナ、炭
素、炭化珪素から形成される回転可能な軸状を耐熱性基
体を備え、前記バーナ若しくは耐熱性基体の少なくとも
一方を基体軸方向に順次移動させながら、回転している
該基体上にシリカ微粒子を積層してスート体を製造する
技術（特開昭４９ー９５２３号）が開示されている。
【０００４】しかしながら、一の環状炎バーナを用いて
耐熱基体上にシリカ微粒子を堆積させてスート体を得よ
うとすると、所定長さのスート体を得るには数十時間も
かかり生産性が悪い。この為前記シリカ微粒子の耐熱性
基体への堆積速度を向上させる為に、耐熱性基体のシリ
カ微粒子堆積部位のほぼ全長に亙って、前記バーナを多
数本用意し、これらを耐熱性基体軸方向に一列状に配列
し、該バーナ列を基体軸方向に相対的に往復運動させな
がら前記回転している基体上にシリカ微粒子を軸方向に
均一に積層してスート体を製造させる技術（特開昭５３
ー７０４４９号他）が開示されている。
耐熱基体上にシリカ微粒子を堆積させてスート体を得よ
うとすると、所定長さのスート体を得るには数十時間も
かかり生産性が悪い。この為前記シリカ微粒子の耐熱性
基体への堆積速度を向上させる為に、耐熱性基体のシリ
カ微粒子堆積部位のほぼ全長に亙って、前記バーナを多
数本用意し、これらを耐熱性基体軸方向に一列状に配列
し、該バーナ列を基体軸方向に相対的に往復運動させな
がら前記回転している基体上にシリカ微粒子を軸方向に
均一に積層してスート体を製造させる技術（特開昭５３
ー７０４４９号他）が開示されている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら前記の方
策を取っても、生産性を向上するために、隣接するバー
ナ間の配設間隔を密にしようとすると、言換えれば隣接
するバーナ間を接近して配置すると、耐熱性基体上の火
炎の広がりにより、火炎同士が互いに干渉し合う事にな
るので、干渉する境界部位においてシリカ微粒子の堆積
を妨害し合い、該微粒子の堆積速度が低下すると共に基
体軸方向に堆積むらが生じ、特にスート体の径が大きく
なるにつれ該堆積むらが拡大し凹凸の形状となる共に、
歩留まりが悪い等の問題点が発生する。
策を取っても、生産性を向上するために、隣接するバー
ナ間の配設間隔を密にしようとすると、言換えれば隣接
するバーナ間を接近して配置すると、耐熱性基体上の火
炎の広がりにより、火炎同士が互いに干渉し合う事にな
るので、干渉する境界部位においてシリカ微粒子の堆積
を妨害し合い、該微粒子の堆積速度が低下すると共に基
体軸方向に堆積むらが生じ、特にスート体の径が大きく
なるにつれ該堆積むらが拡大し凹凸の形状となる共に、
歩留まりが悪い等の問題点が発生する。
【０００６】本発明はかかる従来技術の欠点に鑑み、生
産性よく而も堆積むらが生じる事なく大型のスート体の
製造が可能なスート体製造方法を提供する事を目的とす
る。
産性よく而も堆積むらが生じる事なく大型のスート体の
製造が可能なスート体製造方法を提供する事を目的とす
る。
【課題を解決する為の手段】本発明は図１に示すように
見掛け上、より具体的には基体１の軸方向と平行な正面
投影方向においてはバーナ２間の隣接距離Ｂを短くしつ
つ、実際のレイアウト、言換えればスート体３の展開図
において隣接する火炎照射距離（堆積部位距離Ｔ）を互
いに干渉が生じない距離に設定するために、火炎照射位
置（堆積部位１０）、言換えれば堆積部位１０を前記展
開図において軸方向にジグザグ状に配置した点を特徴と
するものである。
見掛け上、より具体的には基体１の軸方向と平行な正面
投影方向においてはバーナ２間の隣接距離Ｂを短くしつ
つ、実際のレイアウト、言換えればスート体３の展開図
において隣接する火炎照射距離（堆積部位距離Ｔ）を互
いに干渉が生じない距離に設定するために、火炎照射位
置（堆積部位１０）、言換えれば堆積部位１０を前記展
開図において軸方向にジグザグ状に配置した点を特徴と
するものである。
【０００７】即ち本発明は、前記夫々の生成手段２によ
り基体１上に堆積されるシリカ微粒子堆積部位１０の
