JPH0555343A - ウエーハ処理装置 - Google Patents
ウエーハ処理装置Info
- Publication number
- JPH0555343A JPH0555343A JP24034991A JP24034991A JPH0555343A JP H0555343 A JPH0555343 A JP H0555343A JP 24034991 A JP24034991 A JP 24034991A JP 24034991 A JP24034991 A JP 24034991A JP H0555343 A JPH0555343 A JP H0555343A
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- Japan
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- wafer
- cassette
- chamber
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Abstract
(57)【要約】
【目的】複数工程のウェーハ処理を連続し、而も大気に
晒すことなく処理してウェーハ処理品質を向上させる。 【構成】複数のウェーハ処理部１ａ，２ａ，３ａを有
し、各ウェーハ処理部にウェーハ移載機６，７，８を連
設し、該ウェーハ移載機間にカセット収納室９，１０を
連設し、前記ウェーハ移載機、カセット収納室を気密構
造とすると共に、該カセット収納室内にウェーハカセッ
ト３６を載置可能で、且ウェーハカセットを前記各ウェ
ーハ移載機に対峙可能とする回転台ユニット２４を少な
くとも１組設けたものであり、ウェーハ処理部とウェー
ハ処理部との間でのウェーハ３７の移動は、ウェーハ移
載機、カセット収納室、更にカセット収納室、ウェーハ
移載機を経て行われ、一連のウェーハ処理はウェーハが
大気に晒されることなく行われる。
晒すことなく処理してウェーハ処理品質を向上させる。 【構成】複数のウェーハ処理部１ａ，２ａ，３ａを有
し、各ウェーハ処理部にウェーハ移載機６，７，８を連
設し、該ウェーハ移載機間にカセット収納室９，１０を
連設し、前記ウェーハ移載機、カセット収納室を気密構
造とすると共に、該カセット収納室内にウェーハカセッ
ト３６を載置可能で、且ウェーハカセットを前記各ウェ
ーハ移載機に対峙可能とする回転台ユニット２４を少な
くとも１組設けたものであり、ウェーハ処理部とウェー
ハ処理部との間でのウェーハ３７の移動は、ウェーハ移
載機、カセット収納室、更にカセット収納室、ウェーハ
移載機を経て行われ、一連のウェーハ処理はウェーハが
大気に晒されることなく行われる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体製造装置の１つ
であるウェーハ処理装置に関するものである。
であるウェーハ処理装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】半導体製造装置の１つにロードロック式
縦型ＣＶＤ拡散装置等のウェーハ処理装置がある。
縦型ＣＶＤ拡散装置等のウェーハ処理装置がある。
【０００３】従来のロードロック式縦型ＣＶＤ拡散装置
は、移載機を内蔵するロードロック室に反応室が設けら
れており、該ロードロック室にウェーハが装填されたカ
セットを装入し、該ロードロック室を密閉した後、ロー
ドロック室内の移載機でボート等のウェーハ保持器にウ
ェーハを移載し、更にウェーハ保持器を前記反応室に装
入してウェーハ処理を行い、ウェーハ処理が終わると前
記ウェーハ保持器をロードロック室内に取出し、更にロ
ードロック室外に取出していた。
は、移載機を内蔵するロードロック室に反応室が設けら
れており、該ロードロック室にウェーハが装填されたカ
セットを装入し、該ロードロック室を密閉した後、ロー
ドロック室内の移載機でボート等のウェーハ保持器にウ
ェーハを移載し、更にウェーハ保持器を前記反応室に装
入してウェーハ処理を行い、ウェーハ処理が終わると前
