JPH05271922A - Powder coating device - Google Patents

Powder coating device

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JPH05271922A
JPH05271922A JP4097379A JP9737992A JPH05271922A JP H05271922 A JPH05271922 A JP H05271922A JP 4097379 A JP4097379 A JP 4097379A JP 9737992 A JP9737992 A JP 9737992A JP H05271922 A JPH05271922 A JP H05271922A
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JP
Japan
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rotary drum
drum
powder
sputtering
powder particles
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JP4097379A
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Eiki Takeshima
鋭機 竹島
Kaoru Itsunoi
薫 五ノ井
Takashi Jokura
貴史 城倉
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Nippon Steel Nisshin Co Ltd
Original Assignee
Nisshin Steel Co Ltd
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Abstract

PURPOSE:To form uniform coating layers on individual powder particle surfaces by sputtering by distributing the powder raw materials charged into a rotary drum to the effective sputtering region in the inner bottom of the drum. CONSTITUTION:The raw material powder PW is charged into a drum body 21 of the rotary drum. The raw material powder PW is subjected to coating by the sputtered particles flying from a target plate 38 of a sputtering device 30. The fluidized layer PW1 formed in the inner bottom of the drum body 21 is intermittently agitated by an agitating plate 90 to mingle the powder particles of the upper layer part and the lower layer part. The powder particles sticking to the inside surface of the drum body 21 and the casing 34 of the sputtering device 30 are respectively scraped off by scrapers 95 and 98 and are returned to the fluidized layer PW1. Since the charged raw material powder is equally sputtered, the uniform coating layers are formed on the individual particle surfaces.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、回転ドラムに装入され
た原料粉末を撹拌すると共にドラム内壁に付着した原料
粉末を掻き落としながら、粉末粒子表面に均一なコーテ
ィング層を形成する粉末コーティング装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a powder coating apparatus for forming a uniform coating layer on the surface of powder particles while stirring the raw material powder charged in a rotary drum and scraping off the raw material powder adhering to the inner wall of the drum. Regarding

【0002】[0002]

【従来の技術】金属,セラミックス,プラスチックス等
の粉末粒子に金属皮膜,無機質皮膜等を形成すると、当
初の粉末粒子と異なる特性を与えることができる。たと
えば、タングステン粒子,ダイヤモンド粒子等に銅を被
覆すると、焼結性が向上し、熱伝導性に優れた焼結体が
得られる。また、銅被覆した粉末は、電磁シールド用の
フィラーとしても使用される。
2. Description of the Related Art When a metal film, an inorganic film or the like is formed on powder particles of metal, ceramics, plastics or the like, it is possible to give characteristics different from those of the original powder particles. For example, when tungsten particles, diamond particles, etc. are coated with copper, the sinterability is improved and a sintered body having excellent thermal conductivity is obtained. The copper-coated powder is also used as a filler for electromagnetic shielding.

【0003】粉末粒子にコーティングを施す手段として
は、粉末を懸濁状態にして電気めっき又は無電解めっき
を行う方法,流動状態にした粉末に対しスパッタリング
によって所定の皮膜を形成する方法等が知られている。
本発明者等も、スパッタリングによって粉末をコーティ
ングする装置として、回転ドラムを使用したスパッタリ
ング装置を特開平2−153068号公報で紹介した。
As means for coating the powder particles, there are known a method of performing electroplating or electroless plating with the powder in a suspended state, a method of forming a predetermined film on the powder in a fluidized state by sputtering. ing.
The present inventors have also introduced a sputtering device using a rotary drum as a device for coating powder by sputtering in JP-A-2-153068.

【0004】この粉末コーティング装置は、図1に示す
ように、コーティング前の粉末粒子Pが収容された減圧
加熱処理室1を、スパッタリング源3を内蔵した回転ド
ラム2に接続している。
In this powder coating apparatus, as shown in FIG. 1, a reduced pressure heat treatment chamber 1 containing powder particles P before coating is connected to a rotary drum 2 containing a sputtering source 3.

【0005】粉末粒子Pは、加熱コイル1aを備えた容
器1bに収容されており、モータ1cで駆動されるスク
リューフィーダ1dにより、供給導管1eを経て回転ド
ラム2の内部に供給される。供給導管1eは、回転ドラ
ム2の一側端面に設けた軸受け2fで支持されている。
また、回転ドラム2の内部に不活性ガスを送り込むた
め、供給導管1eと同心円状にガス導入管1gが設けら
れている。
The powder particles P are contained in a container 1b equipped with a heating coil 1a, and are supplied into the rotary drum 2 via a supply conduit 1e by a screw feeder 1d driven by a motor 1c. The supply conduit 1e is supported by a bearing 2f provided on one end surface of the rotary drum 2.
Further, in order to feed the inert gas into the rotary drum 2, a gas introduction pipe 1g is provided concentrically with the supply conduit 1e.

【0006】回転ドラム2は、駆動ロール2a及び従動
ロール2bで支持されている。駆動ロール2aは、モー
タ2cから動力を受け、回転ドラム2を水平軸回りに回
転させる。スパッタリング源3は、供給導管1eが挿入
された端面とは反対側の端面(図2では右側)で軸受け
3aで気密支持されたアーム3bによって回転ドラム2
内に固定配置されており、回転ドラム2の軸方向長さよ
り若干短いターゲットプレート3cを斜め下向きに配置
している。
The rotary drum 2 is supported by a driving roll 2a and a driven roll 2b. The drive roll 2a receives power from the motor 2c and rotates the rotary drum 2 around a horizontal axis. The sputtering source 3 includes a rotary drum 2 by an arm 3b which is hermetically supported by a bearing 3a at an end surface (right side in FIG. 2) opposite to the end surface into which the supply conduit 1e is inserted.
A target plate 3c, which is fixedly disposed inside and is slightly shorter than the axial length of the rotary drum 2, is disposed obliquely downward.

