JPH05217149A - 磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 電磁変換特性が良好な磁気記録媒体を提供す
ることであり、かつ繰り返し走行によるエッジダメージ
の少ない走行耐久性に優れる磁気記録媒体を提供するこ
と。 【構成】 非磁性支持体上に非磁性粉末を結合剤中に分
散した下層非磁性層を設け、その上に該下層非磁性層が
湿潤状態にある内に強磁性粉末を結合剤中に分散した上
層磁性層を設けた磁気記録媒体において、前記上層磁性
層の平均厚味が１．０μｍ以下であり、且つ前記下層非
磁性層に含まれる非磁性粉末がＡ：平均粒径０．０１〜
０．０８μｍの粒状無機質粉末、Ｂ：平均粒径０．０１
〜０．０４μｍのカーボンブラック及びＣ：該Ａ、Ｂよ
り粗大なる第３成分粉体を含むことを特徴とする磁気記
録媒体。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、磁気記録媒体、特に
１．０μｍ以下の非常に薄い磁性層を有する磁気記録媒
体に関し、更に、詳しくは走行性に優れる塗布型磁気記
録媒体に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】磁気記録媒体は、録音用テープ、ビデオ
テープ、コンピューターテープ、ディスクなどとして広
く用いられている。磁気記録媒体は年々高密度化され記
録波長が短くなっており、記録方式もアナログ方式か
ら、ディジタル方式まで検討されている。この高密度化
の要求に対して、磁性層に金属薄膜を用いた磁気記録媒
体が提案されているが、生産性、腐食等の実用信頼性の
点で強磁性粉末を結合剤中に分散して、支持体上に塗布
したいわゆる塗布型の磁気記録媒体が優れる。しかしな
がら、金属薄膜に対して塗布型媒体は磁性物の充填度が
低いために、電磁変換特性が劣る。塗布型磁気記録媒体
としては、強磁性酸化鉄、Ｃｏ変性強磁性酸化鉄、Ｃｒ
Ｏ₂ 、強磁性合金粉末等を結合剤中に分散した磁性層を
非磁性支持体に塗設したものが広く用いられる。

【０００３】塗布型磁気記録媒体の電磁変換特性の向上
には、強磁性粉末の磁気特性の改良、表面の平滑化など
があり、種々の方法が提案されているが、高密度化に対
しては充分なものではない。また、近年、高密度化と共
に記録波長が短くなる傾向にあり、磁性層の厚さが厚い
と出力が低下する記録時の自己減磁損失、再生時の厚味
損失の問題が大きくなっている。

【０００４】このため、磁性層を薄くすることが行われ
ているが、磁性層を約２μｍ以下に薄くすると磁性層の
表面に非磁性支持体の影響が現れやすくなり、電磁変換
特性やＤＯの悪化傾向が見られる。このため、特開昭５
７−１９８５３６号公報の如く、支持体表面の非磁性の
厚い下塗層を設けてから磁性層を上層として設けるよう
にすれば前記の支持体の表面粗さの影響は解消すること
ができるが、ヘッド磨耗や耐久性が改善されないという
問題があった。これは、従来、非磁性下層として熱硬化
系樹脂を結合剤として用いているので、下層が硬化し、
磁性層とヘッドとの摩擦や他の部材との接触が無緩衝状
態で行われることや、このような下層を有する磁気記録
媒体がやや可撓性に乏しい等のことに起因していると考
えられる。これを解消するために、下層に非硬化系樹脂
を結合剤として用いることが考えられるが、従来の方法
では、下層を塗布乾燥後磁性層を上層として塗布する場
合、下層が上層の塗布液の有機溶剤により膨潤し、上層
の塗布液に乱流を起こさせる等の影響を与え磁性層の表
面性を悪くし、電磁変換特性を低下させる等の問題を生
じる。また、磁性層を薄層化するためには、塗布量を減
らすこととか、もしくは磁性塗布液に溶剤を多量に加え
て濃度を薄くすることが考えられる。前者を取る場合、
塗布量を減らすと塗布後に十分なレベリングの時間がな
く、乾燥が始まるために、塗布欠陥、例えば、スジや刻
印のパターンが残るといった問題が発生し、歩留りが非
常に悪くなる。後者の方法を取った場合、磁性塗布液の
濃度が希薄であると、できあがった塗膜に空隙が多く、
十分な磁性体充填性が得られないこと、また、空隙が多
いために塗膜の強度が不十分であることなど、種々の弊
害をもたらす。特開昭６２−１５４２２５号公報の発明
ではこのように歩留りが悪いことが大きな問題であっ
た。

【０００５】本出願人は、これらの問題を解決する一つ
の手段として、特開昭６３−１９１３１５号、同６３−
１８７４１８号の各公報に記載されているような同時重
層塗布方式を用いて下層に非磁性の層を設け、この下層
が湿潤状態の間に強磁性粉末を含有する上層磁性層を設
ける方法を採用することにより、塗布欠陥のない、生産
性に優れ、しかも再生出力、Ｃ／Ｎ等の電磁変換特性、
走行耐久性を改善できる磁気記録媒体を提案した。

【０００６】しかしながら、これら従来の方法では、近
年の長時間化、高密度化に伴う磁気記録媒体の薄層化、
即ち磁性層を１μｍ以下の要請に答えることが困難で、
再び塗布欠陥等が見られるようになり、しかも電磁変換
特性と走行耐久性を両立することが不十分となるという
問題が生じた。特に薄手テープで走行耐久性を向上させ
るにはテープエッジダメージを少なくすることが必要で
あるが、従来の方法では不十分であるという問題があ
る。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、電磁変換特
性が良好な磁気記録媒体を提供することであり、かつ繰
り返し走行によるエッジダメージの少ない走行耐久性に
優れる磁気記録媒体を提供することを課題とする。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明は、非磁性支持体
上に非磁性粉末を結合剤中に分散した下層非磁性層を設
け、その上に該下層非磁性層が湿潤状態にある内に強磁
性粉末を結合剤中に分散した上層磁性層を設けた磁気記
録媒体において、前記上層磁性層の平均厚味が１．０μ
ｍ以下であり、且つ前記下層非磁性層に含まれる非磁性
粉末がＡ：平均粒径０．０１〜０．０８μｍの粒状無機
質粉末、Ｂ：平均粒径０．０１〜０．０４μｍのカーボ
ンブラック及びＣ：該Ａ、Ｂより粗大なる第３成分粉体
を含むことを特徴とする磁気記録媒体である。

【０００９】即ち、本発明は下層非磁性層（以下、単に
非磁性層あるいは下層とも言う。）が湿潤状態にあるう
ちに上層磁性層（以下、単に磁性層または上層とも言
う。）を設けることにより歩留りを良くし、磁性層厚味
を１μｍ以下とすることにより、自己減磁の低減と高出
力を達成できると共に更に粒子無機質粉末Ａを加えるこ
とにより分散性が良好で表面性が良好になるが、Ａが多
すぎると空隙が少なく密な非磁性層となるため脆くな
り、導電性も乏しい。また、空隙が少ないため、潤滑剤
補給効果が少ないが、カーボンブラックＢを加えると適
度な空隙と導電性が得られる。しかし、薄手テープでは
特にエッジダメージが発生しやすいが、粗大なる第３成
分粉体Ｃを加えることによりテープ端面に適度な凹凸を
作り、端面の摩擦抵抗を小さくすることにより７ＭＨｚ
の出力、Ｃ／Ｎ、スチル耐久性及び走行耐久性を同時に
改良したものである。

【００１０】本発明は、磁気記録媒体の下層非磁性層の
粉体組成を規定することにより、磁気記録媒体の力学的
特性を制御して、磁気記録媒体のエッジダメージを改善
すると共に特に短波長記録における電磁変換特性を改善
したものである。そして、本発明は、乾燥膜厚が極めて
薄い磁性層、特に１μｍ以下の上層磁性層を下層非磁性
層に塗布欠陥がなく設けるために下層塗布液の非磁性粉
末の種類を選択、使用し、非磁性支持体上に該下層が湿
潤状態の内に該上層を重層塗設することを特徴とする。
即ち、本発明は、ピンホール、すじなどの塗布欠陥を抑
えた大量生産性に優れた磁性層の極めて薄い、強磁性金
属薄膜に匹敵する性能を有するエッジダメージの少ない
走行耐久性に優れた磁気記録媒体を提供するものであ
る。

【００１１】即ち、本発明においては、磁気記録媒体の
電磁変換特性を良好に確保すると共に走行耐久性を改善
するために粉体Ａ、Ｂ、Ｃのサイズあるいは素材の種
類、形状を選択、規定したものである。即ち、本発明の
下層に使用される非磁性粉末は、平均粒径が０．０１〜
０．０８μｍ、好ましくは０．０２〜０．０６μｍの粒
状無機質粉末（即ち、粉体Ａ）、平均粒径０．０１〜
０．０４μｍ、好ましくは０．０１５〜０．０３μｍの
カーボンブラック（即ち、粉体Ｂ）、及び該粉体Ａ、粉
体Ｂより粗大なる第３成分粉体（即ち、粉体Ｃ）から少
なくとも組成される。