記ウェーハ保持器をロードロック室内に取出し、更にロ
ードロック室外に取出していた。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】然し上記した従来のＣ
ＶＤ拡散装置では、単一の膜生成処理であり、更に他の
膜処理を行う場合は、作業者がウェーハの入ったカセッ
トを一旦ロードロック室外に取出し、他のＣＶＤ拡散装
置にセットし直さねばならなかった。この為、作業性が
悪いと共にウェーハが大気に触れることでウェーハに自
然酸化膜が形成してしまい、高品質なウェーハ処理を行
うことができなかった。
ＶＤ拡散装置では、単一の膜生成処理であり、更に他の
膜処理を行う場合は、作業者がウェーハの入ったカセッ
トを一旦ロードロック室外に取出し、他のＣＶＤ拡散装
置にセットし直さねばならなかった。この為、作業性が
悪いと共にウェーハが大気に触れることでウェーハに自
然酸化膜が形成してしまい、高品質なウェーハ処理を行
うことができなかった。
【０００５】本発明は上記実情に鑑み、複数のウェーハ
処理を連続して行い得る様にすると共にウェーハの自然
酸化を防止して高品質なウェーハ処理を行い得る様にし
たものである。
処理を連続して行い得る様にすると共にウェーハの自然
酸化を防止して高品質なウェーハ処理を行い得る様にし
たものである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本考案は、複数のウェー
ハ処理部を有し、各ウェーハ処理部にウェーハ移載機を
連設し、該ウェーハ移載機間にカセット収納室を連設
し、前記ウェーハ移載機、カセット収納室を気密構造と
すると共に、該カセット収納室内にウェーハカセットを
載置可能で、且ウェーハカセットを前記各ウェーハ移載
機に対峙可能とする回転台ユニットを少なくとも１組設
けたことを特徴とするものである。
ハ処理部を有し、各ウェーハ処理部にウェーハ移載機を
連設し、該ウェーハ移載機間にカセット収納室を連設
し、前記ウェーハ移載機、カセット収納室を気密構造と
すると共に、該カセット収納室内にウェーハカセットを
載置可能で、且ウェーハカセットを前記各ウェーハ移載
機に対峙可能とする回転台ユニットを少なくとも１組設
けたことを特徴とするものである。
【０００７】
【作用】ウェーハ処理部とウェーハ処理部との間でのウ
ェーハの移動は、ウェーハ移載機、カセット収納室、更
にカセット収納室、ウェーハ移載機を経て行われ、ウェ
ーハ移載機とウェーハ移載機間のウェーハの授受は、カ
セット収納室内の回転台ユニットによって可能とされ
る。而して、一連のウェーハ処理はウェーハが大気に晒
されることなく行われる。
ェーハの移動は、ウェーハ移載機、カセット収納室、更
にカセット収納室、ウェーハ移載機を経て行われ、ウェ
ーハ移載機とウェーハ移載機間のウェーハの授受は、カ
セット収納室内の回転台ユニットによって可能とされ
る。而して、一連のウェーハ処理はウェーハが大気に晒
されることなく行われる。
【０００８】
【実施例】以下、図面を参照しつつ本発明の一実施例を
説明する。
説明する。
【０００９】図中、１，２，３はロードロック室、１
ａ，２ａ，３ａは反応室、６，７，８はウェーハ移載
機、９，１０はカセット収納室を示し、これらユニット
はいずれも気密な構成となっており、ロードロック室
１，２，３と前記ウェーハ移載機６，７，８との間はゲ
ートバルブ１１，１２，１３を介して連設されている。
ウェーハ移載機６と前記カセット収納室９とはゲートバ
ルブ１４を介して、又カセット収納室９とウェーハ移載
機７とはゲートバルブ１５を介して連設され、ウェーハ
移載機７と前記カセット収納室１０とはゲートバルブ１
６を介して、又カセット収納室１０とウェーハ移載機８
とはゲートバルブ１７を介して連設されている。
ａ，２ａ，３ａは反応室、６，７，８はウェーハ移載
機、９，１０はカセット収納室を示し、これらユニット
はいずれも気密な構成となっており、ロードロック室
１，２，３と前記ウェーハ移載機６，７，８との間はゲ
ートバルブ１１，１２，１３を介して連設されている。