【0007】供給導管1eから回転ドラム2の軸方向端
部に供給された粉末粒子Pは、回転ドラム2の回転に伴
ってドラム軸全長に分配され、回転ドラム2の内側底面
上を流動する。Ar等のプラズマによる衝撃でターゲッ
トプレート3cからコーティング材料が叩き出され、回
転ドラム2内を飛翔して流動状態にある粉末粒子Pに被
着する。所定の被覆層が形成されたとき、回転ドラム2
を開放してコーティングされた粉末粒子Pを取り出す。
The powder particles P supplied from the supply conduit 1e to the axial end of the rotary drum 2 are distributed over the entire length of the drum shaft as the rotary drum 2 rotates, and flow on the inner bottom surface of the rotary drum 2. The coating material is knocked out from the target plate 3c by the impact of plasma such as Ar, and flies in the rotary drum 2 to adhere to the powder particles P in a fluid state. When a predetermined coating layer is formed, the rotary drum 2
And the coated powder particles P are taken out.

【0008】また、生産能力を上げた粉末コーティング
装置として、図2に示すように真空チャンバー4の両側
にターゲットプレート駆動ユニット5及びドラム駆動ユ
ニット6をガイドレール5a,5bに沿って退避可能に
配置した装置を開発した。ターゲットプレート駆動ユニ
ット5は、図1に示したものと同様なスパッタリング源
3を片持ち支持する。ドラム駆動ユニット6は、真空チ
ャンバー4内の駆動軸と噛み合い、真空チャンバー4の
内部で回転ドラム2を回転させる駆動軸を備えている。
Further, as a powder coating apparatus having an increased production capacity, as shown in FIG. 2, a target plate driving unit 5 and a drum driving unit 6 are arranged on both sides of the vacuum chamber 4 so as to be retractable along the guide rails 5a and 5b. The developed device was developed. The target plate drive unit 5 cantilevers a sputtering source 3 similar to that shown in FIG. The drum drive unit 6 includes a drive shaft that meshes with a drive shaft in the vacuum chamber 4 and rotates the rotary drum 2 inside the vacuum chamber 4.

【0009】ターゲットプレート駆動ユニット5及びド
ラム駆動ユニット6は、それぞれの前進位置で気密継ぎ
手5b,6aを介し真空チャンバー4に接続される。ガ
イドレール6aが移動架台6cの上面に設けられている
ため、ドラム駆動ユニット6は、真空チャンバー4から
後退するX方向、更に直交するY方向に移動する。
The target plate drive unit 5 and the drum drive unit 6 are connected to the vacuum chamber 4 via airtight joints 5b and 6a at their respective forward positions. Since the guide rail 6a is provided on the upper surface of the moving base 6c, the drum drive unit 6 moves in the X direction retracting from the vacuum chamber 4 and in the Y direction orthogonal thereto.

【0010】図2に示した初期位置P0 で回転ドラム2
の内部を清浄化し、スパッタリングされる原料粉末を仕
込んだ後、移動架台6cの走行によって回転ドラム2及
びドラム駆動ユニット6を真空チャンバー4の軸線に一
致する待機位置P1 まで移動させる。次いで、ターゲッ
トプレート駆動ユニット5及びドラム駆動ユニット6を
作動位置P2 に前進させ、気密継ぎ手5b,6bを介し
て真空チャンバーに接続する。
At the initial position P 0 shown in FIG. 2, the rotary drum 2
After cleaning the inside of the chamber and charging the raw material powder to be sputtered, the rotating cradle 2 and the drum driving unit 6 are moved to the standby position P 1 which coincides with the axis of the vacuum chamber 4 by the traveling of the moving platform 6c. Next, the target plate drive unit 5 and the drum drive unit 6 are advanced to the operating position P 2 and connected to the vacuum chamber via the airtight joints 5b and 6b.

【0011】真空チャンバー4の内部を真空系7のロー
タリポンプ7a及び拡散ポンプ7bによって真空引きし
た後、真空チャンバー4の内部で回転ドラム2を回転さ
せながら、スパッタリングによって原料粉末に所定のコ
ーティングを施す。そして、待機位置P1 を経て初期位
置P0 に送り、コーティングされた粉末を回転ドラム2
から取り出す。この方式によるとき、大径の回転ドラム
2が使用可能なため、生産能力が向上する。
After the inside of the vacuum chamber 4 is evacuated by the rotary pump 7a and the diffusion pump 7b of the vacuum system 7, the raw material powder is coated by sputtering while rotating the rotary drum 2 inside the vacuum chamber 4. .. Then, it is sent to the initial position P 0 via the standby position P 1 and the coated powder is fed to the rotary drum 2.
Take out from. With this method, since the large-diameter rotary drum 2 can be used, the production capacity is improved.