【００１２】粉体Ａは、粒状であるが、ここで、粒状と
は、任意に選択した２つの軸長の比が０．６〜１．４、
好ましくは０．８〜１．２の範囲にあるものを意味し、
具体的には薄板状、針状等が除かれ得る意味である。粉
体Ａの平均粒径とは、透過型電子顕微鏡により、粉体粒
子直径あるいは粉体の最も長い径の平均を求めた値を意
味する（尚、本明細書中で使用する他の粉体に関する平
均粒径も、同じく透過型電子顕微鏡により、粉体粒子直
径あるいは粉体の最も長い径の平均を求めた値を意味す
る。）。粉体Ａが粒状でないと、分散性が困難で、塗膜
にした場合平滑な表面が得られにくいために好ましくな
い。

【００１３】粉体Ｃは、特に制限なく粉体Ｂ、粉体Ａに
比べ平均サイズが大きな粉体であればよいが、好ましく
は以下のものから選択するとよい。又、モース硬度は、
４以上、好ましくは５以上、比重は、２〜６、好ましく
は３〜５の範囲から選択される。 （１）平均粒径０．０７μｍ以上１μｍ未満の粒状また
は多面体形状。

【００１４】ここで、粒状または多面体形状とは、具体
的には薄板状、針状等が除かれ得る意味であり、例示す
れば、球状、一面が正方形、正５角形、正６角形等の正
ｎ角形あるいは単なるｎ角形等から１種以上選択される
正多面体あるいは非正多面体等が挙げられ、好ましくは
任意に選択した２つの軸長の比が０．６〜１．４、好ま
しくは０．８〜１．２の範囲にあるものが望ましい。
又、平均粒径は特に好ましくは、０．１〜０．５μｍの
範囲である。

【００１５】この種の粉体としては、粉体Ａと共に後述
するものが挙げられる。 （２）平均短軸長が０．０５μｍ以上１μｍ未満で、そ
のアスペクト比が１０以上。ここで、アスペクト比と
は、平均長軸長／平均短軸長を意味する。この種の針状
粉体としては、α酸化鉄、αゲータイト、ＴｉＯ₂ 、石
綿、ＺｎＯ、チタン酸カリウム、シリカ等が好ましい。

【００１６】又、特に好ましくは、平均短軸長は０．１
〜０．５μｍ、そのアスペクト比は１０〜５０の範囲で
ある。 （３）板径が０．１μｍ以上２μｍ未満で、そのアスペ
クト比が１０以上。ここで、アスペクト比とは、板径／
板厚を意味する。この種の板状粉体としては、グラファ
イト、タルク粉、ＭＩＯ（雲母状酸化鉄）、カオリン、
クレ−等が好ましい。

【００１７】又、特に好ましくは、板径は０．１５〜１
μｍ、そのアスペクト比は１０〜１００の範囲である。
上記（１）〜（３）の粉体は、単独でも組み合わせて使
用してもよい。本発明においては、下層に含まれる非磁
性粉末は粉体Ａ、粉体Ｂ、及び粉体Ｃのみから構成され
ることが好ましく、粉体Ａを４０〜８０％、好ましくは
４５〜７５％、粉体Ｂを１５〜４０％、好ましくは２５
〜３５％及び粉体Ｃを２〜２６％、好ましくは５〜２０
％の体積比率で含むことが望ましい。ここで、体積比率
とは、下層に含まれる非磁性粉末の総体積に対する各粉
体成分の体積の割合を示すものである。即ち、粉体Ａ、
粉体Ｂ、及び粉体Ｃの各体積比率の総和は１００％であ
ることが好ましいが、所望により本発明の目的を達成で
きる範囲で上記粉体Ａ、Ｂ、及びＣ以外の無機あるいは
有機の非磁性粉末を一般的には１５％以下で含むことが
できる。

【００１８】また、下層非磁性粉末の粉体体積含有率
は、下層体積に対し好ましくは２０〜６０％、特に好ま
しくは２２〜５０％の範囲である。本発明においては、
磁気記録媒体の電磁変換特性を良好にするためには下層
の分散性が良好で、重層塗布した後の表面性が良好であ
ることが好ましい。このために本発明では粉体Ａが多い
組成が好ましい。なぜなら、粉体Ａは粉体Ｂに比べて比
表面積が小さく粉体同志の付着もすくないので、分散性
に寄与する効果が高いからである。しかし、粉体Ａが多
すぎ粉体Ｂが少なすぎると空隙が少なく密な下層となる
ため磁気記録媒体が脆くなり、スチル耐久性が不十分と
なり、また粉落ちが起こり易く、導電性も乏しくなり帯
電による走行障害が出やすくなる。また、空隙が少なく
なるために潤滑剤補給が不十分で、スチル耐久性が悪化
する。そこで、適度な空隙と導電性を付与するために、
粉体Ｂが増量される。しかし、粉体Ｂが多すぎると分散
性が不十分となり、また、磁性層と収縮率が大きく異な
るためにカールが発生しやすくなる。粉体Ａと粉体Ｂを
適正に混合することでこれらの障害は緩和されるが、粉
体Ａと粉体Ｂだけでは走行耐久性が不十分で、媒体厚味
が１５μｍ以下の薄手テープで特にエッジダメージが発
生しやすい。粉体Ｃは、これらの問題を解消するために
添加されたものであり、テープ端面に適度な凹凸を作
り、端面の摩擦抵抗を小さくする機能を有するものと考
えられる。

【００１９】即ち、本発明は下層非磁性粉末の種類、サ
イズを規定するものであるが、更に各粉体を上記の体積
比率組成とすることにより、より一層、電磁変換特性、
スチル耐久性、走行耐久性を全て満足することができ
る。従って、粉体Ｃは上記体積比率範囲であることが好
ましく、粉体Ｃの体積比率が高すぎると分散性が悪化す
るために表面性が悪化し、ひいては電磁変換特性が低下
する。又、粉体Ｃの体積比率が小さすぎるとエッジから
の粉落ちが激しくなり、走行耐久性が改善されない。

【００２０】本発明において、粉体Ｃはある程度露出し
ていることが好ましい。従って、下層厚味は、ある程度
厚い必要があり、１〜５μｍの範囲が望ましい。該厚味
が１μｍより薄いと粉体Ｃが磁性層に露出しやすく表面
性が不十分になり、厚すぎると密着力が低くなり、粉落
ち等の問題がでる。本発明の下層に含まれる粉体Ａ、粉
体Ｃの内の粒状又は多面体粉体は、例えば、金属、金属
酸化物、金属炭酸塩、金属硫酸塩、金属窒化物、金属炭
化物、金属硫化物等の非磁性無機質粉末から選択され
る。

【００２１】具体的にはＴｉＯ₂ （ルチル、アナター
ゼ）、ＴｉＯ_X 、酸化セリウム、酸化スズ、酸化タング
ステン、ＺｎＯ、ＺｒＯ₂ 、ＳｉＯ₂ 、Ｃｒ₂ Ｏ₃ 、α
化率９０％以上のαアルミナ、βアルミナ、γアルミ
ナ、α酸化鉄、ゲータイト、コランダム、窒化珪素、チ
タンカーバイト、酸化マグネシウム、窒化硼素、２硫化
モリブデン、酸化銅、ＭｇＣＯ₃ 、ＣａＣＯ₃ 、ＢａＣ
Ｏ₃ 、ＳｒＣＯ₃ 、ＣａＳＯ₄ 、ＢａＳＯ₄ 、炭化珪
素、炭化チタンなどが単独または組み合わせて上記条件
に従って選択、使用される。粉体Ａとしては、酸化チタ
ン、硫酸バリウム、シリカ、アルミナ、酸化亜鉛、α酸
化鉄が好ましい。粉体Ｃの内の粒状又は多面体粉体とし
ては、α化率９０％以上のαアルミナ、βアルミナ、γ
アルミナ、α酸化鉄、ＴｉＯ₂ （ルチル、アナター
ゼ）、ＣｅＯ₂ 、ＳｎＯ₂ 、ＺｎＯ、ＺｒＯ₂ 、Ｓｉ
Ｃ、ＴｉＣ、ＳｉＯ₂ 、Ｃｒ₂ Ｏ₃ 、ＢＮ、ＭｏＳ₂ 、
ＷＯ₂ 等が好ましい。

【００２２】これら無機質粉末としては、次のものが好
ましい。タップ密度は０．０５〜２ｇ／ｃｃ、好ましく
は０．２〜１．５ｇ／ｃｃ。含水率は０．１〜５％、好
ましくは０．２〜３％。ｐＨは２〜１１。比表面積は、
１〜１００ｍ² ／ｇ、好ましくは５〜５０ｍ² ／ｇ、更
に好ましくは７〜４０ｍ² ／ｇである。結晶子サイズは
０．０１μｍ〜２μｍが好ましい。ＤＢＰを用いた吸油
量は１０〜１００ｍｌ／１００ｇ、好ましくは１５〜８
０ｍｌ／１００ｇ、更に好ましくは２０〜６０ｍｌ／１
００ｇである。比重は２〜８、好ましくは３〜６であ
る。

【００２３】上記の無機質粉末は必ずしも１００％純粋
である必要はなく、目的に応じて表面を他の化合物、例
えば、Ａｌ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｚｎ等の
各化合物で処理し、それらの酸化物を表面に形成しても
よい。その際、純度は７０％以上であれば効果を減ずる
ことにはならない。例えば、酸化チタンを用いる場合、
表面をアルミナで処理することが一般的に用いられてい
る。強熱減量は２０％以下であることが好ましい。また
モース硬度は３以上が好ましい。

