JPH05273056A - Ｘ線応力測定方法 - Google Patents
Ｘ線応力測定方法Info
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- JPH05273056A JPH05273056A JP10193392A JP10193392A JPH05273056A JP H05273056 A JPH05273056 A JP H05273056A JP 10193392 A JP10193392 A JP 10193392A JP 10193392 A JP10193392 A JP 10193392A JP H05273056 A JPH05273056 A JP H05273056A
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- ray
- angle
- sample
- diffraction
- crystal lattice
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 試料の表面側のみの内部応力状態を測定する
ことのできるＸ線応力測定方法を提供する。 【構成】 金属材料内に残留する内部応力をＸ線を用い
て測定するＸ線応力測定方法である。Ｘ線管１２から出
たＸ線Ｒ１を試料１に照射し、試料１で回折したＸ線Ｒ
２をＰＳＰＣ５で検出する。Ｘ線管１２及びＰＳＰＣ５
は、光軸間角度２ηを一定に保持した状態でψ角設定面
Ｔ（結晶格子面法線ＮがＸ線照射点Ｐを中心として回転
する場合に形成される面）内で所定のステップ角度づつ
回転し（並傾法）、その各ステップ角度位置においてＰ
ＳＰＣ５により回折Ｘ線の回折角度のずれ量が検出され
る。試料１の表面はψ角設定面Ｔに対して角度αで傾い
ている。αを２０゜以下の鋭角に設定すれば、薄膜試料
の内部応力を測定できる。
ことのできるＸ線応力測定方法を提供する。 【構成】 金属材料内に残留する内部応力をＸ線を用い
て測定するＸ線応力測定方法である。Ｘ線管１２から出
たＸ線Ｒ１を試料１に照射し、試料１で回折したＸ線Ｒ
２をＰＳＰＣ５で検出する。Ｘ線管１２及びＰＳＰＣ５
は、光軸間角度２ηを一定に保持した状態でψ角設定面
Ｔ（結晶格子面法線ＮがＸ線照射点Ｐを中心として回転
する場合に形成される面）内で所定のステップ角度づつ
回転し（並傾法）、その各ステップ角度位置においてＰ
ＳＰＣ５により回折Ｘ線の回折角度のずれ量が検出され
る。試料１の表面はψ角設定面Ｔに対して角度αで傾い
ている。αを２０゜以下の鋭角に設定すれば、薄膜試料
の内部応力を測定できる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、金属材料内に残留する
内部応力をＸ線を用いて測定するＸ線応力測定方法に関
する。
内部応力をＸ線を用いて測定するＸ線応力測定方法に関
する。
【０００２】
【従来の技術】まず、Ｘ線応力測定方法の一般的な測定
原理について説明する。図４において、試料、例えば長
方形状の金属板１が所定の位置に水平に固定されてい
る。試料１の上方にはＸ線を発生するＸ線源２及びＸ線
を検出するＸ線検出器３が設けられる。Ｘ線源２から出
たＸ線Ｒ１は試料１上のＸ線照射点Ｐに入射する。試料
１に入射したＸ線Ｒ１と試料１内の結晶格子面との間で
所定の回折条件が満足されると、試料１でＸ線の回折が
生じ、その回折Ｘ線Ｒ２がＸ線検出器３によって検出さ
れる。
原理について説明する。図４において、試料、例えば長
方形状の金属板１が所定の位置に水平に固定されてい
る。試料１の上方にはＸ線を発生するＸ線源２及びＸ線
を検出するＸ線検出器３が設けられる。Ｘ線源２から出
たＸ線Ｒ１は試料１上のＸ線照射点Ｐに入射する。試料
１に入射したＸ線Ｒ１と試料１内の結晶格子面との間で
所定の回折条件が満足されると、試料１でＸ線の回折が
生じ、その回折Ｘ線Ｒ２がＸ線検出器３によって検出さ
れる。