ウェーハ移載機６と前記カセット収納室９とはゲートバ
ルブ１４を介して、又カセット収納室９とウェーハ移載
機７とはゲートバルブ１５を介して連設され、ウェーハ
移載機７と前記カセット収納室１０とはゲートバルブ１
６を介して、又カセット収納室１０とウェーハ移載機８
とはゲートバルブ１７を介して連設されている。
【００１０】前記ロードロック室１，２，３は特に図示
しないが、前記ウェーハ反応室１ａ，２ａ，３ａにウェ
ーハ保持器（ボート）を装入するボート装入機を内蔵し
てあり、前記ウェーハ移載機６，７，８によって移載さ
れたウェーハを拡散炉内に装入する様になっている。
しないが、前記ウェーハ反応室１ａ，２ａ，３ａにウェ
ーハ保持器（ボート）を装入するボート装入機を内蔵し
てあり、前記ウェーハ移載機６，７，８によって移載さ
れたウェーハを拡散炉内に装入する様になっている。
【００１１】以下、前記ウェーハ移載機６，７，８、カ
セット収納室９，１０について説明する。尚、ウェーハ
移載機６，７，８の各ウェーハ移載機、カセット収納室
９，１０の各カセット収納室はそれぞれ略同一の構造を
有しているので、以下はウェーハ移載機６、カセット収
納室９について説明する。
セット収納室９，１０について説明する。尚、ウェーハ
移載機６，７，８の各ウェーハ移載機、カセット収納室
９，１０の各カセット収納室はそれぞれ略同一の構造を
有しているので、以下はウェーハ移載機６、カセット収
納室９について説明する。
【００１２】ウェーハ移載機６は、真空容器１８の内部
にウェーハ移載ユニット１９を収納した構成であり、前
記真空容器１８は装置の架台２０にブラケット３８を介
して取付けられ、又該真空容器１８の蓋１８ａは開閉可
能となっている。
にウェーハ移載ユニット１９を収納した構成であり、前
記真空容器１８は装置の架台２０にブラケット３８を介
して取付けられ、又該真空容器１８の蓋１８ａは開閉可
能となっている。
【００１３】前記ウェーハ移載ユニット１９は垂直軸線
を中心に回転可能なベース２０と該ベース２０に設けら
れたウェーハ移載アーム２１を有し、該ウェーハ移載ア
ーム２１はベース２０に水平方向に移動可能となってい
る。又、前記ベース２０は前記真空容器１８の下面に設
けたモータ等の駆動機２２に連結され、該駆動機２２は
前記ベース２０を回転させる共に前記ウェーハ移載アー
ム２１を移動させる。
を中心に回転可能なベース２０と該ベース２０に設けら
れたウェーハ移載アーム２１を有し、該ウェーハ移載ア
ーム２１はベース２０に水平方向に移動可能となってい
る。又、前記ベース２０は前記真空容器１８の下面に設
けたモータ等の駆動機２２に連結され、該駆動機２２は
前記ベース２０を回転させる共に前記ウェーハ移載アー
ム２１を移動させる。
【００１４】次に、カセット収納室９について説明す
る。
る。
【００１５】該カセット収納室９は略直方形状の真空容
器２３に２組の回転台ユニット２４，２４を収納し、該
２組の回転台ユニット２４は前記真空容器２３底面に設
けた台座２５に前記ウェーハ移載機６とウェーハ移載機
７の中心を結ぶ線を挾んで設けられている。前記台座２
５は図示しない昇降装置によってウェーハの収納ピッチ
毎に昇降可能となっており、前記真空容器２３は蓋２３
ａが開閉可能となっている。前記各回転台ユニット２４
は以下の構成である。
器２３に２組の回転台ユニット２４，２４を収納し、該
２組の回転台ユニット２４は前記真空容器２３底面に設
けた台座２５に前記ウェーハ移載機６とウェーハ移載機
７の中心を結ぶ線を挾んで設けられている。前記台座２
５は図示しない昇降装置によってウェーハの収納ピッチ
毎に昇降可能となっており、前記真空容器２３は蓋２３
ａが開閉可能となっている。前記各回転台ユニット２４
は以下の構成である。
【００１６】台座２５に脚台２６が立設され、該脚台２
６に回転軸２７が軸受２８，２９を介して回転自在に設
けられ、該回転軸２７の上端にはカセット受台３０が設
けられ、該回転軸２７の下端にはモータ３１が連結され
ている。又、前記回転軸２７の中途部には回転位置検出
板３２，３３が固着され、又前記台座２５には該回転位
