JPH05337416A - 塗布装置 - Google Patents
塗布装置Info
- Publication number
- JPH05337416A JPH05337416A JP14305592A JP14305592A JPH05337416A JP H05337416 A JPH05337416 A JP H05337416A JP 14305592 A JP14305592 A JP 14305592A JP 14305592 A JP14305592 A JP 14305592A JP H05337416 A JPH05337416 A JP H05337416A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- water
- coating liquid
- coating
- solvent
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- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Coating Apparatus (AREA)
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】塗布液中の水分の増大を抑制して劣化を防ぎ、
塗布液が分散液の場合でもその分散性を良好に維持し、
良好で均質な塗膜を安定して得られる塗布装置を提供す
る。 【構成】浸漬槽と塗布液循環機構とからなる塗布装置の
塗布液循環機構１に塗布液貯留タンク３内の塗布液６を
泡だたせるバブリング機構１１，発生した蒸気を冷却し
凝集させる冷却機構１２，取り出された溶剤と水分の混
合液から水分を除去する除水機構１３，フィルタ１４，
水分の除去された溶剤を貯留する溶剤貯留タンク１５，
この溶剤を塗布液貯留タンク３に送り込む溶剤還流機構
１６からなる水分除去機構１０を付設する。
塗布液が分散液の場合でもその分散性を良好に維持し、
良好で均質な塗膜を安定して得られる塗布装置を提供す
る。 【構成】浸漬槽と塗布液循環機構とからなる塗布装置の
塗布液循環機構１に塗布液貯留タンク３内の塗布液６を
泡だたせるバブリング機構１１，発生した蒸気を冷却し
凝集させる冷却機構１２，取り出された溶剤と水分の混
合液から水分を除去する除水機構１３，フィルタ１４，
水分の除去された溶剤を貯留する溶剤貯留タンク１５，
この溶剤を塗布液貯留タンク３に送り込む溶剤還流機構
１６からなる水分除去機構１０を付設する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、基体表面に機能性の
膜を塗膜として形成するために用いられる塗布装置、例
えば、電子写真用感光体の製造のために、浸漬塗布法で
導電性基体上に塗布液を塗布して感光層などを形成する
際に用いられる塗布装置に関する。
膜を塗膜として形成するために用いられる塗布装置、例
えば、電子写真用感光体の製造のために、浸漬塗布法で
導電性基体上に塗布液を塗布して感光層などを形成する
際に用いられる塗布装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】基体表面に塗膜を形成するための一般的
な方法として、塗膜形成材料を溶剤などに溶解，分散さ
せた塗布液に基体を浸漬し引き上げることにより塗膜を
形成する，いわゆる浸漬塗布法が知られている。このと
きに用いられる塗布装置は、通常、図２の概念図に示す
ように、塗布液循環機構１と浸漬槽２とからなる。塗布
液循環機構１は塗布液貯留タンク３，ポンプ４，フィル
タ５を備えており、塗布液６を塗布液貯留タンク３から
ポンプ４によりフィルタ５で濾過しながら浸漬槽２の下
部に送りこみその上部よりオーバーフローさせ塗布液貯
留タンク３に還流するように循環させながら、浸漬槽２
に基体７を浸漬し引き上げることにより、基体７の表面
に塗膜を形成する。８は塗布液貯留タンク３内の塗布液
６を攪拌して均質に保つための攪拌羽根である。
な方法として、塗膜形成材料を溶剤などに溶解，分散さ
せた塗布液に基体を浸漬し引き上げることにより塗膜を
形成する，いわゆる浸漬塗布法が知られている。このと
きに用いられる塗布装置は、通常、図２の概念図に示す
ように、塗布液循環機構１と浸漬槽２とからなる。塗布
液循環機構１は塗布液貯留タンク３，ポンプ４，フィル
