JPH05266465A - Magnetic recording medium and its production - Google Patents

Magnetic recording medium and its production

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Publication number
JPH05266465A
JPH05266465A JP6360192A JP6360192A JPH05266465A JP H05266465 A JPH05266465 A JP H05266465A JP 6360192 A JP6360192 A JP 6360192A JP 6360192 A JP6360192 A JP 6360192A JP H05266465 A JPH05266465 A JP H05266465A
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JP
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Application
Patent type
Prior art keywords
surface
protective film
recording medium
magnetic recording
magnetic
Prior art date
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Pending
Application number
JP6360192A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kenichi Gomi
Yoichi Inomata
Gizen Katou
Yoshihiro Moriguchi
Masaki Oura
Hideaki Tanaka
憲一 五味
義善 加藤
正樹 大浦
善弘 森口
洋一 猪股
秀明 田中
Original Assignee
Hitachi Ltd
株式会社日立製作所
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
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Abstract

PURPOSE:To enhance the wear and corrosion resistance of a magnetic recording medium by improving the hydrophobic property of a protective film formed on the magnetic film of the magnetic recording medium. CONSTITUTION:Fluorine atoms are bonded to the surface of a protective film 3 of carbon, etc., formed on a magnetic film 2 by fluorination to form a fluorinated layer 4. Since the surface of the protective film 3 is stabilized and the hydrophobic property is improved, the sliding characteristics (wear resistance) and corrosion resistance of the resulting magnetic recording medium are enhanced. The fluorination is carried out by forming activated parts (high energy state) on the surface of the protective film 3 by dry etching such as plasma treatment or ion etching, adsorbing gas contg. fluorine atoms on the parts and tightly bonding fluorine atoms to the parts.

Description

【発明の詳細な説明】 DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】 [0001]

【産業上の利用分野】本発明は、電子計算機の情報記憶用の磁気ヘッド−磁気ディスクドライブ(HDD)等の磁気記録装置に使用される磁気ディスク等の記録媒体及びその製造方法に係り、特に摺動信頼性と耐蝕性の高い記録媒体及びその製造方法に関する。 BACKGROUND OF THE INVENTION This invention relates to a magnetic head for information storage of the computer - relates to a recording medium and a method of manufacturing such a magnetic disk used in a magnetic recording device such as a magnetic disk drive (HDD), in particular recording media having a high sliding reliability and corrosion resistance and a method for producing the same.

【0002】 [0002]

【従来の技術】従来、例えば特公平2−281418号公報に記載されているように、磁気ディスク記録媒体の製造方法において、カーボン保護膜の耐蝕性や摺動信頼性を向上するために、構成するカーボンの結合状態を制御して成膜するものが知られている。 Conventionally, as described in JP Kokoku 2-281418, in the manufacturing method of a magnetic disk recording medium, in order to improve the corrosion resistance and sliding reliability of the carbon protective film, construction those deposited by controlling the bonding state of carbon which are known. この方法は、C− This method, C-
C結合とC−酸素結合との構成比率を制御することによって、カーボン保護膜の疎水性を確保し、結果として耐蝕性や摺動信頼性を得るというものである。 By controlling the composition ratio of C bond and C- oxygen bond, ensuring the hydrophobicity of the carbon protective film, it is that as a result obtain a corrosion resistance and sliding reliability.

【0003】 [0003]

【発明が解決しようとする課題】上記従来の磁気ディスクでは、カーボン保護膜とその上に保持されるフッ素原子を含む薄い液相の潤滑剤との組み合わせにより、もしくはカーボン保護膜の全C−酸素結合に対するC−C結合比率を制御することにより、摺動信頼性(摺動特性) In the [0006] above-mentioned conventional magnetic disk, in combination with the lubricant of the thin liquid phase containing fluorine atom which is held thereon and the carbon protective film, or the entire C- oxygen of the carbon protective film by controlling the C-C bond ratio coupled, sliding reliability (sliding property)
及び耐蝕性の機能を付与している。 And it has granted the corrosion resistance of the function. しかし、この磁気ディスクは、HDD(ヘッド・ディスク・アセンブリ)において長期間使用した場合に、磁気ヘッドと磁気ディスクとの間の摩擦により潤滑剤が剥げ落ちて消耗したり保護膜が摩耗したりして摺動信頼性の低下を招くことがあり、また、耐蝕性の低下を招くことがあった。 However, the magnetic disk, when used long-term in HDD (head disk assembly), worn or protective film fell lubricant bald or worn by friction between the magnetic head and the magnetic disk causing poor sliding reliability Te, also had to lead to a decrease in corrosion resistance. これは、 this is,
上記従来技術では、潤滑剤が単に保護膜上に塗布され被着されているだけで、相互間の被着力が弱いためであると考えられる。 The above prior art, only a lubricant is simply deposited coated on the protective film, the adhesive strength between each other is considered to be because weak.