【0012】[0012]

【発明が解決しようとする課題】回転ドラム2に装入さ
れた原料粉末は、ドラム内面に付着して回転ドラム2に
共回りし、回転ドラム2の内部に比較的広範囲に分布し
た流動層を形成する。この流動層にスパッタ粒子が飛翔
するため、個々の粉末粒子に対するコーティングが可能
となる。しかし、共回りする原料粉末のドラム内面に対
する付着力が大きいと、有効スパッタリング領域から持
ち出される原料粉末の割合が大きくなる。付着力を大き
くする要因としては、スパッタリング時の昇温によって
粉末粒子がドラム内面に焼き付くこと、ドラム内面にあ
る凹凸と粉末粒子との機械的な絡み合いが強いこと等が
掲げられる。
The raw material powder charged in the rotary drum 2 adheres to the inner surface of the drum and co-rotates with the rotary drum 2 to form a fluidized bed distributed in a relatively wide range inside the rotary drum 2. Form. Since the sputtered particles fly to this fluidized bed, it is possible to coat individual powder particles. However, when the co-rotating raw material powder has a large adhesion to the inner surface of the drum, the proportion of the raw material powder taken out from the effective sputtering region becomes large. Factors that increase the adhesive force include burning of the powder particles on the inner surface of the drum due to temperature rise during sputtering, and strong mechanical entanglement between the irregularities on the inner surface of the drum and the powder particles.

【0013】粉末粒子の焼付きは、回転ドラム2を冷却
することによってある程度防止することができる。ま
た、回転ドラム2の表面粗さを調節することによって、
ドラム内面と粉末粒子との絡み合いを弱くすることがで
きる。しかしながら、回転ドラム2に付着して有効スパ
ッタリング領域から持ち上げられる粉末粒子を皆無にす
ることはできない。
The seizure of powder particles can be prevented to some extent by cooling the rotary drum 2. Also, by adjusting the surface roughness of the rotary drum 2,
Entanglement between the inner surface of the drum and the powder particles can be weakened. However, it is not possible to eliminate powder particles that adhere to the rotating drum 2 and are lifted from the effective sputtering area.

【0014】共回りによって持ち上げられた粉末粒子
は、スパッタリング装置の上面にドラム内面から落下・
堆積することもある。スパッタリング装置の上面に堆積
した粉末粒子は、スパッタリング作用を受けず、コーテ
ィングされない或いは不十分なコーティングが施された
状態にある。この粉末粒子が衝撃,振動等によってスパ
ッタリング装置の上面から落下して、ドラム底部の有効
スパッタリング領域にある原料粉末に混入すると、コー
ティング層の形成状態が大きくばらつくことになる。
The powder particles lifted by the co-rotation fall from the inner surface of the drum onto the upper surface of the sputtering device.
It may be accumulated. The powder particles deposited on the upper surface of the sputtering apparatus are not subjected to the sputtering action and are in a state of being uncoated or poorly coated. If the powder particles fall from the upper surface of the sputtering device due to impact, vibration, etc. and mix with the raw material powder in the effective sputtering area at the bottom of the drum, the state of formation of the coating layer will vary greatly.

【0015】更に、回転ドラム2の内側底部に形成され
ている原料粉末の流動層においても、流動層の上層部に
ある粉末粒子に対してスパッタ粒子が被着する確率は、
下層部の粉末粒子にスパッタ粒子が被着する確率よりも
大きい。そのため、上層部にある粉末粒子に対して比較
的厚いコーティング層が形成され、下層部の粉末粒子に
は比較的薄いコーティング層が形成される。流動層の下
層部にある粉末粒子にドラム内面に付着する力が発生す
ると、下層部の粉末粒子が上層部に流動することがなく
なり、コーティング層の厚みに関するバラツキが避けら
れない。
Further, even in the fluidized bed of the raw material powder formed on the inner bottom of the rotary drum 2, the probability that the sputtered particles adhere to the powdered particles in the upper layer of the fluidized bed is as follows.
It is higher than the probability that sputtered particles adhere to the powder particles in the lower layer. Therefore, a relatively thick coating layer is formed on the powder particles in the upper layer portion, and a relatively thin coating layer is formed on the powder particles in the lower layer portion. When a force that adheres to the inner surface of the drum is generated in the powder particles in the lower layer portion of the fluidized bed, the powder particles in the lower layer portion will not flow to the upper layer portion, and variations in the thickness of the coating layer cannot be avoided.

【0016】本発明は、このような問題を解消すべく案
出されたものであり、ドラム内面に対する粉末粒子の付
着状態を解除すると共に、流動層における粉末粒子を定
期的に撹拌することにより、個々の粉末粒子に対して均
一なコーティング層を形成することを目的とする。
The present invention has been devised to solve such a problem, and by releasing the adhesion state of the powder particles to the inner surface of the drum and periodically stirring the powder particles in the fluidized bed, The purpose is to form a uniform coating layer on individual powder particles.

【0017】[0017]

【課題を解決するための手段】本発明の粉末コーティン
グ装置は、その目的を達成するため、両端が解放され水
平軸回りに回転する回転ドラムと、該回転ドラムの内部
に挿入され、前記回転ドラムの軸方向に長尺のスパッタ
リング装置と、前記回転ドラムの両端に配置された環状
駆動歯車と、該環状駆動歯車に差し渡されて前記回転ド
ラムの内部を軸方向に延びる撹拌板と、前記環状駆動歯
車に差し渡されて前記回転ドラムの内部を軸方向に延
び、前記回転ドラムの側部内面に摺擦するスクレーパと
を備え、前記撹拌板及び前記スクレーパは、前記環状駆
動歯車を介した動力伝達により前記回転ドラムの内部で
間欠的に往復動することを特徴とする。
In order to achieve the object, the powder coating apparatus of the present invention has a rotary drum which is open at both ends and rotates around a horizontal axis, and the rotary drum which is inserted into the rotary drum. An axially long sputtering device, annular drive gears arranged at both ends of the rotary drum, a stirring plate that is extended to the inside of the rotary drum by being passed over the annular drive gears, and the annular ring. And a scraper that is extended to the inside of the rotary drum in the axial direction and is rubbed against the inner surface of the side surface of the rotary drum, wherein the stirring plate and the scraper are powered via the annular drive gear. It is characterized by intermittently reciprocating inside the rotary drum by transmission.