置検出板３２，３３に対応してセンサ３４，３５が設け
られている。尚、図中、３６はウェーハカセット、３７
は該ウェーハカセットに装填されたウェーハである。
６に回転軸２７が軸受２８，２９を介して回転自在に設
けられ、該回転軸２７の上端にはカセット受台３０が設
けられ、該回転軸２７の下端にはモータ３１が連結され
ている。又、前記回転軸２７の中途部には回転位置検出
板３２，３３が固着され、又前記台座２５には該回転位
置検出板３２，３３に対応してセンサ３４，３５が設け
られている。尚、図中、３６はウェーハカセット、３７
は該ウェーハカセットに装填されたウェーハである。
【００１７】以下、作用について説明する。
【００１８】前記カセット収納室９、カセット収納室１
０それぞれの蓋２３ａを開き、ウェーハ３７が装填され
たウェーハカセット３６ａ及び空のウェーハカセット３
６ｂを前記カセット受台３０に載設する。この時前記ゲ
ートバルブ１４、ゲートバルブ１５、ゲートバルブ１
６、ゲートバルブ１７は閉塞し、前記ウェーハ移載機
６、ウェーハ移載機７、ウェーハ移載機８等他のユニッ
トの真空状態を損なわない様にする。
０それぞれの蓋２３ａを開き、ウェーハ３７が装填され
たウェーハカセット３６ａ及び空のウェーハカセット３
６ｂを前記カセット受台３０に載設する。この時前記ゲ
ートバルブ１４、ゲートバルブ１５、ゲートバルブ１
６、ゲートバルブ１７は閉塞し、前記ウェーハ移載機
６、ウェーハ移載機７、ウェーハ移載機８等他のユニッ
トの真空状態を損なわない様にする。
【００１９】前記ウェーハカセット３６の載設が完了す
ると、前記蓋２３ａを閉じ、カセット収納室９、カセッ
ト収納室１０の真空容器２３内を真空引きする。所要の
真空に達すると前記ゲートバルブ１４、ゲートバルブ１
５、ゲートバルブ１６、ゲートバルブ１７を開いて、ウ
ェーハ３７の処理を行う。
ると、前記蓋２３ａを閉じ、カセット収納室９、カセッ
ト収納室１０の真空容器２３内を真空引きする。所要の
真空に達すると前記ゲートバルブ１４、ゲートバルブ１
５、ゲートバルブ１６、ゲートバルブ１７を開いて、ウ
ェーハ３７の処理を行う。
【００２０】ウェーハ３７の処理の順序は、前記反応室
１ａ，２ａ，３ａの休止状態が最も短くなる様設定すれ
ばよいが、以下は説明を簡単にする為、図中左方の反応
室１ａから右方の反応室２ａ，３ａへと処理を行うもの
とする。
１ａ，２ａ，３ａの休止状態が最も短くなる様設定すれ
ばよいが、以下は説明を簡単にする為、図中左方の反応
室１ａから右方の反応室２ａ，３ａへと処理を行うもの
とする。
【００２１】ゲートバルブ１１を開き前記ウェーハ移載
ユニット１９を動作させ、前記ウェーハ移載アーム２１
でウェーハカセット３６ａからウェーハ３７を取出し、
先ず真空容器２３内にウェーハ３７を取込む。ベース２
０を回転させ、ウェーハ移載アーム２１を移動させ、ロ
ードロック室１で待機するボート（図示せず）に移載す
る。１枚のウェーハが移載される毎に前記台座２５を１
ステップずつ上昇させ、前記手順を繰返してウェーハカ
セット３６ａの全てのウェーハを前記ボートに移載す
る。ボートの移載が完了するとゲートバルブ１１を閉塞
し、ロードロック室１内のボート装入機で前記反応室１
ａにボートを挿入し、膜生成の処理を行う。
ユニット１９を動作させ、前記ウェーハ移載アーム２１
でウェーハカセット３６ａからウェーハ３７を取出し、
先ず真空容器２３内にウェーハ３７を取込む。ベース２
０を回転させ、ウェーハ移載アーム２１を移動させ、ロ
ードロック室１で待機するボート（図示せず）に移載す
る。１枚のウェーハが移載される毎に前記台座２５を１
ステップずつ上昇させ、前記手順を繰返してウェーハカ
セット３６ａの全てのウェーハを前記ボートに移載す
る。ボートの移載が完了するとゲートバルブ１１を閉塞
し、ロードロック室１内のボート装入機で前記反応室１
ａにボートを挿入し、膜生成の処理を行う。
【００２２】反応室１ａでの膜生成の処理が完了する
と、反応室１ａよりボートをロードロック室１に取出
し、更に前記ゲートバルブ１１を開放し、前記ウェーハ
