JPH0547645A - 電子線描画装置 - Google Patents
電子線描画装置Info
- Publication number
- JPH0547645A JPH0547645A JP20913891A JP20913891A JPH0547645A JP H0547645 A JPH0547645 A JP H0547645A JP 20913891 A JP20913891 A JP 20913891A JP 20913891 A JP20913891 A JP 20913891A JP H0547645 A JPH0547645 A JP H0547645A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electron beam
- drawing apparatus
- sample chamber
- beam drawing
- lens barrel
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Electron Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】本発明は電子線描画装置に関し、特に、高精度
な描画を実現する手段を提供することを目的とする。 【構成】電子銃１０１、電子レンズ３０１，３０２から
構成される鏡筒を定盤３０３の上部に固定し、試料室３
０４は下部に固定する。 【効果】精度劣化の原因である試料台３０４からの振動
が、鏡筒に伝わるのを防ぐことができるため、高精度な
描画が実現できる。
な描画を実現する手段を提供することを目的とする。 【構成】電子銃１０１、電子レンズ３０１，３０２から
構成される鏡筒を定盤３０３の上部に固定し、試料室３
０４は下部に固定する。 【効果】精度劣化の原因である試料台３０４からの振動
が、鏡筒に伝わるのを防ぐことができるため、高精度な
描画が実現できる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、電子線を応用した装置
に係り、特に高精度な描画を実現するための電子線描画
装置に関する。
に係り、特に高精度な描画を実現するための電子線描画
装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】電子線描画装置において、高精度描画を
実現するには、装置の構造が安定であることが重要であ
る。図１に従来の電子線描画装置の構造を示す。これま
での構造は、電子線を発生する電子銃１０１、電子レン
ズ１０２，１０３、及び、偏向器（図示せず）等から構
成される鏡筒１００が、試料室１０４の上に固定される
構造である。試料室内には、ウェハ１０６を搭載する試
料台１０５があり、該試料台を駆動するモータ１０７と
は、駆動軸１０８によって結合されている。これら、鏡
筒１００、及び、試料室１０４は、定盤１０９に固定さ
れ、更に、空気バネ１１０，空気シリンダ１１１により
除振されるようになっている。以上の構造により床から
の振動を取り除き、高精度描画を行なってきた。
実現するには、装置の構造が安定であることが重要であ
る。図１に従来の電子線描画装置の構造を示す。これま
での構造は、電子線を発生する電子銃１０１、電子レン
ズ１０２，１０３、及び、偏向器（図示せず）等から構
成される鏡筒１００が、試料室１０４の上に固定される
構造である。試料室内には、ウェハ１０６を搭載する試
料台１０５があり、該試料台を駆動するモータ１０７と
は、駆動軸１０８によって結合されている。これら、鏡
筒１００、及び、試料室１０４は、定盤１０９に固定さ
れ、更に、空気バネ１１０，空気シリンダ１１１により
除振されるようになっている。以上の構造により床から
の振動を取り除き、高精度描画を行なってきた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、装置のスルー
プット向上のために、試料台の移動速度を高速化するに
つれて、振動の描画精度への影響が大きくなってきた。
即ち、試料台１０５の移動によって試料室上面が振動
し、その結果、鏡筒１００が左右にゆれる為に、描画精
度が劣化することが判ってきた。このため、試料室上面
に補強材を設けるなどして、その対策を行なってきた。
このような例としては、J.Vac.Sci.Technol.B ８(６),N
ov／Dec １９９０の１８６３頁〜１８６６頁に掲載され
ている。しかし、半導体素子の構造の微細化に伴い、単
なる補強だけでは不十分となってきた。
プット向上のために、試料台の移動速度を高速化するに
つれて、振動の描画精度への影響が大きくなってきた。
即ち、試料台１０５の移動によって試料室上面が振動
し、その結果、鏡筒１００が左右にゆれる為に、描画精
度が劣化することが判ってきた。このため、試料室上面