【００２４】本発明に用いられる無機質粉末の具体的な
例としては、昭和電工社製ＵＡ５６００、ＵＡ５６０
５、住友化学社製ＡＫＰ−２０、ＡＫＰ−３０、ＡＫＰ
−５０、ＨＩＴ−５５、ＨＩＴ−１００、ＺＡ−Ｇ１、
日本化学工業社製Ｇ５、Ｇ７、Ｓ−１、戸田工業社製Ｔ
Ｆ−１００、ＴＦ−１２０、ＴＦ−１４０、Ｒ５１６、
石原産業社製ＴＴＯ−５１Ｂ、ＴＴＯ−５５Ａ、ＴＴＯ
−５５Ｂ、ＴＴＯ−５５Ｃ、ＴＴＯ−５５Ｓ、ＴＴＯ−
５５Ｓ、ＴＴＯ−５５Ｄ、ＦＴ−１０００、ＦＴ−２０
００、ＦＴＬ−１００、ＦＴＬ−２００、Ｍ−１、Ｓ−
１、ＳＮ−１００、Ｒ−８２０、Ｒ−８３０、Ｒ−９３
０、Ｒ−５５０、ＣＲ−５０、ＣＲ−８０、Ｒ−６８
０、ＴＹ−５０、チタン工業社製ＥＣＴ−５２、ＳＴＴ
−４Ｄ、ＳＴＴ−３０Ｄ、ＳＴＴ−３０、ＳＴＴ−６５
Ｃ、三菱マテリアル社製Ｔ−１、日本触媒社製ＮＳ−
Ｏ、ＮＳ−３Ｙ、ＮＳ−８Ｙ、テイカ社製ＭＴ−１００
Ｓ、ＭＴ−１００Ｔ、ＭＴ−１５０Ｗ、ＭＴ−５００
Ｂ、ＭＴ−６００Ｂ、ＭＴ−１００Ｅ、堺化学社製ＦＩ
ＮＥＸ−２５、ＢＦ−１、ＢＦ−１０、ＢＦ−２０、Ｂ
Ｆ−１Ｌ、ＢＦ−１０Ｐ、同和工業社製ＤＥＦＩＣ−
Ｙ、ＤＥＦＩＣ−Ｒ、チタン工業社製Ｙ−ＬＯＰ及びそ
れを焼成した物である。

【００２５】粉体Ａとしては、特に酸化チタン（特に二
酸化チタン）が好ましい。以下、この酸化チタンの製法
を詳しく記す。酸化チタンの製法は主に硫酸法と塩素法
がある。硫酸法は、イルミナイトの原鉱石を硫酸で蒸留
し、Ｔｉ、Ｆｅなどを硫酸塩として抽出する。硫酸鉄を
晶析分離して除き、残りの硫酸チタニル溶液を濾過精製
後、熱加水分解を行って、含水酸化チタンを沈殿させ
る。これを濾過洗浄後、夾雑物質を洗浄除去し、粒径調
節剤などを添加した後、８０〜１０００℃で焼成すれば
粗酸化チタンとなる。ルチル型とアナターゼ型は加水分
解の時に添加される核材の種類によりわけられる。この
粗酸化チタンを粉砕、整粒、表面処理などを施して作成
する。塩素法は原鉱石天然ルチルや合成ルチルが用いら
れる。鉱石は高温還元状態で塩素化され、ＴｉはＴｉＣ
ｌ₄ にＦｅはＦｅＣｌ₂ となり、冷却により固体となっ
た酸化鉄は液体のＴｉＣｌ₄ と分離される。得られた粗
ＴｉＣｌ₄ は精留により精製した後、核生成剤を添加
し、１０００℃以上の温度で酸素と瞬間的に反応させ、
粗酸化チタンを得る。この酸化分解工程で生成した粗酸
化チタンに顔料的性質を与えるための仕上げ方法は硫酸
法と同じである。

【００２６】上記酸化チタンの表面は、種々の化合物で
処理してもよい。本発明に使用されるカーボンブラッ
ク、即ち粉体Ｂとしてはゴム用ファーネス、ゴム用サー
マル、カラー用ブラック、アセチレンブラック、等を用
いることができる。比表面積は１００〜５００ｍ² ／
ｇ、好ましくは１５０〜４００、ＤＢＰ吸油量は２０〜
４００ｍｌ／１００ｇ、好ましくは３０〜２００ｍｌ／
１００ｇである。ｐＨは２〜１０、含水率は０．１〜１
０％、タップ密度は０．１〜１ｇ／ｃｃが好ましい。

【００２７】具体的な例としてはキャボット社製、ＢＬ
ＡＣＫＰＥＡＲＬＳ ２０００、１３００、１０００、
９００、８００、、８８０、７００、ＶＵＬＣＡＮ Ｘ
Ｃ−７２、三菱化成工業社製＃３０５０、＃３１５０、
＃３２５０、＃３７５０、＃３９５０、＃２４００Ｂ、
＃２３００、＃１０００、、＃９７０、＃９５０、、＃
９００、＃８５０、＃６５０、＃４０、ＭＡ４０、ＭＡ
−６００、コロンビアカーボン社製、ＣＯＮＤＵＣＴＥ
Ｘ ＳＣ、ＲＡＶＥＮ社製８８００、８０００、７００
０、５７５０、５２５０、３５００、２１００、２００
０、１８００、１５００、１２５５、１２５０、アクゾ
ー社製ケッチェンブラックＥＣなどが挙げられる。カー
ボンブラックを分散剤などで表面処理したり、樹脂でグ
ラフト化して使用しても表面の一部をグラファイト化し
たものを使用しても構わない。また、カーボンブラック
を非磁性塗料に添加する前にあらかじめ結合剤で分散し
てもかまわない。これらのカーボンブラックは単独、ま
たは組み合わせて使用することができる。本発明で使用
できるカーボンブラックは、例えば（「カーボンブラッ
ク便覧」、カーボンブラック協会編）を参考にすること
ができる。

【００２８】本発明は、所望により非磁性有機質粉末を
下層に含むことができる。この非磁性有機質粉末として
は、アクリルスチレン系樹脂粉末、ベンゾグアナミン樹
脂粉末、メラミン系樹脂粉末、フタロシアニン系顔料が
挙げられるが、ポリオレフィン系樹脂粉末、ポリエステ
ル系樹脂粉末、ポリアミド系樹脂粉末、ポリイミド系樹
脂粉末、ポリフッ化エチレン樹脂粉末が使用される。そ
の製法は、特開昭６２−１８５６４号、同６０−２５５
８２７号の各公報に記載されているようなものが使用で
きる。

【００２９】これらの無機及び有機の非磁性粉末は、通
常、結合剤に対して、重量比率で２０〜０．１、体積比
率で１０〜０．１の範囲で用いられる。なお、一般の磁
気記録媒体においては下塗層を設けることが行われてい
るが、これは支持体と磁性層等の接着力を向上させるた
めに設けられるものであって、厚さも０．５μｍ以下で
本発明の下層非磁性層とは異なるものである。本発明に
おいても下層と支持体との接着性を向上させるために下
塗層を設けることが好ましい。

【００３０】本発明の磁性層に使用する強磁性粉末とし
ては磁性酸化鉄ＦｅＯｘ（ｘ＝１．３３〜１．５）、Ｃ
ｏ変性ＦｅＯｘ（ｘ＝１．３３〜１．５）、Ｆｅまたは
ＮｉまたはＣｏを主成分（７５％以上）とする強磁性合
金粉末、バリウムフエライト、ストロンチウムフエライ
トなど公知の強磁性粉末が使用できるが、強磁性合金粉
末が更に好ましい。。これらの強磁性粉末には所定の原
子以外にＡｌ、Ｓｉ、Ｓ、Ｓｃ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｃ
ｕ、Ｙ、Ｍｏ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔｅ、
Ｂａ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、Ａｕ、Ｈｇ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｌ
ａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐ、Ｃｏ、Ｍｎ、Ｚｎ、Ｎｉ、
Ｓｒ、Ｂなどの原子を含んでもかまわない。これらの強
磁性粉末にはあとで述べる分散剤、潤滑剤、界面活性
剤、帯電防止剤などで分散前にあらかじめ処理を行って
もかまわない。具体的には、特公昭４４−１４０９０
号、特公昭４５−１８３７２号、特公昭４７−２２０６
２号、特公昭４７−２２５１３号、特公昭４６−２８４
６６号、特公昭４６−３８７５５号、特公昭４７−４２
８６号、特公昭４７−１２４２２号、特公昭４７−１７
２８４号、特公昭４７−１８５０９号、特公昭４７−１
８５７３号、特公昭３９−１０３０７号、特公昭４８−
３９６３９号、米国特許第３０２６２１５号、同３０３
１３４１号、同３１００１９４号、同３２４２００５
号、同３３８９０１４号などに記載されている。

【００３１】上記強磁性粉末の中で強磁性合金粉末につ
いては少量の水酸化物、または酸化物を含んでもよい。
強磁性合金粉末の公知の製造方法により得られたものを
用いることができ、下記の方法をあげることができる。
複合有機酸塩（主としてシュウ酸塩）と水素などの還元
性気体で還元する方法、酸化鉄を水素などの還元性気体
で還元してＦｅあるいはＦｅ−Ｃｏ粒子などを得る方
法、金属カルボニル化合物を熱分解する方法、強磁性金
属の水溶液に水素化ホウ素ナトリウム、次亜リン酸塩あ
るいはヒドラジンなどの還元剤を添加して還元する方
法、金属を低圧の不活性気体中で蒸発させて微粉末を得
る方法などである。このようにして得られた強磁性合金
粉末は公知の徐酸化処理、すなわち有機溶剤に浸漬した
のち乾燥させる方法、有機溶剤に浸漬したのち酸素含有
ガスを送り込んで表面に酸化膜を形成したのち乾燥させ
る方法、有機溶剤を用いず酸素ガスと不活性ガスの分圧
を調整して表面に酸化皮膜を形成する方法のいずれを施
したものでも用いることができる。