移載機６により前記カセット収納室９内の前記ウェーハ
カセット３６ａとは別のウェーハカセット３６ｂに処理
済みウェーハを移載する。前記台座２５を１ステップず
つの下降動作との協働で処理済みウェーハのウェーハカ
セット３６ｂへの移載が完了すると前記モータ３１を動
作させウェーハカセット３６ｂの向きを前記ウェーハ移
載機７側に向ける。このウェーハカセット３６ｂの回転
位置は、前記回転位置検出板３２，３３と前記センサ３
４，３５との協働によって検出され位置決めされる。
と、反応室１ａよりボートをロードロック室１に取出
し、更に前記ゲートバルブ１１を開放し、前記ウェーハ
移載機６により前記カセット収納室９内の前記ウェーハ
カセット３６ａとは別のウェーハカセット３６ｂに処理
済みウェーハを移載する。前記台座２５を１ステップず
つの下降動作との協働で処理済みウェーハのウェーハカ
セット３６ｂへの移載が完了すると前記モータ３１を動
作させウェーハカセット３６ｂの向きを前記ウェーハ移
載機７側に向ける。このウェーハカセット３６ｂの回転
位置は、前記回転位置検出板３２，３３と前記センサ３
４，３５との協働によって検出され位置決めされる。
【００２３】前記ウェーハカセット３６ｂの向の変更に
より、前記ウェーハ移載機７によるウェーハ移載が可能
となる。而して、該ウェーハ移載機７によりウェーハは
真空容器１８を経て前記ロードロック室２へのボートに
移載され、更に反応室２ａに装入される。
より、前記ウェーハ移載機７によるウェーハ移載が可能
となる。而して、該ウェーハ移載機７によりウェーハは
真空容器１８を経て前記ロードロック室２へのボートに
移載され、更に反応室２ａに装入される。
【００２４】上述した手順を反応室２ａ、反応室３ａへ
と移行して繰返すことで、３工程の膜生成の処理を行う
ことができる。全ての処理が完了すると、前記ゲートバ
ルブ１４，１５，１６，１７を閉塞し、カセット収納室
９、カセット収納室１０より処理済みのウェーハが装填
されたウェーハカセット３６を取出す。而して、複数の
ウェーハ処理工程をウェーハを大気に晒すことなく処理
することができる。
と移行して繰返すことで、３工程の膜生成の処理を行う
ことができる。全ての処理が完了すると、前記ゲートバ
ルブ１４，１５，１６，１７を閉塞し、カセット収納室
９、カセット収納室１０より処理済みのウェーハが装填
されたウェーハカセット３６を取出す。而して、複数の
ウェーハ処理工程をウェーハを大気に晒すことなく処理
することができる。
【００２５】前記した様に、回転台ユニット２４がカセ
ット収納室に対して２組設けられていることから、例え
ばウェーハ移載機６とウェーハ移載機７のウェーハ移載
動作が干渉することなく行われる。従って、上記説明で
は一方方向の流れについての処理を説明したが、同時に
逆方向の流れの処理を行うことができ、又ロードロック
室１からカセット収納室９へのウェーハ移載とカセット
収納室９からロードロック室２へのウェーハの移載を同
時に行うこともでき、装置の総合的な効率を大幅に向上
させることができる。
ット収納室に対して２組設けられていることから、例え
ばウェーハ移載機６とウェーハ移載機７のウェーハ移載
動作が干渉することなく行われる。従って、上記説明で
は一方方向の流れについての処理を説明したが、同時に
逆方向の流れの処理を行うことができ、又ロードロック
室１からカセット収納室９へのウェーハ移載とカセット
収納室９からロードロック室２へのウェーハの移載を同
時に行うこともでき、装置の総合的な効率を大幅に向上
させることができる。
【００２６】又、上記説明では反応室１ａ，２ａ，３ａ
で異なる膜生成の処理を行う場合を述べたが、各反応室
で同一の処理を行うことも可能である等、種々の処理の
対応が可能である。
で異なる膜生成の処理を行う場合を述べたが、各反応室
で同一の処理を行うことも可能である等、種々の処理の
対応が可能である。
【００２７】更に、ウェーハの処理を１方向処理に限定
すれば、前記カセット収納室は１組の回転台ユニットを
備えたものでもよい。
