JPH05229128A - インクジェット印字ヘッドの製造方法 - Google Patents
インクジェット印字ヘッドの製造方法Info
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- JPH05229128A JPH05229128A JP3222292A JP3222292A JPH05229128A JP H05229128 A JPH05229128 A JP H05229128A JP 3222292 A JP3222292 A JP 3222292A JP 3222292 A JP3222292 A JP 3222292A JP H05229128 A JPH05229128 A JP H05229128A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 本発明は、製造工程の簡略化と寸法精度の確
保を容易にし、長期に渡って信頼性の高いインクジェッ
ト印字ヘッドを提供することである。 【構成】 流路基板１にシリコン単結晶基板を用い、第
１の異方性エッチングによって一平面側にノズル開口凹
部を形成した後、同平面側に圧力発生室７とインク供給
口８を第２の異方性エッチングによって凹部として形成
すると同時にノズル開口６を一体形成する工程と、イン
ク流路表面に熱酸化処理によってＳｉ酸化物を形成擦る
工程と、流路基板１と同一の熱膨張係数を有する振動板
２を直流電圧を印加することによって陽極接合する工程
から成る。
保を容易にし、長期に渡って信頼性の高いインクジェッ
ト印字ヘッドを提供することである。 【構成】 流路基板１にシリコン単結晶基板を用い、第
１の異方性エッチングによって一平面側にノズル開口凹
部を形成した後、同平面側に圧力発生室７とインク供給
口８を第２の異方性エッチングによって凹部として形成
すると同時にノズル開口６を一体形成する工程と、イン
ク流路表面に熱酸化処理によってＳｉ酸化物を形成擦る
工程と、流路基板１と同一の熱膨張係数を有する振動板
２を直流電圧を印加することによって陽極接合する工程
から成る。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、圧力発生室のインクを
ノズル開口からインク滴として飛翔させ、記録媒体に画
像を形成させるオンデマンド型のインクジェット印字ヘ
ッドの製造方法に関するものである。
ノズル開口からインク滴として飛翔させ、記録媒体に画
像を形成させるオンデマンド型のインクジェット印字ヘ
ッドの製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、インクジェット印字ヘッドにおい
てインク流路を形成する基板材料にシリコンウェーハー
を用いた例としては、例えば特開平２−２６５７５４に
開示されているサーマルインクジェットヘッドがある。
このヘッドは、異方性エッチングされた貫通凹部のイン
ク供給口と複数の平行な細い溝から成るインクチャンネ
ルを有した第１基板と、発熱素子とアドレッシング電極
を有した第２基板とを接着した後、所定の位置でカッテ
ィングすることによって基板端面にノズルを形成し、発
熱素子で圧力を発生させてノズルよりインク滴を吐出さ
せるように構成されている。またシリコンウェーハーの
異方性エッチングによってノズル開口部を形成する方法
は、例えば特開昭５８ー１１２７５５等に開示されるよ
うに、ノズル形成技術としては広く用いられている方法
の１つである。
てインク流路を形成する基板材料にシリコンウェーハー
を用いた例としては、例えば特開平２−２６５７５４に
開示されているサーマルインクジェットヘッドがある。
このヘッドは、異方性エッチングされた貫通凹部のイン
ク供給口と複数の平行な細い溝から成るインクチャンネ
ルを有した第１基板と、発熱素子とアドレッシング電極
を有した第２基板とを接着した後、所定の位置でカッテ
ィングすることによって基板端面にノズルを形成し、発
熱素子で圧力を発生させてノズルよりインク滴を吐出さ
せるように構成されている。またシリコンウェーハーの
異方性エッチングによってノズル開口部を形成する方法
は、例えば特開昭５８ー１１２７５５等に開示されるよ
うに、ノズル形成技術としては広く用いられている方法
の１つである。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし前述の従来技術
では、インクジェット印字ヘッドの構成部として必要な
形状を、複数の部材を接着によって貼合わせた後、カッ
ティングによってノズルを形成するか、もしくはノズル