【００３２】本発明の上層磁性層の強磁性粉末をＢＥＴ
法による比表面積で表せば２５〜８０ｍ² ／ｇであり、
好ましくは３５〜７０ｍ² ／ｇである。２５ｍ² ／ｇ以
下ではノイズが高くなり、８０ｍ² ／ｇ以上では表面性
が得にくく好ましくない。本発明の上層磁性層の強磁性
粉末の結晶子サイズは４５０〜１００オングストローム
であり、好ましくは３５０〜１００オングストロームで
ある。酸化鉄磁性粉末のσ_S は５０ｅｍｕ／ｇ以上、好
ましくは７０ｅｍｕ／ｇ以上であり、強磁性金属粉末の
場合は１００ｅｍｕ／ｇ以上が好ましく、更に好ましく
は１１０ｅｍｕ／ｇ〜１７０ｅｍｕ／ｇである。抗磁力
は１１００Ｏｅ以上、２５００Ｏｅ以下が好ましく、更
に好ましくは１４００Ｏｅ以上２０００Ｏｅ以下であ
る。強磁性粉末の針状比は１８以下が好ましく、更に好
ましくは１２以下である。

【００３３】強磁性粉末のｒ１５００は１．５以下であ
ることが好ましい。さらに好ましくはｒ１５００は１．
０以下である。ｒ１５００とは磁気記録媒体を飽和磁化
したのち反対の向きに１５００Oeの磁場をかけたとき反
転せずに残っている磁化量の％を示すものである。強磁
性粉末の含水率は０．０１〜２％とするのが好ましい。
結合剤の種類によって強磁性粉末の含水率は最適化する
のが好ましい。γ酸化鉄のタップ密度は０．５ｇ／ｃｃ
以上が好ましく、０．８ｇ／ｃｃ以上がさらに好まし
い。合金粉末の場合は、０．２〜０．８ｇ／ｃｃが好ま
しく、０．８ｇ／ｃｃ以上に使用すると強磁性粉末の圧
密過程で酸化が進みやすく、充分な飽和磁化( σ_S ) を
得ることが困難になる。０．２ｃｃ／ｇ以下では分散が
不十分になりやすい。

【００３４】γ酸化鉄を用いる場合、２価の鉄の３価の
鉄に対する比は好ましくは０〜２０％であり、さらに好
ましくは５〜１０％である。また鉄原子に対するコバル
ト原子の量は０〜１５％、好ましくは２〜８％である。
強磁性粉末のｐＨは用いる結合剤との組合せにより最適
化することが好ましい。その範囲は４〜１２であるが、
好ましくは６〜１０である。強磁性粉末は必要に応じ、
Ａｌ、Ｓｉ、Ｐまたはこれらの酸化物などで表面処理を
施してもかまわない。その量は強磁性粉末に対し０．１
〜１０％であり表面処理を施すと脂肪酸などの潤滑剤の
吸着が１００ｍｇ／ｍ² 以下になり好ましい。強磁性粉
末には可溶性のＮａ、Ｃａ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｓｒなどの無
機イオンを含む場合があるが、５００ｐｐｍ以下であれ
ば特に特性に影響を与えない。

【００３５】また、本発明に用いられる強磁性粉末は空
孔が少ないほうが好ましくその値は２０容量％以下、さ
らに好ましくは５容量％以下である。また形状について
は先に示した粒子サイズについての特性を満足すれば針
状、粒状、米粒状、板状いずれでもかまわない。針状強
磁性粉末の場合、針状比は１２以下が好ましい。強磁性
粉末のＳＦＤ０．６以下を達成するためには、強磁性粉
末のＨｃの分布を小さくする必要がある。そのために
は、ゲータイトの粒度分布をよくする、γ−ヘマタイト
の焼結を防止する、コバルト変性の酸化鉄についてはコ
バルトの被着速度を従来より遅くするなどの方法があ
る。

【００３６】本発明にはまた、板状六方晶フエライトと
してバリウムフエライト、ストロンチウムフエライト、
鉛フェライト、カルシウムフェライトの各置換体、Ｃｏ
置換体等、六方晶Ｃｏ粉末が使用できる。具体的にはマ
グネトブランバイト型のバリウムフェライト及びストロ
ンチウムフェライト、更に一部スピネル相を含有したマ
グネトブランバイト型のバリウムフェライト及びストロ
ンチウムフェライト等が挙げられ、特に好ましいものと
してはバリウムフェライト、ストロンチウムフェライト
の各置換体である。また、抗磁力を制御するために上記
六方晶フェライトにＣｏ−Ｔｉ、Ｃｏ−Ｔｉ−Ｚｒ、Ｃ
ｏ−Ｔｉ−Ｚｎ、Ｎｉ−Ｔｉ−Ｚｎ、Ｉｒ−Ｚｎ等の元
素を添加した物を使用することができる。

【００３７】六方晶フェライトは、通常、六角板状の粒
子であり、その粒子径は六角板状の粒子の板の幅を意味
し、電子顕微鏡を使用して測定する。本発明ではこのを
粒子径０．０１〜０．２、特に好ましくは０．０３〜
０．１μｍの範囲に規定するとよい。また、該微粒子の
平均厚さ（板厚）は、０．００１〜０．２μｍ程度であ
るが、特に０．００３〜０．０５μｍが好ましい。更に
板状比（粒子径／板厚）は１〜１０であり、好ましくは
３〜７である。また、これら六方晶フェライト微粉末の
ＢＥＴ法による比表面積（Ｓ_BET ）は、２５〜７０ｍ²
／ｇが好ましく、比重は４〜６が好ましい。

【００３８】本発明に使用される結合剤としては従来公
知の熱可塑系樹脂、熱硬化系樹脂、反応型樹脂やこれら
の混合物が使用される。熱可塑系樹脂としては、ガラス
転移温度が−１００〜１５０℃、数平均分子量が１００
０〜２０００００、好ましくは１００００〜１００００
０、重合度が約５０〜１０００程度のものである。この
ような例としては、塩化ビニル、酢酸ビニル、ビニルア
ルコール、マレイン酸、アクリル酸、アクリル酸エステ
ル、塩化ビニリデン、アクリロニトリル、メタクリル
酸、メタクリル酸エステル、スチレン、ブタジエン、エ
チレン、ビニルブチラール、ビニルアセタール、ビニル
エーテル、等を構成単位として含む重合体または共重合
体、ポリウレタン樹脂、各種ゴム系樹脂がある。また、
熱硬化性樹脂または反応型樹脂としてはフエノール樹
脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン硬化型樹脂、尿素樹
脂、メラミン樹脂、アルキド樹脂、アクリル系反応樹
脂、ホルムアルデヒド樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ
−ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂とイソシアネート
プレポリマーの混合物、ポリエステルポリオールとポリ
イソシアネートの混合物、ポリウレタンとポリイソシア
ネートの混合物等があげられる。

【００３９】これらの樹脂については朝倉書店発行の
「プラスチックハンドブック」に詳細に記載されてい
る。また、公知の電子線硬化型樹脂を下層、または上層
に使用することも可能である。これらの例とその製造方
法については特開昭６２−２５６２１９号に詳細に記載
されている。以上の樹脂は単独または組合せて使用でき
るが、好ましいものとして塩化ビニル樹脂、塩化ビニル
酢酸ビニル樹脂、塩化ビニル酢酸ビニルビニルアルコー
ル樹脂、塩化ビニル酢酸ビニル無水マレイン酸共重合体
の群から選ばれる少なくとも１種とポリウレタン樹脂の
組合せ、またはこれらにポリイソシアネートを組合せた
ものがあげられる。

【００４０】ポリウレタン樹脂の構造はポリエステルポ
リウレタン、ポリエーテルポリウレタン、ポリエーテル
ポリエステルポリウレタン、ポリカーボネートポリウレ
タン、ポリエステルポリカーボネートポリウレタン、ポ
リカプロラクトンポリウレタンなど公知のものが使用で
きる。ここに示したすべての結合剤について、より優れ
た分散性と耐久性を得るためには必要に応じ、ＣＯＯ
Ｍ、ＳＯ₃ Ｍ、ＯＳＯ₃ Ｍ、Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）₂ 、Ｏ−Ｐ
＝Ｏ（ＯＭ）₂ 、（以上につきＭは水素原子、またはア
ルカリ金属）、ＯＨ、ＮＲ₂ 、Ｎ⁺ Ｒ₃ 、（Ｒは炭化水
素基）、エポキシ基、ＳＨ、ＣＮ、などから選ばれる少
なくとも一つ以上の極性基を共重合または付加反応で導
入したものを用いることが好ましい。このような極性基
の量は１０^-1〜１０^-8モル／ｇであり、好ましくは１０
^-2〜１０^-6モル／ｇである。