【0004】従って、本発明の目的は、上記従来技術の問題点を克服し、摺動信頼性及び耐蝕性の優れた磁気記録媒体及びその製造方法を提供することにある。 It is therefore an object of the present invention is to overcome the problems of the prior art and provides excellent magnetic recording medium and a method of manufacturing the sliding reliability and corrosion resistance.

【0005】 [0005]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため、本発明は、磁気ディスク等の磁気記録媒体において、磁性膜上に形成したカーボン等の保護膜表面をフッ素化処理して保護膜表面にフッ素原子を結合させることにより、保護膜表面を安定化し疎水性を高めて摺動特性耐蝕性を向上したことを特徴とする。 To achieve the above object, according to an aspect of the present invention, there is provided a magnetic recording medium such as a magnetic disk, the protective layer surface protection film surface of the carbon or the like formed on the magnetic film by fluorination treatment in by coupling the fluorine atom, characterized by having improved sliding properties corrosion resistance and stabilizes the protective layer surface to enhance the hydrophobicity.

【0006】この磁気記録媒体の製造方法としては、磁性膜上に形成した保護膜表面を、光プラズマ処理や光アッシャ処理またはイオンエッチング処理等のドライエッチング処理し、このドライエッチング処理中またはドライエッチング処理後に、少なくともフッ素原子を含むガスを保護膜表面に作用させて、保護膜面をフッ素化することを特徴とする。 [0006] As a method for producing the magnetic recording medium, the protective film surface formed on the magnetic film, and dry etching treatment such as optical plasma treatment or optical ashing treatment or ion etching process, in the dry etching process or dry etching after treatment, it is allowed to act on the protective film surface of the gas containing at least fluorine atoms, and wherein the fluorinating protective film surface.

【0007】 [0007]

【作用】上記構成に基づく作用を説明する。 [Action] a description will be given of the operation based on the above configuration.

【0008】従来技術の磁気記録媒体では、カーボン等の保護膜表面にフッ素原子を含む液状潤滑剤を被覆しているが、これは単に潤滑剤を塗布しているだけのものであり、保護膜面のカーボン原子にフッ素原子が結合するものではないため、潤滑剤は剥れ易く十分な摺動特性(耐摩耗性等)や、また疎水性耐蝕性を得ることができない。 [0008] In the magnetic recording medium of the prior art, and covers the liquid lubricant containing fluorine atom on the surface of the protective film of carbon or the like, which are merely just by applying a lubricant, the protective film because does not have fluorine atoms attached to the carbon atom of the surface, the lubricant peel easily sufficient sliding characteristics (wear resistance, etc.) and also can not be obtained hydrophobic corrosion resistance.

【0009】これに対し、本発明による磁気記録媒体は、カーボン等の保護膜表面をフッ素化処理し、即ち保護膜表面にフッ素原子を結合させたものであるため、保護膜表面にフッ素原子が強固に結合し、長期間の使用によっても高い摺動特性を維持できると共に、保護膜表面の表面エネルギー状態が安定化されて疎水性が向上し、 [0009] In contrast, the magnetic recording media according to the invention, the protective layer surface of the carbon or the like to fluorination treatment, namely the protective film surface is obtained by combining the fluorine atom, a fluorine atom in the protective layer surface tightly bound, it is possible to maintain a high sliding characteristics by long-term use, it is stabilized to improve the hydrophobic surface energy state of the protective film surface,
それにより耐蝕性を高めることができる。 Thereby enhancing the corrosion resistance.

【0010】また、本発明の磁気記録媒体の製造方法によれば、カーボン等の保護膜表面を光プラズマ処理や光アッシャ処理またはイオンエッチング処理等の、いわゆるドライエッチング処理をすることにより、この保護膜表面に無数の活性部位が形成され表面のエネルギー状態は高エネルギー状態となる。 Further, according to the manufacturing method of the magnetic recording medium of the present invention, such as an optical plasma treatment or optical ashing treatment or ion etching the protective film surface, such as carbon, by the so-called dry etching, the protective energy state of the surface is a myriad of active sites on the membrane surface is formed a high-energy state. この状態のところに、ドライエッチング処理中もしくはドライエッチング処理直後に、もしくはそれらの処理中及び処理後を通じてフッ素原子を含むガスを導入しガスを励起すると、励起されたガスが保護膜表面に吸着されガス中のフッ素原子は活性部位と強固に結合し、安定化された表面が形成される。 At this state, immediately after the dry etching process during or dry etching, or by introducing a gas containing fluorine atoms through post during their processing and processing when exciting the gas, the excited gas is adsorbed on the surface of the protective film fluorine atom in the gas is strongly bonded to the active site, it stabilized surface.
この結果、摺動信頼性(耐摩耗性など)が優れまた疎水性耐蝕性の優れた保護膜が得られるものである。 As a result, the sliding reliability (wear resistance, etc.) is excellent also in which hydrophobic corrosion resistance superior protective film.