開口を形成した基板とインク流路を形成した基板と天板
とをそれぞれ接着して、インクジェット印字ヘッドを構
成することが通例とされている。したがって、従来技術
では複数の部品精度、組立精度を確保するために製造プ
ロセスが複雑になり、特にノズルをカッティングによっ
て形成する場合には、チッピング等のカケが発生しやす
く、製造歩留まりの確保に対しても限度がある。さらに
接着剤を用いていることによって、接着剤のインク流路
へ流出、接着強度不足、インクの対蝕性といった信頼性
の確保が難しいといった問題を有していた。また異方性
エッチングによってノズル開口を貫通孔として形成する
場合には、ノズル開口寸法は基板厚に依存するために、
基板厚バラツキがノズル開口寸法バラツキを大きくする
といった問題がある。
では、インクジェット印字ヘッドの構成部として必要な
形状を、複数の部材を接着によって貼合わせた後、カッ
ティングによってノズルを形成するか、もしくはノズル
開口を形成した基板とインク流路を形成した基板と天板
とをそれぞれ接着して、インクジェット印字ヘッドを構
成することが通例とされている。したがって、従来技術
では複数の部品精度、組立精度を確保するために製造プ
ロセスが複雑になり、特にノズルをカッティングによっ
て形成する場合には、チッピング等のカケが発生しやす
く、製造歩留まりの確保に対しても限度がある。さらに
接着剤を用いていることによって、接着剤のインク流路
へ流出、接着強度不足、インクの対蝕性といった信頼性
の確保が難しいといった問題を有していた。また異方性
エッチングによってノズル開口を貫通孔として形成する
場合には、ノズル開口寸法は基板厚に依存するために、
基板厚バラツキがノズル開口寸法バラツキを大きくする
といった問題がある。
【０００４】本発明は、このような問題に鑑みてなされ
たものであって、その目的とするところは、製造工程の
簡略化と形状精度の確保を容易にし、耐久性に優れた高
信頼性のインクジェット印字ヘッドの製造方法を提供す
ることにある。
たものであって、その目的とするところは、製造工程の
簡略化と形状精度の確保を容易にし、耐久性に優れた高
信頼性のインクジェット印字ヘッドの製造方法を提供す
ることにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明のインクジェット
印字ヘッドの製造方法は、流路基板にシリコン単結晶基
板を用い、基板の一平面側にノズル開口の一部となる凹
部を第１の異方性エッチングによって形成した後、同一
平面側に圧力発生室とインク供給口を第２の異方性エッ
チングによって形成すると同時に、ノズル開口を貫通孔
として流路基板に一体形成することを特徴とする。
印字ヘッドの製造方法は、流路基板にシリコン単結晶基
板を用い、基板の一平面側にノズル開口の一部となる凹
部を第１の異方性エッチングによって形成した後、同一
平面側に圧力発生室とインク供給口を第２の異方性エッ
チングによって形成すると同時に、ノズル開口を貫通孔
として流路基板に一体形成することを特徴とする。
【０００６】
【作用】本発明の上記の構成によれば、インクジェット
印字ヘッドのインク流路構成部として必要な形状を、単
一部材に同一の製造プロセスによって行うことによっ
て、製造工程の短縮とインク流路構成部の形状精度の向
上を達成することができる。
印字ヘッドのインク流路構成部として必要な形状を、単
一部材に同一の製造プロセスによって行うことによっ
て、製造工程の短縮とインク流路構成部の形状精度の向
上を達成することができる。
【０００７】
【実施例】以下に本発明の詳細を図示した実施例に基づ
いて説明する。
いて説明する。
【０００８】図１は本発明の方法による製造されるイン
クジェット印字ヘッドの一例を示す分解斜視図、図２は
流路基板の斜視図である。このヘッドは、インク流路を
形成した流路基板１、流路基板１と熱膨張率を同一にす
る振動板２、短冊状または櫛歯状に形成された圧電素子
３、印字信号を圧電素子３に伝達するリード電極４、イ
ンクを印字ヘッドに供給するインク供給管５を備えてい
る。インク供給管５より供給されたインク（図示せず）
は、リザーバー９からインク供給口８を通じて平行に複
数個配置された圧力発生室７に充填される。リード電極
４に印字信号が印加されると、圧電素子３に歪が生じて
振動板２を変形させ、圧力発生室７に圧力が加わること
によってノズル開口６よりインク滴を吐出することがで
きる。
クジェット印字ヘッドの一例を示す分解斜視図、図２は
流路基板の斜視図である。このヘッドは、インク流路を
形成した流路基板１、流路基板１と熱膨張率を同一にす
る振動板２、短冊状または櫛歯状に形成された圧電素子
