JPH05208928A - クレゾール類の製造方法 - Google Patents
クレゾール類の製造方法Info
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- JPH05208928A JPH05208928A JP1613692A JP1613692A JPH05208928A JP H05208928 A JPH05208928 A JP H05208928A JP 1613692 A JP1613692 A JP 1613692A JP 1613692 A JP1613692 A JP 1613692A JP H05208928 A JPH05208928 A JP H05208928A
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- catalyst
- cymene
- hydroperoxide
- solution
- reaction
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C39/00—Compounds having at least one hydroxy or O-metal group bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring
- C07C39/02—Compounds having at least one hydroxy or O-metal group bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring monocyclic with no unsaturation outside the aromatic ring
- C07C39/06—Alkylated phenols
- C07C39/07—Alkylated phenols containing only methyl groups, e.g. cresols, xylenols
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 クレゾール類の有利な製造方法を提供する。
【構成】 シメンを酸素酸化処理して３級ヒドロペ
ルオキシドおよび１級ヒドロペルオキシドを含有する酸
化生成物の溶液を得る工程； 該酸化生成物の溶液を水素化処理して、１級ヒドロ
ペルオキシドの含量を低下せしめる工程； 該水素化処理液を触媒存在下に分解処理する工程； 該分解処理液を水素化処理する工程、 によりクレゾール類を得ることを特徴とするクレゾール
類の製造方法。
ルオキシドおよび１級ヒドロペルオキシドを含有する酸
化生成物の溶液を得る工程； 該酸化生成物の溶液を水素化処理して、１級ヒドロ
ペルオキシドの含量を低下せしめる工程； 該水素化処理液を触媒存在下に分解処理する工程； 該分解処理液を水素化処理する工程、 によりクレゾール類を得ることを特徴とするクレゾール
類の製造方法。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、クレゾール類の製造方
法に関する。
法に関する。
【０００２】
【従来技術及び発明が解決しようとする課題】クレゾー
ル類の製造方法としては、シメンを酸素により酸化し、
得られる３級ヒドロペルオキシドを分解してクレゾール
類とアセトンを得る方法が広く知られている。しかしな
がらこの方法においては、該酸化反応において前記した
３級ヒドロペルオキシドの他に、シメンのメチル基が酸
化された１級ヒドロペルオキシドを生成する。この１級
ヒドロペルオキシドは分解反応によってイソプロピルフ
ェノールとホルムアルデヒドを生成する。このホルムア
ルデヒドは生成したクレゾール類と縮合して樹脂化する
ので、この方法のクレゾール類収率低下の原因となる。
ル類の製造方法としては、シメンを酸素により酸化し、
得られる３級ヒドロペルオキシドを分解してクレゾール