内、少なくとも隣接する堆積部位１０間を基体軸方向と
共に周方向にも位置をずらして堆積させた事を特徴とす
るものである。
り基体１上に堆積されるシリカ微粒子堆積部位１０の
内、少なくとも隣接する堆積部位１０間を基体軸方向と
共に周方向にも位置をずらして堆積させた事を特徴とす
るものである。
【０００８】この様に構成するには隣接するシリカ微粒
子生成手段２（バーナ）間を基体１軸方向と共に周方向
にも位置をずらして、より具体的には千鳥状に配置する
事により用意に達成するが、この様な構成を取らずに前
記生成手段２を一列状に配置し、火炎照射向きを基体周
方向に変化させてもよい。
子生成手段２（バーナ）間を基体１軸方向と共に周方向
にも位置をずらして、より具体的には千鳥状に配置する
事により用意に達成するが、この様な構成を取らずに前
記生成手段２を一列状に配置し、火炎照射向きを基体周
方向に変化させてもよい。
【０００９】
【作用】図１より容易に理解されるごとく本発明は、従
来技術のように堆積部位１０の隣接間隔Ｔとシリカ微粒
子生成手段２（バーナ）の配置間隔Ｂを重複させるもの
ではなく、基体１周長を有効に利用して前記生成手段２
の実際の配置間隔２Ｂを底辺とし、堆積部位の隣接間隔
Ｔを一対の傾斜辺とする仮想三角形状に設定したため
に、堆積部位１０の隣接間隔Ｔを堆積部位１０が重なら
ない程度に長くする、バーナ２の見掛け上の配置間隔Ｂ
を密にする、という相反する要請を容易に達成し得るも
のである。
来技術のように堆積部位１０の隣接間隔Ｔとシリカ微粒
子生成手段２（バーナ）の配置間隔Ｂを重複させるもの
ではなく、基体１周長を有効に利用して前記生成手段２
の実際の配置間隔２Ｂを底辺とし、堆積部位の隣接間隔
Ｔを一対の傾斜辺とする仮想三角形状に設定したため
に、堆積部位１０の隣接間隔Ｔを堆積部位１０が重なら
ない程度に長くする、バーナ２の見掛け上の配置間隔Ｂ
を密にする、という相反する要請を容易に達成し得るも
のである。
【００１０】而も本発明は基体１直径を大にすればする
ほど前記作用を一層円滑に達成し得るものであるから大
型のスート体製造に極めて有利であり、生産性よく而も
堆積むらが生じる事なく大型のスート体の製造が可能と
なる。
ほど前記作用を一層円滑に達成し得るものであるから大
型のスート体製造に極めて有利であり、生産性よく而も
堆積むらが生じる事なく大型のスート体の製造が可能と
なる。
【００１１】
【実施例】以下、図面に基づいて本発明の実施例を例示
的に詳しく説明する。但しこの実施例に記載されている
構成部品の寸法、材質、形状、その相対配置などは特に
特定的な記載がない限りは、この発明の範囲をそれのみ
に限定する趣旨ではなく単なる説明例に過ぎない。図１
は本発明の実施例に係るスート体製造装置を示す。同図
において、５Ａ、５Ｂはバーナ台で、複数本のシリカ微
粒子形成バーナ２を１列状に直立配置するとともに、各
バーナ２の火炎開口を耐熱性基体１軸線と平行な水平線
状に位置せしめる。
的に詳しく説明する。但しこの実施例に記載されている
構成部品の寸法、材質、形状、その相対配置などは特に
特定的な記載がない限りは、この発明の範囲をそれのみ
に限定する趣旨ではなく単なる説明例に過ぎない。図１
は本発明の実施例に係るスート体製造装置を示す。同図
において、５Ａ、５Ｂはバーナ台で、複数本のシリカ微
粒子形成バーナ２を１列状に直立配置するとともに、各
バーナ２の火炎開口を耐熱性基体１軸線と平行な水平線
状に位置せしめる。
【００１２】この場合各バーナ２間の配列間隔を耐熱性
基体の相対的振幅幅と同程度に設定しつつ、隣接するバ
ーナよりの火炎が基体照射位置で互いに干渉しない程度
の間隔に設定するのがよい。
基体の相対的振幅幅と同程度に設定しつつ、隣接するバ
ーナよりの火炎が基体照射位置で互いに干渉しない程度
の間隔に設定するのがよい。
【００１３】又前記形成バーナ２は、前記したようにSi
Cl4等の珪素化合物と酸素及び水素を同時に供給可能な
同心円状の環状炎バーナで形成するがこれのみに限定さ