タ５を備えており、塗布液６を塗布液貯留タンク３から
ポンプ４によりフィルタ５で濾過しながら浸漬槽２の下
部に送りこみその上部よりオーバーフローさせ塗布液貯
留タンク３に還流するように循環させながら、浸漬槽２
に基体７を浸漬し引き上げることにより、基体７の表面
に塗膜を形成する。８は塗布液貯留タンク３内の塗布液
６を攪拌して均質に保つための攪拌羽根である。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】ところが、上述のよう
な塗布装置においては、塗布液に大気中の水分が混入し
て劣化し、良好な塗膜の形成が損なわれ、特に塗布液が
顔料などを分散させた分散液の場合には、水分の増加に
伴って分散させた材料の凝集が起こり易くなり、分散さ
せた材料の粒径分布，平均粒径が大きくなり、良好で均
質な塗膜が得られなくなるという問題があった。
な塗布装置においては、塗布液に大気中の水分が混入し
て劣化し、良好な塗膜の形成が損なわれ、特に塗布液が
顔料などを分散させた分散液の場合には、水分の増加に
伴って分散させた材料の凝集が起こり易くなり、分散さ
せた材料の粒径分布，平均粒径が大きくなり、良好で均
質な塗膜が得られなくなるという問題があった。
【０００４】この発明は、上述の問題点を解消して、塗
布液中の水分の増大を抑制し、塗布液が分散液の場合で
もその分散性を良好に維持し、良好で均質な塗膜を安定
して形成することのできる塗布装置を提供することを解
決しようとする課題とする。
布液中の水分の増大を抑制し、塗布液が分散液の場合で
もその分散性を良好に維持し、良好で均質な塗膜を安定
して形成することのできる塗布装置を提供することを解
決しようとする課題とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記の課題は、この発明
によれば、浸漬槽と、塗布液貯留タンクを有する塗布液
循環機構とを備えてなり、塗布液を循環させながら浸漬
槽中の塗布液に基体を浸漬し引き上げることにより基体
表面に塗膜を形成する塗布装置において、前記塗布液循
環機構に塗布液中の水分を除去するための水分除去機構
が設けられている塗布装置とすることによって解決され
る。
によれば、浸漬槽と、塗布液貯留タンクを有する塗布液
循環機構とを備えてなり、塗布液を循環させながら浸漬
槽中の塗布液に基体を浸漬し引き上げることにより基体
表面に塗膜を形成する塗布装置において、前記塗布液循
環機構に塗布液中の水分を除去するための水分除去機構
が設けられている塗布装置とすることによって解決され
る。
【０００６】水分除去機構は、塗布液貯留タンク内の塗
布液中に不活性ガスを吹き込んで塗布液を泡だたせるバ
ブリング機構、バブリングにより発生する溶剤，水分，
不活性ガスからなる蒸気を冷却して凝結した溶剤および
水分を取り出す冷却機構、取り出された溶剤および水分
の混合液から水分を除去する除水機構、水分の除去され
た溶剤を貯留する溶剤貯留タンク、水分の除去された溶
剤を溶剤貯留タンクから塗布液貯留タンクに還流させる
溶剤還流機構からなる構成とすると好適である。また、
不活性ガスとしてはＮ2 を用いると好適であり、除水機
構においては、除水剤としてゼオライトを用いると好適
である。
布液中に不活性ガスを吹き込んで塗布液を泡だたせるバ
ブリング機構、バブリングにより発生する溶剤，水分，
不活性ガスからなる蒸気を冷却して凝結した溶剤および
水分を取り出す冷却機構、取り出された溶剤および水分
の混合液から水分を除去する除水機構、水分の除去され
た溶剤を貯留する溶剤貯留タンク、水分の除去された溶
剤を溶剤貯留タンクから塗布液貯留タンクに還流させる
溶剤還流機構からなる構成とすると好適である。また、
不活性ガスとしてはＮ2 を用いると好適であり、除水機
構においては、除水剤としてゼオライトを用いると好適
である。
【０００７】
【作用】塗布液循環機構に水分除去機構を付設すること
により、塗布液中の水分を少なく保つことができて、塗
布液の劣化を防ぎ、塗布液が分散液の場合でも分散性を
良好に維持することができ、良好で均質な塗膜を安定し
て形成することが可能となる。
により、塗布液中の水分を少なく保つことができて、塗
布液の劣化を防ぎ、塗布液が分散液の場合でも分散性を
良好に維持することができ、良好で均質な塗膜を安定し
て形成することが可能となる。
【０００８】
【実施例】図１は、この発明に係わる塗布装置の水分除
去機構の一実施例を示す概念図である。塗布装置の全体
的な構成は、例えば、図２に示した従来例と同等の構成
でよく、図２の塗布液循環機構１に水分除去機構が付設
される。図１において、３は塗布液循環機構の塗布液貯
留タンクであり、塗布液６は送出口３１より浸漬槽へ送
り出され還流口３２に還流してくる。水分除去機構１０
はバブリング機構１１，冷却機構１２，除水機構１３、
フィルタ１４，溶剤貯留タンク１５，溶剤還流機構１６
とからなる。バブリング機構１１は、不活性ガスをガス
流入口１１１より送り込み、ガス噴出口１１２より噴出
させて塗布液６を泡だたせる。このように泡だたせるこ
とにより生じた溶剤と水分と不活性ガスからなる蒸気を
冷却機構１２に導入し、冷却剤を通した冷却管１２１で
冷却して溶剤と水とを凝結させ、得られた溶剤と水との
混合液を除水剤１３１を充填した除水機構１３を通して
除水する。このようにして除水した溶剤をフィルタ１４
を通して溶剤貯留タンク１５に貯留し、ポンプ１６１を
有する溶剤還流機構１６を経て塗布液貯留タンク３に還
流させる。このようにして除水再生された溶剤を還流さ
せて塗布液に用いることにより塗布液の水分の増加を抑
制することができる。
去機構の一実施例を示す概念図である。塗布装置の全体
的な構成は、例えば、図２に示した従来例と同等の構成
でよく、図２の塗布液循環機構１に水分除去機構が付設
される。図１において、３は塗布液循環機構の塗布液貯
留タンクであり、塗布液６は送出口３１より浸漬槽へ送
り出され還流口３２に還流してくる。水分除去機構１０
はバブリング機構１１，冷却機構１２，除水機構１３、
フィルタ１４，溶剤貯留タンク１５，溶剤還流機構１６
とからなる。バブリング機構１１は、不活性ガスをガス
流入口１１１より送り込み、ガス噴出口１１２より噴出
させて塗布液６を泡だたせる。このように泡だたせるこ
とにより生じた溶剤と水分と不活性ガスからなる蒸気を
冷却機構１２に導入し、冷却剤を通した冷却管１２１で
冷却して溶剤と水とを凝結させ、得られた溶剤と水との
混合液を除水剤１３１を充填した除水機構１３を通して
除水する。このようにして除水した溶剤をフィルタ１４
を通して溶剤貯留タンク１５に貯留し、ポンプ１６１を
有する溶剤還流機構１６を経て塗布液貯留タンク３に還
流させる。このようにして除水再生された溶剤を還流さ
せて塗布液に用いることにより塗布液の水分の増加を抑
制することができる。
【０００９】上述のような装置により、無金属フタロシ
アニン，ポリメタクリル酸メチル樹脂をテトラヒドロフ
ランに分散・溶解した塗布液を用いて電子写真用感光体
の電荷発生層を形成する。水分除去機構を作動させた場
合と作動させなかった場合について、塗布液中の水分量
および分散されている顔料の平均粒径を調べ、塗工性を
評価した。その結果を表１に示す。水分除去機構の不活
性ガスとしてはＮ2 ガスを用い、冷却剤としては冷却水
を用い、除水剤としてはゼオライトを用いた。なお、粒
径の測定は塗布液を超音波処理した後に行ったが、水分
除去機構を作動させなかった場合には超音波処理を行っ
ても粒径は小さくならなかった。
アニン，ポリメタクリル酸メチル樹脂をテトラヒドロフ
ランに分散・溶解した塗布液を用いて電子写真用感光体
の電荷発生層を形成する。水分除去機構を作動させた場
合と作動させなかった場合について、塗布液中の水分量
および分散されている顔料の平均粒径を調べ、塗工性を
評価した。その結果を表１に示す。水分除去機構の不活
性ガスとしてはＮ2 ガスを用い、冷却剤としては冷却水
を用い、除水剤としてはゼオライトを用いた。なお、粒
径の測定は塗布液を超音波処理した後に行ったが、水分
除去機構を作動させなかった場合には超音波処理を行っ
ても粒径は小さくならなかった。
【００１０】
【表１】 表１に見られるように、水分除去機構を作動させること
により、塗布液中の水分は低減され、顔料の凝集が抑制
され、塗工性が良好に維持され、その効果は明らかであ
る。
により、塗布液中の水分は低減され、顔料の凝集が抑制
され、塗工性が良好に維持され、その効果は明らかであ
る。
【００１１】
【発明の効果】この発明は、以上説明したように構成さ
れているので、塗布液中の水分の増大を抑制し、塗布液
が分散液の場合でもその分散性を良好に維持できる塗布
装置が得られ、このような塗布装置を用いることによ
り、良好で均質な塗膜を安定して形成することが可能と
なる。
れているので、塗布液中の水分の増大を抑制し、塗布液
が分散液の場合でもその分散性を良好に維持できる塗布
装置が得られ、このような塗布装置を用いることによ
り、良好で均質な塗膜を安定して形成することが可能と
なる。
【図１】この発明の水分除去機構の一実施例の概念図
【図２】塗布装置の従来例の概念図
１ 塗布液循環機構 ２ 浸漬槽 ３ 塗布液貯留タンク ４ ポンプ ５ フィルタ ６ 塗布液 ７ 基体 ８ 攪拌羽根 １０ 水分除去機構 １１ バブリング機構 １２ 冷却機構 １３ 除水機構 １４ フィルタ １５ 溶剤貯留タンク １６ 溶剤還流機構 ３１ 送出口 ３２ 還流口 １１１ ガス流入口 １１２ ガス噴出口 １２１ 冷却管 １３１ 除水剤 １６１ ポンプ
Claims (4)
- 【請求項１】浸漬槽と、塗布液貯留タンクを有する塗布
液循環機構とを備えてなり、塗布液を循環させながら浸
漬槽中の塗布液に基体を浸漬し引き上げることにより基
体表面に塗膜を形成する塗布装置において、前記塗布液
循環機構に塗布液中の水分を除去するための水分除去機
構が設けられていることを特徴とする塗布装置。 - 【請求項２】水分除去機構が、塗布液貯留タンク内の塗
布液中に不活性ガスを吹き込んで塗布液を泡だたせるバ
ブリング機構、バブリングにより発生する溶剤，水分，
不活性ガスからなる蒸気を冷却して凝結した溶剤および
水分を取り出す冷却機構、取り出された溶剤および水分
の混合液から水分を除去する除水機構、水分の除去され
た溶剤を貯留する溶剤貯留タンク、水分の除去された溶
剤を溶剤貯留タンクから塗布液貯留タンクに還流させる
溶剤還流機構からなることを特徴とする請求項１記載の
塗布装置。 - 【請求項３】不活性ガスとしてＮ2 を用いることを特徴
とする請求項２記載の塗布装置。 - 【請求項４】水分除去機構において、除水剤としてゼオ
ライトを用いることを特徴とする請求項２または３記載
の塗布装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14305592A JPH05337416A (ja) | 1992-06-04 | 1992-06-04 | 塗布装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14305592A JPH05337416A (ja) | 1992-06-04 | 1992-06-04 | 塗布装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05337416A true JPH05337416A (ja) | 1993-12-21 |
Family
ID=15329867
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14305592A Pending JPH05337416A (ja) | 1992-06-04 | 1992-06-04 | 塗布装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05337416A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008149299A (ja) * | 2006-12-20 | 2008-07-03 | Amatei Inc | 釘の着色塗装装置 |
| JP2011091149A (ja) * | 2009-10-21 | 2011-05-06 | Toppan Printing Co Ltd | レジスト中の水分除去方法およびレジスト塗布装置 |
-
1992
- 1992-06-04 JP JP14305592A patent/JPH05337416A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008149299A (ja) * | 2006-12-20 | 2008-07-03 | Amatei Inc | 釘の着色塗装装置 |
| JP2011091149A (ja) * | 2009-10-21 | 2011-05-06 | Toppan Printing Co Ltd | レジスト中の水分除去方法およびレジスト塗布装置 |
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