に補強材を設けるなどして、その対策を行なってきた。
このような例としては、J.Vac.Sci.Technol.B ８(６),N
ov／Dec １９９０の１８６３頁〜１８６６頁に掲載され
ている。しかし、半導体素子の構造の微細化に伴い、単
なる補強だけでは不十分となってきた。
【０００４】本発明の目的は、係る問題点に注目し、電
子線描画装置の構造を、根本的に見直しし、鏡筒が振動
しない高精度な描画装置を提供することにある。
子線描画装置の構造を、根本的に見直しし、鏡筒が振動
しない高精度な描画装置を提供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記に記載した問題を解
決するために、電子線描画装置の構造を見直した。電子
線描画装置の構造は、鏡筒，試料室，除振台の定盤に大
別することができる。本発明における電子線描画装置で
は、鏡筒と振動源である試料室とを、各々独立に定盤に
固定する構造を採用する。更に必要に応じて、鏡筒と試
料室間を軟固定とした構造とする。
決するために、電子線描画装置の構造を見直した。電子
線描画装置の構造は、鏡筒，試料室，除振台の定盤に大
別することができる。本発明における電子線描画装置で
は、鏡筒と振動源である試料室とを、各々独立に定盤に
固定する構造を採用する。更に必要に応じて、鏡筒と試
料室間を軟固定とした構造とする。
【０００６】
【作用】鏡筒と振動源である試料室とを、独立に定盤に
固定することにより、試料室からの振動は定盤で吸収さ
れ、鏡筒に伝わるのを防ぐことができる。又、鏡筒と試
料室を接続する場合には、両者の間の力学的結合を弱く
した構造にすることによって、振動が試料室から鏡筒へ
伝わるのを抑えることが出来る。以上の構造とすること
によって、描画中における鏡筒の振動が無くなるので、
従来にない高精度描画が実現できる。
固定することにより、試料室からの振動は定盤で吸収さ
れ、鏡筒に伝わるのを防ぐことができる。又、鏡筒と試
料室を接続する場合には、両者の間の力学的結合を弱く
した構造にすることによって、振動が試料室から鏡筒へ
伝わるのを抑えることが出来る。以上の構造とすること
によって、描画中における鏡筒の振動が無くなるので、
従来にない高精度描画が実現できる。
【０００７】
【実施例】以下に、本発明の実施例を説明する。図２に
示した実施例では、試料室と、鏡筒を支える部分とを分
離した構造としている。即ち、鏡筒１００は、架台２０
２によって、定盤１０９に固定されている。一方、試料
室２０１は、独立に定盤１０９に固定されている。試料
室２０１と架台２０２は、ベローズ２０４によって結合
されている。試料台１０５からの振動は、このベローズ
によって遮蔽されており、鏡筒へ伝達されない様になっ
ている。この構造で、定盤１０９の重量を１００kg、試
料室の重量を１０kgとし、試料室側壁に１kgの力を加え
た際の鏡筒の振動は、１μｍ以下の振幅であり、従来の
１／１０であった。
示した実施例では、試料室と、鏡筒を支える部分とを分
離した構造としている。即ち、鏡筒１００は、架台２０
２によって、定盤１０９に固定されている。一方、試料
室２０１は、独立に定盤１０９に固定されている。試料
室２０１と架台２０２は、ベローズ２０４によって結合
されている。試料台１０５からの振動は、このベローズ
によって遮蔽されており、鏡筒へ伝達されない様になっ
ている。この構造で、定盤１０９の重量を１００kg、試
料室の重量を１０kgとし、試料室側壁に１kgの力を加え
た際の鏡筒の振動は、１μｍ以下の振幅であり、従来の
１／１０であった。
【０００８】図３は、本発明の他の実施例を示したもの
である。本実施例では、鏡筒と試料室３０４とが、定盤
３０３によって分離されている。電子銃１０１、電子レ
ンズ３０１，３０２などから構成される鏡筒は、そのほ
ぼ中央部分で定盤３０３の上面に固定されている。定盤
上面からの鏡筒の高さは、その直径の２.５ 倍である。
一方、試料室３０４は、定盤３０３の下部に取付けられ
ている。この様にすることによって、試料台１０５から
の振動は定盤３０３に吸収され、鏡筒が揺れるのを防ぐ
ことができた。
である。本実施例では、鏡筒と試料室３０４とが、定盤
３０３によって分離されている。電子銃１０１、電子レ
ンズ３０１，３０２などから構成される鏡筒は、そのほ
ぼ中央部分で定盤３０３の上面に固定されている。定盤
上面からの鏡筒の高さは、その直径の２.５ 倍である。
一方、試料室３０４は、定盤３０３の下部に取付けられ
ている。この様にすることによって、試料台１０５から
の振動は定盤３０３に吸収され、鏡筒が揺れるのを防ぐ
ことができた。
【０００９】図４は、本発明の他の実施例で、図３の実
施例を一部変更したものである。ここでは、試料室３０
４、及び、モータ１０７と定盤３０３との間に、支え４
０１を設けた。これによって、試料台１０５，モータ１
０７からの振動を、更に小さくした。図５に示した実施
例は、鏡筒を定盤５０４に固定する部分の厚さを厚くし
た例である。又、同図では、試料室との間で試料の装
填、取り出しを行なうためのローダ５０３と、定盤上面
から試料をローダに搬送する為のエレベータ502の位置
も示してある。
施例を一部変更したものである。ここでは、試料室３０
４、及び、モータ１０７と定盤３０３との間に、支え４
０１を設けた。これによって、試料台１０５，モータ１
０７からの振動を、更に小さくした。図５に示した実施
例は、鏡筒を定盤５０４に固定する部分の厚さを厚くし
た例である。又、同図では、試料室との間で試料の装
填、取り出しを行なうためのローダ５０３と、定盤上面
から試料をローダに搬送する為のエレベータ502の位置
も示してある。
【００１０】
【発明の効果】本発明によれば、試料台，駆動モータな
どに起因する機械的振動が、鏡筒に伝わることを防ぐこ
とができる。その結果、高精度な描画が可能である。
どに起因する機械的振動が、鏡筒に伝わることを防ぐこ
とができる。その結果、高精度な描画が可能である。
【図１】従来の電子線描画装置の構造を説明する図。
【図２】本発明の一実施例を説明する図。
【図３】本発明の一実施例を説明する図。
【図４】本発明の一実施例を説明する図。
【図５】本発明の一実施例を説明する図。
１００…鏡筒、１０１…電子銃、１０２…電子レンズ、
１０３…電子レンズ、１０４…試料室、１０５…試料
台、１０６試料、１０７…駆動モータ、１０８…駆動
軸、１０９…定盤、１１０…空気バネ、１１１…空気シ
リンダ、２０１…試料室、２０２…架台、２０４…ベロ
ーズ、３０１…電子レンズ、３０２…電子レンズ、３０
３…定盤、３０４…試料室、４０１…支え、５０１…電
子レンズ、５０２…エレベータ、５０３…ローダ、５０
４…定盤。
１０３…電子レンズ、１０４…試料室、１０５…試料
台、１０６試料、１０７…駆動モータ、１０８…駆動
軸、１０９…定盤、１１０…空気バネ、１１１…空気シ
リンダ、２０１…試料室、２０２…架台、２０４…ベロ
ーズ、３０１…電子レンズ、３０２…電子レンズ、３０
３…定盤、３０４…試料室、４０１…支え、５０１…電
子レンズ、５０２…エレベータ、５０３…ローダ、５０
４…定盤。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 太田 洋也 東京都国分寺市東恋ケ窪１丁目280番地 株式会社日立製作所中央研究所内
Claims (8)
- 【請求項１】電子線を放射する電子源，電子線を所定の
形状にする電子レンズ，電子線を必要な範囲にわたって
偏向する偏向器等から構成される電子光学鏡筒と、描画
する試料を搭載する試料台を格納する試料室と、該電子
光学鏡筒、及び、該試料室を外部からの振動から遮蔽す
るための除振台から構成される電子線描画装置におい
て、電子光学鏡筒と、試料室間の機械的結合を弱くした
ことを特徴とする電子線描画装置。 - 【請求項２】請求項１記載の電子線描画装置において、
電子光学鏡筒と、試料室を除振台の定盤に各々独立に固
定したことを特徴とする電子線描画装置。 - 【請求項３】請求項１記載の電子線描画装置において、
電子光学鏡筒と、試料室を除振台の定盤に各々独立に固
定し、鏡筒と試料室間は、軟固定としたことを特徴とす
る電子線描画装置。 - 【請求項４】請求項２記載の電子線描画装置において、
電子光学鏡筒と、試料室を除振台の定盤の上下に配置し
たことを特徴とする電子線描画装置。 - 【請求項５】請求項２記載の電子線描画装置において、
電子光学鏡筒を除振台の定盤の上面に固定し、試料室を
定盤の下面に固定したことを特徴とする電子線描画装
置。 - 【請求項６】請求項１記載の電子線描画装置において、
定盤上面からの電子光学鏡筒の高さを、鏡筒の直径の５
倍以下としたことを特徴とする電子線描画装置。 - 【請求項７】請求項１記載の電子線描画装置において、
試料室と除振台との間に支柱を設けたことを特徴とする
電子線描画装置。 - 【請求項８】請求項１から請求項７記載の構造を有する
電子線応用装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20913891A JPH0547645A (ja) | 1991-08-21 | 1991-08-21 | 電子線描画装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20913891A JPH0547645A (ja) | 1991-08-21 | 1991-08-21 | 電子線描画装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0547645A true JPH0547645A (ja) | 1993-02-26 |
Family
ID=16567932
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20913891A Pending JPH0547645A (ja) | 1991-08-21 | 1991-08-21 | 電子線描画装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0547645A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6043490A (en) * | 1997-01-27 | 2000-03-28 | Hitachi, Ltd. | Vibration cancellation system for a charged particle beam apparatus |
| JP2002260566A (ja) * | 2001-02-27 | 2002-09-13 | Kyocera Corp | 荷電ビーム装置 |
| US8746272B2 (en) | 2011-09-26 | 2014-06-10 | Air Products And Chemicals, Inc. | Solenoid bypass system for continuous operation of pneumatic valve |
-
1991
- 1991-08-21 JP JP20913891A patent/JPH0547645A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6043490A (en) * | 1997-01-27 | 2000-03-28 | Hitachi, Ltd. | Vibration cancellation system for a charged particle beam apparatus |
| JP2002260566A (ja) * | 2001-02-27 | 2002-09-13 | Kyocera Corp | 荷電ビーム装置 |
| US8746272B2 (en) | 2011-09-26 | 2014-06-10 | Air Products And Chemicals, Inc. | Solenoid bypass system for continuous operation of pneumatic valve |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5508518A (en) | Lithography tool with vibration isolation | |
| JPH10259851A (ja) | 能動除振装置 | |
| JP3726207B2 (ja) | アクティブ除振装置 | |
| JPH08111371A (ja) | 投影露光装置 | |
| JPH0547645A (ja) | 電子線描画装置 | |
| JPH11150062A (ja) | 除振装置及び露光装置並びに除振台の除振方法 | |
| JPH0242382A (ja) | 移動ステージ構造 | |
| US6794665B2 (en) | Electron beam drawing apparatus | |
| US11302512B2 (en) | Electron beam inspection apparatus stage positioning | |
| JP2008052947A (ja) | 荷電粒子ビーム装置 | |
| JPH03263810A (ja) | 半導体露光装置の振動制御方法 | |
| JP2023001194A (ja) | 荷電粒子ビーム描画装置 | |
| TWI744591B (zh) | 制振系統以及具備該制振系統的光學裝置 | |
| JP3031947B2 (ja) | 露光装置 | |
| JP2005183876A (ja) | ステージ装置及び露光装置 | |
| JP2578579B2 (ja) | 露光装置 | |
| JPH09166176A (ja) | 精密除振装置 | |
| JPH08273570A (ja) | 試料に対する精密作業を行う装置 | |
| JPS5823740B2 (ja) | 電子ビ−ム露光方法 | |
| TWI773054B (zh) | 荷電粒子線裝置及振動抑制機構 | |
| JP2004214527A (ja) | 差圧キャンセルベローズユニット及び露光装置 | |
| JP3418133B2 (ja) | 走査電子顕微鏡 | |
| JP2546365Y2 (ja) | 荷電粒子ビーム装置 | |
| JP6814640B2 (ja) | 測定装置 | |
| JPH08162495A (ja) | 半田ボールの搭載装置 |