れない。耐熱性基体１はアルミナその他の耐熱性材料で
中空円筒状に形成され、そして該基体を、その周面が前
記各バーナ２により形成される火炎中に位置するように
前記バーナ列と平行に水平方向に延設して配設すると共
に、不図示の駆動手段を利用して該基体１の軸心を中心
として回転しつつ且つ軸線方向に一定の振幅で往復運動
可能に構成している。
Cl4等の珪素化合物と酸素及び水素を同時に供給可能な
同心円状の環状炎バーナで形成するがこれのみに限定さ
れない。耐熱性基体１はアルミナその他の耐熱性材料で
中空円筒状に形成され、そして該基体を、その周面が前
記各バーナ２により形成される火炎中に位置するように
前記バーナ列と平行に水平方向に延設して配設すると共
に、不図示の駆動手段を利用して該基体１の軸心を中心
として回転しつつ且つ軸線方向に一定の振幅で往復運動
可能に構成している。
【００１４】そして前記２つのバーナ台５Ａ、５Ｂは図
３に示すように、基体１軸心を中心として垂直線より周
方向に所定角度変向させて配置すると共に、更に他側バ
ーナ台５Ｂ、５Ａに対し、バーナ２配設間隔に対し１／
２だけずらして配置し、基体展開図に対しバーナ配設位
置が千鳥状になる如く配置する。
３に示すように、基体１軸心を中心として垂直線より周
方向に所定角度変向させて配置すると共に、更に他側バ
ーナ台５Ｂ、５Ａに対し、バーナ２配設間隔に対し１／
２だけずらして配置し、基体展開図に対しバーナ配設位
置が千鳥状になる如く配置する。
【００１５】次にかかる装置における具体的な実験結果
を下記に示す。まず、本実験例はでは前記耐熱性基体１
にアルミナ（Al2O3）製の管（外径４０ｍｍ、厚さ１０
ｍｍ、長さ１．５ｍ）を用い、該基体１の下方位置より
該基体１に向け垂直に対し±０°〜９０°の傾斜角をも
ってバーナ台５Ａ、５Ｂを対称配置する。そして前記バ
ーナ台５Ａ、５Ｂは、バーナ配列間隔を例えば２０ｃｍ
間隔で４本のバーナを直列配置すると共に、１のバーナ
台５Ａは、図上左方の基体のスート体堆積部始端Ｓより
内側へ２００ｍｍずらした位置に、又他のバーナ台５Ｂ
は、図上左方の基体のスート体堆積部始端Ｓより内側へ
略３００ｍｍずらした位置に夫々配置する。そして不図
示の駆動手段を利用して前記基体１若しくはバーナ台を
例えば略２０ｃｍの振幅でトラバースさせる。
を下記に示す。まず、本実験例はでは前記耐熱性基体１
にアルミナ（Al2O3）製の管（外径４０ｍｍ、厚さ１０
ｍｍ、長さ１．５ｍ）を用い、該基体１の下方位置より
該基体１に向け垂直に対し±０°〜９０°の傾斜角をも
ってバーナ台５Ａ、５Ｂを対称配置する。そして前記バ
ーナ台５Ａ、５Ｂは、バーナ配列間隔を例えば２０ｃｍ
間隔で４本のバーナを直列配置すると共に、１のバーナ
台５Ａは、図上左方の基体のスート体堆積部始端Ｓより
内側へ２００ｍｍずらした位置に、又他のバーナ台５Ｂ
は、図上左方の基体のスート体堆積部始端Ｓより内側へ
略３００ｍｍずらした位置に夫々配置する。そして不図
示の駆動手段を利用して前記基体１若しくはバーナ台を
例えば略２０ｃｍの振幅でトラバースさせる。
【００１６】かかる構成において、シリカ微粒子形成バ
ーナ２を耐熱性基体１軸方向に沿って相対的に往復移動
させながら該形成バーナ２より噴射されるＨ2とＯ2との
燃焼炎中に珪素化合物を送り込み、該燃焼中で生成され
たシリカ微粒子を耐熱性基体１に堆積させる。
ーナ２を耐熱性基体１軸方向に沿って相対的に往復移動
させながら該形成バーナ２より噴射されるＨ2とＯ2との
燃焼炎中に珪素化合物を送り込み、該燃焼中で生成され
たシリカ微粒子を耐熱性基体１に堆積させる。
【００１７】本発明の実施例の効果を確認するために前
記した図３に示すように１のバーナ台５のみでスート体
３を製造した所、図３に示す比較例では堆積に要した時
間が２１時間であったものが本実施例では１４時間で同
等のスート体３を得ることができ、２／３の時間短縮に
なったのみならず、スート体３の形状についても比較例
では凹凸の差が１５ｍｍ確認されたが、本実施例では３