【0011】保護膜表面をフッ素化処理したことによる疎水性の程度を試験測定する方法として、純水による接触角または保護膜の臨界表面張力をしらべる方法がある。 [0011] The degree of hydrophobicity due to the protective film surface was treated fluorinated as a method for testing the measurement, there is a method to investigate the critical surface tension of the contact angle or a protective film with pure water. 疎水性が高いこと(親水性が低いこと)は、保護膜の表面エネルギーが低いこと(安定していること)を意味し、臨界表面張力が低いことを意味している。 It is highly hydrophobic (that is less hydrophilic) means that the surface energy of the protective film having a low (be stable), it means that the critical surface tension is low. 純水の表面張力は72.8ダイン/cm程度であり、同じ純水に対して、疎水性が高いとき(表面エネルギーが低いとき)は、接触角は大きくなり、親水性が高いとき(表面エネルギーが高いとき)は接触角は小さくなるので、水滴の接触角を測定することにより疎水性の程度が判かる。 The surface tension of pure water is approximately 72.8 dynes / cm, the same pure water, at high hydrophobicity (when the surface energy is low), the contact angle increases, when more hydrophilic (the surface because when the energy is high) contact angle becomes smaller, the degree of hydrophobicity Cal determine by measuring the contact angle of a water droplet.

【0012】 [0012]

【実施例】以下に、本発明の実施例を図面により説明する。 EXAMPLES The following describes the embodiments of the present invention with reference to the accompanying drawings.

【0013】実施例1 図1は磁気ディスクの断面を表す。 [0013] Example 1 Figure 1 shows a cross section of the magnetic disk. ニッケルルーリンの無電界メッキを施したアルミニウム基板(以下、基板とよぶ)1上に、Co−Cr系「合金磁性膜2を10〜8 Aluminum substrate subjected to electroless plating of nickel Lou phosphorus (hereinafter referred to as substrate) over 1, Co-Cr-based "alloy magnetic film 2 10-8
0nm、カーボン保護膜3を50nm以下連続スパッタリング手法で形成する。 0 nm, to form a carbon protective film 3 below continuous sputtering technique 50nm. 次にCF 4又はAr−CF 4を導入しながら、カーボン保護膜3表面をPowerが0.4〜1kw、ガス圧が200mTorr、流量が1 Then while introducing CF 4 or Ar-CF 4, the carbon protective film 3 surface Power is 0.4~1Kw, gas pressure 200 mTorr, flow rate 1
50sccmでイオンミリング処理しフッ素化処理層4 50sccm ion milling process and fluorination treatment layer 4
を形成した。 It was formed. 図2はこの手法によって形成した表面の水滴の接触角を示しており、CF 4処理を施した表面の接触角は未処理表面よりも大きくなり、表面エネルギーが低くなって(安定化されて)疎水性が増したことを表わしている。 Figure 2 shows the contact angle of a water droplet of the surface formed by this method, the contact angle of the surface subjected to the CF 4 treatment is larger than the untreated surface, the surface energy is lowered (stabilized) It indicates that the hydrophobic has increased. また、このとき導入ガスにAr−CF 4を用いた場合も同様の結果となり、安定な表面が得られた。 At this time also becomes the same result when using the Ar-CF 4 in the introduced gas, stable surface was obtained.
フッ素化処理層4の安定さの指標として臨界表面張力を用いて表すと、未処理表面では50〜55dyne/c When expressed using the critical surface tension as an indicator of stability of the fluorination treatment layer 4, it is the untreated surface 50~55dyne / c
mであるのに対し、フッ素化処理4表面では40dyn Whereas a m, 40 dyn in fluorination treatment 4 surface
e/cm以下となった。 It was below the e / cm. 図3はO 2 −CF 4を導入しながらカーボン保護膜3表面をプラズマ処理してフッ素化処理層4を形成した場合におけるフッ素化処理4表面の水の接触角を示す。 Figure 3 shows the contact angle of water of fluorination 4 surface in the case where by plasma treating carbon protective film 3 surface while introducing O 2 -CF 4 form a fluorination treatment layer 4. フッ素化処理層によって、水の接触角は大きくなり、より安定な表面を形成することができた。 Fluorination treatment layer, the contact angle of water increases, it was possible to form a more stable surface. 一方、図4はカーボン保護膜3表面のESCA分析結果で、O 2プラズマエッチング後の表面とO 2プラズマエッチング後さらにCF 4プラズマエッチングした表面と比較している。 On the other hand, FIG. 4 as compared to by ESCA analysis of the carbon protective film 3 surface, O 2 after plasma etching of the surface and the O 2 plasma etching after further CF 4 plasma etched surface. 2プラズマエッチング後の表面ではみられなかったフッ素原子がCF 4プラズマエッチング後の表面では22.6at%も出現し、被処理面にフッ素化処理層4が形成されていることが分かる。 O 2 plasma fluorine atom was not observed in the surface after etching 22.6At% also appears in the surface after CF 4 plasma etch, it can be seen that fluorination treatment layer 4 on the treatment surface is formed. この分析結果から、フッ素化された処理層4は、2〜3nm程度であろうと推察される。 From this analysis result, the processing layer 4 fluorination is presumably would be about 2 to 3 nm. このように形成されたフッ素化処理層4表面に潤滑剤を塗布した。 And applying a lubricant to the thus formed fluorine treatment layer 4 surface. こうして製造した磁気ディスクは、潤滑剤5が消耗した場合でもカーボン保護膜3自体が腐食に強いフッ素化処理層4に被われているため耐食性に優れている。 Magnetic disk thus prepared, the lubricant 5 carbon protective film 3 itself even if the consumable has excellent corrosion resistance because it is covered in strong fluorination treatment layer 4 to corrosion.