【００４１】本発明に用いられるこれらの結合剤の具体
的な例としてはユニオンカーバイト社製：ＶＡＧＨ、Ｖ
ＹＨＨ、ＶＭＣＨ、ＶＡＧＦ、ＶＡＧＤ、ＶＲＯＨ、Ｖ
ＹＥＳ、ＶＹＮＣ、ＶＭＣＣ、ＸＹＨＬ、ＸＹＳＧ、Ｐ
ＫＨＨ、ＰＫＨＪ、ＰＫＨＣ、ＰＫＦＥ、日信化学工業
社製：ＭＰＲ−ＴＡ、ＭＰＲ−ＴＡ５、ＭＰＲ−ＴＡ
Ｌ、ＭＰＲ−ＴＳＮ、ＭＰＲ−ＴＭＦ、ＭＰＲ−ＴＳ、
ＭＰＲ−ＴＭ、ＭＰＲ−ＴＡＯ、電気化学社製：１００
０Ｗ、ＤＸ８０、ＤＸ８１、ＤＸ８２、ＤＸ８３、１０
０ＦＤ、日本ゼオン社製：ＭＲ１０５、ＭＲ１１０、Ｍ
Ｒ１００、４００Ｘ１１０Ａ、日本ポリウレタン社製：
ニッポランＮ２３０１、Ｎ２３０２、Ｎ２３０４、大日
本インキ社製：パンデックスＴ−５１０５、Ｔ−Ｒ３０
８０、Ｔ−５２０１、バーノックＤ−４００、Ｄ−２１
０−８０、クリスボン６１０９、７２０９、東洋紡社
製：バイロンＵＲ８２００、ＵＲ８３００、ＵＲ８６０
０、ＵＲ５５００、ＵＲ４３００、ＲＶ５３０、ＲＶ２
８０、大日精化社製：ダイフエラミン４０２０、５０２
０、５１００、５３００、９０２０、９０２２、７０２
０、三菱化成社製：ＭＸ５００４、三洋化成社製：サン
プレンＳＰ−１５０、旭化成社製：サランＦ３１０、Ｆ
２１０などがあげられる。

【００４２】本発明の上層磁性層に用いられる結合剤は
強磁性粉末に対し、５〜５０重量％の範囲、好ましくは
１０〜３０重量％の範囲で用いられる。塩化ビニル系樹
脂を用いる場合は、５〜３０重量％、ポリウレタン樹脂
を用いる場合は２〜２０重量％、ポリイソシアネートは
２〜２０重量％の範囲でこれらを組合せて用いるのが好
ましい。

【００４３】本発明において、ポリウレタン樹脂を用い
る場合はガラス転移温度が−５０〜１００℃、破断伸び
が１００〜２０００％、破断応力は０．０５〜１０Ｋｇ
／ｃｍ² 、降伏点は０．０５〜１０Ｋｇ／ｃｍ² が好ま
しい。本発明の磁気記録媒体は基本的には二層からなる
が、三層以上であってもよい。三層以上の構成として
は、上層磁性層を２層以上の複数の磁性層することであ
る。この場合、最上層の磁性層と下層磁性層との関係は
通常の複数の磁性層の考え方が適用できる。例えば、最
上層の磁性層の方が下層磁性層よりも、抗磁力が高く、
平均長軸長や結晶子サイズの小さい強磁性粉末を用いる
などの考え方が適用できる。又、下層非磁性層を複数の
非磁性層で形成してもかまわない。しかし、大きく分類
すれば、上層磁性層、下層非磁性層という構成である。

【００４４】従って、結合剤量、結合剤中に占める塩化
ビニル系樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリイソシアネー
ト、あるいはそれ以外の樹脂の量、磁性層を形成する各
樹脂の分子量、極性基量、あるいは先に述べた樹脂の物
理特性などを必要に応じ下層と上層磁性層とで変えるこ
とはもちろん可能である。本発明に用いるポリイソシア
ネートとしては、トリレンジイソシアネート、４−４′
−ジフエニルメタンジイソシアネート、ヘキサメチレン
ジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ナフ
チレン−１，５−ジイソシアネート、ｏ−トルイジンイ
ソシアネート、イソホロンジイソシアネート、トリフエ
ニルメタントリイソシアネート等のイソシアネート類、
また、これらのイソシアネート類とポリアルコールとの
生成物、また、イソシアネート類の縮合によって生成し
たポリイソシアネート等を使用することができる。これ
らのイソシアネート類の市販されている商品名として
は、日本ポリウレタン社製：コロネートＬ、コロネート
ＨＬ、コロネート２０３０、コロネート２０３１、ミリ
オネートＭＲ、ミリオネートＭＴＬ、武田薬品社製：タ
ケネートＤ−１０２、タケネートＤ−１１０Ｎ、タケネ
ートＤ−２００、タケネートＤ−２０２、住友バイエル
社製：デスモジュールＬ、デスモジュールＩＬ、デスモ
ジュールＮ、デスモジュールＨＬ等があり、これらを単
独または硬化反応性の差を利用して二つもしくはそれ以
上の組合せで下層非磁性層、上層磁性層ともに用いるこ
とができる。

【００４５】本発明の上層磁性層に使用されるカーボン
ブラックはゴム用フアーネス、ゴム用サーマル、カラー
用ブラック、アセチレンブラック、等を用いることがで
きる。比表面積は５〜５００ｍ² ／ｇ、ＤＢＰ吸油量は
１０〜４００ｍｌ／１００ｇ、粒子径は５ｍμ〜３００
ｍμ、ｐＨは２〜１０、含水率は０．１〜１０％、タッ
プ密度は０．１〜１ｇ／ｃｃが好ましい。本発明に用い
られるカーボンブラックの具体的な例としてはキャボッ
ト社製：ＢＬＡＣＫＰＥＡＲＬＳ ２０００、１３０
０、１０００、９００、８００、７００、ＶＵＬＣＡＮ
ＸＣ−７２、旭カーボン社製：♯８０、♯６０、♯５
５、♯５０、♯３５、三菱化成工業社製：♯２４００
Ｂ、♯２３００、♯９００、♯１０００、♯３０、♯４
０、♯１０Ｂ、コンロンビアカーボン社製：ＣＯＮＤＵ
ＣＴＥＸ ＳＣ、ＲＡＶＥＮ １５０、５０，４０，１
５などがあげられる。カーボンブラックを分散剤などで
表面処理したり、樹脂でグラフト化して使用しても、表
面の一部をグラフアイト化したものを使用してもかまわ
ない。また、カーボンブラックを磁性塗料に添加する前
にあらかじめ結合剤で分散してもかまわない。これらの
カーボンブラックは単独、または組合せで使用すること
ができる。カーボンブラックを使用する場合は強磁性粉
末に対する量の０．１〜３０％で用いることが好まし
い。カーボンブラックは磁性層の帯電防止、摩擦係数低
減、遮光性付与、膜強度向上などの働きがあり、これら
は用いるカーボンブラックにより異なる。従って本発明
に使用されるこれらのカーボンブラックは下層、上層で
その種類、量、組合せを変え、粒子サイズ、吸油量、電
導度、ｐＨなどの先に示した諸特性をもとに目的に応じ
て使い分けることはもちろん可能である。本発明の上層
で使用できるカーボンブラックは例えば「カーボンブラ
ック便覧」（カーボンブラック協会編）を参考にするこ
とができる。

【００４６】本発明の上層磁性層に用いられる研磨剤と
してはα化率９０％以上のα−アルミナ、β−アルミ
ナ、炭化ケイ素、酸化クロム、酸化セリウム、α−酸化
鉄、コランダム、人造ダイアモンド、窒化珪素、炭化珪
素、チタンカーバイト、酸化チタン、二酸化珪素、窒化
ホウ素、など主としてモース硬度６以上の公知の材料が
単独または組合せで使用される。また、これらの研磨剤
どうしの複合体（研磨剤を他の研磨剤で表面処理したも
の）を使用してもよい。これらの研磨剤には主成分以外
の化合物または元素が含まれる場合もあるが主成分が９
０％以上であれば効果にかわりはない。これら研磨剤の
粒子サイズは０．０１〜２μｍが好ましいが、必要に応
じて粒子サイズの異なる研磨剤を組合せたり、単独の研
磨剤でも粒径分布を広くして同様の効果をもたせること
もできる。タップ密度は０．３〜２ｇ／ｃｃ、含水率は
０．１〜５％、ｐＨは２〜１１、比表面積は１〜３０ｍ
² ／ｇ、が好ましい。本発明に用いられる研磨剤の形状
は針状、球状、サイコロ状、のいずれでも良いが、形状
の一部に角を有するものが研磨性が高く好ましい。

【００４７】本発明に用いられる研磨剤の具体的な例と
しては、住友化学社製：ＡＫＰ−２０，ＡＫＰ−３０，
ＡＫＰ−５０，ＨＩＴ−５０、日本化学工業社製：Ｇ
５，Ｇ７，Ｓ−１、戸田工業社製：ＴＦ−１００、ＴＦ
−１４０、１００ＥＤ、１４０ＥＤなどがあげられる。
本発明に用いられる研磨剤は下層、上層で種類、量およ
び組合せを変え、目的に応じて使い分けることはもちろ
ん可能である。これらの研磨剤はあらかじめ結合剤で分
散処理したのち磁性塗料中に添加してもかまわない。本
発明の磁気記録媒体の上層磁性層表面および上層磁性層
端面に存在する研磨剤は５個／１００μｍ² 以上が好ま
しい。