ｍｍと、大幅に平滑化された事が確認され、而も火炎干
渉等による局所的な凹凸も発生していなかった。
記した図３に示すように１のバーナ台５のみでスート体
３を製造した所、図３に示す比較例では堆積に要した時
間が２１時間であったものが本実施例では１４時間で同
等のスート体３を得ることができ、２／３の時間短縮に
なったのみならず、スート体３の形状についても比較例
では凹凸の差が１５ｍｍ確認されたが、本実施例では３
ｍｍと、大幅に平滑化された事が確認され、而も火炎干
渉等による局所的な凹凸も発生していなかった。
【００１８】
【効果】以上記載した如く本発明によれば、生産性よく
而も堆積むらが生じる事なく大型のスート体の製造が可
能なスート体製造方法を得る事が出来る。又本発明によ
れば、局所的にも又全体的にも凹凸が少ないスート体が
得られるため歩留りも向上する。等の種々の著効を有
す。
而も堆積むらが生じる事なく大型のスート体の製造が可
能なスート体製造方法を得る事が出来る。又本発明によ
れば、局所的にも又全体的にも凹凸が少ないスート体が
得られるため歩留りも向上する。等の種々の著効を有
す。
【図１】スート体の堆積部位のレイアウトを展開図で表
した基本構成図。
した基本構成図。
【図２】本発明の実施例に係わるガラス母材製造装置を
示す、図３のＡ−Ａ’方向からみた全体慨略図。
示す、図３のＡ−Ａ’方向からみた全体慨略図。
【図３】本発明の実施例に係わるガラス母材製造装置を
示す要部側面図。
示す要部側面図。
【図４】従来のガラス母材製造方法を示す全体慨略図。
１ 耐熱性基体 ２ シリカ微粒子形成バーナ ３ スート体 １０ 堆積部位
Claims (3)
- 【請求項１】 複数のシリカ微粒子生成手段を耐熱基体
と対面する所定位置に配列し、該生成手段によりシリカ
微粒子を耐熱性基体上に堆積させながら多孔質ガラス母
材を製造する方法において前記夫々の生成手段により基
体上に堆積されるシリカ微粒子堆積部位の内、少なくと
も隣接する堆積部位間を基体軸方向と共に周方向にも位
置をずらして堆積させた事を特徴とする多孔質ガラス母
材の製造方法 - 【請求項２】 隣接するシリカ微粒子生成手段間を基体
軸方向と共に周方向にも位置をずらして配列させた請求
項１記載の多孔質ガラス母材の製造方法 - 【請求項３】 前記複数のシリカ微粒子生成手段が千鳥
配置である請求項２記載の多孔質ガラス母材の製造方法
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24417091A JPH0825760B2 (ja) | 1991-08-30 | 1991-08-30 | 多孔質ガラス母材の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24417091A JPH0825760B2 (ja) | 1991-08-30 | 1991-08-30 | 多孔質ガラス母材の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0558652A true JPH0558652A (ja) | 1993-03-09 |
| JPH0825760B2 JPH0825760B2 (ja) | 1996-03-13 |
Family
ID=17114814
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24417091A Expired - Fee Related JPH0825760B2 (ja) | 1991-08-30 | 1991-08-30 | 多孔質ガラス母材の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0825760B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2002070415A1 (fr) * | 2001-03-06 | 2002-09-12 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Procede et systeme de deposition de fines particules de verre |