【0014】実施例2 図5は凹凸形成型磁気ディスクの断面を表す。 [0014] Example 2 FIG. 5 shows a cross section of the concavo-convex formed magnetic disk. 基板1上に中間膜1a,Co−Cr系磁性膜2、カーボン保護膜3を連続スパッタリング手法で形成する。 Intermediate film 1a on the substrate 1, Co-Cr-based magnetic film 2, to form a carbon protective film 3 by continuous sputtering technique. 続いて、カーボン保護膜3表面にマスクを介してプラズマエッチングやイオンミリングを行ない、凸部直径0.5〜10μ Subsequently, subjected to plasma etching or ion milling through a mask on the carbon protective film 3 surface, protrusion diameter 0.5~10μ
m、凸部間距離3〜50μmの凹凸形状を形成したあと(詳細は特願平2−49281号明細書参照)あるいは凹凸形成中にフッ素系ガスを導入してフッ素化処理層4 m, after forming the uneven shape between protrusions distance 3 to 50 [mu] m (for details herein reference Japanese Patent Application No. Hei 2-49281) by introducing fluorine gas into or irregularities formed fluorination treatment layer 4
を形成した。 It was formed. この時形成されるフッ素化処理層4はケミカルな処理をもって形成されるため、非常に緻密であり、微細な部分まで均一に処理を施される。 At this time fluorination treatment layer 4 to be formed it is formed with a chemical treatment, a very dense, is subjected to a uniform treatment to minute details. 更に、このとき形成されるフッ素化処理層4は、先のプラズマエッチングやイオンミリングによって形成された表面活性部位とフッ素原子とが結び付くため、結合性が非常に高い。 Further, the fluorination treatment layer 4 formed at this time, since the lead and the previous plasma etching and ion milling the surface active sites and fluorine atoms formed by, is very high binding. 続いてエッチングにより形成した凸部の高さを揃えたあと、潤滑剤5を塗布して製造した。 After aligning the height of the convex portion formed by etching followed by the prepared by applying a lubricant 5. こうして製造した凹凸形成型磁気ディスクは、低表面張力化の効果および凹凸形状効果により耐食性および摺動信頼性が向上した。 Thus produced was uneven form magnetic disks, corrosion resistance and sliding reliability by effectively and unevenness effect of low surface tension reduction is improved.