【００４８】本発明に使用される、添加剤としては潤滑
効果、帯電防止効果、分散効果、可塑効果、などをもつ
ものが使用される。二硫化モリブデン、二硫化タングス
テン、グラフアイト、窒化ホウ素、フッ化黒鉛、シリコ
ーンオイル、極性基をもつシリコーン、脂肪酸変性シリ
コーン、フッ素含有シリコーン、フッ素含有アルコー
ル、フッ素含有エステル、ポリオレフイン、ポリグリコ
ール、アルキル燐酸エステルおよびそのアルカリ金属
塩、アルキル硫酸エステルおよびそのアルカリ金属塩、
ポリフエニルエーテル、フッ素含有アルキル硫酸エステ
ルおよびそのアルカリ金属塩、炭素数１０〜２４の一塩
基性脂肪酸（不飽和結合を含んでも、また分岐していて
もかまわない）、および、これらの金属塩（Ｌｉ，Ｎ
ａ，Ｋ，Ｃｕなど）または、炭素数１２〜２２の一価、
二価、三価、四価、五価、六価アルコール（不飽和結合
を含んでも、また分岐していてもかまわない）、炭素数
１２〜２２のアルコキシアルコール、炭素数１０〜２４
の一塩基性脂肪酸（不飽和結合を含んでも、また分岐し
ていてもかまわない）と炭素数２〜１２の一価、二価、
三価、四価、五価、六価アルコールのいずれか一つ（不
飽和結合を含んでも、また分岐していてもかまわない）
とからなるモノ脂肪酸エステルまたはジ脂肪酸エステル
またはトリ脂肪酸エステル、アルキレンオキシド重合物
のモノアルキルエーテルの脂肪酸エステル、炭素数８〜
２２の脂肪酸アミド、炭素数８〜２２の脂肪族アミン、
などが使用できる。これらの具体例としてはラウリン
酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘ
ン酸、ステアリン酸ブチル、オレイン酸、リノール酸、
リノレン酸、エライジン酸、ステアリン酸オクチル、ス
テアリン酸アミル、ステアリン酸イソオクチル、ミリス
チン酸オクチル、ステアリン酸ブトキシエチル、アンヒ
ドロソルビタンモノステアレート、アンヒドロソルビタ
ンジステアレート、アンヒドロソルビタントリステアレ
ート、オレイルアルコール、ラウリルアルコール、があ
げられる。

【００４９】また、アルキレンオキサイド系、グリセリ
ン系、グリシドール系、アルキルフエノールエチレンオ
キサイド付加体、等のノニオン界面活性剤、環状アミ
ン、エステルアミド、第四級アンモニウム塩類、ヒダン
トイン誘導体、複素環類、ホスホニウムまたはスルホニ
ウム類、等のカチオン系界面活性剤、カルボン酸、スル
フォン酸、燐酸、硫酸エステル基、燐酸エステル基、な
どの酸性基を含むアニオン界面活性剤、アミノ酸類、ア
ミノスルホン酸類、アミノアルコールの硫酸または燐酸
エステル類、アルキルベダイン型、等の両性界面活性剤
等も使用できる。これらの界面活性剤については、「界
面活性剤便覧」（産業図書株式会社発行）に詳細に記載
されている。これらの潤滑剤、帯電防止剤等は必ずしも
１００％純粋ではなく、主成分以外に異性体、未反応
物、副反応物、分解物、酸化物、等の不純分が含まれて
もかまわない。これらの不純分は３０％以下が好まし
く、さらに好ましくは１０％以下である。

【００５０】本発明で使用されるこれらの潤滑剤、界面
活性剤は下層非磁性層、上層磁性層でその種類、量を必
要に応じ使い分けることができる。例えば、下層非磁性
層、上層磁性層で融点の異なる脂肪酸を用い表面へのに
じみ出しを制御する、沸点や極性の異なるエステル類を
用い表面へのにじみ出しを制御する、界面活性剤量を調
節することで塗布の安定性を向上させる、潤滑剤の添加
量を下層非磁性層で多くして潤滑効果を向上させるなど
が考えられ、無論ここに示した例のみに限られるもので
はない。

【００５１】また本発明で用いられる添加剤のすべてま
たはその一部は、磁性塗料製造のどの工程で添加しても
かまわない、例えば、混練工程前に強磁性粉末と混合す
る場合、強磁性粉末と結合剤と溶剤による混練工程で添
加する場合、分散工程で添加する場合、分散後に添加す
る場合、塗布直前に添加する場合などがある。本発明で
使用されるこれら潤滑剤の商品例としては、日本油脂社
製：ＮＡＡ−１０２，ＮＡＡ−４１５，ＮＡＡ−３１
２，ＮＡＡ−１６０，ＮＡＡ−１８０，ＮＡＡ−１７
４，ＮＡＡ−１７５，ＮＡＡ−２２２，ＮＡＡ−３４，
ＮＡＡ−３５，ＮＡＡ−１７１，ＮＡＡ−１２２，ＮＡ
Ａ−１４２，ＮＡＡ−１６０，ＮＡＡ−１７３Ｋ，ヒマ
シ硬化脂肪酸，ＮＡＡ−４２，ＮＡＡ−４４，カチオン
ＳＡ，カチオンＭＡ，カチオンＡＢ，カチオンＢＢ，ナ
イミーンＬ−２０１，ナイミーンＬ−２０２，ナイミー
ンＳ−２０２，ノニオンＥ−２０８，ノニオンＰ−２０
８，ノニオンＳ−２０７，ノニオンＫ−２０４，ノニオ
ンＮＳ−２０２，ノニオンＮＳ−２１０，ノニオンＨＳ
−２０６，ノニオンＬ−２，ノニオンＳ−２，ノニオン
Ｓ−４，ノニオンＯ−２，ノニオンＬＰ−２０Ｒ，ノニ
オンＰＰ−４０Ｒ，ノニオンＳＰ−６０Ｒ，ノニオンＯ
Ｐ−８０Ｒ，ノニオンＯＰ−８５Ｒ，ノニオンＬＴ−２
２１，ノニオンＳＴ−２２１，ノニオンＯＴ−２２１，
モノグリＭＢ，ノニオンＤＳ−６０，アノンＢＦ，アノ
ンＬＧ，ブチルステアレート，ブチルラウレート，エル
カ酸、関東化学社製：オレイン酸、竹本油脂社製：ＦＡ
Ｌ−２０５，ＦＡＬ−１２３、新日本理化社製：エヌジ
エルブＬＯ，エヌジョルブＩＰＭ，サンソサイザーＥ４
０３０、信越化学社製：ＴＡ−３，ＫＦ−９６，ＫＦ−
９６Ｌ，ＫＦ−９６Ｈ，ＫＦ４１０，ＫＦ４２０，ＫＦ
９６５，ＫＦ５４，ＫＦ５０，ＫＦ５６，ＫＦ−９０
７，ＫＦ−８５１，Ｘ−２２−８１９，Ｘ−２２−８２
２，ＫＦ−９０５，ＫＦ−７００，ＫＦ−３９３，ＫＦ
−８５７，ＫＦ−８６０，ＫＦ−８６５，Ｘ−２２−９
８０，ＫＦ−１０１，ＫＦ−１０２，ＫＦ−１０３，Ｘ
−２２−３７１０，Ｘ−２２−３７１５，ＫＦ−９１
０，ＫＦ−３９３５、ライオンアーマー社製：アーマイ
ドＰ，アーマイドＣ，アーモスリップＣＰ、ライオン油
脂社製：デュオミンＴＤＯ、日清製油社製：ＢＡ−４１
Ｇ、三洋化成社製：プロフアン２０１２Ｅ，ニューポー
ルＰＥ６１，イオネットＭＳ−４００，イオネットＭＯ
−２００，イオネットＤＬ−２００，イオネットＤＳ−
３００，イオネットＤＳ−１０００，イオネットＤＯ−
２００などがあげられる。

【００５２】本発明で用いられる有機溶媒は任意の比率
でアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケ
トン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、イソホ
ロン、テトラヒドロフラン、等のケトン類、メタノー
ル、エタノール、プロパノール、ブタノール、イソブチ
ルアルコール、イソプロピルアルコール、メチルシクロ
ヘキサノール、などのアルコール類、酢酸メチル、酢酸
ブチル、酢酸イソブチル、酢酸イソプロピル、乳酸エチ
ル、酢酸グリコール等のエステル類、グリコールジメチ
ルエーテル、グリコールモノエチルエーテル、ジオキサ
ン、などのグリコールエーテル系、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン、クレゾール、クロルベンゼン、などの芳
香族炭化水素類、メチレンクロライド、エチレンクロラ
イド、四塩化炭素、クロロホルム、エチレンクロルヒド
リン、ジクロルベンゼン、等の塩素化炭化水素類、Ｎ，
Ｎ−ジメチルホルムアミド、ヘキサン等のものが使用で
きる。これら有機溶媒は必ずしも１００％純粋ではな
く、主成分以外に異性体、未反応物、副反応物、分解
物、酸化物、水分等の不純分がふくまれてもかまわな
い。これらの不純分は３０重量％以下が好ましく、さら
に好ましくは１０重量％以下である。本発明で用いる有
機溶媒は必要ならば上層と下層でその種類、量を変えて
もかまわない。下層に揮発性の高い溶媒を用い表面性を
向上させる、磁性層に表面張力の高い溶媒（シクロヘキ
サノン、ジオキサンなど）を用い塗布の安定性をあげ
る、磁性層の溶解パラメーターの高い溶媒を用い充填度
を上げるなどがその例として挙げられるが、これらの例
に限られるものではないことは無論である。