すれば、前記カセット収納室は１組の回転台ユニットを
備えたものでもよい。
【００２８】
【発明の効果】以上述べた如く本発明によれば、異なる
複数のウェーハ処理工程を大気に晒すことなく真空雰囲
気内で処理するので、ウェーハの自然酸化を防止でき、
高品質なウェーハ処理を行うことができる。又、処理工
程と処理工程との間のウェーハの移動に作業者を介在さ
せることなく行うことができるので、省力化、生産能率
の向上を図ることができる。
複数のウェーハ処理工程を大気に晒すことなく真空雰囲
気内で処理するので、ウェーハの自然酸化を防止でき、
高品質なウェーハ処理を行うことができる。又、処理工
程と処理工程との間のウェーハの移動に作業者を介在さ
せることなく行うことができるので、省力化、生産能率
の向上を図ることができる。
【図１】本発明の一実施例を示す正面図である。
【図２】同前実施例の平面図である。
【図３】図１のＡ矢視図である。
【図４】図１のＢ矢視図である。
１ａ 反応室 ２ａ 反応室 ３ａ 反応室 ６ ウェーハ移載機 ７ ウェーハ移載機 ８ ウェーハ移載機 ９ カセット収納室 １０ カセット収納室 ２４ 回転台ユニット ３６ ウェーハカセット ３７ ウェーハ
Claims (1)
- 【請求項１】 複数のウェーハ処理部を有し、各ウェー
ハ処理部にウェーハ移載機を連設し、該ウェーハ移載機
間にカセット収納室を連設し、前記ウェーハ移載機、カ
セット収納室を機密構造とすると共に、該カセット収納
室内にウェーハカセットを載置可能で、且ウェーハカセ
ットを前記各ウェーハ移載機に対峙可能とする回転台ユ
ニットを少なくとも１組設けたことを特徴とするウェー
ハ処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24034991A JP3078615B2 (ja) | 1991-08-27 | 1991-08-27 | ウェーハ処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24034991A JP3078615B2 (ja) | 1991-08-27 | 1991-08-27 | ウェーハ処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0555343A true JPH0555343A (ja) | 1993-03-05 |
| JP3078615B2 JP3078615B2 (ja) | 2000-08-21 |
Family
ID=17058167
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24034991A Expired - Lifetime JP3078615B2 (ja) | 1991-08-27 | 1991-08-27 | ウェーハ処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3078615B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009094530A (ja) * | 1996-11-18 | 2009-04-30 | Applied Materials Inc | 超高スループット・ウェハ真空処理システム |
-
1991
- 1991-08-27 JP JP24034991A patent/JP3078615B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009094530A (ja) * | 1996-11-18 | 2009-04-30 | Applied Materials Inc | 超高スループット・ウェハ真空処理システム |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3078615B2 (ja) | 2000-08-21 |
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