【0018】更に、スパッタリング装置の上面に落下堆
積する原料粉末を回転ドラムの底部内面に戻すため、ス
パッタリング装置の上面をワイピングする手段を組み込
むこともできる。この場合、半円筒状のケーシングを備
えたスパッタリング装置を使用し、スクレーパから回転
ドラムの中心方向に延びる支持アームの先端にワイパー
を取り付け、ケーシングの半円筒状外面にワイパーを摺
擦させる。
Further, a means for wiping the upper surface of the sputtering apparatus can be incorporated in order to return the raw material powder dropped and deposited on the upper surface of the sputtering apparatus to the inner surface of the bottom portion of the rotary drum. In this case, a sputtering apparatus having a semi-cylindrical casing is used, a wiper is attached to the tip of a support arm extending from the scraper toward the center of the rotary drum, and the wiper is rubbed against the semi-cylindrical outer surface of the casing.

【0019】[0019]

【実施例】以下、図面を参照しながら、図2の大型粉末
コーティング装置に本発明を適用した実施例を説明す
る。しかし、本発明はこれに拘束されることなく、図1
の粉末コーティング装置に対しても同様に適用されるこ
とは勿論である。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment in which the present invention is applied to the large-sized powder coating apparatus shown in FIG. 2 will be described below with reference to the drawings. However, the present invention is not limited to this, and FIG.
Needless to say, the same can be applied to the powder coating apparatus.

【0020】本実施例の粉末コーティング装置は、図3
に示すように真空チャンバー10の内部に回転ドラム2
0を同心円状に配置し、回転ドラム20の中心部にスパ
ッタリング装置30をセッティングしている。真空チャ
ンバー10の内部は、真空系に接続した排気管11を介
して真空吸引される。また、真空チャンバー10の上部
には、内部点検用の蓋体12が気密に接続され、蓋体1
2の裏面或いはその近傍にハロゲンランプ13が設けら
れている。
The powder coating apparatus of this embodiment is shown in FIG.
As shown in FIG.
0s are arranged concentrically, and a sputtering device 30 is set at the center of the rotary drum 20. The inside of the vacuum chamber 10 is vacuum-sucked through an exhaust pipe 11 connected to a vacuum system. A lid 12 for inspecting the inside is airtightly connected to the upper portion of the vacuum chamber 10,
A halogen lamp 13 is provided on the back surface of 2 or in the vicinity thereof.

【0021】真空チャンバー10は、両端が開放されて
いる。真空チャンバー10の開放端部には、図4に示す
ようにフランジ14R 及び14L がそれぞれ設けられて
いる。フランジ14R 及び14L は、図4に示すように
それぞれターゲット駆動ユニット40及びドラム駆動ユ
ニット50の端面に設けたフランジ板41及びフランジ
板51に気密接続される。
Both ends of the vacuum chamber 10 are open. At the open end of the vacuum chamber 10, flanges 14 R and 14 L are provided, respectively, as shown in FIG. The flanges 14 R and 14 L are hermetically connected to a flange plate 41 and a flange plate 51 provided on the end faces of the target drive unit 40 and the drum drive unit 50, respectively, as shown in FIG.

【0022】ターゲット駆動ユニット40には、スパッ
タリング装置30を片持ち支持するため、スパッタリン
グ装置本体31の一側からカップリング32を介して突
出したアーム33を回転可能に支持する軸受け42a〜
42cが設けられている。軸受け42aは、フランジ板
41に固定され、フランジ板41の中央に形成された開
口部からスパッタリング装置本体31側に突出する。A
r,窒素等のガス供給導管(図示せず)は、アーム33
の貫通孔を経由しスパッタリング装置本体31に接続さ
れている。
The target drive unit 40 supports the sputtering device 30 in a cantilever manner, so that the bearings 42a to rotatably support the arm 33 protruding from one side of the sputtering device main body 31 via the coupling 32.
42c is provided. The bearing 42a is fixed to the flange plate 41, and projects from the opening formed at the center of the flange plate 41 toward the sputtering apparatus body 31 side. A
The gas supply conduit (not shown) for r, nitrogen, etc.
Is connected to the sputtering apparatus main body 31 via the through hole.

【0023】スパッタリング装置本体31は、図3に示
すように半円筒状のケーシング34にハウジング35を
取り付けている。ケーシング34の内部は、補強プレー
ト36で二分割され、断熱・絶縁作用を呈する空間とな
る。ハウジング35に嵌め合されたバッキングプレート
37の前面側にターゲットプレート38が取り付けられ
ており、後面側に冷却水通路をもつ水冷ジャケット39
が取り付けられている。バッキングプレート37として
は、ターゲットプレート38を冷却するため、熱伝導性
の良好な銅板が使用される。
As shown in FIG. 3, the sputtering apparatus main body 31 has a housing 35 attached to a semi-cylindrical casing 34. The inside of the casing 34 is divided into two by the reinforcing plate 36, and becomes a space exhibiting a heat insulating / insulating action. A target plate 38 is attached to the front side of a backing plate 37 fitted in the housing 35, and a water cooling jacket 39 having a cooling water passage on the rear side.
Is attached. As the backing plate 37, a copper plate having good thermal conductivity is used to cool the target plate 38.