【０００３】入射Ｘ線光軸Ｒ１と回折Ｘ線光軸Ｒ２との
成す角度を２η（イータ）とすると、試料１内でＸ線の
回折に寄与した結晶格子面の法線Ｎは、その光軸間角度
２ηを二等分する。
成す角度を２η（イータ）とすると、試料１内でＸ線の
回折に寄与した結晶格子面の法線Ｎは、その光軸間角度
２ηを二等分する。
【０００４】上記の測定系によって行われる応力測定
は、大きく分けて、結晶格子面法線Ｎの角度位置を変更
する格子面法線角度変更工程と、回折Ｘ線の回折角度の
ズレ量を測定する回折Ｘ線角度ズレ量測定工程の二つの
工程を有している。以下、個々の工程について説明す
る。なお、以下の説明では、試料１上に設定される基準
の軸線をＬ、その基準軸線Ｌと結晶格子面法線Ｎとの成
す角度をψ角、基準軸線Ｌと入射Ｘ線光軸Ｒ１との成す
角度をψ0 角と呼ぶことにする。
は、大きく分けて、結晶格子面法線Ｎの角度位置を変更
する格子面法線角度変更工程と、回折Ｘ線の回折角度の
ズレ量を測定する回折Ｘ線角度ズレ量測定工程の二つの
工程を有している。以下、個々の工程について説明す
る。なお、以下の説明では、試料１上に設定される基準
の軸線をＬ、その基準軸線Ｌと結晶格子面法線Ｎとの成
す角度をψ角、基準軸線Ｌと入射Ｘ線光軸Ｒ１との成す
角度をψ0 角と呼ぶことにする。
【０００５】（結晶格子面法線の角度変更工程）この工
程において、Ｘ線源２及びＸ線検出器３は一体状態のま
まＸ線照射点Ｐを中心として所定のステップ角度ごとに
回転する。つまり、光軸間角度２η値を一定値に保持し
た状態でψ角又はψ0 角がステップ的に変化させられ
る。例えば、ψ＝０゜，２０゜，３０゜・・・・のよう
にψ角が変更される。そして、それらの各ψ角位置にお
いて、後述のＸ線回折角度のズレ量測定が行われる。
程において、Ｘ線源２及びＸ線検出器３は一体状態のま
まＸ線照射点Ｐを中心として所定のステップ角度ごとに
回転する。つまり、光軸間角度２η値を一定値に保持し
た状態でψ角又はψ0 角がステップ的に変化させられ
る。例えば、ψ＝０゜，２０゜，３０゜・・・・のよう
にψ角が変更される。そして、それらの各ψ角位置にお
いて、後述のＸ線回折角度のズレ量測定が行われる。
【０００６】（回折Ｘ線の回折角度のズレ量測定工程）
ψ角が任意の１つのステップ角度位置に固定された状態
で、Ｘ線源２から試料１へＸ線を照射して、そのときに
発生する回折Ｘ線ピークを検出する。試料１内に内部応
力が発生していない場合、その試料１についてのＸ線回
折角度２θは予めわかっており、ψ角又はψ0 角を変化
させてもその２θ値は変化しない。従って、Ｘ線源２に
対するＸ線検出器３の角度位置をその２θ値に合わせて
おけば、Ｘ線検出器３によって回折Ｘ線ピークが検出さ
れる。
ψ角が任意の１つのステップ角度位置に固定された状態
で、Ｘ線源２から試料１へＸ線を照射して、そのときに
発生する回折Ｘ線ピークを検出する。試料１内に内部応
力が発生していない場合、その試料１についてのＸ線回
折角度２θは予めわかっており、ψ角又はψ0 角を変化
させてもその２θ値は変化しない。従って、Ｘ線源２に
対するＸ線検出器３の角度位置をその２θ値に合わせて
おけば、Ｘ線検出器３によって回折Ｘ線ピークが検出さ
れる。
【０００７】ところが、試料１内に内部応力が発生して
いると、回折Ｘ線ピークは所定の２θ位置には発生せ
ず、角度ずれΔ２θを生じる。そのような場合には、Ｘ
線源２を固定状態にしてＸ線検出器３を矢印Ｑのように
Ｘ線照射点Ｐを中心として揺動させたり、又は、Ｘ線源
２を矢印Ｖのように揺動させ、同時にＸ線検出器３を矢
印Ｑのように揺動させることにより、回折条件を満たす
確率を増やし、それにより、上記回折Ｘ線の回折角度ず
れ量Δ２θが検出される。一般に、Ｘ線源２及びＸ線検
出器３の両方を揺動させる測定方法はψ角一定法と呼ば
れ、Ｘ線検出器３のみを揺動させる測定方法はψ0 角一
定法と呼ばれている。
いると、回折Ｘ線ピークは所定の２θ位置には発生せ
ず、角度ずれΔ２θを生じる。そのような場合には、Ｘ