【００５３】本発明の磁気記録媒体の厚み構成は非磁性
支持体が１〜１００μｍ、好ましくは４〜２０μｍ、更
に好ましくは５〜１２μｍである。下層の平均厚味が１
〜５μｍ、上層の平均厚味は０．０５μｍ以上１．０μ
ｍ以下、好ましくは０．０５μｍ以上０．６μｍ以下、
さらに好ましくは０．０５μｍ以上、０．３μｍ以下の
範囲から選択される。上層と下層を合わせた厚みは非磁
性支持体の厚みの１／１００〜２倍の範囲で用いられ
る。また、非磁性支持体と下層の間に密着性向上のため
の下塗り層を設けてもかまわない。この厚みは０．０１
〜２μｍ、好ましくは０．０５〜０．５μｍである。ま
た、非磁性支持体の磁性層側と反対側にバックコート層
を設けてもかまわない。この厚みは０．１〜２μｍ、好
ましくは０．３〜１．０μｍである。これらの下塗り
層、バックコート層は公知のものが使用できる。また、
バックコート層に下層に使用される粉体Ｃを添加するこ
ともエッジダメージ改良のためには有効である。

【００５４】本発明に用いられる非磁性支持体はポリエ
チレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、等
のポリエステル類、ポリオレフイン類、セルローストリ
アセテート、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリイミ
ド、ポリアミドイミド、ポリスルフオン、アラミド、芳
香族ポリアミドなどの公知のフイルムが使用できる。こ
れらの支持体にはあらかじめコロナ放電処理、プラズマ
処理、易接着処理、熱処理、除塵処理、などをおこなっ
ても良い。本発明の目的を達成するには、非磁性支持体
として中心線平均表面粗さが０．０３μｍ以下、好まし
くは０．０２μｍ以下、さらに好ましくは０．０１μｍ
以下のものを使用する必要がある。また、これらの非磁
性支持体は単に中心線平均表面粗さが小さいだけではな
く、１μｍ以上の粗大突起がないことが好ましい。ま
た、表面の粗さ形状は、必要に応じて支持体に添加され
るフィラーの大きさと量により自由にコントロールされ
るものである。これらのフィラーとしては一例としては
Ｃａ、Ｓｉ、Ｔｉなどの酸化物や炭酸塩の他、アクリル
系などの有機微粉末が挙げられる。本発明に用いられる
非磁性支持体のテープ走行方向のＦ−５値は好ましくは
５〜５０Ｋｇ／ｍｍ²、テープ幅方向のＦ−５値は好ま
しくは３〜３０Ｋｇ／ｍｍ² であり、テープ長手方向の
Ｆ−５値がテープ幅方向のＦ−５値より高いのが一般的
であるが、特に幅方向の強度を高くする必要があるとき
はその限りでない。

【００５５】また、非磁性支持体のテープ走行方向およ
び幅方向の１００℃３０分での熱収縮率は好ましくは３
％以下、さらに好ましくは１．５％以下、８０℃３０分
での熱収縮率は好ましくは１％以下、さらに好ましくは
０．５％以下である。破断強度は両方向とも５〜１００
Ｋｇ／ｍｍ² 、弾性率は１００〜２０００Ｋｇ／ｍｍ²
が好ましい。

【００５６】本発明の磁気記録媒体の磁性塗料を製造す
る工程は、少なくとも混練工程、分散工程、およびこれ
らの工程の前後に必要に応じて設けた混合工程からな
る。個々の工程はそれぞれ２段階以上にわかれていても
かまわない。本発明に使用する強磁性粉末、結合剤、カ
ーボンブラック、研磨剤、帯電防止剤、潤滑剤、溶剤な
どすべての原料はどの工程の最初または途中で添加して
もかまわない。また、個々の原料を２つ以上の工程で分
割して添加してもかまわない。例えば、ポリウレタンを
混練工程、分散工程、分散後の粘度調整のための混合工
程で分割して投入してもよい。

【００５７】本発明の目的を達成するためには、従来の
公知の製造技術を一部の工程として用いることができる
ことはもちろんであるが、混練工程では連続ニーダや加
圧ニーダなど強い混練力をもつものを使用することによ
り本発明の磁気記録媒体の高いＢｒを得ることができ
る。連続ニーダまたは加圧ニーダを用いる場合は強磁性
粉末と結合剤のすべてまたはその一部（ただし全結合剤
の３０重量％以上が好ましい）および強磁性粉末１００
部に対し１５〜５００部の範囲で混練処理される。これ
らの混練処理の詳細については特開平１−１０６３３８
号、特開昭６４−７９２７４号に記載されている。

【００５８】本発明のような重層構成の磁気記録媒体を
塗布する装置、方法の例として以下のような構成を提案
できる。 １．磁性塗料の塗布で一般的に用いられるグラビア塗
布、ロール塗布、ブレード塗布、エクストルージョン塗
布装置等により、まず下層を塗布し、下層がウエット状
態のうちに特公平１−４６１８６号や特開昭６０−２３
８１７９号、特開平２−２６５６７２号に開示されてい
る支持体加圧型エクストルージョン塗布装置により上層
を塗布する。 ２．特開昭６３−８８０８０号、特開平２−１７９２１
号、特開平２−２６５６７２号に開示されているような
塗布液通液スリットを二つ内蔵する一つの塗布ヘッドに
より上層及び下層をほぼ同時に塗布する。 ３．特開平２−１７４９６５号に開示されているバック
アップロール付きエキストルージョン塗布装置により上
層及び下層をほぼ同時に塗布する。 なお、強磁性粉末の凝集による磁気記録媒体の電磁変換
特性等の低下を防止するため、特開昭６２−９５１７４
号や特開平１−２３６９６８号に開示されているような
方法により塗布ヘッド内部の塗布液に剪断を付与するこ
とが望ましい。さらに、塗布液の粘度については、特願
平１−３１２６５９号に開示されている数値範囲を満足
することが好ましい。

【００５９】本発明の媒体を得るためには強力な配向を
行う必要がある。１０００Ｇ（ガウス）以上のソレノイ
ドと２０００Ｇ以上のコバルト磁石を併用することが好
ましく、さらには乾燥後の配向性が最も高くなるように
配向前に予め適度の乾燥工程を設けることが好ましい。
また、ディスク媒体として、本発明を適用する場合はむ
しろ配向をランダマイズするような配向法が必要であ
る。

【００６０】さらに、カレンダ処理ロールとしてエポキ
シ、ポリイミド、ポリアミド、ポリイミドアミド等の耐
熱性のあるプラスチックロールを使用する。また、金属
ロール同志で処理することもできる。処理温度は、好ま
しくは７０℃以上、さらに好ましくは８０℃以上であ
る。線圧力は好ましくは２００ｋｇ／ｃｍ、さらに好ま
しくは３００ｋｇ／ｃｍ以上である。

【００６１】本発明の磁気記録媒体の上層およびその反
対面のＳＵＳ４２０Ｊに対する摩擦係数は好ましくは
０．５以下、さらに０．３以下、磁性層表面固有抵抗１
０⁴ 〜１０¹¹オーム／ｓｑ、磁性層の０．５％伸びでの
弾性率は走行方向、幅方向とも好ましくは１００〜２０
００Ｋｇ／ｍｍ² 、破断強度は好ましくは１〜３０Ｋｇ
／ｃｍ² 、磁気記録媒体の弾性率は走行方向、幅方向と
も好ましくは１００〜１５００Ｋｇ／ｍｍ² 、残留のび
は好ましくは０．５％以下、１００℃以下のあらゆる温
度での熱収縮率は好ましくは１％以下、さらに好ましく
は０．５％以下、もっとも好ましくは０．１％以下であ
る。

【００６２】上層中に含まれる残留溶媒は好ましくは１
００ｍｇ／ｍ² 以下、さらに好ましくは１０ｍｇ／ｍ²
以下であり、上層に含まれる残留溶媒が下層に含まれる
残留溶媒より少ないほうが好ましい。上層、下層が有す
る空隙率は、ともに好ましくは３０容量％以下、さらに
好ましくは２０容量％以下である。下層の空隙率が磁性
層の空隙率より小さい方が好ましいが、目的により下層
の空隙率を高くする方が好ましいこともある。例えば、
繰り返し用途が重視されるデータ記録用磁気記録媒体で
は逆の方が好ましいことが多い。

【００６３】本発明の磁気記録媒体の磁気特性は磁場５
ＫＯｅで測定した場合、テープ走行方向の角形比は０．
７０以上であり、好ましくは０．８０以上さらに好まし
くは０．９０以上である。テープ走行方向に直角な二つ
の方向の角型比は走行方向の角型比の８０％以下となる
ことが好ましい。磁性層のＳＦＤは０．６以下であるこ
とが好ましい。

【００６４】磁性層の中心平均表面粗さＲａは２ｎｍ〜
２０ｎｍが好ましいが、その値は目的により適宜設定さ
れるべきである。電磁変換特性を良好にするためにはＲ
ａは小さいほど好ましいが、走行耐久性を良好にするた
めには逆に大きいほど好ましい。ＳＴＭによる評価で求
めたＲＭＳ表面粗さＲ_RMS は３ｎｍ〜１６ｎｍの範囲に
あることが好ましい。