【0024】ドラム駆動ユニット50のフランジ板51
には、スパッタリング装置本体31のターゲットプレー
ト38近傍を観察することができるように、覗き窓52
が形成されている。また、覗き窓52より下方で、真空
チャンバー10内に配置された回転ドラム20に回転動
力を与える回転動力伝達機構60の駆動軸61を貫通さ
せる孔部がフランジ板51に形成されている。
Flange plate 51 of drum drive unit 50
In order to observe the vicinity of the target plate 38 of the sputtering apparatus main body 31, a viewing window 52 is provided.
Are formed. Further, below the viewing window 52, a hole portion is formed in the flange plate 51 so as to pass through the drive shaft 61 of the rotary power transmission mechanism 60 that applies rotary power to the rotary drum 20 arranged in the vacuum chamber 10.

【0025】回転ドラム20は、両端が解放された円筒
状のドラム本体21を備えている。ドラム本体21の左
右両端に、環状の外歯歯車22L 及び22R が装着され
ている。外歯歯車22L 及び22R の更に軸方向外側
で、外歯歯車23L 及び23R(図5参照)が回転ドラ
ム20の開放両端に配置されている。
The rotary drum 20 has a cylindrical drum body 21 whose both ends are open. Annular external gears 22 L and 22 R are attached to the left and right ends of the drum body 21. External gears 23 L and 23 R (see FIG. 5) are arranged at both open ends of the rotary drum 20, further axially outside the external gears 22 L and 22 R.

【0026】回転動力伝達機構60の駆動軸61には、
モータ62からの動力が変速機63を介して伝達され
る。駆動軸61は、磁性シール等の気密継ぎ手64を介
して真空チャンバー10の内部に突出し、カップリング
65を介してチャンバー内駆動軸66に接続される。チ
ャンバー内駆動軸66は、真空チャンバー10の内面に
ブラケット15(図3参照)で取り付けられた軸受け6
L ,67R で回転可能に支持されている。チャンバー
内駆動軸66に装着された駆動歯車68L ,68R は、
回転ドラム20側の外歯歯車22L 及び22R とそれぞ
れ噛み合う。
On the drive shaft 61 of the rotary power transmission mechanism 60,
The power from the motor 62 is transmitted via the transmission 63. The drive shaft 61 projects into the vacuum chamber 10 via an airtight joint 64 such as a magnetic seal, and is connected to an in-chamber drive shaft 66 via a coupling 65. The drive shaft 66 in the chamber is the bearing 6 attached to the inner surface of the vacuum chamber 10 by the bracket 15 (see FIG. 3).
It is rotatably supported by 7 L and 67 R. The drive gears 68 L and 68 R mounted on the drive shaft 66 in the chamber are
It meshes with the external gears 22 L and 22 R on the rotary drum 20 side, respectively.

【0027】保守動力伝達機構70は、図5に示すよう
には、モータ71から出力された動力を変速機72で減
速し、クラッチ73を介して駆動軸74に伝達する。駆
動軸74は、気密継ぎ手75を介して真空チャンバー1
0内に突出し、カップリング76を介してチャンバー内
駆動軸77に接続される。チャンバー内駆動軸77は、
真空チャンバー10の内面にブラケット15(図3参
照)で取り付けられた軸受け78L ,78R で回転可能
に支持されている。チャンバー内駆動軸77に装着され
た駆動歯車79L ,79R は、回転ドラム20側の外歯
歯車22L 及び22R とそれぞれ噛み合う。環状の外歯
歯車22L 及び22R は、クラッチ73の切替え操作に
よって間欠的に所定の回転角度で回転した後、逆方向に
回転して当初の位置に復帰する。
As shown in FIG. 5, the maintenance power transmission mechanism 70 reduces the power output from the motor 71 by the transmission 72 and transmits it to the drive shaft 74 via the clutch 73. The drive shaft 74 is connected to the vacuum chamber 1 via an airtight joint 75.
0, and is connected to the in-chamber drive shaft 77 via the coupling 76. The drive shaft 77 in the chamber is
It is rotatably supported by bearings 78 L and 78 R mounted on the inner surface of the vacuum chamber 10 by a bracket 15 (see FIG. 3). The drive gears 79 L and 79 R mounted on the drive shaft 77 in the chamber mesh with the external gears 22 L and 22 R on the rotary drum 20 side, respectively. The annular external gears 22 L and 22 R intermittently rotate at a predetermined rotation angle by the switching operation of the clutch 73, then rotate in the opposite direction and return to the initial position.

【0028】更に、回転ドラム20を冷却するため、図
6に示す冷却機構80が付設されている。冷却機構80
は、水源に接続された給水管81を備えている。吸水管
81は、コック82及び気密継ぎ手83を介して真空チ
ャンバー10の内部に臨み、回転継ぎ手84で水冷ロー
ル85a,85bに接続されている。水冷ロール85
a,85bは、内部が空洞になっており、周壁がドラム
本体21の外周面に接触する。この水冷ロール85a,
85bも、ブラケット15で取り付けられた軸受け86
L ,86R で回転可能に支持され、ドラム本体21との
摩擦によって従動的に回転する。
Further, in order to cool the rotary drum 20, a cooling mechanism 80 shown in FIG. 6 is additionally provided. Cooling mechanism 80
Has a water supply pipe 81 connected to a water source. The water absorption pipe 81 faces the inside of the vacuum chamber 10 via a cock 82 and an airtight joint 83, and is connected to water cooling rolls 85 a and 85 b by a rotary joint 84. Water cooling roll 85
The insides of a and 85b are hollow, and the peripheral wall thereof contacts the outer peripheral surface of the drum body 21. This water cooling roll 85a,
85b also has a bearing 86 mounted by the bracket 15.
It is rotatably supported by L and 86 R , and is driven to rotate by friction with the drum body 21.

