JPH0547645A - 電子線描画装置 - Google Patents
電子線描画装置Info
- Publication number
- JPH0547645A JPH0547645A JP20913891A JP20913891A JPH0547645A JP H0547645 A JPH0547645 A JP H0547645A JP 20913891 A JP20913891 A JP 20913891A JP 20913891 A JP20913891 A JP 20913891A JP H0547645 A JPH0547645 A JP H0547645A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electron beam
- drawing apparatus
- sample chamber
- beam drawing
- lens barrel
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Abstract
(57)【要約】
【目的】本発明は電子線描画装置に関し、特に、高精度
な描画を実現する手段を提供することを目的とする。 【構成】電子銃101、電子レンズ301,302から
構成される鏡筒を定盤303の上部に固定し、試料室3
04は下部に固定する。 【効果】精度劣化の原因である試料台304からの振動
が、鏡筒に伝わるのを防ぐことができるため、高精度な
描画が実現できる。
な描画を実現する手段を提供することを目的とする。 【構成】電子銃101、電子レンズ301,302から
構成される鏡筒を定盤303の上部に固定し、試料室3
04は下部に固定する。 【効果】精度劣化の原因である試料台304からの振動
が、鏡筒に伝わるのを防ぐことができるため、高精度な
描画が実現できる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、電子線を応用した装置
に係り、特に高精度な描画を実現するための電子線描画
装置に関する。
に係り、特に高精度な描画を実現するための電子線描画
装置に関する。
【0002】
【従来の技術】電子線描画装置において、高精度描画を
実現するには、装置の構造が安定であることが重要であ
る。図1に従来の電子線描画装置の構造を示す。これま
での構造は、電子線を発生する電子銃101、電子レン
ズ102,103、及び、偏向器(図示せず)等から構
成される鏡筒100が、試料室104の上に固定される
構造である。試料室内には、ウェハ106を搭載する試
料台105があり、該試料台を駆動するモータ107と
は、駆動軸108によって結合されている。これら、鏡
筒100、及び、試料室104は、定盤109に固定さ
れ、更に、空気バネ110,空気シリンダ111により
除振されるようになっている。以上の構造により床から
の振動を取り除き、高精度描画を行なってきた。
実現するには、装置の構造が安定であることが重要であ
る。図1に従来の電子線描画装置の構造を示す。これま
での構造は、電子線を発生する電子銃101、電子レン
ズ102,103、及び、偏向器(図示せず)等から構
成される鏡筒100が、試料室104の上に固定される
構造である。試料室内には、ウェハ106を搭載する試
料台105があり、該試料台を駆動するモータ107と
は、駆動軸108によって結合されている。これら、鏡
筒100、及び、試料室104は、定盤109に固定さ
れ、更に、空気バネ110,空気シリンダ111により
除振されるようになっている。以上の構造により床から
の振動を取り除き、高精度描画を行なってきた。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかし、装置のスルー
プット向上のために、試料台の移動速度を高速化するに
つれて、振動の描画精度への影響が大きくなってきた。
即ち、試料台105の移動によって試料室上面が振動
し、その結果、鏡筒100が左右にゆれる為に、描画精
度が劣化することが判ってきた。このため、試料室上面
に補強材を設けるなどして、その対策を行なってきた。
このような例としては、J.Vac.Sci.Technol.B 8(6),N
ov/Dec 1990の1863頁〜1866頁に掲載され
ている。しかし、半導体素子の構造の微細化に伴い、単
なる補強だけでは不十分となってきた。
プット向上のために、試料台の移動速度を高速化するに
つれて、振動の描画精度への影響が大きくなってきた。
即ち、試料台105の移動によって試料室上面が振動
し、その結果、鏡筒100が左右にゆれる為に、描画精
度が劣化することが判ってきた。このため、試料室上面
に補強材を設けるなどして、その対策を行なってきた。
このような例としては、J.Vac.Sci.Technol.B 8(6),N
ov/Dec 1990の1863頁〜1866頁に掲載され
ている。しかし、半導体素子の構造の微細化に伴い、単
なる補強だけでは不十分となってきた。
【0004】本発明の目的は、係る問題点に注目し、電
子線描画装置の構造を、根本的に見直しし、鏡筒が振動
しない高精度な描画装置を提供することにある。
子線描画装置の構造を、根本的に見直しし、鏡筒が振動
しない高精度な描画装置を提供することにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】上記に記載した問題を解
決するために、電子線描画装置の構造を見直した。電子
線描画装置の構造は、鏡筒,試料室,除振台の定盤に大
別することができる。本発明における電子線描画装置で
は、鏡筒と振動源である試料室とを、各々独立に定盤に
固定する構造を採用する。更に必要に応じて、鏡筒と試
料室間を軟固定とした構造とする。
決するために、電子線描画装置の構造を見直した。電子
線描画装置の構造は、鏡筒,試料室,除振台の定盤に大
別することができる。本発明における電子線描画装置で
は、鏡筒と振動源である試料室とを、各々独立に定盤に
固定する構造を採用する。更に必要に応じて、鏡筒と試
料室間を軟固定とした構造とする。
【0006】
【作用】鏡筒と振動源である試料室とを、独立に定盤に
固定することにより、試料室からの振動は定盤で吸収さ
れ、鏡筒に伝わるのを防ぐことができる。又、鏡筒と試
料室を接続する場合には、両者の間の力学的結合を弱く
した構造にすることによって、振動が試料室から鏡筒へ
伝わるのを抑えることが出来る。以上の構造とすること
によって、描画中における鏡筒の振動が無くなるので、
従来にない高精度描画が実現できる。
固定することにより、試料室からの振動は定盤で吸収さ
れ、鏡筒に伝わるのを防ぐことができる。又、鏡筒と試
料室を接続する場合には、両者の間の力学的結合を弱く
した構造にすることによって、振動が試料室から鏡筒へ
伝わるのを抑えることが出来る。以上の構造とすること
によって、描画中における鏡筒の振動が無くなるので、
従来にない高精度描画が実現できる。
【0007】
【実施例】以下に、本発明の実施例を説明する。図2に
示した実施例では、試料室と、鏡筒を支える部分とを分
離した構造としている。即ち、鏡筒100は、架台20
2によって、定盤109に固定されている。一方、試料
室201は、独立に定盤109に固定されている。試料
室201と架台202は、ベローズ204によって結合
されている。試料台105からの振動は、このベローズ
によって遮蔽されており、鏡筒へ伝達されない様になっ
ている。この構造で、定盤109の重量を100kg、試
料室の重量を10kgとし、試料室側壁に1kgの力を加え
た際の鏡筒の振動は、1μm以下の振幅であり、従来の
1/10であった。
示した実施例では、試料室と、鏡筒を支える部分とを分
離した構造としている。即ち、鏡筒100は、架台20
2によって、定盤109に固定されている。一方、試料
室201は、独立に定盤109に固定されている。試料
室201と架台202は、ベローズ204によって結合
されている。試料台105からの振動は、このベローズ
によって遮蔽されており、鏡筒へ伝達されない様になっ
ている。この構造で、定盤109の重量を100kg、試
料室の重量を10kgとし、試料室側壁に1kgの力を加え
た際の鏡筒の振動は、1μm以下の振幅であり、従来の
1/10であった。
【0008】図3は、本発明の他の実施例を示したもの
である。本実施例では、鏡筒と試料室304とが、定盤
303によって分離されている。電子銃101、電子レ
ンズ301,302などから構成される鏡筒は、そのほ
ぼ中央部分で定盤303の上面に固定されている。定盤
上面からの鏡筒の高さは、その直径の2.5 倍である。
一方、試料室304は、定盤303の下部に取付けられ
ている。この様にすることによって、試料台105から
の振動は定盤303に吸収され、鏡筒が揺れるのを防ぐ
ことができた。
である。本実施例では、鏡筒と試料室304とが、定盤
303によって分離されている。電子銃101、電子レ
ンズ301,302などから構成される鏡筒は、そのほ
ぼ中央部分で定盤303の上面に固定されている。定盤
上面からの鏡筒の高さは、その直径の2.5 倍である。
一方、試料室304は、定盤303の下部に取付けられ
ている。この様にすることによって、試料台105から
の振動は定盤303に吸収され、鏡筒が揺れるのを防ぐ
ことができた。
【0009】図4は、本発明の他の実施例で、図3の実
施例を一部変更したものである。ここでは、試料室30
4、及び、モータ107と定盤303との間に、支え4
01を設けた。これによって、試料台105,モータ1
07からの振動を、更に小さくした。図5に示した実施
例は、鏡筒を定盤504に固定する部分の厚さを厚くし
た例である。又、同図では、試料室との間で試料の装
填、取り出しを行なうためのローダ503と、定盤上面
から試料をローダに搬送する為のエレベータ502の位置
も示してある。
施例を一部変更したものである。ここでは、試料室30
4、及び、モータ107と定盤303との間に、支え4
01を設けた。これによって、試料台105,モータ1
07からの振動を、更に小さくした。図5に示した実施
例は、鏡筒を定盤504に固定する部分の厚さを厚くし
た例である。又、同図では、試料室との間で試料の装
填、取り出しを行なうためのローダ503と、定盤上面
から試料をローダに搬送する為のエレベータ502の位置
も示してある。
【0010】
【発明の効果】本発明によれば、試料台,駆動モータな
どに起因する機械的振動が、鏡筒に伝わることを防ぐこ
とができる。その結果、高精度な描画が可能である。
どに起因する機械的振動が、鏡筒に伝わることを防ぐこ
とができる。その結果、高精度な描画が可能である。
【図1】従来の電子線描画装置の構造を説明する図。
【図2】本発明の一実施例を説明する図。
【図3】本発明の一実施例を説明する図。
【図4】本発明の一実施例を説明する図。
【図5】本発明の一実施例を説明する図。
100…鏡筒、101…電子銃、102…電子レンズ、
103…電子レンズ、104…試料室、105…試料
台、106試料、107…駆動モータ、108…駆動
軸、109…定盤、110…空気バネ、111…空気シ
リンダ、201…試料室、202…架台、204…ベロ
ーズ、301…電子レンズ、302…電子レンズ、30
3…定盤、304…試料室、401…支え、501…電
子レンズ、502…エレベータ、503…ローダ、50
4…定盤。
103…電子レンズ、104…試料室、105…試料
台、106試料、107…駆動モータ、108…駆動
軸、109…定盤、110…空気バネ、111…空気シ
リンダ、201…試料室、202…架台、204…ベロ
ーズ、301…電子レンズ、302…電子レンズ、30
3…定盤、304…試料室、401…支え、501…電
子レンズ、502…エレベータ、503…ローダ、50
4…定盤。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 太田 洋也 東京都国分寺市東恋ケ窪1丁目280番地 株式会社日立製作所中央研究所内
Claims (8)
- 【請求項1】電子線を放射する電子源,電子線を所定の
形状にする電子レンズ,電子線を必要な範囲にわたって
偏向する偏向器等から構成される電子光学鏡筒と、描画
する試料を搭載する試料台を格納する試料室と、該電子
光学鏡筒、及び、該試料室を外部からの振動から遮蔽す
るための除振台から構成される電子線描画装置におい
て、電子光学鏡筒と、試料室間の機械的結合を弱くした
ことを特徴とする電子線描画装置。 - 【請求項2】請求項1記載の電子線描画装置において、
電子光学鏡筒と、試料室を除振台の定盤に各々独立に固
定したことを特徴とする電子線描画装置。 - 【請求項3】請求項1記載の電子線描画装置において、
電子光学鏡筒と、試料室を除振台の定盤に各々独立に固
定し、鏡筒と試料室間は、軟固定としたことを特徴とす
る電子線描画装置。 - 【請求項4】請求項2記載の電子線描画装置において、
電子光学鏡筒と、試料室を除振台の定盤の上下に配置し
たことを特徴とする電子線描画装置。 - 【請求項5】請求項2記載の電子線描画装置において、
電子光学鏡筒を除振台の定盤の上面に固定し、試料室を
定盤の下面に固定したことを特徴とする電子線描画装
置。 - 【請求項6】請求項1記載の電子線描画装置において、
定盤上面からの電子光学鏡筒の高さを、鏡筒の直径の5
倍以下としたことを特徴とする電子線描画装置。 - 【請求項7】請求項1記載の電子線描画装置において、
試料室と除振台との間に支柱を設けたことを特徴とする
電子線描画装置。 - 【請求項8】請求項1から請求項7記載の構造を有する
電子線応用装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20913891A JPH0547645A (ja) | 1991-08-21 | 1991-08-21 | 電子線描画装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20913891A JPH0547645A (ja) | 1991-08-21 | 1991-08-21 | 電子線描画装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0547645A true JPH0547645A (ja) | 1993-02-26 |
Family
ID=16567932
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP20913891A Pending JPH0547645A (ja) | 1991-08-21 | 1991-08-21 | 電子線描画装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0547645A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6043490A (en) * | 1997-01-27 | 2000-03-28 | Hitachi, Ltd. | Vibration cancellation system for a charged particle beam apparatus |
JP2002260566A (ja) * | 2001-02-27 | 2002-09-13 | Kyocera Corp | 荷電ビーム装置 |
US8746272B2 (en) | 2011-09-26 | 2014-06-10 | Air Products And Chemicals, Inc. | Solenoid bypass system for continuous operation of pneumatic valve |
-
1991
- 1991-08-21 JP JP20913891A patent/JPH0547645A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6043490A (en) * | 1997-01-27 | 2000-03-28 | Hitachi, Ltd. | Vibration cancellation system for a charged particle beam apparatus |
JP2002260566A (ja) * | 2001-02-27 | 2002-09-13 | Kyocera Corp | 荷電ビーム装置 |
US8746272B2 (en) | 2011-09-26 | 2014-06-10 | Air Products And Chemicals, Inc. | Solenoid bypass system for continuous operation of pneumatic valve |
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