３、印字信号を圧電素子３に伝達するリード電極４、イ
ンクを印字ヘッドに供給するインク供給管５を備えてい
る。インク供給管５より供給されたインク（図示せず）
は、リザーバー９からインク供給口８を通じて平行に複
数個配置された圧力発生室７に充填される。リード電極
４に印字信号が印加されると、圧電素子３に歪が生じて
振動板２を変形させ、圧力発生室７に圧力が加わること
によってノズル開口６よりインク滴を吐出することがで
きる。
【０００９】インク流路は、ノズル開口６、圧力発生室
７、インク供給口８、リザーバー９より構成されてい
る。ここで流路基板１の材料としては、厚さ２００〜５
００μｍのシリコン単結晶基板を用いたものであり、
｛１００｝結晶面を基板表面にもち前記のインク流路は
全て｛１１１｝結晶面に沿って異方性エッチングによっ
て形成されている。このためノズル開口６は、内壁が４
角錐形状を成す貫通孔として形成され、圧力発生室７と
リザーバー９は深さを同じくしてその断面が台形状の凹
部を成し、インク供給口８はリザーバー９から各圧力発
生室７に連通する位置に、断面がＶ字溝として形成され
ている。ここでインク供給口８の形状は、Ｖ字溝に限定
されるわけではなく、圧力発生室７と同様な台形溝でも
かまわない。だだしインク流路の設計上、インク供給口
８の流体抵抗はノズル開口６とほぼ同等で、圧力発生室
７の流体抵抗に対しては充分大きくすることが要求され
るために、インク供給口８の流路断面積は圧力発生室８
のそれより充分小さくなるように設定する必要がある。
またインク流路は｛１１１｝結晶面に沿って異方性エッ
チングされるため、それぞれのインク流路断面における
テーパ角度は、基板表面の｛１００｝結晶面に対してシ
リコン単結晶特有の５４．７゜という角度をなしてい
る。
７、インク供給口８、リザーバー９より構成されてい
る。ここで流路基板１の材料としては、厚さ２００〜５
００μｍのシリコン単結晶基板を用いたものであり、
｛１００｝結晶面を基板表面にもち前記のインク流路は
全て｛１１１｝結晶面に沿って異方性エッチングによっ
て形成されている。このためノズル開口６は、内壁が４
角錐形状を成す貫通孔として形成され、圧力発生室７と
リザーバー９は深さを同じくしてその断面が台形状の凹
部を成し、インク供給口８はリザーバー９から各圧力発
生室７に連通する位置に、断面がＶ字溝として形成され
ている。ここでインク供給口８の形状は、Ｖ字溝に限定
されるわけではなく、圧力発生室７と同様な台形溝でも
かまわない。だだしインク流路の設計上、インク供給口
８の流体抵抗はノズル開口６とほぼ同等で、圧力発生室
７の流体抵抗に対しては充分大きくすることが要求され
るために、インク供給口８の流路断面積は圧力発生室８
のそれより充分小さくなるように設定する必要がある。
またインク流路は｛１１１｝結晶面に沿って異方性エッ
チングされるため、それぞれのインク流路断面における
テーパ角度は、基板表面の｛１００｝結晶面に対してシ
リコン単結晶特有の５４．７゜という角度をなしてい
る。
【００１０】図３は図２で説明したインク流路の形成プ
ロセスを示している。まずシリコン単結晶基板の｛１０
０｝結晶面上下両面に、１０００〜１２００℃の酸素雰
囲気中で熱酸化処理によって０．５〜２μｍの厚さのＳ
ｉ酸化膜１３を形成した後、フォトレジストをコーティ
ングし、ノズル開口パターンを露光、現像する。次にフ
ッ酸水溶液によってＳｉ酸化膜１３を除去すると、図３
（ａ）のようにシリコン単結晶基板の｛１００｝結晶面
がノズル開口パターンとして露出する。そこで、ＫＯＨ
水溶液等の異方性エッチング液を使用して、シリコン単
結晶基板総厚に対して残厚が圧力発生室７の深さに相当
する厚みになるまで、第１の異方性エッチングをすると
図３（ｂ）ようなノズル開口の一部となる凹部１ａが形
成される。続いて、前述と同様の方法で、フォトレジス
トに圧力発生室７、インク供給口８パターンを形成した
後、Ｓｉ酸化膜を除去する（図３（ｃ））。さらに、第
２の異方性エッチングを行うことによって、ノズル開口
６がＳｉ酸化膜を残して凹部として形成されると同時
に、ノズル開口６以外のインク流路が凹部として形成さ
れ、図３（ｄ）に示すようなインク流路形状を得ること
ができる。ここでインク供給口８のパターン幅を、エッ
チング深さに対して充分小さく設定すれば、異方性エッ
チングは｛１１１｝結晶面に沿ってエッチングされるた
めに、｛１１１｝結晶面が交差した時点でエッチングは
停止し、インク供給口はＶ字溝として形成される。した
がって、圧力発生室７とインク供給口８はエッチング深
さが異なるにも関わらず、１回のエッチング工程によっ
て同時に形成することが可能である。
ロセスを示している。まずシリコン単結晶基板の｛１０
０｝結晶面上下両面に、１０００〜１２００℃の酸素雰
囲気中で熱酸化処理によって０．５〜２μｍの厚さのＳ
ｉ酸化膜１３を形成した後、フォトレジストをコーティ
ングし、ノズル開口パターンを露光、現像する。次にフ
ッ酸水溶液によってＳｉ酸化膜１３を除去すると、図３
（ａ）のようにシリコン単結晶基板の｛１００｝結晶面
がノズル開口パターンとして露出する。そこで、ＫＯＨ
水溶液等の異方性エッチング液を使用して、シリコン単
結晶基板総厚に対して残厚が圧力発生室７の深さに相当
する厚みになるまで、第１の異方性エッチングをすると
図３（ｂ）ようなノズル開口の一部となる凹部１ａが形
成される。続いて、前述と同様の方法で、フォトレジス
トに圧力発生室７、インク供給口８パターンを形成した
後、Ｓｉ酸化膜を除去する（図３（ｃ））。さらに、第
２の異方性エッチングを行うことによって、ノズル開口
６がＳｉ酸化膜を残して凹部として形成されると同時
に、ノズル開口６以外のインク流路が凹部として形成さ
れ、図３（ｄ）に示すようなインク流路形状を得ること
ができる。ここでインク供給口８のパターン幅を、エッ
チング深さに対して充分小さく設定すれば、異方性エッ
チングは｛１１１｝結晶面に沿ってエッチングされるた
めに、｛１１１｝結晶面が交差した時点でエッチングは
停止し、インク供給口はＶ字溝として形成される。した
がって、圧力発生室７とインク供給口８はエッチング深
さが異なるにも関わらず、１回のエッチング工程によっ
て同時に形成することが可能である。
【００１１】次に、前述した熱酸化処理と同様の手段に
よって流路基板１に熱酸化処理を施せば、図３（ｅ）に
示すようにインク流路形成表面には均一なＳｉ酸化膜１
４ができる。このＳｉ酸化膜１４はインクに対して濡れ
易い性質があるために、インク中に残留する気泡の吸着
を防ぎ気泡排出性に優れたインクジェット印字ヘッドが
提供される。ノズル開口側にフォトレジストをコーティ
ングし、ノズル開口長より一回り大きな開口長となるよ
うに、ノズル凹部１５に相当するパターンを露光、現像
した後、フッ酸水溶液を用いて、Ｓｉ酸化膜を除去す
る。そこで第３の異方性エッチングをＫＯＨ水溶液によ
って適当な深さ、好ましくは５〜２０μｍにエッチング
すればノズル開口が貫通するとともに、ノズル開口にノ
ズル凹部１５が形成できる（図３（ｆ））。このノズル
凹部１５は、ノズル開口６にインク滴を均一に残留させ
ノズル開口間のインクの相互干渉を防止し、しかも、た
とえ印字記録用紙がノズル面に擦れることがあっても、
直接ノズル開口に接触することを防ぎ、ノズル開口の破
損を防止する役割がある。
よって流路基板１に熱酸化処理を施せば、図３（ｅ）に
示すようにインク流路形成表面には均一なＳｉ酸化膜１
４ができる。このＳｉ酸化膜１４はインクに対して濡れ
易い性質があるために、インク中に残留する気泡の吸着
を防ぎ気泡排出性に優れたインクジェット印字ヘッドが
提供される。ノズル開口側にフォトレジストをコーティ
ングし、ノズル開口長より一回り大きな開口長となるよ
うに、ノズル凹部１５に相当するパターンを露光、現像
した後、フッ酸水溶液を用いて、Ｓｉ酸化膜を除去す
る。そこで第３の異方性エッチングをＫＯＨ水溶液によ
って適当な深さ、好ましくは５〜２０μｍにエッチング
すればノズル開口が貫通するとともに、ノズル開口にノ
ズル凹部１５が形成できる（図３（ｆ））。このノズル
凹部１５は、ノズル開口６にインク滴を均一に残留させ
ノズル開口間のインクの相互干渉を防止し、しかも、た
とえ印字記録用紙がノズル面に擦れることがあっても、
直接ノズル開口に接触することを防ぎ、ノズル開口の破
損を防止する役割がある。
【００１２】ところで異方性エッチングによって形成さ
れるノズル開口の寸法精度は、流路基板の厚み精度に依
存するため、流路基板厚バラツキがノズル開口長の寸法
バラツキとして表れる。しかし、このようにノズル開口
面側より、流路基板厚バラツキを補正する深さだけ異方
性エッチングして凹部１５を形成することによって、ノ
ズル厚を一定長とすることができ、ノズル開口長の寸法
バラツキをなくすことが可能である。
れるノズル開口の寸法精度は、流路基板の厚み精度に依
存するため、流路基板厚バラツキがノズル開口長の寸法
バラツキとして表れる。しかし、このようにノズル開口
面側より、流路基板厚バラツキを補正する深さだけ異方
性エッチングして凹部１５を形成することによって、ノ
ズル厚を一定長とすることができ、ノズル開口長の寸法
バラツキをなくすことが可能である。
【００１３】また、図２に示すように、圧力発生室７の
幅をノズル入口部１１の開口長と同一にして、インク供
給口８を圧力発生室壁１０の同一壁面延長上に２カ所ず
つ配置し、Ｖ字溝となるように形成することによって、
リザーバー９を除いた複数のインク流路は平行に規則正
しく配列され、各インク流路壁に段差等の不連続面がな
いインク流路を構成することができる。したがって、リ
ザーバー９より各インク供給口８に供給されたインク
は、滞留や淀みの発生がなくスムーズな流れによってノ
ズルまで到達することとなる。
幅をノズル入口部１１の開口長と同一にして、インク供
給口８を圧力発生室壁１０の同一壁面延長上に２カ所ず
つ配置し、Ｖ字溝となるように形成することによって、
リザーバー９を除いた複数のインク流路は平行に規則正
しく配列され、各インク流路壁に段差等の不連続面がな
いインク流路を構成することができる。したがって、リ
ザーバー９より各インク供給口８に供給されたインク
は、滞留や淀みの発生がなくスムーズな流れによってノ
ズルまで到達することとなる。
【００１４】なお、ノズル開口６と圧力発生室７は２回
の異方性エッチングによって連通形成されるため、第１
の異方性エッチングによって形成されたノズル開口壁面
と、第２の異方性エッチングで形成される圧力発生室壁
面の相互に重なり合う部分では、新な結晶面が露出し切
り欠き状壁面１２が生じるが、インクジェット印字ヘッ
ドの機能上、何ら支障はない。
の異方性エッチングによって連通形成されるため、第１
の異方性エッチングによって形成されたノズル開口壁面
と、第２の異方性エッチングで形成される圧力発生室壁
面の相互に重なり合う部分では、新な結晶面が露出し切
り欠き状壁面１２が生じるが、インクジェット印字ヘッ
ドの機能上、何ら支障はない。
【００１５】図４はインクジェット印字ヘッドの断面を
示している。インク流路が形成された流路基板１に、流
路基板１と熱膨張率を同一にする振動板２が接合されイ
ンク流路が完成する。ここでは振動板２の材料として、
厚さ２０〜１００μｍのパイレックスガラスを使用して
いる。流路基板１と振動板２とを重ね合わせて固定し、
２００〜５００℃の雰囲気温度で両基板を加熱する。そ
こで両基板間に２００〜１０００Ｖの直流電圧を印加す
ると、静電引力によって接合界面が密着すると同時に電
流が流れ、強固に接合される。このように、流路基板１
と振動板２とを陽極接合することにより、接合面には接
着剤等の有機化合物が介在しないため、複雑な微細形状
であっても極めて高い寸法精度が得られるばかりでな
く、インクの耐蝕性の心配もない信頼性の高いインクジ
ェット印字ヘッドが提供される。
示している。インク流路が形成された流路基板１に、流
路基板１と熱膨張率を同一にする振動板２が接合されイ
ンク流路が完成する。ここでは振動板２の材料として、
厚さ２０〜１００μｍのパイレックスガラスを使用して
いる。流路基板１と振動板２とを重ね合わせて固定し、
２００〜５００℃の雰囲気温度で両基板を加熱する。そ
こで両基板間に２００〜１０００Ｖの直流電圧を印加す
ると、静電引力によって接合界面が密着すると同時に電
流が流れ、強固に接合される。このように、流路基板１
と振動板２とを陽極接合することにより、接合面には接
着剤等の有機化合物が介在しないため、複雑な微細形状
であっても極めて高い寸法精度が得られるばかりでな
く、インクの耐蝕性の心配もない信頼性の高いインクジ
ェット印字ヘッドが提供される。
【００１６】なお、振動板２には金属材料として４２ア
ロイ（Ｆｅ−Ｎｉ合金）を用いることも可能であるが、
この場合には予め表面にＳｉ酸化物をスパッタ等により
薄膜形成しておく必要がある。４２アロイのＳｉ酸化物
形成面を流路基板１に合わせて固定し、以下は前述と同
様の方法によって両基板を接合することができ、強固な
接合力を得ることができる。
ロイ（Ｆｅ−Ｎｉ合金）を用いることも可能であるが、
この場合には予め表面にＳｉ酸化物をスパッタ等により
薄膜形成しておく必要がある。４２アロイのＳｉ酸化物
形成面を流路基板１に合わせて固定し、以下は前述と同
様の方法によって両基板を接合することができ、強固な
接合力を得ることができる。
【００１７】
【発明の効果】本発明によればシリコン単結晶基板にノ
ズル開口と圧力発生室、インク供給口を異方性エッチン
グによって一体形成することにより、段差のない連続し
たインク流路面を簡単な工程で精度よく作ることができ
る。また、流路基板と振動板とを陽極接合すると、接着
剤等の有機化合物が介在しないインク流路が形成できる
ことによって、クリープやヒステリシス疲労など生じな
いため、長期に渡って信頼性の高いインクジェット印字
ヘッドが得られるという効果を有する。
ズル開口と圧力発生室、インク供給口を異方性エッチン
グによって一体形成することにより、段差のない連続し
たインク流路面を簡単な工程で精度よく作ることができ
る。また、流路基板と振動板とを陽極接合すると、接着
剤等の有機化合物が介在しないインク流路が形成できる
ことによって、クリープやヒステリシス疲労など生じな
いため、長期に渡って信頼性の高いインクジェット印字
ヘッドが得られるという効果を有する。
【図１】本発明によるインクジェット印字ヘッドの一例
を示した分解斜視図である。
を示した分解斜視図である。
【図２】流路基板の外観を示す斜視図である。
【図３】（ａ）〜（ｆ）は、本発明による流路基板のイ
ンク流路の形成プロセスを示した図である。
ンク流路の形成プロセスを示した図である。
【図４】インクジェット印字ヘッドの一部断面図であ
る。
る。
１ 流路基板 ２ 振動板 ３ 圧電素子 ４ リード電極 ５ インク供給管 ６ ノズル開口 ７ 圧力発生室 ８ インク供給口 ９ リザーバー
Claims (5)
- 【請求項１】複数のノズル開口と圧力発生室とインク供
給路を有するインクジェットヘッドの製造方法であっ
て、流路基板としてシリコン単結晶基板を用い、前記流
路基板の一平面側に前記ノズル開口の一部となる凹部を
第１の異方性エッチングによって形成し、その後前記平
面側に前記圧力発生室と前記インク供給路を第２の異方
性エッチングによって形成すると同時に、前記ノズル開
口を前記基板に一体形成することを特徴とするインクジ
ェット印字ヘッドの製造方法。 - 【請求項２】前記流路基板の前記ノズル開口面側より第
３の異方性エッチングによって、ノズル開口長より開口
長が大きい凹部をノズル開口回りに形成することを特徴
とする請求項１記載のインクジェット印字ヘッドの製造
方法。 - 【請求項３】前記流路基板にインク流路形成した後、前
記インク流路形成壁表面に熱酸化処理によってＳｉ酸化
物を形成する工程を有することを特徴とする請求項１又
は２記載のインクジェット印字ヘッドの製造方法。 - 【請求項４】前記流路基板にインク流路を形成した後、
前記流路基板とシリコン単結晶またはＳｉ酸化物から成
る振動板を陽極接合によって接合することを特徴とする
請求項１又は２又は３記載のインクジェット印字ヘッド
の製造方法。 - 【請求項５】前記振動板として前記流路基板と熱膨張係
数が一致する金属材料を用い、Ｓｉ酸化物を前記振動板
の一表面に形成した後、前記流路基板と陽極接合によっ
て接合することを特徴とする請求項４記載のインクジェ
ット印字ヘッドの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3222292A JP3166268B2 (ja) | 1992-02-19 | 1992-02-19 | インクジェット式印字ヘッド及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3222292A JP3166268B2 (ja) | 1992-02-19 | 1992-02-19 | インクジェット式印字ヘッド及びその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05229128A true JPH05229128A (ja) | 1993-09-07 |
| JP3166268B2 JP3166268B2 (ja) | 2001-05-14 |
Family
ID=12352927
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3222292A Expired - Fee Related JP3166268B2 (ja) | 1992-02-19 | 1992-02-19 | インクジェット式印字ヘッド及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3166268B2 (ja) |
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0652108A2 (en) * | 1993-11-05 | 1995-05-10 | Seiko Epson Corporation | Ink jet print head and a method of manufacturing the same |
| WO2003049951A1 (en) * | 2001-12-11 | 2003-06-19 | Ricoh Company, Ltd. | Drop discharge head and method of producing the same |
| WO2004085835A1 (ja) * | 2003-03-27 | 2004-10-07 | Ngk Insulators, Ltd. | 液体噴射装置及びその製造方法 |
| KR100474836B1 (ko) * | 2000-08-05 | 2005-03-08 | 삼성전자주식회사 | 액적 분사 장치의 제조 방법 |
| KR100499119B1 (ko) * | 2000-02-24 | 2005-07-04 | 삼성전자주식회사 | 단결정 실리콘 웨이퍼를 이용한 일체형 잉크젯 프린트 헤드용 노즐 어셈블리 제작 방법 |
| US7578943B2 (en) | 2005-05-23 | 2009-08-25 | Canon Kabushiki Kaisha | Liquid discharge head and producing method therefor |
| US7585423B2 (en) | 2005-05-23 | 2009-09-08 | Canon Kabushiki Kaisha | Liquid discharge head and producing method therefor |
| US7955509B2 (en) | 2006-10-03 | 2011-06-07 | Canon Kabushiki Kaisha | Manufacturing method of liquid discharge head and orifice plate |
| US8556382B2 (en) | 2008-11-27 | 2013-10-15 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Nozzle plate and method of manufacturing the same |
| US8585181B2 (en) | 2007-12-10 | 2013-11-19 | Konica Minolta Holdings, Inc. | Inkjet head and electrostatic attraction type inkjet head |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP6110335B2 (ja) * | 2014-05-13 | 2017-04-05 | 株式会社日本能率協会マネジメントセンター | 手帳 |
-
1992
- 1992-02-19 JP JP3222292A patent/JP3166268B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0980755A3 (en) * | 1993-11-05 | 2000-12-06 | Seiko Epson Corporation | Ink jet print head and a method of manufacturing the same |
| US5956058A (en) * | 1993-11-05 | 1999-09-21 | Seiko Epson Corporation | Ink jet print head with improved spacer made from silicon single-crystal substrate |
| EP0652108A2 (en) * | 1993-11-05 | 1995-05-10 | Seiko Epson Corporation | Ink jet print head and a method of manufacturing the same |
| EP0980756A2 (en) * | 1993-11-05 | 2000-02-23 | Seiko Epson Corporation | Ink jet printer head |
| EP0980757A2 (en) * | 1993-11-05 | 2000-02-23 | Seiko Epson Corporation | Ink jet print head |
| EP0980755A2 (en) * | 1993-11-05 | 2000-02-23 | Seiko Epson Corporation | Ink jet print head and a method of manufacturing the same |