【0015】実施例3 図6〜図8はポリテトラフルオロエチレン粉末6をイオンミリングすることによってカーボン保護膜3にフッ素化処理層4を形成する実施例を示している。 [0015] Example 3 6 to 8 show an example of generating a fluorination treatment layer 4 on the carbon protective film 3 by ion milling polytetrafluoroethylene powder 6. 図6において、基板1,Co−Cr系磁性膜2、カーボン保護膜3 6, the substrate 1, Co-Cr-based magnetic film 2, the carbon protective film 3
とから成るディスク上にポリテトラフルオロチレン粉末6を分散した。 The polytetrafluoroethylene powder 6 on a disk made of a dispersed. 図7に示されるように、このディスク表面をO 2 −CF 4プラズマ処理したあとポリテトラフルオロエチレン粉末6を除去した。 As shown in FIG. 7, to remove after polytetrafluoroethylene powder 6 the disk surface and O 2 -CF 4 plasma treatment. その結果、図8に示されるフッ素化処理層4がカーボン保護膜3上に形成される。 As a result, the fluorination treatment layer 4 shown in FIG. 8 is formed on the carbon protective film 3. 図9は形成された表面のグリセリン接触角を示しており、ポリテトラフルオロエチレン粉末6存在下でのプラズマ処理によって、ポリテトラフルオロエチレン粉末6無しの状態より接触角を大きくすることができ、安定な表面を形成することができた。 Figure 9 shows the glycerol contact angle of the surface formed by plasma treatment with a polytetrafluoroethylene powder 6 presence, it is possible to increase the contact angle than the state of the polytetrafluoroethylene powder without 6, stable It could be formed a surface. これによって、より耐食性の高い表面を形成することができた。 Thus, it was possible to form a higher corrosion resistance surface.

【0016】実施例4 図10〜図11はアルゴンイオン8でプラズマ処理したあと、ベントガスにCF 4を含むガスを使用して、簡易に表面のフッ素化処理層4を形成する実施例を示している。 [0016] After Embodiment 4 FIGS. 10 11 which were plasma treated with argon ions 8, using a gas containing CF 4 in the vent gas, shows an example of generating a fluorination treatment layer 4 on the surface easily there. カーボン保護膜3表面をアルゴイオン8でイオンミリングすることによって、カーボン保護膜3表面には活性な部位が形成される。 By ion milling of the carbon protective film 3 surface Argo ions 8, the carbon protective film 3 surface active sites are formed. この状態においてCF 4を含む窒素ガスでベントすると、CF 4ガス9が形成された活性部位と結びつき、水ぬれ性の低い(疎水性の高い)、 When venting with nitrogen gas containing CF 4 in this state, it combines with the active site of CF 4 gas 9 is formed, a low water wettability (high hydrophobicity),
安定な表面が形成された。 Stable surface is formed. これによって、より耐食性の高いカーボン保護膜3表面を得ることができた。 Thus, it was possible to obtain a higher corrosion resistance carbon protective film 3 surface.

【0017】以上の実施例では、基板上に磁性膜と保護膜を有するハード磁気ディスクについて説明したが、これに限らず、フロッピーディスクや、蒸着磁気テープ等、任意の磁気記録媒体にも適用できる。 [0017] In the above embodiment has been described hard magnetic disk having a magnetic layer and a protective layer on the substrate is not limited thereto and can be applied and a floppy disk, depositing a magnetic tape or the like, in any magnetic recording medium .

【0018】保護膜としては、カーボンに限らず、Si [0018] As the protective film, not limited to carbon, Si
2やタングステンカーバイドなど他の材料を用いたものでもよい。 The O 2 or other materials such as tungsten carbide may be one using.

【0019】ドライエッチング処理としては、要するに保護膜表面を活性化する処理であればよく、プラズマ処理、イオンエッチング(イオンミリング)処理のほか、 [0019] as a dry etching process may be a process of short activating the protective film surface, plasma treatment, ion etching (ion milling) other processes,
紫外線等による光アツシャ処理を用いることができる。 It may be provided by an optical Atsusha processing by ultraviolet rays.

【0020】ベントガスとしては、CF 4等のフッ素含有ガスに代えて、低濃度のフッ素含有有機系ガスを用いてもよい。 [0020] The vent gas, instead of the fluorine-containing gas such as CF 4, may be used low concentration of fluorine-containing organic gas.

【0021】フッ素化処理したカーボン保護膜上に皮膜される潤滑剤5としては、保護膜の5〜10nm程度の微小形状(粒子形状や粒子間空隙)に対して固着性の良い大きさである10nm以下の潤滑剤を選定することが望ましく、例えば、平均分子量が2500以上1000 [0021] As lubricant 5 which is film fluorinated treated carbon protective film is a good size of sticking against 5~10nm about fine shape of the protective film (particle shape and interparticle voids) it is desirable to select the following lubricant 10 nm, for example, an average molecular weight of 2500 or more 1000
0未満のパーフロロポリエーテル系の潤滑剤を使用することにより、固着性が良好で潤滑剤の消耗やヘッドディスク間の摩擦を少なくした磁気ディスクが得られる。 By using the perfluoropolyether containing lubricant of less than 0, the magnetic disk can be obtained adherence is less friction between good exhaustion of the lubricant and the head disc.

【0022】液状潤滑剤により被覆不可能な、極微細の保護膜表面の空隙(例えば薄膜成長させた保護膜のグレイン間の空隙)をフッ素化処理した後、表面に液状潤滑剤層を形成することもできる。 [0022] can not coated with a liquid lubricant, after processing fluorinated (voids between the grains of the protective film formed by for example a thin film growth) gap surface of the protective film of the ultrafine, to form a liquid lubricant layer on the surface it is also possible.