【0029】チャンバー内駆動軸66,77及び水冷ロ
ール85a,85bは、図3に示す位置関係で真空チャ
ンバー10の底部に配置される。これにより、ドラム本
体21が回転可能に支持されると共に、環状の外歯歯車
23L ,23R を回転ドラム21とは独立させて間欠回
転させることができる。また、水冷ロール85a,85
bによってドラム本体21が冷却されるため、ドラム内
面に対する粉末粒子の付着が抑制される。
The drive shafts 66 and 77 in the chamber and the water cooling rolls 85a and 85b are arranged at the bottom of the vacuum chamber 10 in the positional relationship shown in FIG. As a result, the drum main body 21 is rotatably supported, and the annular external gears 23 L and 23 R can be intermittently rotated independently of the rotary drum 21. In addition, water-cooled rolls 85a, 85
Since the drum main body 21 is cooled by b, the adhesion of the powder particles to the inner surface of the drum is suppressed.

【0030】ドラム本体21の両端に配置されている外
歯歯車23L 及び23R に、ドラム本体21の内部を通
して撹拌板90が差し渡される。撹拌板90は、図7及
び図8に示すように、平坦な板体91の両端部に支脚9
L ,92R を固着している。ドラム本体21の内面側
に対向する板体91の下面には、複数の突条93L ,9
R が幅方向に形成されている。突条93L 及び93R
は、板体91の中央、すなわちドラム本体21の軸方向
中心を境として互いに逆方向に傾斜している。支脚92
L ,92R は、外歯歯車23L ,23R に基端部が取り
付けられたとき、板体91がドラム本体21の内面近傍
に位置する形状に形成されている。
A stirring plate 90 is passed through the inside of the drum body 21 to the external gears 23 L and 23 R arranged at both ends of the drum body 21. As shown in FIGS. 7 and 8, the stirring plate 90 has a support plate 9 at both ends of a flat plate body 91.
2 L and 92 R are fixed. On the lower surface of the plate body 91 facing the inner surface side of the drum body 21, a plurality of ridges 93 L , 9
3 R is formed in the width direction. Ridges 93 L and 93 R
Are inclined in opposite directions with the center of the plate body 91, that is, the axial center of the drum body 21 as a boundary. Fulcrum 92
L 1 and 92 R are formed in such a shape that the plate member 91 is located near the inner surface of the drum body 21 when the base ends are attached to the external gears 23 L and 23 R.

【0031】外歯歯車23L ,23R には、同様な支脚
(図示せず)によってスクレーパ95が取り付けられて
いる。スクレーパ95は、ドラム本体21の回転軸を中
心として、図3に示すように撹拌板90に対してたとえ
ば中心角120〜240度の位置関係で設けられる。ス
クレーパ95は、図9に示すように、弾性のある合成樹
脂等の摺擦部材96を基端部97に取り付けている。摺
擦部材96は、ドラム本体21の内面に摺擦し、付着し
ている粉末粒子をドラム内面から離脱させる。
Scrapers 95 are attached to the external gears 23 L and 23 R by similar supporting legs (not shown). As shown in FIG. 3, the scraper 95 is provided with a positional relationship of a central angle of 120 to 240 degrees with respect to the stirring plate 90 with the rotation axis of the drum body 21 as the center. As shown in FIG. 9, the scraper 95 has a rubbing member 96 made of elastic synthetic resin or the like attached to the base end 97. The rubbing member 96 rubs the inner surface of the drum main body 21 to separate the adhered powder particles from the inner surface of the drum.

【0032】スクレーパ95には、更にワイパー98を
付設することもできる。すなわち、スクレーパ95から
ドラム本体21の中心方向に向かう複数の支持アーム9
8aを基端部97に取り付け、支脚98aに基板98b
を指し渡す。そして、基板98bに弾性に富む合成樹脂
等の摺擦部材98cを起立させる。支持アーム98aの
長さは、摺擦部材98cがスパッタリング装置30のケ
ーシング34外面に押し当てられる長さに設定される。
A wiper 98 may be attached to the scraper 95. That is, the plurality of support arms 9 extending from the scraper 95 toward the center of the drum body 21.
8a is attached to the base end portion 97, and the base 98b is attached to the supporting leg 98a.
Hand over. Then, the rubbing member 98c made of synthetic resin or the like having a high elasticity is erected on the substrate 98b. The length of the support arm 98a is set so that the rubbing member 98c is pressed against the outer surface of the casing 34 of the sputtering apparatus 30.