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| EP0980759A3 (en) * | 1993-11-05 | 2000-12-06 | Seiko Epson Corporation | Ink jet print head and a method of manufacturing the same |
| EP0980757A3 (en) * | 1993-11-05 | 2000-12-06 | Seiko Epson Corporation | Ink jet print head |
| EP0980756A3 (en) * | 1993-11-05 | 2000-12-06 | Seiko Epson Corporation | Ink jet printer head |
| EP0652108A3 (en) * | 1993-11-05 | 1998-04-01 | Seiko Epson Corporation | Ink jet print head and a method of manufacturing the same |
| KR100499119B1 (ko) * | 2000-02-24 | 2005-07-04 | 삼성전자주식회사 | 단결정 실리콘 웨이퍼를 이용한 일체형 잉크젯 프린트 헤드용 노즐 어셈블리 제작 방법 |
| KR100474836B1 (ko) * | 2000-08-05 | 2005-03-08 | 삼성전자주식회사 | 액적 분사 장치의 제조 방법 |
| US7232202B2 (en) | 2001-12-11 | 2007-06-19 | Ricoh Company, Ltd. | Drop discharge head and method of producing the same |
| US7571984B2 (en) | 2001-12-11 | 2009-08-11 | Ricoh Company, Ltd. | Drop discharge head and method of producing the same |
| WO2003049951A1 (en) * | 2001-12-11 | 2003-06-19 | Ricoh Company, Ltd. | Drop discharge head and method of producing the same |
| WO2004085835A1 (ja) * | 2003-03-27 | 2004-10-07 | Ngk Insulators, Ltd. | 液体噴射装置及びその製造方法 |
| US7578943B2 (en) | 2005-05-23 | 2009-08-25 | Canon Kabushiki Kaisha | Liquid discharge head and producing method therefor |
| US7585423B2 (en) | 2005-05-23 | 2009-09-08 | Canon Kabushiki Kaisha | Liquid discharge head and producing method therefor |
| US7955509B2 (en) | 2006-10-03 | 2011-06-07 | Canon Kabushiki Kaisha | Manufacturing method of liquid discharge head and orifice plate |
| US8585181B2 (en) | 2007-12-10 | 2013-11-19 | Konica Minolta Holdings, Inc. | Inkjet head and electrostatic attraction type inkjet head |
| US8556382B2 (en) | 2008-11-27 | 2013-10-15 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Nozzle plate and method of manufacturing the same |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3166268B2 (ja) | 2001-05-14 |
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Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090309 Year of fee payment: 8 |
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