線源２を固定状態にしてＸ線検出器３を矢印Ｑのように
Ｘ線照射点Ｐを中心として揺動させたり、又は、Ｘ線源
２を矢印Ｖのように揺動させ、同時にＸ線検出器３を矢
印Ｑのように揺動させることにより、回折条件を満たす
確率を増やし、それにより、上記回折Ｘ線の回折角度ず
れ量Δ２θが検出される。一般に、Ｘ線源２及びＸ線検
出器３の両方を揺動させる測定方法はψ角一定法と呼ば
れ、Ｘ線検出器３のみを揺動させる測定方法はψ0 角一
定法と呼ばれている。
【０００８】以上のように、結晶格子面法線Ｎを決めら
れたステップ角度ごとに、順次回転させ、各ステップ角
度ごとに回折Ｘ線のピーク角度ずれ量Δ２θを測定して
ゆく。測定された角度ずれ量Δ２θは、図５に示すよう
な２θ−ｓｉｎ2 ψ線図にプロットされる。図５の例で
は、ａ，ｂ，ｃ，ｄの四つのステップ角度ごとに回折角
度ピークの角度ずれ量Δ２θを測定した。
れたステップ角度ごとに、順次回転させ、各ステップ角
度ごとに回折Ｘ線のピーク角度ずれ量Δ２θを測定して
ゆく。測定された角度ずれ量Δ２θは、図５に示すよう
な２θ−ｓｉｎ2 ψ線図にプロットされる。図５の例で
は、ａ，ｂ，ｃ，ｄの四つのステップ角度ごとに回折角
度ピークの角度ずれ量Δ２θを測定した。
【０００９】一般に、一つの試料に関して得られた各Δ
２θ値を線で結ぶと、その線はＡ，Ｂ，あるいはＣのよ
うに直線となる。試料１内に内部応力が発生していない
場合は、各ψ位置又は各ψ0 位置において回折Ｘ線のピ
ークにずれが生じないので、得られる線図は直線Ｂのよ
うに傾きゼロの直線となる。また、試料１内に圧縮の内
部応力が発生していると、得られる線図は直線Ａのよう
に正の傾きを有する直線となる。さらに、試料１内に引
張りの内部応力が発生していると、得られる線図は直線
Ｃのように負の傾きを有する直線となる。従って、２θ
−ｓｉｎ2 ψ線図において得られた直線の傾き方向及び
傾きの大きさを読み取れば試料１の内部に発生している
内部応力を知ることができる。
２θ値を線で結ぶと、その線はＡ，Ｂ，あるいはＣのよ
うに直線となる。試料１内に内部応力が発生していない
場合は、各ψ位置又は各ψ0 位置において回折Ｘ線のピ
ークにずれが生じないので、得られる線図は直線Ｂのよ
うに傾きゼロの直線となる。また、試料１内に圧縮の内
部応力が発生していると、得られる線図は直線Ａのよう
に正の傾きを有する直線となる。さらに、試料１内に引
張りの内部応力が発生していると、得られる線図は直線
Ｃのように負の傾きを有する直線となる。従って、２θ
−ｓｉｎ2 ψ線図において得られた直線の傾き方向及び
傾きの大きさを読み取れば試料１の内部に発生している
内部応力を知ることができる。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら従来のＸ
線応力測定方法においては、格子面法線Ｎが試料１上の
Ｘ線入射点Ｐを中心としてステップ的に回転することに
よって形成される面であるψ角設定面と、試料表面とが
常に直角の角度関係に設定されている並傾法と直角の角
度関係にならない側傾法とがある。いずれにしても、試
料１に入射するＸ線は試料１の内部の奥深くまで侵入す
ることになり、試料１の表面側のみの内部応力状況を測
定することができなかった。
線応力測定方法においては、格子面法線Ｎが試料１上の
Ｘ線入射点Ｐを中心としてステップ的に回転することに
よって形成される面であるψ角設定面と、試料表面とが
常に直角の角度関係に設定されている並傾法と直角の角
度関係にならない側傾法とがある。いずれにしても、試
料１に入射するＸ線は試料１の内部の奥深くまで侵入す
ることになり、試料１の表面側のみの内部応力状況を測
定することができなかった。
【００１１】本発明は、従来のＸ線応力測定方法におけ
る上記の問題点を解消するためになされたものであっ
て、試料の表面側のみの内部応力状態を測定することの
できるＸ線応力測定方法を提供することを目的とする。
る上記の問題点を解消するためになされたものであっ
て、試料の表面側のみの内部応力状態を測定することの
できるＸ線応力測定方法を提供することを目的とする。
【００１２】
【課題を解決するための手段】本発明に係るＸ線応力測
定方法は、試料上のＸ線照射点に関してＸ線源とＸ線検
出器の成す角度を二等分する線を結晶格子面法線とする
場合、Ｘ線源とＸ線検出器とをＸ線照射点を中心として
一体に回転させることにより結晶格子面法線をＸ線照射
点を中心として回転させて結晶格子面法線の基準線に対
する角度を変える工程と、結晶格子面法線の基準線に対
する各角度位置における回折Ｘ線の回折角度の変化を検
出する工程とを有しており、回折Ｘ線の回折角度の変化
を検出することにより試料内に残留する内部応力を測定
するＸ線応力測定方法である。そして、結晶格子面法線
が回転することによって形成される面であるψ角設定面
と試料表面とが９０゜以外の傾斜した角度に設定される
ことを特徴としている。
定方法は、試料上のＸ線照射点に関してＸ線源とＸ線検
出器の成す角度を二等分する線を結晶格子面法線とする
場合、Ｘ線源とＸ線検出器とをＸ線照射点を中心として
一体に回転させることにより結晶格子面法線をＸ線照射
点を中心として回転させて結晶格子面法線の基準線に対
する角度を変える工程と、結晶格子面法線の基準線に対
する各角度位置における回折Ｘ線の回折角度の変化を検
出する工程とを有しており、回折Ｘ線の回折角度の変化
を検出することにより試料内に残留する内部応力を測定
するＸ線応力測定方法である。そして、結晶格子面法線
が回転することによって形成される面であるψ角設定面
と試料表面とが９０゜以外の傾斜した角度に設定される
ことを特徴としている。
【００１３】試料として、基板上に積層される厚さ１μ
ｍ程度の薄膜を考える場合は、ψ角設定面と試料表面と
の成す角度を２０゜以下の鋭角に設定することが望まし
い。
ｍ程度の薄膜を考える場合は、ψ角設定面と試料表面と
の成す角度を２０゜以下の鋭角に設定することが望まし
い。
【００１４】
【作用】ψ角設定面と試料表面とを互いに傾けることに
より、入射Ｘ線は試料内を斜めに進むことになる。その
ため、試料内に入射するＸ線は試料の奥深くまでは侵入
しない。よって、試料の表面側の応力情報のみを採取で
きる。
より、入射Ｘ線は試料内を斜めに進むことになる。その
ため、試料内に入射するＸ線は試料の奥深くまでは侵入
しない。よって、試料の表面側の応力情報のみを採取で
きる。
【００１５】また、入射Ｘ線は試料の表面部分を斜めに
進行するので入射Ｘ線が試料内を進行する距離は長く、
従って、入射Ｘ線が侵入する試料の深さは浅いが、強度
の強い回折Ｘ線を得ることができる。
進行するので入射Ｘ線が試料内を進行する距離は長く、
従って、入射Ｘ線が侵入する試料の深さは浅いが、強度
の強い回折Ｘ線を得ることができる。
【００１６】
【実施例】図１は、本発明に係るＸ線応力測定方法を実
施するための測定系の概略を示している。同図におい
て、Ｘ線源としてのＸ線管１２から出たＸ線Ｒ１はコリ
メータ又はスリット４によって断面径の小さい平行ビー
ムに制限され、その状態で試料１上のＸ線照射点Ｐに照
射される。試料１で回折したＸ線Ｒ２は、Ｘ線検出器と
しての位置感応型Ｘ線検出器（ＰＳＰＣ：Ｐｏｓｉｔｉ
ｏｎ Ｓｅｎｓｉｔｉｖｅ Ｐｒｏｐｏｒｔｉｏｎａｌ
Ｃｏｕｎｔｅｒ）５によって検出される。
施するための測定系の概略を示している。同図におい
て、Ｘ線源としてのＸ線管１２から出たＸ線Ｒ１はコリ
メータ又はスリット４によって断面径の小さい平行ビー
ムに制限され、その状態で試料１上のＸ線照射点Ｐに照
射される。試料１で回折したＸ線Ｒ２は、Ｘ線検出器と
しての位置感応型Ｘ線検出器（ＰＳＰＣ：Ｐｏｓｉｔｉ
ｏｎ Ｓｅｎｓｉｔｉｖｅ Ｐｒｏｐｏｒｔｉｏｎａｌ
Ｃｏｕｎｔｅｒ）５によって検出される。
【００１７】ＰＳＰＣ５は、それ自体周知のＸ線検出器
であり、例えば内部にアノード線６、カソード線７及び