類とアセトンを得る方法が広く知られている。しかしな
がらこの方法においては、該酸化反応において前記した
３級ヒドロペルオキシドの他に、シメンのメチル基が酸
化された１級ヒドロペルオキシドを生成する。この１級
ヒドロペルオキシドは分解反応によってイソプロピルフ
ェノールとホルムアルデヒドを生成する。このホルムア
ルデヒドは生成したクレゾール類と縮合して樹脂化する
ので、この方法のクレゾール類収率低下の原因となる。
【０００３】この点を改良するため、該酸化反応後、分
解反応を途中で止め、その後水素化する方法（特開昭５
２−５７１３０、特公昭５９−８２４６、特公平１−４
９２４８）が提案されている。しかしながらこの方法
は、生成するクレゾール類の収率などの点で満足し得る
ものではなかった。
解反応を途中で止め、その後水素化する方法（特開昭５
２−５７１３０、特公昭５９−８２４６、特公平１−４
９２４８）が提案されている。しかしながらこの方法
は、生成するクレゾール類の収率などの点で満足し得る
ものではなかった。
【０００４】一方、前記したホルムアルデヒドの生成を
防止する目的で、酸化反応によって得られる３級ヒドロ
ペルオキシドと１級ヒドロペルオキシドの混合物を５０
℃以下で水素化し、１級ヒドロペルオキシド含量を低下
させる方法は知られている（特開昭５８−１９８４６
８）が、この方法により得られる反応液を通常の酸分解
処理するだけでは、クレゾール類の収率は満足なものと
はならない。
防止する目的で、酸化反応によって得られる３級ヒドロ
ペルオキシドと１級ヒドロペルオキシドの混合物を５０
℃以下で水素化し、１級ヒドロペルオキシド含量を低下
させる方法は知られている（特開昭５８−１９８４６
８）が、この方法により得られる反応液を通常の酸分解
処理するだけでは、クレゾール類の収率は満足なものと
はならない。
【０００５】このようなことから、本発明者らは、クレ
ゾール類の製造方法につき、鋭意検討の結果、シメンの
酸素酸化処理により得られる３級および１級ヒドロペル
オキシドを含有する酸化生成物の溶液を、分解処理に先
立って水素化処理して１級ヒドロペルオキシドの含量を
低下せしめ、次いで分解処理し、さらに該分解処理液を
水素化処理することにより高収率でクレゾール類が得ら
れるのみならず、１級ヒドロペルオキシド、その他の副
生物を原料であるシメンとして選択的に回収できること
を見出し、本発明に到った。
ゾール類の製造方法につき、鋭意検討の結果、シメンの
酸素酸化処理により得られる３級および１級ヒドロペル
オキシドを含有する酸化生成物の溶液を、分解処理に先
立って水素化処理して１級ヒドロペルオキシドの含量を
低下せしめ、次いで分解処理し、さらに該分解処理液を
水素化処理することにより高収率でクレゾール類が得ら
れるのみならず、１級ヒドロペルオキシド、その他の副
生物を原料であるシメンとして選択的に回収できること
を見出し、本発明に到った。
【０００６】
【課題を解決するための手段】即ち、本発明は、 シメンを酸素酸化処理して３級ヒドロペルオキシド
および１級ヒドロペルオキシドを含有する酸化生成物の
溶液を得る工程； 該酸化生成物の溶液を水素化処理して、１級ヒドロ
ペルオキシドの含量を低下せしめる工程； 該水素化処理液を触媒存在下に分解処理する工程； 該分解処理液を水素化処理する工程、 によりクレゾール類を得ることを特徴とするクレゾール
類の製造方法に関するものである。以下、本発明を詳細
に説明する。
および１級ヒドロペルオキシドを含有する酸化生成物の
溶液を得る工程； 該酸化生成物の溶液を水素化処理して、１級ヒドロ
ペルオキシドの含量を低下せしめる工程； 該水素化処理液を触媒存在下に分解処理する工程； 該分解処理液を水素化処理する工程、 によりクレゾール類を得ることを特徴とするクレゾール
類の製造方法に関するものである。以下、本発明を詳細
に説明する。
【０００７】先ず、シメンを酸素酸化処理して３級ヒド
ロペルオキシドおよび１級ヒドロペルオキシドを含有す
る酸化生成物の溶液を得る工程について説明する。該工