【0033】回転ドラム20に原料粉末PWを装入し、
ドラム本体21を回転方向Dに回転させながらスパッタ
リング装置30によってスパッタリングさせるとき、原
料粉末PWは、図7に示すようにドラム本体21の内側
底部に分配される。大半の原料粉末PWは、ドラム本体
21の内側底部に形成されている流動層PW1 で、ター
ゲットプレート38から飛翔したスパッタ粒子によるス
パッタリングに晒され、コーティングが施される。
Charge the raw material powder PW to the rotary drum 20,
When the sputtering is performed by the sputtering device 30 while rotating the drum body 21 in the rotation direction D, the raw material powder PW is distributed to the inner bottom portion of the drum body 21 as shown in FIG. 7. Most of the raw material powder PW is the fluidized bed PW 1 formed at the inner bottom portion of the drum body 21, and is exposed to the sputtering by the sputtered particles flying from the target plate 38 to be coated.

【0034】しかし、ドラム本体21の内面に付着或い
は機械的に絡み合った粉末粒子は、ドラム本体21と共
回りして流動層PW1 から運び出されることがある。付
着や絡み合いが強固なとき、ドラム内面の同じ箇所に粉
末粒子が存在し、スパッタ粒子が被着する確率が少なく
なる。付着や絡み合いの程度によっては、ドラム本体2
1の回転中にドラム内面から離脱し、スパッタリング装
置本体30のケーシング34上に落下・堆積する粉末粒
子もある。また、流動層PW1 自体も上層部と下層部と
の混り合いが十分に行われず、上層部にある粉末粒子が
専らコーティングされる場合もある。
However, the powder particles attached to the inner surface of the drum body 21 or mechanically entangled with each other may be carried out from the fluidized bed PW 1 along with the drum body 21. When the adhesion and the entanglement are strong, the powder particles are present at the same position on the inner surface of the drum, and the probability that the sputter particles are attached is reduced. Depending on the degree of adhesion or entanglement, the drum body 2
Some of the powder particles are detached from the inner surface of the drum during the rotation of No. 1 and fall / deposit on the casing 34 of the sputtering apparatus main body 30. Further, in the fluidized bed PW 1 itself, the upper layer portion and the lower layer portion may not be sufficiently mixed, and the powder particles in the upper layer portion may be exclusively coated.

【0035】そこで、保守動力伝達機構70を間欠的に
駆動させ、撹拌板90及びスクレーパ95を図7に示し
た角度αの範囲で往復動させる。撹拌羽根90によっ
て、流動層PW1 を形成する上層部及び下層部の粉末粒
子が互いに混ざり合い、個々の粉末粒子が等しくスパッ
タリングに晒される。板体91の下面に形成した複数の
突条93L ,93R によって、流動層PW1 にある粉末
粒子にドラム軸方向の移動が与えられ、軸方向に関して
もスパッタリング条件が均一化される。
Therefore, the maintenance power transmission mechanism 70 is intermittently driven to reciprocate the stirring plate 90 and the scraper 95 within the range of the angle α shown in FIG. By the stirring blade 90, the powder particles in the upper layer portion and the powder particles in the lower layer portion forming the fluidized bed PW 1 are mixed with each other, and the individual powder particles are equally exposed to the sputtering. The plurality of ridges 93 L and 93 R formed on the lower surface of the plate 91 move the powder particles in the fluidized bed PW 1 in the axial direction of the drum, and uniformize the sputtering conditions in the axial direction as well.

【0036】また、スクレーパ95によって、ドラム内
面に付着しドラム本体21と共回りしようとする粉末粒
子がそぎ落とされ、流動層PW1 に戻される。ワイパー
98を備えたものにあっては、ケーシング34の上面に
落下・堆積した粉末粒子も流動層PW1 に戻される。こ
のようにして、スパッタリングを受けることがない粉末
粒子を流動層PW1 に戻すことによって、装入された原
料粉末を等しくスパッタリングする。
Further, the scraper 95 scrapes off the powder particles that adhere to the inner surface of the drum and try to rotate together with the drum body 21, and return them to the fluidized bed PW 1 . In the case where the wiper 98 is provided, the powder particles dropped and accumulated on the upper surface of the casing 34 are also returned to the fluidized bed PW 1 . In this way, by returning the powder particles that are not subjected to sputtering to the fluidized bed PW 1 , the charged raw material powder is equally sputtered.

【0037】撹拌板90及びスクレーパ95が往復動す
る角度αは、ドラム本体21の回転軸に関する両者の位
置関係に応じて定められる。たとえば、撹拌板90及び
スクレーパ95を互いに中心角120度で離間させたも
のにあっては、60〜120度の範囲にわたって撹拌板
90及びスクレーパ95を往復動させる。また、前進或
いは後退の何れかのときに、撹拌羽根90及びスクレー
パ95を作動状態にすることもできる。たとえば、ドラ
ム本体21の回転方向Dに撹拌板90を移動させると
き、スクレーパ95をドラム内面から離間して待機位置
で移動させ、回転方向Dとは逆方向に撹拌板90を移動
させるとき、ドラム内面に押しつけられた状態でスクレ
ーパ95を移動させる。これによって、ドラム内面に付
着している粉末粒子は、回転方向Dに関し流動層PW1
の下流側に戻される。
The angle α at which the stirring plate 90 and the scraper 95 reciprocate is determined according to the positional relationship between the two with respect to the rotation axis of the drum body 21. For example, in the case where the stirring plate 90 and the scraper 95 are separated from each other at the central angle of 120 degrees, the stirring plate 90 and the scraper 95 are reciprocated over the range of 60 to 120 degrees. Further, the stirring blade 90 and the scraper 95 can be activated during either forward movement or backward movement. For example, when the stirring plate 90 is moved in the rotation direction D of the drum body 21, the scraper 95 is moved away from the inner surface of the drum at the standby position, and when the stirring plate 90 is moved in the direction opposite to the rotation direction D, The scraper 95 is moved while being pressed against the inner surface. As a result, the powder particles adhering to the inner surface of the drum move in the fluidized bed PW 1 in the rotation direction D.
Returned to the downstream side of.