遅延線８を有している。Ｘ線取込み用の窓９を介してＰ
ＳＰＣ５の内部にＸ線が入るとカソード線７に電荷が誘
導され、その電荷に応じた電気パルス信号が遅延線８の
両端に現れる。そのパルス信号を測定することによりＸ
線が検出される。また、遅延線８の両端に現れるパルス
信号は、長さ方向ｘの距離に比例した時間差を有してい
る。従って、遅延線の両端に生じるパルスの時間差を測
定することにより、長さ方向ｘにおけるＸ線入射位置を
知ることができる。つまり、ＰＳＰＣ５は、アノード線
６等が張設された範囲内において、長さ方向ｘすなわち
回折角度２θ方向の各位置においてＰＳＰＣ５に入射し
たＸ線をほぼ同時に検出する。
であり、例えば内部にアノード線６、カソード線７及び
遅延線８を有している。Ｘ線取込み用の窓９を介してＰ
ＳＰＣ５の内部にＸ線が入るとカソード線７に電荷が誘
導され、その電荷に応じた電気パルス信号が遅延線８の
両端に現れる。そのパルス信号を測定することによりＸ
線が検出される。また、遅延線８の両端に現れるパルス
信号は、長さ方向ｘの距離に比例した時間差を有してい
る。従って、遅延線の両端に生じるパルスの時間差を測
定することにより、長さ方向ｘにおけるＸ線入射位置を
知ることができる。つまり、ＰＳＰＣ５は、アノード線
６等が張設された範囲内において、長さ方向ｘすなわち
回折角度２θ方向の各位置においてＰＳＰＣ５に入射し
たＸ線をほぼ同時に検出する。
【００１８】図４に関連して説明したように、応力測定
の際、特に結晶格子面法線Ｎの基準線Ｌに対する角度を
変更する工程において、Ｘ線管１２及びＰＳＰＣ５は、
入射Ｘ線光軸Ｒ１と回折Ｘ線光軸Ｒ２間の角度２ηを一
定に保持した状態で一体のままステップ的に回転させら
れる。回転する結晶格子面法線Ｎが描く平面Ｔは、通
常、ψ角設定面と呼ばれている。
の際、特に結晶格子面法線Ｎの基準線Ｌに対する角度を
変更する工程において、Ｘ線管１２及びＰＳＰＣ５は、
入射Ｘ線光軸Ｒ１と回折Ｘ線光軸Ｒ２間の角度２ηを一
定に保持した状態で一体のままステップ的に回転させら
れる。回転する結晶格子面法線Ｎが描く平面Ｔは、通
常、ψ角設定面と呼ばれている。
【００１９】図２は、図１の矢印ＩＩに従って本Ｘ線測
定系を側面方向から見た場合を示している。この図にお
いて、破線で示す状態の試料１ａは従来のＸ線測定方法
における試料の配置状態を示しており、この場合、試料
１ａの表面とψ角設定面Ｔとは互いに直角となってい
る。この従来の試料配置形態に対し、本発明に係るＸ線
測定方法においては、試料１の表面がψ角設定面Ｔに対
して角度αだけ傾斜して配置されている。この試料表面
の傾斜角度αは、測定対象となる試料１の厚さに応じて
適宜に設定される。例えば、基板上に蒸着された厚さ１
μｍ程度の薄膜を試料とする場合は、傾斜角度αを２０
゜以下の鋭角に設定することが好ましい。試料１をその
ように傾斜させた状態で固定するため、試料１は、傾斜
角度αの傾斜面を有する試料ホルダ１０によって支持さ
れている。
定系を側面方向から見た場合を示している。この図にお
いて、破線で示す状態の試料１ａは従来のＸ線測定方法
における試料の配置状態を示しており、この場合、試料
１ａの表面とψ角設定面Ｔとは互いに直角となってい
る。この従来の試料配置形態に対し、本発明に係るＸ線
測定方法においては、試料１の表面がψ角設定面Ｔに対
して角度αだけ傾斜して配置されている。この試料表面
の傾斜角度αは、測定対象となる試料１の厚さに応じて
適宜に設定される。例えば、基板上に蒸着された厚さ１
μｍ程度の薄膜を試料とする場合は、傾斜角度αを２０
゜以下の鋭角に設定することが好ましい。試料１をその
ように傾斜させた状態で固定するため、試料１は、傾斜
角度αの傾斜面を有する試料ホルダ１０によって支持さ
れている。
【００２０】以上のように、本Ｘ線応力測定方法におい
ては、試料１の表面をψ角設定面Ｔに対して角度αだけ
傾斜させたので、Ｘ線管１２から出たＸ線は試料１に斜