【0023】保護膜面にフッ素原子を含むガスを作用させる時期としては、磁性膜上にスパッタ成膜で保護膜を形成する工程の最終段階またはこの工程の直後でもよく、具体的には同一チャンバー内で保護膜のスパッタ成膜工程とフッ素原子を含むガスを導入してフッ素化を行う工程とを連続させることができる。 [0023] As timing for applying a gas containing fluorine atoms in the protective layer surface may even immediately after the final stage or the step of forming a protective film by sputtering on the magnetic film, the same chamber in particular by introducing a gas containing sputter deposition process and fluorine atoms of the protective film in the inner can be continuously and performing fluorination.

【0024】また別の方法としては、カーボン保護膜形成中にフッ素系ガスを導入し、カーボン保護膜自体を直接処理することにより、カーボン保護膜を形成しながらそのフッ素化処理を行っても、同様に耐蝕効果をもつものが得られる。 [0024] Another method is to introduce the fluorine gas in the carbon protective film formed by processing the carbon protective film itself directly, even if the fluorination treatment while forming the carbon protective film, Likewise it is obtained which has a corrosion-resistant effect.

【0025】更に、以上はカーボン保護膜を対象にフッ素化処理を行ったが、磁性膜表面に対して同様のフッ素化処理を行った場合、磁性膜の表面改質を行うこともできる。 Furthermore, above it is performed fluorination treatment to the subject a carbon protective film, when subjected to the same fluorination process to the magnetic film surface, it is also possible to perform surface modification of the magnetic film.

【0026】 [0026]

【発明の効果】以上詳しく説明したように、本発明によれば、磁性膜上に保護膜を形成した磁気記録媒体において、保護膜表面をフッ素化処理してこの表面にフッ素原子を強力に結合させたことにより、保護膜表面を安定化し疎水性を高めて長期間に亘って摺動特性及び耐蝕性を高めかつ維持することができるという効果がある。 As described above in detail, according to the present invention, according to the present invention, a magnetic recording medium to form a protective film on the magnetic layer, strongly bind the protective film surface was treated fluorinated fluorine atoms on the surface by was, there is an effect that it is possible to enhance and maintain the sliding characteristics and corrosion resistance over a stabilized long term by increasing the hydrophobicity of the surface of the protective film.

【0027】また、本発明の磁気記録媒体の製造方法によれば、保護膜面を、光プラズマ処理や光アッシャ処理またはイオンエッチング処理のようなドライエッチング処理をすることにより、この保護膜表面に無数の活性部位を形成し、この状態のところに、ドライエッチング処理中ないしはドライエッチング処理後にフッ素原子を含むガスを導入することによってガス中のフッ素原子が活性部位と強固に結合させることができるので、保護膜表面を安定化し疎水性を高めて、上記の高い摺動特性及び高い耐蝕性を有する磁気記録媒体が容易に得られるという効果がある。 Further, according to the manufacturing method of the magnetic recording medium of the present invention, the protective film surface, by a dry etching process, such as light plasma treatment or optical ashing treatment or ion etching, to the surface of the protective film forming a myriad of active sites, at the state, because the fluorine atoms in the gas by introducing a gas containing fluorine atoms during and after the dry etching process or dry etching process can be firmly combined with the active site , to enhance and stabilize the hydrophobic protective film surface, there is an effect that the magnetic recording medium can be easily obtained with high sliding properties and high corrosion resistance of the above.

【図面の簡単な説明】 BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS

【図1】本発明の実施例による磁気ディスク記録媒体の断面図である。 1 is a cross-sectional view of a magnetic disk recording medium according to an embodiment of the present invention.

【図2】磁気ディスク記録媒体の一例の水滴による接触角の測定結果を示す図である。 2 is a diagram showing the measurement results of the contact angle according to an example water droplets of a magnetic disk recording medium.

【図3】磁気ディスク記録媒体の他の例の同様な接触角の測定結果を示す図である。 3 is a graph showing measurement results of a similar contact angle of another example of a magnetic disk recording medium.

【図4】ESCA分析による元素の存在比分析結果を示す図である。 4 is a diagram showing the elemental abundance analysis of by ESCA analysis.

【図5】本発明の他の実施例による磁気ディスクの記録媒体の断面図である。 It is a cross-sectional view of a recording medium of a magnetic disk according to another embodiment of the present invention; FIG.

【図6】本発明の実施例によるフッ素化処理工程の一部を示す図である。 6 is a diagram showing a part of the fluorination treatment process according to an embodiment of the present invention.

【図7】図6に続くフッ素化処理工程を示す図である。 7 is a diagram illustrating a subsequent fluorination process in FIG.

【図8】図7に続くフッ素化処理工程を示す図である。 8 is a diagram illustrating a subsequent fluorination process in FIG.

【図9】本発明の実施例による磁気記録媒体の接触角の測定結果を示す図である。 It is a graph showing measurement results of the contact angle of the magnetic recording medium according to an embodiment of the present invention; FIG.

【図10】本発明の実施例によるフッ素化処理工程の一部を示す図である。 10 is a diagram showing a part of the fluorination treatment process according to an embodiment of the present invention.

【図11】図10に続くフッ素化処理工程を示す図である。 11 is a diagram illustrating a subsequent fluorination process in FIG.

【符号の説明】 DESCRIPTION OF SYMBOLS

1 基板 1a 中間層 2 磁性膜 3 カーボン保護膜 4 フッ素化処理層(フッ素化合物層) 5 潤滑剤 6 ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)粉末 7 ミリング(エッチング)イオン 8 アルゴンイオン 9 CF 4ガス 1 substrate 1a intermediate layer 2 magnetic film 3 carbon protective film 4 fluorination treatment layer (fluorine compound layer) 5 lubricant 6 polytetrafluoroethylene (PTFE) powder 7 milling (etching) Ion 8 argon ion 9 CF 4 gas

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 大浦 正樹 神奈川県小田原市国府津2880番地 株式会 社日立製作所小田原工場内 (72)発明者 五味 憲一 茨城県日立市久慈町4026番地 株式会社日 立製作所日立研究所内 (72)発明者 田中 秀明 茨城県日立市久慈町4026番地 株式会社日 立製作所日立研究所内 ────────────────────────────────────────────────── ─── of the front page continued (72) inventor Masaki Oura Odawara, Kanagawa Prefecture Kozu 2880 address stock company Hitachi Odawara in the factory (72) inventor Kenichi Gomi Hitachi City, Ibaraki Prefecture Kuji-cho, 4026 address, Inc. Date falling Works Hitachi the laboratory (72) inventor Hideaki Tanaka Hitachi City, Ibaraki Prefecture Kuji-cho, 4026 address, Inc. Date falling Works Hitachi within the Institute

Claims (15)