程において使用されるシメンとしては、ｏ−シメン、ｍ
−シメン、ｐ−シメンが挙げられ、これらをそれぞれ単
独で、または任意の割合で混合して用いることができ
る。該工程は通常の液相における酸化法により行うこと
ができ、通常、酸素または酸素を含有する気体とシメン
とを接触させることにより行われる。
ロペルオキシドおよび１級ヒドロペルオキシドを含有す
る酸化生成物の溶液を得る工程について説明する。該工
程において使用されるシメンとしては、ｏ−シメン、ｍ
−シメン、ｐ−シメンが挙げられ、これらをそれぞれ単
独で、または任意の割合で混合して用いることができ
る。該工程は通常の液相における酸化法により行うこと
ができ、通常、酸素または酸素を含有する気体とシメン
とを接触させることにより行われる。
【０００８】該工程は通常、常圧または加圧下に行わ
れ、その圧力は通常、ゲージ圧力として０〜２０ｋｇ／
ｃｍ2 である。該工程においては、例えば炭酸ナトリウ
ム、炭酸カリウム等のアルカリ金属の炭酸塩や、水酸化
マグネシウム、水酸化カルシウム、炭酸カルシウム等の
アルカリ土類金属の水酸化物、炭酸塩、さらにはピリジ
ン、ピペリジン、トリエチルアミン等のアミン類、アン
モニア等のアルカリを共存させることもできる。該工程
において、反応開始剤として、例えば２，２’−アゾビ
スイソブチロニトリル等のアゾ化合物や、ベンゾイルペ
ルオキシド、シメンペルオキシド等の過酸化物を添加す
ることもできる。その量はシメンに対し通常、０．０１
〜５重量％である。
れ、その圧力は通常、ゲージ圧力として０〜２０ｋｇ／
ｃｍ2 である。該工程においては、例えば炭酸ナトリウ
ム、炭酸カリウム等のアルカリ金属の炭酸塩や、水酸化
マグネシウム、水酸化カルシウム、炭酸カルシウム等の
アルカリ土類金属の水酸化物、炭酸塩、さらにはピリジ
ン、ピペリジン、トリエチルアミン等のアミン類、アン
モニア等のアルカリを共存させることもできる。該工程
において、反応開始剤として、例えば２，２’−アゾビ
スイソブチロニトリル等のアゾ化合物や、ベンゾイルペ
ルオキシド、シメンペルオキシド等の過酸化物を添加す
ることもできる。その量はシメンに対し通常、０．０１
〜５重量％である。
【０００９】反応温度は通常、３０〜２００℃、好まし
くは８０〜１５０℃である。反応後、酸化生成物の溶液
が得られ、必要により例えば、分液、濾過等の処理を行
うこともできる。該酸化生成物の溶液は特に後処理操作
を行わなくても次の処理に用いることができるが、該工
程において、アルカリを加えない場合は、得られる酸化
生成物の溶液を、例えばアルカリ金属水酸化物、アルカ
リ金属炭酸塩、アルカリ土類金属水酸化物、アルカリ土
類金属炭酸塩等の水溶液で洗浄後次工程に用いることも
できる。
くは８０〜１５０℃である。反応後、酸化生成物の溶液
が得られ、必要により例えば、分液、濾過等の処理を行
うこともできる。該酸化生成物の溶液は特に後処理操作
を行わなくても次の処理に用いることができるが、該工
程において、アルカリを加えない場合は、得られる酸化
生成物の溶液を、例えばアルカリ金属水酸化物、アルカ
リ金属炭酸塩、アルカリ土類金属水酸化物、アルカリ土
類金属炭酸塩等の水溶液で洗浄後次工程に用いることも
できる。
【００１０】次に、前記で得られる酸化生成物の溶液を
水素化処理して、１級ヒドロペルオキシドの含量を低下
せしめる工程について説明する。該工程は通常の接触水
素化法により行うことができ、通常、常圧または加圧
下、触媒存在下に水素を導入することにより行われる。
その圧力は通常、ゲージ圧力として０〜２０ｋｇ／ｃｍ
2 である。
水素化処理して、１級ヒドロペルオキシドの含量を低下
せしめる工程について説明する。該工程は通常の接触水
素化法により行うことができ、通常、常圧または加圧
下、触媒存在下に水素を導入することにより行われる。
その圧力は通常、ゲージ圧力として０〜２０ｋｇ／ｃｍ
2 である。
【００１１】使用する触媒としては、例えばＰｄ、Ｐ
ｔ、Ｎｉ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｒｅ等の触媒を挙げることがで
き、これらの触媒は、例えば活性炭、チタニア、ジルコ
ニア、シリカマグネシア、アルミナマグネシア等の担体
に担持させて使用することもできる。好ましくはＰｄ触
媒、Ｎｉ触媒が用いられ、さらに好ましくはＰｄ／Ｃ、
Ｐｄ／ＴｉＯ2 、Ｐｄ／アルミナマグネシア、Ｐｄ／シ
リカマグネシア、ラネーＮｉが用いられる。その使用量
は酸化生成物の溶液に対し、通常０．０１〜１重量％で
ある。
ｔ、Ｎｉ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｒｅ等の触媒を挙げることがで
き、これらの触媒は、例えば活性炭、チタニア、ジルコ
ニア、シリカマグネシア、アルミナマグネシア等の担体
に担持させて使用することもできる。好ましくはＰｄ触
媒、Ｎｉ触媒が用いられ、さらに好ましくはＰｄ／Ｃ、
Ｐｄ／ＴｉＯ2 、Ｐｄ／アルミナマグネシア、Ｐｄ／シ
リカマグネシア、ラネーＮｉが用いられる。その使用量
は酸化生成物の溶液に対し、通常０．０１〜１重量％で
ある。
【００１２】反応温度は通常、１０〜１２０℃、好まし
くは２０〜１００℃、さらに好ましくは５０〜１００℃
である。該工程においては、１級ヒドロペルオキシドの
含量を３級ヒドロペルオキシドに対し、通常１／２５
（重量／重量）以下、好ましくは１／５０（重量／重
量）以下、さらに好ましくは１／１００（重量／重量）
以下になるように水素化処理を行うと有利であり、その
際、３級ヒドロペルオキシドの水素化反応率が３０％以
下、好ましくは２０％以下、さらに好ましくは１５％以
下となるように水素化処理を行うとさらに有利である。
該工程においては、水素化処理液を液体クロマトグラフ
ィー等により分析し、１級ヒドロペルオキシド、３級ヒ
ドロペルオキシドの反応率等をチェックすることがで
き、これにより反応の終点を決めることもできる。
くは２０〜１００℃、さらに好ましくは５０〜１００℃
である。該工程においては、１級ヒドロペルオキシドの
含量を３級ヒドロペルオキシドに対し、通常１／２５
（重量／重量）以下、好ましくは１／５０（重量／重
量）以下、さらに好ましくは１／１００（重量／重量）
以下になるように水素化処理を行うと有利であり、その
際、３級ヒドロペルオキシドの水素化反応率が３０％以
下、好ましくは２０％以下、さらに好ましくは１５％以
下となるように水素化処理を行うとさらに有利である。
該工程においては、水素化処理液を液体クロマトグラフ
ィー等により分析し、１級ヒドロペルオキシド、３級ヒ
ドロペルオキシドの反応率等をチェックすることがで
き、これにより反応の終点を決めることもできる。
【００１３】反応後、例えば濾過等により触媒を除き、
必要ならば、アルカリ洗浄、濃縮等の操作を付した後、
次の工程へ供することができる。かくして次工程におい
て、１級ヒドロペルオキシド由来のイソプロピルフェノ
ールおよびホルムアルデヒドの生成を抑制し得るのみな
らず、１級ヒドロペルオキシドおよび他の副生物を、シ
メンとして回収可能な化合物へと変換することができ
る。
必要ならば、アルカリ洗浄、濃縮等の操作を付した後、
次の工程へ供することができる。かくして次工程におい
て、１級ヒドロペルオキシド由来のイソプロピルフェノ
ールおよびホルムアルデヒドの生成を抑制し得るのみな
らず、１級ヒドロペルオキシドおよび他の副生物を、シ
メンとして回収可能な化合物へと変換することができ
る。
【００１４】次に、前記で得られる水素化処理液を触媒
存在下に分解処理する工程について説明する。該工程に
おいて使用する触媒としては、酸性触媒、硫黄、バーマ
ー触媒等を挙げることができる。酸性触媒としては例え
ば、硫酸、塩酸、過塩素酸、ＳＯ2 、ＳＯ3 等の無機
酸、ベンゼンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、ク
レゾールスルホン酸、クロル酢酸等の有機酸、シリカア
ルミナ、アルミナ、強酸性イオン交換樹脂等の固体酸、
タングストケイ酸、タングストリン酸、モリブドリン酸
等のヘテロポリ酸等を挙げることができる。バーマー触
媒とは、一般式〔１〕 （式中、ＭはＮｉ、ＰｄまたはＦｅ（II）を表わし、Ｐ
ｈは置換基を有していてもよいフェニル基を表わし、ｎ
は１、２または３を表わし、ｚは錯体の形式的な電荷で
０、−１または−２を表わす。）で示される金属錯体を
有する触媒であり、例えば、ビス（ジチオベンジル）ニ
ッケル、ビス（ジチオベンジル）パラジウム、ビス（ジ
チオベンジル）鉄（II）等を挙げることができる。触媒
として好ましくは、硫酸、クレゾールスルホン酸を挙げ
ることができる。触媒の使用量はその触媒の種類によっ
て適宜決めることができるが、水素化処理液に対し通
常、０．０００１〜１重量％程度である。
存在下に分解処理する工程について説明する。該工程に
おいて使用する触媒としては、酸性触媒、硫黄、バーマ
ー触媒等を挙げることができる。酸性触媒としては例え
ば、硫酸、塩酸、過塩素酸、ＳＯ2 、ＳＯ3 等の無機
酸、ベンゼンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、ク
レゾールスルホン酸、クロル酢酸等の有機酸、シリカア
ルミナ、アルミナ、強酸性イオン交換樹脂等の固体酸、
タングストケイ酸、タングストリン酸、モリブドリン酸
等のヘテロポリ酸等を挙げることができる。バーマー触
媒とは、一般式〔１〕 （式中、ＭはＮｉ、ＰｄまたはＦｅ（II）を表わし、Ｐ
ｈは置換基を有していてもよいフェニル基を表わし、ｎ
は１、２または３を表わし、ｚは錯体の形式的な電荷で
０、−１または−２を表わす。）で示される金属錯体を
有する触媒であり、例えば、ビス（ジチオベンジル）ニ
ッケル、ビス（ジチオベンジル）パラジウム、ビス（ジ
チオベンジル）鉄（II）等を挙げることができる。触媒
として好ましくは、硫酸、クレゾールスルホン酸を挙げ
ることができる。触媒の使用量はその触媒の種類によっ
て適宜決めることができるが、水素化処理液に対し通
常、０．０００１〜１重量％程度である。
【００１５】反応温度は、通常３０〜１５０℃である。
該工程においては、処理液を液体クロマトグラフィー等
により分析し、ヒドロペルオキシドの分解率をチェック
することもできる。
該工程においては、処理液を液体クロマトグラフィー等
により分析し、ヒドロペルオキシドの分解率をチェック
することもできる。
【００１６】反応後、特に後処理を行わずに、または必
要により濾過、中和等の操作を付した後、次の工程へ供
することができる。また、得られた処理液から、生成し
たアセトンを除去後、次の工程へ供してもよい。
要により濾過、中和等の操作を付した後、次の工程へ供
することができる。また、得られた処理液から、生成し
たアセトンを除去後、次の工程へ供してもよい。
【００１７】次に前記で得られる分解処理液を水素化処
理する工程について説明する。該工程は通常の接触水素
化法により行うことができ、通常、常圧または加圧下、
触媒存在下に水素を導入することにより行われる。その
圧力は通常、ゲージ圧力として０〜１００ｋｇ／ｃｍ2
である。
理する工程について説明する。該工程は通常の接触水素
化法により行うことができ、通常、常圧または加圧下、
触媒存在下に水素を導入することにより行われる。その
圧力は通常、ゲージ圧力として０〜１００ｋｇ／ｃｍ2
である。
【００１８】使用する触媒としては、例えばＰｄ、Ｃ
ｒ、Ｃｕ、Ｐｔ、Ｎｉ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｒｅ等の触媒を挙
げることができ、これらの触媒は、例えば活性炭、チタ
ニア、ジルコニア、シリカマグネシア、アルミナマグネ
シア、強酸性イオン交換樹脂等の担体に担持させて使用
することもできる。好ましくはＰｄ触媒、銅クロム触媒
が用いられ、さらに好ましくはＰｄ／Ｃ、Ｐｄ／ＴｉＯ
2 、銅クロム／Ｃ、銅クロム／Ｔｉ０2 、Ｐｄ／強酸性
イオン交換樹脂が用いられる。触媒の使用量は分解処理
液に対し、通常０．０５〜２０重量％である。該工程に
おいては、必要により触媒を共存させることもできる。
触媒としては前記した分解処理工程で用いたものと同様
のものを用いることができ、分解処理工程で用いた触媒
を除去することなくそのまま分解処理液を該工程に使用
してもよい。
ｒ、Ｃｕ、Ｐｔ、Ｎｉ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｒｅ等の触媒を挙
げることができ、これらの触媒は、例えば活性炭、チタ
ニア、ジルコニア、シリカマグネシア、アルミナマグネ
シア、強酸性イオン交換樹脂等の担体に担持させて使用
することもできる。好ましくはＰｄ触媒、銅クロム触媒
が用いられ、さらに好ましくはＰｄ／Ｃ、Ｐｄ／ＴｉＯ
2 、銅クロム／Ｃ、銅クロム／Ｔｉ０2 、Ｐｄ／強酸性
イオン交換樹脂が用いられる。触媒の使用量は分解処理
液に対し、通常０．０５〜２０重量％である。該工程に
おいては、必要により触媒を共存させることもできる。
触媒としては前記した分解処理工程で用いたものと同様
のものを用いることができ、分解処理工程で用いた触媒
を除去することなくそのまま分解処理液を該工程に使用
してもよい。
【００１９】反応温度は通常、０〜２５０℃、好ましく
は２０〜２００℃である。反応終了後、触媒を濾過する
ことにより、クレゾール類、シメンおよびアセトンが得
られ、必要により中和後、蒸留することによりクレゾー
ル類、シメン、アセトンを分離精製することができる。
得られたシメンは、本発明の原料としてリサイクル使用
することができる。
は２０〜２００℃である。反応終了後、触媒を濾過する
ことにより、クレゾール類、シメンおよびアセトンが得
られ、必要により中和後、蒸留することによりクレゾー
ル類、シメン、アセトンを分離精製することができる。
得られたシメンは、本発明の原料としてリサイクル使用
することができる。
【００２０】尚、本発明の実施にあたっては、回分式、
連続式のいずれの方法でも行うことができる。
連続式のいずれの方法でも行うことができる。
【００２１】
【発明の効果】本発明の方法によれば、シメンの酸素酸
化処理後、水素化処理して１級ヒドロペルオキシドの量
を低下せしめ、さらに分解、水素化処理することにより
クレゾール類が高収率で得られる。また、クレゾール類
と副生物との分離が容易となる。
化処理後、水素化処理して１級ヒドロペルオキシドの量
を低下せしめ、さらに分解、水素化処理することにより
クレゾール類が高収率で得られる。また、クレゾール類
と副生物との分離が容易となる。
【００２２】
【実施例】以下、本発明を実施例によりさらに詳細に説
明するが、本発明は実施例に限定されるものではない。
尚、実施例で用いる化合物についての略号の構造は、以
下のとおり
明するが、本発明は実施例に限定されるものではない。
尚、実施例で用いる化合物についての略号の構造は、以
下のとおり
【００２３】実施例１ 攪拌機、空気吹き込み管、温度計、コンデンサーを
備えた反応器に、シメン（含量99.3% ）８０７．０ｇお
よびシメンヒドロペルオキシドを含むシメン溶液（シメ
ン含量:82.1%, ３ＨＰＯ含量:11.2%, １ＨＰＯ含量:0.6
5%）７８．０ｇを仕込み、常圧下、５時間１２０℃で空
気を吹き込みつつ、反応を行う。その後、反応液を１％
水酸化ナトリウム水溶液９０ｇで洗浄し、ヒドロペルオ
キシド混合物含有油相９０９．２ｇ（組成：シメン:81.
9%, ３ＨＰＯ:12.1%, １ＨＰＯ:2.2%, ＣＡＬ:1.0%,
ＣＵＬ:0.23%, ＣＵＡ:0.20%, ＣＬＦ:0.01%, その
他:2.4% ）を得る。
備えた反応器に、シメン（含量99.3% ）８０７．０ｇお
よびシメンヒドロペルオキシドを含むシメン溶液（シメ
ン含量:82.1%, ３ＨＰＯ含量:11.2%, １ＨＰＯ含量:0.6
5%）７８．０ｇを仕込み、常圧下、５時間１２０℃で空
気を吹き込みつつ、反応を行う。その後、反応液を１％
水酸化ナトリウム水溶液９０ｇで洗浄し、ヒドロペルオ
キシド混合物含有油相９０９．２ｇ（組成：シメン:81.
9%, ３ＨＰＯ:12.1%, １ＨＰＯ:2.2%, ＣＡＬ:1.0%,
ＣＵＬ:0.23%, ＣＵＡ:0.20%, ＣＬＦ:0.01%, その
他:2.4% ）を得る。
【００２４】 で得られたヒドロペルオキシド混合
物含有油相９０９．２ｇおよび１％パラジウムチタニア
触媒０．４５ｇをフラスコに仕込み、常圧で７０℃、１
時間、攪拌下に水素を吹き込み、水素化反応を行う。反
応後濾過により触媒を除き、反応液９０９．２ｇ（組
成：シメン:81.8%, ３ＨＰＯ:11.0%, １ＨＰＯ:0.03%,
ＣＡＬ:2.4%, ＣＵＬ:1.7%, ＣＵＡ:0.72%, ＣＬＦ:
0.01%, その他:2.2% ）を得る。反応液中の１ＨＰＯと
３ＨＰＯとの含量比率は１／３７０であり、１ＨＰＯ反
応率は９８．７％、３ＨＰＯ反応率は８．７％である。
この反応液から７０℃、１０〜２０ｍｍＨｇで未反応シ
メン６９９．８ｇを留出させ濃縮し、濃縮液２０９．３
ｇ（シメン:21.0%, ３ＨＰＯ:47.8%, １ＨＰＯ:0.13%,
ＣＡＬ:10.5%, ＣＵＬ:7.6%, ＣＵＡ:3.1%, ＣＬＦ:
0.04%, その他:9.8% ）を得る。
物含有油相９０９．２ｇおよび１％パラジウムチタニア
触媒０．４５ｇをフラスコに仕込み、常圧で７０℃、１
時間、攪拌下に水素を吹き込み、水素化反応を行う。反
応後濾過により触媒を除き、反応液９０９．２ｇ（組
成：シメン:81.8%, ３ＨＰＯ:11.0%, １ＨＰＯ:0.03%,
ＣＡＬ:2.4%, ＣＵＬ:1.7%, ＣＵＡ:0.72%, ＣＬＦ:
0.01%, その他:2.2% ）を得る。反応液中の１ＨＰＯと
３ＨＰＯとの含量比率は１／３７０であり、１ＨＰＯ反
応率は９８．７％、３ＨＰＯ反応率は８．７％である。
この反応液から７０℃、１０〜２０ｍｍＨｇで未反応シ
メン６９９．８ｇを留出させ濃縮し、濃縮液２０９．３
ｇ（シメン:21.0%, ３ＨＰＯ:47.8%, １ＨＰＯ:0.13%,
ＣＡＬ:10.5%, ＣＵＬ:7.6%, ＣＵＡ:3.1%, ＣＬＦ:
0.04%, その他:9.8% ）を得る。
【００２５】 濃硫酸０．１７ｇおよびアセトン２９
ｇをフラスコに仕込み、加熱して還流状態とし、これに
で得られた濃縮液２０９．３ｇを還流下に滴下する。
滴下終了後、６５℃で０．５時間保温する。反応後、分
解液２３８．３ｇ（シメン:18.3%, ３ＨＰＯ: 検出せ
ず, １ＨＰＯ: 検出せず, ＣＡＬ:0.88%, ＣＵＬ:5.6%,
ＣＵＡ:2.6%, ＤＭＳＴ:5.1%, ＣＬＦ:26.0%, アセト
ン:26.9%, その他:14.7%）を得る。消費シメンに対する
クレゾール収率は５９．４％である。
ｇをフラスコに仕込み、加熱して還流状態とし、これに
で得られた濃縮液２０９．３ｇを還流下に滴下する。
滴下終了後、６５℃で０．５時間保温する。反応後、分
解液２３８．３ｇ（シメン:18.3%, ３ＨＰＯ: 検出せ
ず, １ＨＰＯ: 検出せず, ＣＡＬ:0.88%, ＣＵＬ:5.6%,
ＣＵＡ:2.6%, ＤＭＳＴ:5.1%, ＣＬＦ:26.0%, アセト
ン:26.9%, その他:14.7%）を得る。消費シメンに対する
クレゾール収率は５９．４％である。
【００２６】 で得られた分解液２３８．３ｇおよ
び１％パラジウムチタニア触媒４．７ｇを、ステンレス
製オートクレーブに仕込み、水素ゲージ圧力４ｋｇ／ｃ
ｍ2 、７５℃で２時間水素を導入し、反応を行う。反応
後、触媒を濾過して除き、得られた溶液を水酸化ナトリ