め方向から入射する。このため、Ｘ線は試料１の表面部
分を斜めに進むことになり、試料１の内部の深い部分ま
でには到達しない。この結果、試料１の表面部分の内部
応力のみを測定することができる。特に、試料面傾斜角
度αを２０゜以下の鋭角に設定すれば、基板上に蒸着さ
れた厚さ１μｍ程度の薄膜を測定対象とする場合でも、
基板の内部応力状態に左右されない薄膜のみの内部応力
を測定することができる。
ては、試料１の表面をψ角設定面Ｔに対して角度αだけ
傾斜させたので、Ｘ線管１２から出たＸ線は試料１に斜
め方向から入射する。このため、Ｘ線は試料１の表面部
分を斜めに進むことになり、試料１の内部の深い部分ま
でには到達しない。この結果、試料１の表面部分の内部
応力のみを測定することができる。特に、試料面傾斜角
度αを２０゜以下の鋭角に設定すれば、基板上に蒸着さ
れた厚さ１μｍ程度の薄膜を測定対象とする場合でも、
基板の内部応力状態に左右されない薄膜のみの内部応力
を測定することができる。
【００２１】また、図３に示すように、試料１内に入射
したＸ線Ｒ１は、試料１内を斜めに進行するので、Ｘ線
が到達できる試料内の深さｔは小さいが、試料１内を進
行するＸ線の距離ｎは長い。従って、強度の強い回折Ｘ
線が得られ、測定精度が向上する。
したＸ線Ｒ１は、試料１内を斜めに進行するので、Ｘ線
が到達できる試料内の深さｔは小さいが、試料１内を進
行するＸ線の距離ｎは長い。従って、強度の強い回折Ｘ
線が得られ、測定精度が向上する。
【００２２】以上、一つの実施例をあげて本発明を説明
したが、本発明はその実施例に限定されるものではな
い。例えば、上記実施例ではＸ線検出器として、２θ方
向に沿ったある範囲内にわたってＸ線をほぼ同時に検出
できるＰＳＰＣ５を用いたが、それ以外に、２θ方向の
ある１点におけるＸ線のみを検出するシンチレーション
カウンタ、その他の通常のＸ線検出器を用いることもで
きる。但し、そのような１点検出型のＸ線検出器を用い
た場合には、図４において説明したようにＸ線源２を矢
印Ｖのように揺動させたり、又はＸ線検出器３を矢印Ｑ
のように揺動させる必要がある。また、そのような１点
検出型のＸ線検出器を用いる場合には、そのＸ線検出器
と試料との間に、回折Ｘ線を平行ビームとするためのソ
ーラスリットを配置する必要もある。
したが、本発明はその実施例に限定されるものではな
い。例えば、上記実施例ではＸ線検出器として、２θ方
向に沿ったある範囲内にわたってＸ線をほぼ同時に検出
できるＰＳＰＣ５を用いたが、それ以外に、２θ方向の
ある１点におけるＸ線のみを検出するシンチレーション
カウンタ、その他の通常のＸ線検出器を用いることもで
きる。但し、そのような１点検出型のＸ線検出器を用い
た場合には、図４において説明したようにＸ線源２を矢
印Ｖのように揺動させたり、又はＸ線検出器３を矢印Ｑ
のように揺動させる必要がある。また、そのような１点
検出型のＸ線検出器を用いる場合には、そのＸ線検出器
と試料との間に、回折Ｘ線を平行ビームとするためのソ
ーラスリットを配置する必要もある。
【００２３】
【発明の効果】本発明によれば、試料内部の奥深い部分
の内部応力状態に影響されることなく、試料表面の浅い
部分の内部応力のみを測定することができる。
の内部応力状態に影響されることなく、試料表面の浅い
部分の内部応力のみを測定することができる。
【００２４】特に、請求項２記載のＸ線応力測定方法に
よれば、基板上に薄膜を積層することによって形成され
た試料に関して、薄膜部分のみの内部応力を効率よく測
定することができる。
よれば、基板上に薄膜を積層することによって形成され
た試料に関して、薄膜部分のみの内部応力を効率よく測
定することができる。
【００２５】
【図１】本発明に係るＸ線応力測定方法を実施するため
のＸ線測定系の一実施例を示す概略斜視図である。
のＸ線測定系の一実施例を示す概略斜視図である。
【図２】図１の矢印ＩＩに従った上記Ｘ線測定系の側面
図である。
図である。