-
1991
- 1991-08-30 JP JP24417091A patent/JPH0825760B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2002070415A1 (fr) * | 2001-03-06 | 2002-09-12 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Procede et systeme de deposition de fines particules de verre |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0825760B2 (ja) | 1996-03-13 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP2583952B1 (en) | Method and burner for producing a porous glass preform | |
| JPH039047B2 (ja) | ||
| KR880001607B1 (ko) | 고순도 유리체의 제조방법 | |
| JP3512027B2 (ja) | 多孔質母材の製造方法 | |
| JPH0558652A (ja) | 多孔質ガラス母材の製造方法 | |
| US7441417B2 (en) | Outside vapor deposition apparatus for making optical fiber preform | |
| JPH0825763B2 (ja) | すす状シリカ体の製造方法、その装置及び該シリカ体を用いた合成石英ガラス | |
| JP2612941B2 (ja) | 光ファイバ多孔質母材の製造方法 | |
| JP2649450B2 (ja) | 多孔質ガラス母材の製造方法 | |
| JP4495070B2 (ja) | 光ファイバ用多孔質母材の製造方法 | |
| JPH07138028A (ja) | 合成石英ガラス部材の製造方法および合成石英ガラス製造用バーナー | |
| JPH0585761A (ja) | 多孔質ガラス母材 | |
| JPH03112820A (ja) | 多孔質ガラス母材の製造方法 | |
| JPS63170223A (ja) | 多孔質ガラス母材の製造方法 | |
| JP6066103B2 (ja) | 多孔質ガラス母材製造用バーナ | |
| JPH01257146A (ja) | 合成石英インゴット製造用保温炉 | |
| JPH0777968B2 (ja) | 光ファイバープリフォーム母材の製造方法 | |
| JP4169260B2 (ja) | 外径変動が小さく、両端の不良部の少ないスート法による光ファイバ用ガラス母材の製造方法 | |
| JPS62207734A (ja) | ガラス微粒子の堆積方法 | |
| JP3381309B2 (ja) | ガラス微粒子堆積体の製造方法 | |
| JP2002338256A (ja) | ガラス微粒子堆積体の製造方法及び装置 | |
| JP2004026610A (ja) | 光ファイバ用多孔質母材の製造方法 | |
| JP2001261362A (ja) | 光ファイバ母材の製造方法 | |
| JPS604978Y2 (ja) | ガラス微粒子合成ト−チ | |
| KR20230047937A (ko) | Vad 공정을 이용하여 반경방향으로 균일한 특성을 갖는 합성유리 모재를 제조하기 위한 방법 및 장치 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |