JPH0533119A - Method and device for nitriding vane for rotary fluid compressor - Google Patents

Method and device for nitriding vane for rotary fluid compressor

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JPH0533119A
JPH0533119A JP18487591A JP18487591A JPH0533119A JP H0533119 A JPH0533119 A JP H0533119A JP 18487591 A JP18487591 A JP 18487591A JP 18487591 A JP18487591 A JP 18487591A JP H0533119 A JPH0533119 A JP H0533119A
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vane
nitriding
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rotary fluid
fluid compressor
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茂雄 上原
Takeshi Aizawa
健 相沢
Shunsuke Takeguchi
俊輔 竹口
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Nippon Piston Ring Co Ltd
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Abstract

PURPOSE:To form a coating film over the whole surface of a vane without upsetting the vane by inserting a recessed part formed on the end of the vane into a supporting member fixed to a base to implant the vane and forming an ionically nitrided coating film. CONSTITUTION:The recessed part 20 of a vane 2 is inserted into on a pin 34 fixed to the plate 31 of a nitriding device to implant the vane 2. The tapered side 35 of the pin 34 is engaged with the recessed part 20, and the vane 2 is semifixed to the pin 34. Accordingly, if the adjacent vanes 2 are arranged in parallel, the vanes 2 are not collided with each other nor upset. Surface treatment is carried out in these conditions, hence an ionically nitrided film is formed over the whole surface of the vane 2, the throughput is increased, and workability is improved.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、回転式流体コンプレッ
サに用いるベーンの表面処理を行なう窒化方法及びこの
方法で窒化処理するための窒化装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a nitriding method for surface-treating vanes used in a rotary fluid compressor and a nitriding apparatus for nitriding by this method.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般に、ベーンを備えた回転式流体コン
プレッサとしては、例えば、揺動ロータ型のコンプレッ
サが知られている。
2. Description of the Related Art Generally, as a rotary fluid compressor having a vane, for example, an oscillating rotor compressor is known.

【0003】この種の回転式流体コンプレッサのロータ
ハウジングに形成されたベーン溝内にはベーンが進退自
在に挿入されており、該ベーンは、ロータの偏心回転に
応じて上記ロータハウジング内から進退するようになっ
ている。その際、上記ベーンはベーン溝内を摺動するた
め、ベーンとベーン溝、ベーン側面とサイドプレート、
及びロータとベーンの先端部とがそれぞれ接触して摩耗
する。従って、回転式流体コンプレッサのベーンには、
耐摩耗性に優れた材質のものを用いることが必要であ
る。かかる回転式流体コンプレッサにあっては、耐摩耗
性を有するベーンを形成するために、イオン窒化法によ
り、ベーンの形状を呈する鋼材の表面に窒化層を生成さ
せている。
A vane is movably inserted in a vane groove formed in a rotor housing of a rotary fluid compressor of this type, and the vane advances and retracts from the rotor housing according to eccentric rotation of the rotor. It is like this. At that time, since the vane slides in the vane groove, the vane and the vane groove, the vane side surface and the side plate,
Also, the rotor and the tip of the vane contact each other and wear. Therefore, in the vane of the rotary fluid compressor,
It is necessary to use a material having excellent wear resistance. In such a rotary fluid compressor, in order to form a vane having wear resistance, a nitride layer is formed on the surface of a steel material having a vane shape by an ion nitriding method.

【0004】図1は、従来における回転式流体コンプレ
ッサ用ベーンのイオン窒化方法とその装置を示す図、図
2はベーンの形状を示す図である。図示するように、導
電性を有する材料(例えば一般構造用圧延鋼材(SS4
1):JIS記号)により形成された円形又は矩形のプ
レート材1上に被処理品としてのベーン2を並べ、これ
を処理炉内にセットしてイオン窒化処理を行なってい
る。
FIG. 1 is a diagram showing a conventional method and apparatus for ion nitriding a vane for a rotary fluid compressor, and FIG. 2 is a diagram showing the shape of the vane. As shown in the figure, a material having conductivity (for example, rolled steel for general structure (SS4
1): Vane 2 as an article to be processed is arranged on a circular or rectangular plate material 1 formed by JIS symbol), and this is set in a processing furnace to perform an ion nitriding process.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
ような従来の処理方法にあっては、ベーン2をプレート
材1の上面に立てて並べており、プレート材1に固定し
ていないので、窒化処理中に、又はベーン2を載置した
状態のプレート材1を処理炉内にセットする時に、ベー
ン2が簡単に倒れてしまう。特に各ベーン2の間隔が狭
いときには、1つのベーン2が倒れると他のベーン2も
ドミノ倒しの如く次々に倒れてしまう。また、ベーン2
をプレート材1上に並べる作業も煩雑であり、これはド
ミノ倒しの時に小札を並べる時に苦労するのと同様であ
る。
However, in the conventional processing method as described above, since the vanes 2 are arranged upright on the upper surface of the plate material 1 and are not fixed to the plate material 1, the nitriding treatment is performed. When the plate material 1 with the vane 2 placed therein is set in the processing furnace, the vane 2 easily falls. Especially when the interval between the vanes 2 is narrow, when one vane 2 falls down, the other vanes 2 also fall down one after another like dominoes. Also, vane 2
The work of arranging the coins on the plate material 1 is also complicated, and this is the same as when the coins are arranged when the dominoes are defeated.

【0006】かかる不都合を防止するために、図3に示
すように、網かご4上に、ベーン2の側面部3が下を向
くように倒した状態で並べてイオン窒化処理をすること
も可能である(特開昭60−230589号公報参
照)。しかしながら、この場合には網かご4と接触する
ベーン側面部3はイオン窒化処理されないので、ベーン
2自体の機能上不完全なものとなる。
In order to prevent such an inconvenience, as shown in FIG. 3, it is possible to perform ion nitriding treatment on the net cage 4 side by side so that the side surface portion 3 of the vane 2 faces downward. (See JP-A-60-230589). However, in this case, the side surface portion 3 of the vane, which comes into contact with the mesh basket 4, is not ion-nitrided, so that the vane 2 itself becomes incomplete in function.

【0007】また、この図3のようにベーン2を並べた
場合には、網かご4に載置することのできるベーン2の
枚数が少なくなり、イオン窒化処理の能力が低下して製
造コストが高くなる。
Further, when the vanes 2 are arranged as shown in FIG. 3, the number of vanes 2 that can be placed on the net cage 4 is reduced, and the ion nitriding ability is lowered, resulting in a manufacturing cost. Get higher

【0008】さらに、特開平3−115558号公報に
もベーンの表面処理方法が示されているが、このもの
は、ベーンの全表面を窒化処理することはできないとい
う課題があった。
Further, Japanese Patent Laid-Open No. 3-115558 discloses a method for surface treatment of vanes, but this method has a problem that the entire surface of the vane cannot be nitrided.

【0009】本発明は、かかる課題を解決するためにな
されたもので、ベーンの全表面にイオン窒化被膜を形成
でき、また処理能力が大きく作業性のよい回転式流体コ
ンプレッサ用ベーンの窒化方法とその装置を得ることを
目的とする。
The present invention has been made to solve the above problems, and a method for nitriding a vane for a rotary fluid compressor which can form an ion nitriding film on the entire surface of the vane and has a large processing capacity and good workability. The purpose is to obtain the device.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】本発明に係る回転式流体
コンプレッサ用ベーンの窒化方法は、基台に取付けられ
た支持部材に、回転式流体コンプレッサに用いられるベ
ーンの端部に形成された凹部を嵌入させて上記ベーンを
植立させ、その後このベーンの表面にイオン窒化被膜を
形成するものである。
According to the method for nitriding a vane for a rotary fluid compressor according to the present invention, a recess formed in an end portion of a vane used in the rotary fluid compressor is formed in a support member attached to a base. To insert the vane, and then form an ion nitride film on the surface of the vane.

【0011】また、本発明に係る回転式流体コンプレッ
サ用ベーンの窒化装置は、窒素と水素とを含むガス雰囲
気中に配設される基台と、この基台に取付けられた複数
の支持部材とを有し、この支持部材に、回転式流体コン
プレッサに用いられるベーンの端部に形成された凹部を
嵌入させて上記ベーンを植立させて該ベーンの表面にイ
オン窒化被膜を形成するものである。
The nitriding device for a vane for a rotary fluid compressor according to the present invention comprises a base arranged in a gas atmosphere containing nitrogen and hydrogen, and a plurality of supporting members attached to the base. And a recess formed at the end of a vane used in a rotary fluid compressor is fitted into this support member so that the vane is erected and an ion nitride film is formed on the surface of the vane. .

【0012】[0012]

【作用】本発明においては、ベーンの端面に形成されて
いるスプリング装着用の凹部を流用し、この凹部に嵌入
する支持部材を基台に取付けて、この支持部材に上記ベ
ーンの凹部を嵌入させることにより基台上に複数のベー
ンを配設する。これにより、多数のベーンを基台上に容
易にセットすることができる。また、ベーンの全表面は
何ものにも遮蔽されずに表面処理することができる。
According to the present invention, the spring mounting recess formed on the end face of the vane is diverted, the support member fitted into the recess is attached to the base, and the recess of the vane is fitted into the support member. As a result, a plurality of vanes are arranged on the base. Thereby, many vanes can be easily set on the base. Further, the entire surface of the vane can be surface-treated without being blocked by anything.

【0013】[0013]

【実施例】以下、本発明の一実施例を図面に基づいて説
明する。図4、図5は回転式流体コンプレッサの構造を
示す図で、図示するように、回転式流体コンプレッサ1
1のケース12内にはロータハウジング13が収納され
ており、このロータハウジング13に形成されたベーン
溝14内にはベーン2がケース12の半径方向に進退自
在に挿入されている。また、上記回転式流体コンプレッ
サ11のロータ16は、上記ロータハウジング13内に
設けられたクランク軸17に回転自在に嵌装されてい
る。上記ベーン2は、上記ベーン溝14内に設けられた
圧縮コイルスプリング18により半径方向内方に付勢さ
れ、上記ロータ16の偏心回転に応じて上記ロータハウ
ジング13内から進退するようになっている。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. 4 and 5 are views showing the structure of the rotary fluid compressor, and as shown in the figure, the rotary fluid compressor 1
A rotor housing 13 is housed in the first case 12, and a vane 2 is inserted into a vane groove 14 formed in the rotor housing 13 so as to be movable back and forth in the radial direction of the case 12. The rotor 16 of the rotary fluid compressor 11 is rotatably fitted to a crank shaft 17 provided in the rotor housing 13. The vane 2 is biased inward in the radial direction by a compression coil spring 18 provided in the vane groove 14, and is moved forward and backward from the rotor housing 13 in accordance with the eccentric rotation of the rotor 16. .

【0014】上記ベーン2と摺動する相手材としてのベ
ーン溝14やロータ16は、鋳鉄にて形成されており、
炭化物量が0.10〜6.00重量%で、その黒鉛形状
がASTM規格のA、D、Eのいずれかのタイプであ
り、各タイプの組織が焼戻しマルテンサイトを有し、且
つ硬さがHRC40〜60である。
The vane groove 14 and the rotor 16, which are mating members that slide on the vanes 2, are made of cast iron.
The amount of carbide is 0.10 to 6.00% by weight, the graphite shape is any type of A, D, and E of the ASTM standard, the structure of each type has tempered martensite, and the hardness is HRC40-60.

【0015】図5、図6に示すように、ベーン2は、ベ
ーン溝14と摺動し互いに平行な両側面部2a、2a
と、ロータ16に接触して摺動し断面曲面状に形成され
た先端部2bと、上面2c及び下面2dと、圧縮コイル
スプリング18により付勢される後端部2eとを有して
いる。また、後端部2eのほぼ中央部は、圧縮コイルス
プリング18の一端を装着してこのコイルスプリング1
8を付勢支持するための有底の凹部20が先端部2b方
向に向けて形成されている。この凹部20は、例えば直
径2mm、深さ5mm程度の断面円形で有底のスプリング装
着用穴である。図4、図5に示すようないわゆるローリ
ングピストンタイプのベーン2は、ロータ(ピストン又
はローラともいう)16との摺接部のシール性を確保す
るために、上記スプリング18によりロータ16に押し
付けられている。
As shown in FIGS. 5 and 6, the vane 2 slides on the vane groove 14 and is parallel to both side surface portions 2a, 2a.
A front end portion 2b formed in contact with the rotor 16 and having a curved surface in cross section, an upper surface 2c and a lower surface 2d, and a rear end portion 2e biased by the compression coil spring 18. Further, one end of the compression coil spring 18 is attached to the coil spring 1 at substantially the center of the rear end 2e.
A bottomed recess 20 for biasingly supporting 8 is formed toward the tip 2b. The recess 20 is a bottomed spring mounting hole having a circular cross section with a diameter of 2 mm and a depth of 5 mm, for example. The so-called rolling piston type vane 2 as shown in FIGS. 4 and 5 is pressed against the rotor 16 by the spring 18 in order to secure the sealing property of the sliding contact portion with the rotor (also referred to as piston or roller) 16. ing.

【0016】上記ベーン2は、重量%で、例えばC:
0.50〜1.30%、Cr:11.0〜20.0%、
及び残部Feを含む焼入れを施した鋼材から成ってい
る。Cを0.20〜1.30%に成分限定した理由は、
1.30%以上では粗大なCr炭化物の生成が多過ぎて
耐摩耗性が過大となり、又、0.50%以下ではCr炭
化物の生成が少なく耐摩耗性に劣るからである。また、
Crを11.0〜20.0%に成分限定した理由は、C
量と密接な関係があり、20.0%以上ではCr炭化物
の生成が過剰となるため相手材を著しく摩耗させてしま
うからである。そして、11.0%以下ではCr炭化物
の生成が少なく耐摩耗性に劣り、又、耐蝕性が低下する
からである。
The vane 2 has a weight percentage of, for example, C:
0.50 to 1.30%, Cr: 11.0 to 20.0%,
And a hardened steel material containing the balance Fe. The reason why C is limited to 0.20 to 1.30% is as follows.
This is because if it is 1.30% or more, the coarse Cr carbide is excessively produced and wear resistance becomes excessive, and if it is 0.50% or less, the Cr carbide is little produced and wear resistance is poor. Also,
The reason why Cr is limited to 11.0 to 20.0% is C
This is because there is a close relationship with the amount, and if the content is 20.0% or more, the formation of Cr carbide becomes excessive and the mating material is significantly worn away. When it is 11.0% or less, Cr carbides are less generated and wear resistance is poor, and corrosion resistance is low.

【0017】なお、上記ベーン2に更にMo:0.10
〜1.50%、V:0.07〜0.15%の双方もしく
はいずれか一方を含ませることによって一層改善される
ものである。即ち、Moは0.10〜1.50%である
が、この範囲で焼入性の改善が実現される。Vは0.0
7〜0.15%であるが、この範囲で炭化物生成に効果
的な寄与が行なわれる。また、ベーン2においては、さ
らに望ましくはSi:1.0%以下、Mn:1.0%以
下、P:0.06%以下、S:0.05%以下、Ni:
1.0%以下を含有するものとする。Siは1.0%を
越えると析出炭化物量が低下し圧延性も低下する。Ni
は靭性改良の点だけを考えれば多い方が望ましいが非常
に高価である。
Further, Mo: 0.10 is further added to the vane 2.
˜1.50% and V: 0.07 to 0.15% or both of them are further improved. That is, although Mo is 0.10 to 1.50%, improvement of the hardenability is realized in this range. V is 0.0
Although it is 7 to 0.15%, effective contribution is made to carbide formation in this range. Further, in the vane 2, more desirably, Si: 1.0% or less, Mn: 1.0% or less, P: 0.06% or less, S: 0.05% or less, Ni:
It shall contain 1.0% or less. If Si exceeds 1.0%, the amount of precipitated carbides decreases and the rolling property also decreases. Ni
It is preferable that the number is large considering only toughness improvement, but it is very expensive.

【0018】そして、このような成分を有するベーン2
の材料となる鋼材の表面には、ベーン2の耐摩耗性を向
上させるためにイオン窒化処理が施されている。ここ
で、窒化処理法には塩浴窒化法、ガス窒化法、イオン窒
化法等があるが、この中でイオン窒化法は品質の安定性
が図れる、化合物層と拡散層の厚さが容易にコントロー
ルできる、公害の問題がない等の優れた特長をもった処
理法であり、近年はこの処理法が多く採用されている。
但し、このイオン窒化法は他の処理法に比較してコスト
面でやや不利なので、1バッチ当りのベーン処理個数を
効率良くしかも多数処理することが必要である。イオン
窒化処理法は、低圧H2 、N2 のガス雰囲気中で炉壁を
陽極、ベーン2を陰極とし、300〜1200Vの電圧
を加えてグロー放電させるものであり、イオン化したN
は加速されて陰極に衝突し、上記ベーン2が加熱される
と共にNが浸入してベーン2の表面にイオン窒化被膜が
形成されるものである。このイオン窒化処理は400〜
500℃の低温処理と、迅速な窒化処理とが可能であ
る。
Then, the vane 2 having such components
The surface of the steel material used as the material is subjected to ion nitriding treatment in order to improve the wear resistance of the vane 2. Here, the nitriding method includes a salt bath nitriding method, a gas nitriding method, an ion nitriding method, etc. Among them, the ion nitriding method can stabilize the quality, and the thickness of the compound layer and the diffusion layer can be easily adjusted. It is a treatment method that has excellent features such as controllability and no pollution problems, and in recent years this treatment method has been widely adopted.
However, this ion nitriding method is somewhat disadvantageous in terms of cost as compared with other processing methods, and therefore it is necessary to efficiently process a large number of vanes per batch. In the ion nitriding method, the furnace wall is used as an anode and the vane 2 is used as a cathode in a gas atmosphere of low pressure H 2 and N 2 , and a glow discharge is performed by applying a voltage of 300 to 1200 V.
Is accelerated and collides with the cathode, the vane 2 is heated, and N penetrates to form an ion nitride film on the surface of the vane 2. This ion nitriding treatment is 400 ~
A low temperature treatment of 500 ° C. and a rapid nitriding treatment are possible.

【0019】図7乃至図10は、本発明の第一実施例を
示す図である。図示するように、窒素と水素とを含むガ
ス雰囲気中に配設される基台としての円盤形状のプレー
ト31のほぼ中央部には、シャフト挿入用の貫通孔32
が穿設され、この貫通孔32の外周には、処理炉内のガ
ス分布を均等にするために、扇形のガス通路33が同心
状に貫通形成されている。また、このプレート31の上
面には、複数の支持部材としてのピン34が上方に向け
て所定の間隔でプレート上面全体に散在して取付けられ
ている。プレート31及びピン34はSS41材、機械
構造用炭素鋼鋼材(S45C:JIS記号)等の導電性
の材料により形成されている。なお、図7、図8では全
体のピン34のうち一部のみを図示して、他のピンの図
示を省略している。本実施例方法及び装置では、ピン3
4に、回転式流体コンプレッサ11に用いられるベーン
2の端部(後端部2e)に形成された凹部20を嵌入さ
せて上記ベーン2を植立させてベーン2の表面にイオン
窒化被膜を形成するようにしている。
7 to 10 are views showing a first embodiment of the present invention. As shown in the drawing, a through-hole 32 for inserting a shaft is provided at a substantially central portion of a disk-shaped plate 31 as a base arranged in a gas atmosphere containing nitrogen and hydrogen.
A fan-shaped gas passage 33 is concentrically formed through the outer periphery of the through hole 32 in order to make the gas distribution in the processing furnace uniform. Further, on the upper surface of the plate 31, pins 34 as a plurality of supporting members are attached upwards at predetermined intervals in a scattered manner over the entire upper surface of the plate. The plate 31 and the pins 34 are formed of an electrically conductive material such as SS41 material, carbon steel steel material for machine structure (S45C: JIS symbol) and the like. 7 and 8, only a part of the whole pin 34 is shown and the other pins are omitted. In the method and apparatus of this embodiment, the pin 3
4, the recess 20 formed at the end (rear end 2e) of the vane 2 used in the rotary fluid compressor 11 is fitted to set the vane 2 to form an ion-nitrided film on the surface of the vane 2. I am trying to do it.

【0020】図9に示すように、ピン34の下部34a
はプレート31に圧入又はかしめられて固定され、上部
は上方に向けて細くなる断面円形のテーパ面35となっ
ている。したがって、各ピン34のテーパ面35に各ベ
ーン2の凹部20を差込んで取付ければ、ベーン2が倒
れることがなく支持できる。また、このときピン34に
対してベーン2の凹部20を強く差込めば、凹部20と
テーパ面35とが噛み合ってベーン2はピン34に対し
半固定状態になって回転せずにセット時の姿勢を維持す
る。したがって、隣接するベーン2を平行に配置すれば
ベーン2同士が衝突することがない。ところで、イオン
窒化処理は被処理品をマイナスとし、炉体をプラスとし
て通電するので、被処理品のどこか一面又は一点に、被
処理品の取付台を接触する必要があるが、本実施例で
は、ピン34のテーパ面35が被処理品としてのベーン
2の凹部20に接触しているのでイオン窒化処理が可能
となる。したがって、本実施例では、ベーン2の全表面
2a乃至2eをイオン窒化処理することができ、イオン
窒化処理されない部分がなくなる。
As shown in FIG. 9, the lower portion 34a of the pin 34 is
Is fixed to the plate 31 by being press-fitted or caulked, and the upper part thereof has a tapered surface 35 having a circular cross section which narrows upward. Therefore, if the concave portion 20 of each vane 2 is inserted into the tapered surface 35 of each pin 34 and attached, the vane 2 can be supported without falling. Further, at this time, if the concave portion 20 of the vane 2 is strongly inserted into the pin 34, the concave portion 20 and the tapered surface 35 are engaged with each other, and the vane 2 is in a semi-fixed state with respect to the pin 34 so that the vane 2 does not rotate and is not set. Maintain posture. Therefore, if the adjacent vanes 2 are arranged in parallel, the vanes 2 do not collide with each other. By the way, in the ion nitriding treatment, since the object to be treated is negative and the furnace body is positive to energize, it is necessary to contact the mounting base of the object to be treated with one surface or one point of the object to be treated. Then, since the tapered surface 35 of the pin 34 is in contact with the concave portion 20 of the vane 2 as the object to be processed, the ion nitriding process can be performed. Therefore, in this embodiment, the entire surfaces 2a to 2e of the vane 2 can be subjected to the ion nitriding treatment, and the portions not subjected to the ion nitriding treatment are eliminated.

【0021】図5に示すように、上記ベーン2はベーン
溝14内で上記ロータ16の回転方向に傾斜して摺動す
るが、該ロータ16と上記ベーン2の先端部2bとが接
触し、また上記ベーン溝14の入口部14aとベーン2
の側面部2aとが接触し、さらにベーン溝14の上下部
とベーン2の上下面2c、2dとが接触し合う。図3に
示す従来技術では上記側面部3(図3)の一部に、図
1、図2に示す従来技術ではベーン2の後端部2e(図
2)に、それぞれ窒化不十分の部分ができ、側面部3等
が摩耗することがあるが、本実施例ではベーン2の全表
面にイオン窒化被膜が形成されて摩耗性が向上しかかる
不都合はなくなる。
As shown in FIG. 5, the vane 2 slidably slides in the vane groove 14 in the rotational direction of the rotor 16, but the rotor 16 and the tip portion 2b of the vane 2 contact each other, Further, the inlet portion 14a of the vane groove 14 and the vane 2 are
Of the vane groove 14 and the upper and lower surfaces 2c and 2d of the vane 2 contact each other. In the prior art shown in FIG. 3, a part of the side surface portion 3 (FIG. 3) and in the prior art shown in FIG. 1 and FIG. However, the side surface portion 3 and the like may be worn, but in the present embodiment, the ion nitride film is formed on the entire surface of the vane 2, and the wearability is improved, which eliminates the inconvenience.

【0022】なお、テーパ面35の角度及び寸法精度
は、凹部20の穴公差と、穴底に接触しない深さとを考
慮して設計、製作する必要があるが、テーパが1/15
の場合は穴底とのみ接することとなり、テーパが1/2
5の場合は後端部2eの穴径のみと接することになる。
穴底と後端部2eの穴径とが同時に接するテーパは1/
20となる。従って、テーパ面35のテーパとしては例
えば1/20が望ましい。
The angle and dimensional accuracy of the taper surface 35 must be designed and manufactured in consideration of the hole tolerance of the recess 20 and the depth that does not contact the bottom of the hole, but the taper is 1/15.
In the case of, the taper is only in contact with the bottom of the hole, and the taper is 1/2
In the case of 5, it comes into contact with only the hole diameter of the rear end portion 2e.
The taper at which the bottom of the hole and the diameter of the rear end 2e contact at the same time is 1 /
Twenty. Therefore, the taper of the tapered surface 35 is preferably 1/20, for example.

【0023】また、図10に示すように、複数枚のプレ
ート31の貫通孔32にシャフト36を取付けて多段
(通常は3乃至5段)にし、これを処理炉内にセットし
てイオン窒化処理を行なえば、大量のベーン2を効率的
に処理できる。
Further, as shown in FIG. 10, a shaft 36 is attached to the through holes 32 of a plurality of plates 31 to form a multi-stage (usually 3 to 5 stages), which is set in a processing furnace to carry out an ion nitriding treatment. By doing so, a large amount of vanes 2 can be efficiently processed.

【0024】本実施例ではイオン化された窒素ガスによ
って上記ベーン2の窒化処理を行なっているので、化合
物層厚さや拡散層厚さを、温度、時間及びH2 :N2
ガス比をコントロールすることにより、自由に析出調整
することが可能であり、且つ、寸法変化量及び寸法バラ
ツキの少ない安定した品質のベーン2を得ることができ
る。このようにイオン窒化処理を施したベーン2の寸法
変化量及び寸法バラツキが少ないのは、他の塩浴窒化処
理等に比べて窒化層が緻密に形成されるためである。
In this embodiment, since the vane 2 is nitrided with ionized nitrogen gas, the compound layer thickness and the diffusion layer thickness are controlled by controlling the temperature, time and H 2 : N 2 gas ratio. As a result, it is possible to freely control the precipitation, and it is possible to obtain a stable quality vane 2 with a small amount of dimensional change and dimensional variation. The reason why the dimensional change amount and the dimensional variation of the vane 2 which has been subjected to the ion nitriding treatment are small as described above is that the nitride layer is densely formed as compared with other salt bath nitriding treatments and the like.

【0025】図11、図12は本発明の第2実施例を示
す図で、この実施例における支持部材としてのピン37
は、図9に示すようなテーパ面35を有しておらず、断
面が一様な円柱状のストレートピンである。なお、他の
構成は第1実施例と同様である。本第2実施例では、ベ
ーン2の凹部20の内周面とピン37とは圧接していな
いので、植立した各ベーン2は、図12中の鎖線38に
示すようにピン37まわりを自由回転する。したがっ
て、この場合には、ベーン2の回転範囲を示す鎖線38
が隣り同士で交叉しないように各ピン37を配置する必
要がある。
11 and 12 are views showing a second embodiment of the present invention, in which a pin 37 as a supporting member in this embodiment is used.
Is a cylindrical straight pin that does not have the tapered surface 35 as shown in FIG. 9 and has a uniform cross section. The other structure is the same as that of the first embodiment. In the second embodiment, the inner peripheral surface of the concave portion 20 of the vane 2 and the pin 37 are not in pressure contact with each other, so that each of the planted vanes 2 can freely move around the pin 37 as shown by a chain line 38 in FIG. Rotate. Therefore, in this case, the chain line 38 indicating the rotation range of the vane 2
It is necessary to dispose each pin 37 so that they do not cross each other.

【0026】図13は、支持部材として、上記ピン3
5,37(同図(A),(B))の他に、他の形状のピ
ン39,40,41(同図(C)〜(E))を示してお
り、いずれのピン35,37,39乃至41も断面形状
は円形である。なお、ピン41はピン37よりも大径の
ストレートピンである。図14中の(A),(B)は、
基台としてのプレート42への図13の各ピンの取付け
状態を示す平面図、立面図である。なお、実装置におい
てはプレート42(又は図7乃至図10のプレート3
1)には、ピン35,37,39,40のうちのいずれ
か一種類のピンを配置している。
FIG. 13 shows the pin 3 as a supporting member.
5 and 37 ((A) and (B) in the figure), pins 39, 40 and 41 ((C) to (E) in the figure) having other shapes are shown. 39 to 41 also have a circular cross-sectional shape. The pin 41 is a straight pin having a larger diameter than the pin 37. (A) and (B) in FIG.
14A and 14B are a plan view and an elevation view showing how the pins of FIG. 13 are attached to a plate 42 as a base. In the actual device, the plate 42 (or the plate 3 in FIGS. 7 to 10) is used.
In 1), any one kind of pin among the pins 35, 37, 39, 40 is arranged.

【0027】また、図14の右部に示すように、1本の
ピン37と、このピン37の近傍であって、中心線Lに
対して距離Tだけ離して配置された2本のピン41,4
1とにより構成される組ピン43をプレート42に多数
配置してもよい。ベーン2の両側面部2a,2aのうち
一方の側面部2aに非窒化処理部があっても機能上問題
がない場合には、上記組ピン43を用いることができ
る。ストレートピン37に植立されたベーン2はピン3
7に対しては自由回転をするが、回り止めの役目をする
一対のピン41,41がベーン2の上記一方の側面部2
aに当接してベーン2の回転を阻止している。したがっ
て、上記実施例と同様の効果を奏する。
Further, as shown in the right portion of FIG. 14, one pin 37 and two pins 41 arranged in the vicinity of the pin 37 and separated from the center line L by a distance T. , 4
A large number of assembly pins 43 configured by 1 may be arranged on the plate 42. If there is no functional problem even if the one side surface portion 2a of the vane 2 has a non-nitriding portion on both side surface portions 2a, 2a, the assembly pin 43 can be used. The vane 2 planted on the straight pin 37 is pin 3
The pair of pins 41, 41, which rotate freely with respect to 7, but serve as a rotation stop, are provided on the side surface 2 of the one side of the vane 2.
It contacts a and blocks the rotation of the vane 2. Therefore, the same effect as that of the above embodiment is obtained.

【0028】上記のように、ベーン2を形成する鋼材の
C及びCrの含有量を高めることにより、該鋼材中に高
硬度のCr炭化物の析出量が多くなり、そして、その鋼
材の表面にイオン窒化処理を施すことにより、ベーン2
の表面に化合物層(Fe4 N)が生成され易くなり、そ
の層厚のコントロールが容易になり、その結果、ベーン
2の耐摩耗性が向上する。また、窒化品質は化学反応作
用によらず、イオン化された窒素ガスによる窒化処理で
あるため、化合物層厚さや拡散層厚さを、温度、時間及
びH2 :N2 のガス比をコントロールすることにより、
自由に析出調整することが可能であり、且つ、寸法変化
量及び寸法バラツキの少ない安定した品質のベーン2を
得ることができる。
As described above, by increasing the contents of C and Cr in the steel material forming the vane 2, the amount of high-hardness Cr carbide precipitated in the steel material increases, and the ions on the surface of the steel material increase. Vane 2 by nitriding treatment
A compound layer (Fe 4 N) is likely to be formed on the surface of, and the layer thickness is easily controlled, and as a result, the wear resistance of the vane 2 is improved. Further, since the nitriding quality is a nitriding treatment with ionized nitrogen gas regardless of the chemical reaction action, it is necessary to control the compound layer thickness, the diffusion layer thickness, the temperature, the time, and the H 2 : N 2 gas ratio. Due to
It is possible to freely control the precipitation and obtain the vane 2 of stable quality with a small amount of dimensional change and dimensional variation.

【0029】さらに、上記ベーン2と摺動する相手材の
黒鉛形状や組織等を特定することにより、ローラ16、
対ベーン溝14の摩耗上の相性において理想的なものを
実現することができる。
Furthermore, by specifying the graphite shape and structure of the mating material that slides on the vane 2, the roller 16,
An ideal wear compatibility of the vane groove 14 can be realized.

【0030】なお、各図中、同一符号は同一又は相当部
分を示す。
In the drawings, the same reference numerals indicate the same or corresponding parts.

【0031】[0031]

【発明の効果】本発明は上記のように構成したので、ベ
ーンの表面処理を行なう際に、ベーンの全表面にイオン
窒化被膜を形成でき、また処理能力が大きく作業性を向
上させることができる。
EFFECTS OF THE INVENTION Since the present invention is configured as described above, an ion nitride film can be formed on the entire surface of the vane when the surface treatment of the vane is performed, and the processing ability is large and the workability can be improved. .

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】図1乃至図3は従来技術を説明するための図
で、図1は従来における回転流体コンプレッサ用ベーン
の窒化装置を示す斜視図である。
1 to 3 are views for explaining a conventional technique, and FIG. 1 is a perspective view showing a conventional nitriding device for a vane for a rotary fluid compressor.

【図2】表面処理されるベーンの外形を示す斜視図であ
る。
FIG. 2 is a perspective view showing an outer shape of a vane which is surface-treated.

【図3】他の従来の窒化装置を示す斜視図である。FIG. 3 is a perspective view showing another conventional nitriding apparatus.

【図4】図4乃至図14は本発明を説明する図で、図4
はベーンを有する回転式流体コンプレッサの要部断面図
である。
4 to 14 are views for explaining the present invention.
FIG. 3 is a cross-sectional view of a main part of a rotary fluid compressor having vanes.

【図5】図4におけるベーン周辺の拡大断面図である。5 is an enlarged cross-sectional view around the vane in FIG.

【図6】表面処理されるベーンの外形を示す斜視図であ
る。
FIG. 6 is a perspective view showing an outer shape of a vane which is surface-treated.

【図7】図7乃至図10は本発明の第1実施例を示す図
で、図7は回転式流体コンプレッサ用ベーンの窒化装置
を示す斜視図である。
7 to 10 are views showing a first embodiment of the present invention, and FIG. 7 is a perspective view showing a nitriding device of a vane for a rotary fluid compressor.

【図8】図7の平面図である。FIG. 8 is a plan view of FIG.

【図9】ピンにベーンを植立させた状態を示す拡大断面
図である。
FIG. 9 is an enlarged cross-sectional view showing a state in which a vane is erected on a pin.

【図10】図7に示すプレートを多段状にしてイオン窒
化処理する状態を示す斜視図である。
FIG. 10 is a perspective view showing a state in which the plate shown in FIG. 7 is subjected to ion nitriding treatment in a multi-stage form.

【図11】本発明の第2実施例を示す図で、図9に対応
する拡大断面図である。
FIG. 11 is a view showing a second embodiment of the present invention and is an enlarged sectional view corresponding to FIG. 9.

【図12】図11の平面図である。FIG. 12 is a plan view of FIG. 11.

【図13】支持部材としての各種形状のピンを示す外形
図である。
FIG. 13 is an external view showing pins of various shapes as a supporting member.

【図14】図13に示す各ピンをプレートに取付けた状
態を示す説明図である。
FIG. 14 is an explanatory diagram showing a state in which each pin shown in FIG. 13 is attached to a plate.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

2…ベーン 2e…後端部(端部) 11…回転式流体コンプレッサ 31,42…プレート(基台) 34,35,37,39乃至41…ピン(支持部材) 43…組ピン(支持部材) 20…凹部 2 ... Vane 2e ... rear end (end) 11 ... Rotary fluid compressor 31, 42 ... Plate (base) 34, 35, 37, 39 to 41 ... Pin (support member) 43 ... Assembly pin (support member) 20 ... Recess

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基台に取付けられた支持部材に、回転式
流体コンプレッサに用いられるベーンの端部に形成され
た凹部を嵌入させて上記ベーンを植立させ、その後この
ベーンの表面にイオン窒化被膜を形成することを特徴と
する回転式流体コンプレッサ用ベーンの窒化方法。
1. A support member attached to a base is fitted with a recess formed in an end portion of a vane used in a rotary fluid compressor to set up the vane, and then the surface of the vane is ion-nitrided. A method for nitriding a vane for a rotary fluid compressor, which comprises forming a coating film.
【請求項2】 窒素と水素とを含むガス雰囲気中に配設
される基台と、この基台に取付けられた複数の支持部材
とを有し、 この支持部材に、回転式流体コンプレッサに用いられる
ベーンの端部に形成された凹部を嵌入させて上記ベーン
を植立させて該ベーンの表面にイオン窒化被膜を形成す
ることを特徴とする回転式流体コンプレッサ用ベーンの
窒化装置。
2. A base, which is disposed in a gas atmosphere containing nitrogen and hydrogen, and a plurality of support members attached to the base, and which is used for a rotary fluid compressor. A vane nitriding apparatus for a rotary fluid compressor, characterized in that a recess formed at an end of a vane is fitted into the vane so that the vane is set up to form an ion nitriding film on a surface of the vane.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5810931A (en) * 1996-07-30 1998-09-22 Applied Materials, Inc. High aspect ratio clamp ring
US6277198B1 (en) 1999-06-04 2001-08-21 Applied Materials, Inc. Use of tapered shadow clamp ring to provide improved physical vapor deposition system

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