【図３】本発明を用いた場合において、試料に入射し、
さらに回折するＸ線の状態を模式的に示す図である。
さらに回折するＸ線の状態を模式的に示す図である。
【図４】従来のＸ線応力測定系の一例を示す模式図であ
る。
る。
【図５】図４に示す測定系によって得られる２θ−ｓｉ
ｎ2 ψ線図を示す図である。
ｎ2 ψ線図を示す図である。
１ 試料 ５ ＰＳＰＣ（Ｘ線検出器） １２ Ｘ線管（Ｘ線源） Ｐ Ｘ線照射点 Ｒ１ 入射Ｘ線光軸 Ｒ２ 回折Ｘ線光軸 Ｎ 格子面法線 Ｌ 基準線 Ｔ ψ角設定面
Claims (2)
- 【請求項１】 試料上のＸ線照射点に関してＸ線源とＸ
線検出器の成す角度を二等分する線を結晶格子面法線と
する場合、 Ｘ線源及びＸ線検出器をＸ線照射点を中心として一体に
回転させることにより上記結晶格子面法線をＸ線照射点
を中心として回転させて結晶格子面法線の基準線に対す
る角度を変える格子面法線角度変更工程と、 結晶格子面法線を基準線に対して各角度位置に固定した
状態で、試料のＸ線照射点にＸ線を入射し、試料で回折
する回折Ｘ線の回折角度の変化を検出する回折Ｘ線角度
ズレ量測定工程とを有しており、回折Ｘ線の回折角度の
変化を検出することにより試料内に残留する内部応力を
測定するＸ線応力測定方法において、 結晶格子面法線が回転することにより形成される面であ
るψ角設定面と試料表面とが９０゜以外の傾斜した角度
に設定されることを特徴とするＸ線応力測定方法。 - 【請求項２】 上記ψ角設定面と試料表面との成す角度
が２０゜以下の鋭角に設定されることを特徴とする請求
項１記載のＸ線応力測定方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10193392A JPH05273056A (ja) | 1992-03-27 | 1992-03-27 | Ｘ線応力測定方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10193392A JPH05273056A (ja) | 1992-03-27 | 1992-03-27 | Ｘ線応力測定方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05273056A true JPH05273056A (ja) | 1993-10-22 |
Family
ID=14313720
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10193392A Pending JPH05273056A (ja) | 1992-03-27 | 1992-03-27 | Ｘ線応力測定方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05273056A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103439030A (zh) * | 2013-09-17 | 2013-12-11 | 东南大学 | 一种力触觉再现中的纹理力测量方法 |
| JP2019007822A (ja) * | 2017-06-23 | 2019-01-17 | 株式会社島津製作所 | Ｘ線応力測定装置 |
-
1992
- 1992-03-27 JP JP10193392A patent/JPH05273056A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103439030A (zh) * | 2013-09-17 | 2013-12-11 | 东南大学 | 一种力触觉再现中的纹理力测量方法 |
| JP2019007822A (ja) * | 2017-06-23 | 2019-01-17 | 株式会社島津製作所 | Ｘ線応力測定装置 |
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