【0038】このようにして、流動層PW1 の撹拌及び
ドラム内面に付着した粉末粒子の離脱を行いながらスパ
ッタリングしたとき、処理後の粉末粒子に均一なコーテ
ィング層が形成され、コーティングが施されていない粉
末粒子は皆無であった。これに対し、撹拌板90及びス
クレーパ95を使用することなくスパッタリングを行っ
たものでは、装入された原料粉末の約30%にコーティ
ング層が形成されていなかった。また、形成されたコー
ティング層も、大きなバラツキのある厚みをもってい
た。
In this way, when the fluidized bed PW 1 is sputtered while stirring and separating the powder particles attached to the inner surface of the drum, a uniform coating layer is formed on the treated powder particles and the coating is performed. There were no powder particles. On the other hand, in the case of performing the sputtering without using the stirring plate 90 and the scraper 95, the coating layer was not formed on about 30% of the raw material powder charged. The formed coating layer also had a thickness with large variations.

【0039】[0039]

【発明の効果】以上に説明したように、本発明において
は、回転ドラムの内部でスパッタリングによって原料粉
末をコーティングする際、装入された原料粉末が等しく
スパッタリングに晒されるように、流動層を撹拌すると
共に、ドラム内面に付着して回転ドラムと共回りする粉
末粒子をそぎ落として流動層に戻している。これによっ
て、個々の粉末粒子に対して均一なコーティング層が形
成され、高品質のコーティング粉末が高い歩留りで得ら
れる。
As described above, in the present invention, when the raw material powder is coated by sputtering inside the rotary drum, the fluidized bed is agitated so that the charged raw material powder is equally exposed to the sputtering. At the same time, powder particles adhering to the inner surface of the drum and co-rotating with the rotating drum are scraped off and returned to the fluidized bed. As a result, a uniform coating layer is formed on each powder particle, and a high-quality coating powder is obtained with a high yield.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】 本発明者等が先に提案した小規模の粉末コー
ティング装置
FIG. 1 Small-scale powder coating apparatus previously proposed by the present inventors

【図2】 本発明者等が開発した大規模の粉末コーティ
ング装置
FIG. 2 Large-scale powder coating device developed by the present inventors

【図3】 回転ドラムにスパッタリング装置を組み込ん
だ状態
FIG. 3 shows a state in which a sputtering device is incorporated in a rotating drum.

【図4】 図3のIV−IV矢視断面図FIG. 4 is a sectional view taken along the line IV-IV in FIG.

【図5】 図3のV矢視断面図5 is a sectional view taken along the arrow V in FIG.

【図6】 図3のVI矢視断面図6 is a cross-sectional view taken along line VI of FIG.

【図7】 回転ドラム内部の透視図FIG. 7 is a perspective view of the inside of the rotating drum.

【図8】 撹拌板FIG. 8 Stir plate

【図9】 スクレーパ[Figure 9] Scraper

【符号の説明】[Explanation of symbols]

20 回転ドラム 23L ,23R 外歯歯
車(環状駆動歯車) 30 スパッタリング装置 90 撹拌板 95 スクレーパ 98 ワイパー
20 rotating drum 23 L , 23 R external gear (annular drive gear) 30 sputtering device 90 stirring plate 95 scraper 98 wiper

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 両端が解放され水平軸回りに回転する回
転ドラムと、該回転ドラムの内部に挿入され、前記回転
ドラムの軸方向に長尺のスパッタリング装置と、前記回
転ドラムの両端に配置された環状駆動歯車と、該環状駆
動歯車に差し渡されて前記回転ドラムの内部を軸方向に
延びる撹拌板と、前記環状駆動歯車に差し渡されて前記
回転ドラムの内部を軸方向に延び、前記回転ドラムの側
部内面に摺擦するスクレーパとを備え、前記撹拌板及び
前記スクレーパは、前記環状駆動歯車を介した動力伝達
により前記回転ドラムの内部で間欠的に往復動すること
を特徴とする粉末コーティング装置。
1. A rotary drum whose both ends are opened and rotates about a horizontal axis, a sputtering device which is inserted inside the rotary drum and is long in the axial direction of the rotary drum, and which is arranged at both ends of the rotary drum. An annular drive gear, an agitator plate that is inserted into the annular drive gear and extends axially inside the rotary drum, and an agitator plate that is inserted into the annular drive gear and extends axially inside the rotary drum, A scraper that slides on the inner surface of the side surface of the rotary drum, and the stirring plate and the scraper intermittently reciprocate inside the rotary drum by power transmission via the annular drive gear. Powder coating equipment.
【請求項2】 請求項1記載のスパッタリング装置が半
円筒状のターゲットケーシングをもち、スクレーパから
回転ドラムの中心方向に延びる支持アームの先端にワイ
パーを取り付け、前記ケーシングの半円筒状外面に前記
ワイパーを摺擦させていることを特徴とする粉末コーテ
ィング装置。
2. The sputtering apparatus according to claim 1, wherein the sputtering apparatus has a semi-cylindrical target casing, a wiper is attached to a tip of a support arm extending from the scraper toward the center of the rotary drum, and the semi-cylindrical outer surface of the casing has the wiper. The powder coating device is characterized in that it is rubbed against.
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