    【特許請求の範囲】 [The claims]
  1. 【請求項1】 磁性膜上に形成した保護膜表面をフッ素化処理したことを特徴とする磁気記録媒体。 1. A magnetic recording medium, characterized in that the surface of the protective film formed on the magnetic film were processed fluorination.
  2. 【請求項2】 前記保護膜がカーボンから成りその表面をフッ素化処理したことを特徴とする請求項1記載の磁気記録媒体。 2. A magnetic recording medium according to claim 1, wherein said protective film has processed fluorinating the surface made of carbon.
  3. 【請求項3】 磁性膜上に形成した保護膜表面をドライエッチングにより処理し、このドライエッチング処理として、少なくともフッ素原子を含むガスまたはフッ素原子を含むガスと酸素との混合ガスのプラズマ中で処理またはイオンエッチングで処理することにより、前記保護膜表面をフッ素化処理することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。 The 3. A protective film surface formed on the magnetic film was treated by dry etching, as the dry etching treatment, treatment in a plasma of a gas mixture of gas and oxygen containing gas or a fluorine atom containing at least fluorine atoms or by treatment with ion etching method of manufacturing a magnetic recording medium which comprises treating the protective film surface fluorination.
  4. 【請求項4】 磁性膜上に形成した保護膜表面をドライエッチングした後、減圧雰囲気において前記保護膜表面をフッ素化処理することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。 4. After the surface of the protective film formed on the magnetic film is dry-etched, a method of manufacturing a magnetic recording medium, characterized in that the fluorination treatment the surface of the protective film in a vacuum atmosphere.
  5. 【請求項5】 磁性膜上に形成した保護膜表面を減圧雰囲気環境においてドライエッチングした後、ベントガスを選択することにより前記保護膜表面をフッ素化処理することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。 After 5. A surface of the protective film formed on the magnetic film was dry-etched in vacuum atmosphere environment, the method of manufacturing a magnetic recording medium, characterized in that the fluorination treatment the protective layer surface by selecting a vent gas .
  6. 【請求項6】 プラズマ発生のガス源に少なくともフッ素原子を含むガスを用い、またはイオンエッチングのイオン源に少なくともフッ素原子を含むガスを用いてフッ素化処理を行うことを特徴とする請求項3記載の磁気記録媒体の製造方法。 6. at least using a gas containing fluorine atoms, or claim 3, wherein the performing the fluorination treatment using a gas containing at least fluorine atoms in the ion source of the ion etching to a gas source of a plasma generating the method of manufacturing a magnetic recording medium.
  7. 【請求項7】 ドライエッチング後にフッ素原子を含むガスを用いてフッ素化処理を行うことを特徴とする請求項4または5記載の磁気記録媒体の製造方法。 7. A method for manufacturing a magnetic recording medium according to claim 4 or 5, wherein by performing the fluorination treatment using a gas containing after dry etching fluorine atom.
  8. 【請求項8】 保護膜表面もしくはその近傍にフッ素樹脂等のフッ素化合物を存在させた状態でプラズマ処理等のドライエッチング処理をすることを特徴とする請求項3または6記載の磁気記録媒体の製造方法。 8. The preparation of the surface of the protective film or magnetic recording medium according to claim 3 or 6 further characterized in that the dry etching process such as plasma treatment in a state in which the presence of a fluorine compound such as a fluorine resin in the vicinity Method.
  9. 【請求項9】 前記フッ素化合物として、ポリテトラフルオロエチレンもしくはその誘導体、またはフッ素含有高分子を用いたことを特徴とする請求項8記載の磁気記録媒体の製造方法。 As claimed in claim 9, wherein the fluorine compound, polytetrafluoroethylene or a derivative thereof or a method for manufacturing a magnetic recording medium according to claim 8, characterized by using a fluorine-containing polymer.
  10. 【請求項10】 前記ベントガスとして、フッ素含有ガスまたは低濃度のフッ素含有有機系ガスを用いたことを特徴とする請求項5記載の磁気記録媒体の製造方法。 As claimed in claim 10 wherein said vent gas, a method of manufacturing a magnetic recording medium according to claim 5, characterized by using a fluorine-containing gas or a low concentration of the fluorine-containing organic gas.
  11. 【請求項11】 磁性膜上に形成した保護膜表面をフッ素化するに当り、予め、前記保護膜表面を酸素プラズマ中にさらすことにより、活性部位を形成し、この活性部位にフッ素原子を作用させることにより、前記表面のフッ素化を促進するようにしたことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。 Per To 11. fluorinating the surface of the protective film formed on the magnetic film, in advance, by subjecting the surface of the protective film in an oxygen plasma, to form the active site, the action of fluorine atoms in the active site by method of manufacturing a magnetic recording medium, characterized in that so as to promote the fluorination of the surface.
  12. 【請求項12】 磁性膜上に形成した保護膜表面をフッ素化するに当り、予め前記保護膜表面をイオンエッチングすることによりこの保護膜表面の結合手を切って活性部位を形成し、この活性部位にフッ素原子を作用させることにより、この保護膜表面のフッ素化を促進することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。 12. hit the fluorinating the surface of the protective film formed on the magnetic film, the active site is formed in advance the protective layer surface to cut a bond of the protective film surface by ion etching, the active by the action of fluorine atoms to the site, a method of manufacturing a magnetic recording medium characterized by promoting the fluorination of the surface of the protective film.
  13. 【請求項13】 磁性膜上にスパッタ成膜で保護膜を形成する工程の最終段階またはこの工程の直後において、 13. Immediately after the final stage or the step of forming a protective film by sputtering on the magnetic film,
    少なくともフッ素原子を含むガスを導入することにより、前記保護膜の表面をフッ素化処理することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。 By introducing a gas containing at least fluorine atom, a method of manufacturing a magnetic recording medium, characterized in that the fluorination treatment of the surface of the protective film.
  14. 【請求項14】 基板上に少なくとも磁性膜とその上に保護膜とを有するディスク状磁気記録媒体の製造方法において、前記保護膜はカーボンを主成分とし、この保護膜の表面にプラズマを用いてフッ素化処理を施し、その後に液状潤滑層を形成したディスク状磁気記録媒体の製造方法。 14. at least a magnetic layer on a substrate in a manufacturing method of a disc-like magnetic recording medium having a protective layer thereon, wherein the protective film is composed mainly of carbon, by using a plasma on the surface of the protective film subjected to a fluorination treatment, a manufacturing method of the subsequent disc-shaped magnetic recording medium to form a liquid lubricating layer.
  15. 【請求項15】 前記プラズマを用いてフッ素化処理を施すため、プラズマ発生のガス源に少なくともフッ素原子を含むガス及び酸素ガスを用いたことを特徴とする請求項14記載のディスク状磁気記録媒体の製造方法。 15. For performing the fluorination treatment by using the plasma, a disc-like magnetic recording medium according to claim 14, wherein the using gas and oxygen gas containing at least fluorine atoms to a gas source of a plasma generating the method of production.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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