【００６５】

【実施例】以下、本発明の具体的実施例について説明す
るが、本発明はこれに限定されるものではない。尚、実
施例中、「部」は、「重量部」を示す。 実施例１ 以下の処方により、下層非磁性層用塗布液、上層磁性層
用塗布液を得た。 下層非磁性層用塗布液 無機質粉末（粉体Ａ） ＴｉＯ₂ ７５部 平均粒径 ０．０３５μｍ 結晶系 ルチル ＴｉＯ₂ 含有量 ９０％以上 ＢＥＴ法による比表面積 ４０ｍ² ／ｇ ＤＢＰ吸油量 ２７〜３８ｇ／１００ｇ ｐＨ ７ 表面処理剤 Ａｌ₂ Ｏ₃ カーボンブラック（粉体Ｂ） １５部 平均粒径 １６ｍμ ＤＢＰ吸油量 ８０ｍｌ／１００ｇ ｐＨ ８．０ ＢＥＴ法による比表面積 ２５０ｍ² ／ｇ 揮発分 １．５％ 粗大粒子（粉体Ｃ） １０部 α−Ａｌ₂ Ｏ₃ （住友化学社製ＨＩＴ−５５） 平均粒径 ０．２μｍ ＢＥＴ法による比表面積 ９ｍ² ／ｇ 塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体 １２部 −Ｎ（ＣＨ₃ ）₃ ⁺ Ｃｌ^- の極性基を５×１０^-6ｅｑ／ｇ含む 組成比 ８６：１３：１ 重合度 ４００ ポリエステルポリウレタン樹脂 ５部 ネオペンチルグリコール／カプロラクトンポリオール／ＭＤＩ ＝０．９／２．６／１ −ＳＯ₃ Ｎａ基 １×１０^-4ｅｑ／ｇ含有 ブチルステアレート １部 ステアリン酸 １部 メチルエチルケトン ２００部 上層磁性層 強磁性金属微粉末 組成 Ｆｅ／Ｚｎ／Ｎｉ＝９２／４／４ １００部 Ｈｃ １６００Ｏｅ ＢＥＴ法による比表面積 ６０ｍ² ／ｇ 結晶子サイズ １９５Å 平均長軸長 ０．２０μｍ、針状比 １０ 飽和磁化( σ_S ) ：１３０ｅｍｕ／ｇ 塩化ビニル系共重合体 １２部 −ＳＯ₃ Ｎａ基 １×１０^-4ｅｑ／ｇ含有、重合度３００ ポリエステルポリウレタン樹脂 ３部 ネオペンチルグリコール／カプロラクトンポリオール／ＭＤＩ ＝０．９／２．６／１ −ＳＯ₃ Ｎａ基 １×１０^-4ｅｑ／ｇ含有 α−アルミナ（平均粒径 ０．３μｍ） ２部 カーボンブラック（平均粒径 ０．１０μｍ） ０．５部 ブチルステアレート １部 ステアリン酸 ２部 メチルエチルケトン ２００部 上記２つの塗料のそれぞれについて、各成分を連続ニー
ダーで混練した後、サンドミルを用いて分散させた。得
られた分散液にポリイソシアネートを下層非磁性層の塗
布液には１部、上層磁性層の塗布液には３部を加え、さ
らにそれぞれに酢酸ブチル４０部を加え、１μｍの平均
孔径を有するフィルターを用いて濾過し、下層非磁性層
用及び上層磁性層用の塗布液をそれぞれ調製した。

【００６６】得られた下層非磁性層塗布液を乾燥後の厚
さが２μｍになるように更にその直後にその上に上層磁
性層の厚さが０．５μｍになるように、厚さ７μｍで中
心平均表面粗さが０．０１μｍのポリエチレンテレフタ
レート支持体上に同時重層塗布を行い、両層がまだ湿潤
状態にあるうちに３０００ガウスの磁力をもつコバルト
磁石と１５００ガウスの磁力をもつソレノイドにより配
向させ、乾燥後、金属ロールのみから構成される７段の
カレンダーで温度９０℃にて処理を行い、８ｍｍの幅に
スリットし、実施例１−１の８ｍｍビデオテープを製造
した。

【００６７】また、同様に表１〜４に記載の因子を変更
して試料、実施例１−２〜１−９、比較例１−１〜１−
８を作成し、下記の方法で評価し、その結果を表１〜４
に示した。 １．粉体Ａ、Ｂ及びＣの体積比率 下層非磁性層処方重量比を各粉体の真比重で除すことに
より各粉体の体積を算出し、粉体体積総和を１００％と
して各粉体成分の体積比率を求めた。 ２．７ＭＨｚ出力 富士写真フィルム社製ＦＵＪＩＸ８ ８ｍｍビデオデッ
キを用いて７ＭＨｚ信号を記録し、この信号を再生した
ときの７ＭＨｚ信号再生出力をオシロスコープで測定し
た。対照は富士写真フィルム社製８ミリテープＳＡＧ
Ｐ６−１２０である。 ３．Ｃ／Ｎ比 富士写真フィルム社製ＦＵＪＩＸ８ ８ｍｍビデオデッ
キを用いて７ＭＨｚ信号を記録し、この信号を再生した
ときの６ＭＨｚで発生するノイズをスペクトルアナライ
ザーで測定し、このノイズに対する再生信号の比を測定
した。 ４．スチル耐久性 雰囲気５℃、８０％ＲＨで富士写真フィルム社製ＦＵＪ
ＩＸ８ ８ｍｍビデオデッキを用いて７ＭＨｚ信号を記
録し、スチルモードで再生した時に、その出力が６ｄＢ
以上低下した時間をスチルライフとした。６０分で測定
を終了している。 ５．走行耐久性 試料を２３℃、７０％ＲＨ雰囲気で富士写真フィルム社
製８ｍｍビオデデッキＦＵＪＩＸ８ １０台で１００回
走行させた。その間、出力低下を測定し、また走行後の
デッキ内各部の汚れとエッジダメージを評価した。

【００６８】○は、出力低下が３ｄＢ以内であり、デッ
キ内各部の汚れが目視で認められない。△は、出力低下
が３ｄＢ以内であるが、デッキ内各部の汚れが目視で明
らかに多いと認められる。×は、出力低下が３ｄＢ以上
であり、デッキ内各部の汚れも多い。

【００６９】

【表１】

【００７０】

【表２】

【００７１】

【表３】

【００７２】

【表４】

【００７３】表１〜４から明らかなように本発明の実施
例は、再生出力、Ｃ／Ｎが共に高く、スチル耐久性及び
走行耐久性に優れることが分かる。比較例１−１は、粉
体Ａとして所定の大きさより大きな無機質粉末を使用し
たために電磁変換特性が劣る。比較例１−２は、粉体Ｂ
として所定のサイズより大きなカーボンブラックを使用
したためにやはり電磁変換特性が劣る。比較例１−３
は、粉体Ｃのサイズが大きいので、電磁変換特性が劣
る。比較例１−４は、粉体Ａのサイズが小さいので、電
磁変換特性が劣る。比較例１−５は、粉体Ｂのサイズが
小さいので、電磁変換特性が劣る。比較例１−６は、粉
体Ｃのサイズが小さいので、走行耐久性が劣る。比較例
１−７は、下層を乾燥してから上層を塗布した逐次重層
によるものであり、評価試料は得られなかった。比較例
１−８は、粉体Ｃを使用しなかったためにスチル耐久
性、走行耐久性が改善できない。比較例１−９は、粉体
Ａを使用しなかった例であり、電磁変換特性が劣る。

【００７４】

【発明の効果】本発明は、下層粉体の種類とサイズを特
定した所定の粉体組成を選択したことにより、スチル耐
久性、走行耐久性を改善すると共に高い再生出力、Ｃ／
Ｎ比を得ることのできる強磁性金属薄膜型磁気記録媒体
に匹敵する磁性層の極めて薄い塗布型磁気記録媒体を生
産性よく製造できる。

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 非磁性支持体上に非磁性粉末を結合剤中
   に分散した下層非磁性層を設け、その上に該下層非磁性
   層が湿潤状態にある内に強磁性粉末を結合剤中に分散し
   た上層磁性層を設けた磁気記録媒体において、前記上層
   磁性層の平均厚味が１．０μｍ以下であり、且つ前記下
   層非磁性層に含まれる非磁性粉末がＡ：平均粒径０．０
   １〜０．０８μｍの粒状無機質粉末、Ｂ：平均粒径０．
   ０１〜０．０４μｍのカーボンブラック及びＣ：該Ａ、
   Ｂより粗大なる第３成分粉体を含むことを特徴とする磁
   気記録媒体。
2. 【請求項２】 前記粗大なる第３成分粉体は平均粒径が
   ０．０７μｍ以上１μｍ未満の粒状または多面体粉体で
   あることを特徴とする請求項１記載の磁気記録媒体。
3. 【請求項３】 前記粗大なる第３成分粉体は平均短軸長
   が０．０５μｍ以上１μｍ未満で、そのアスペクト比が
   １０以上の針状粉体であることを特徴とする請求項１記
   載の磁気記録媒体。
4. 【請求項４】 前記粗大なる第３成分粉体は板径が０．
   １μｍ以上２μｍ未満で、そのアスペクト比が１０以上
   の板状粉体であることを特徴とする請求項１記載の磁気
   記録媒体。
5. 【請求項５】 前記下層非磁性層中に含まれるＡ、Ｂ、
   Ｃ３種類の粉体の体積比率が、Ａ：４０〜８０％、Ｂ：
   １５〜４０％、Ｃ：２〜２６％であることを特徴とする
   請求項１記載の磁気記録媒体。
6. 【請求項６】 前記下層非磁性層中に含まれるＡが、酸
   化チタン、硫酸バリウム、シリカ、アルミナ、酸化亜
   鉛、α酸化鉄から選ばれたものであることを特徴とする
   請求項１記載の磁気記録媒体。