ウム水溶液を用いて水層のｐＨが７になるまで中和す
る。得られる有機層から常圧にてアセトンを留去後、さ
らに減圧にて蒸留して、クレゾール類６３．０ｇおよび
シメン８２．１ｇを得る。クレゾール収率は８６％（対
消費シメン）である。
び１％パラジウムチタニア触媒４．７ｇを、ステンレス
製オートクレーブに仕込み、水素ゲージ圧力４ｋｇ／ｃ
ｍ2 、７５℃で２時間水素を導入し、反応を行う。反応
後、触媒を濾過して除き、得られた溶液を水酸化ナトリ
ウム水溶液を用いて水層のｐＨが７になるまで中和す
る。得られる有機層から常圧にてアセトンを留去後、さ
らに減圧にて蒸留して、クレゾール類６３．０ｇおよび
シメン８２．１ｇを得る。クレゾール収率は８６％（対
消費シメン）である。
【００２７】実施例２ 攪拌機、空気吹き込み管、温度計、コンデンサーを
備えた反応器に、シメン（含量99.9% ）８２０．３ｇ、
シメンヒドロペルオキシドを含むシメン溶液（シメン含
量:84.06%, ３ＨＰＯ含量:8.51%, １ＨＰＯ含量:0.47
%）６５．４ｇを仕込み、常圧下、５時間１２０℃で空
気を吹き込みつつ、反応を行う。反応後、ヒドロペルオ
キシド混合物含有油相８９７．２ｇ（シメン:90.0%, ３
ＨＰＯ:7.6%,１ＨＰＯ:1.3%, ＣＡＬ:0.45%, ＣＵＬ:
0.07%, ＣＵＡ:0.09%, ＣＬＦ:<0.01%, その他:0.44
%）を得る。
備えた反応器に、シメン（含量99.9% ）８２０．３ｇ、
シメンヒドロペルオキシドを含むシメン溶液（シメン含
量:84.06%, ３ＨＰＯ含量:8.51%, １ＨＰＯ含量:0.47
%）６５．４ｇを仕込み、常圧下、５時間１２０℃で空
気を吹き込みつつ、反応を行う。反応後、ヒドロペルオ
キシド混合物含有油相８９７．２ｇ（シメン:90.0%, ３
ＨＰＯ:7.6%,１ＨＰＯ:1.3%, ＣＡＬ:0.45%, ＣＵＬ:
0.07%, ＣＵＡ:0.09%, ＣＬＦ:<0.01%, その他:0.44
%）を得る。
【００２８】 で得られたヒドロペルオキシド混合
物含有油相８９７．２ｇおよび１％パラジウムカーボン
触媒０．４５ｇをフラスコに仕込み、常圧で２７℃、１
時間、攪拌下に水素を吹き込み、水素化反応を行う。反
応後濾過により触媒を除き、１％炭酸ナトリウム水溶液
９０ｇにて洗浄後、反応液８９６．０ｇ（シメン:90.1
%, ３ＨＰＯ:6.7%, １ＨＰＯ:0.13%, ＣＡＬ:1.4%,
ＣＵＬ:0.89%, ＣＵＡ:0.53%, ＣＬＦ:0.01%, その他−
0.18% ）を得る。反応液中の１ＨＰＯと３ＨＰＯとの含
量比率は１／５２であり、１ＨＰＯ反応率は９０．０
％、３ＨＰＯ反応率は１１．７％である。この反応液か
ら７０℃、２０ｍｍＨｇで未反応シメン７７５．１ｇ
（純度99.7% ）を留出させ濃縮し、濃縮液１１５．２ｇ
（シメン:24.8%, ３ＨＰＯ:51.7%,１ＨＰＯ:0.96%, Ｃ
ＡＬ:10.3%, ＣＵＬ:6.8%, ＣＵＡ:3.9%, ＣＬＦ:0.0
7%,その他:1.5% ）を得る。
物含有油相８９７．２ｇおよび１％パラジウムカーボン
触媒０．４５ｇをフラスコに仕込み、常圧で２７℃、１
時間、攪拌下に水素を吹き込み、水素化反応を行う。反
応後濾過により触媒を除き、１％炭酸ナトリウム水溶液
９０ｇにて洗浄後、反応液８９６．０ｇ（シメン:90.1
%, ３ＨＰＯ:6.7%, １ＨＰＯ:0.13%, ＣＡＬ:1.4%,
ＣＵＬ:0.89%, ＣＵＡ:0.53%, ＣＬＦ:0.01%, その他−
0.18% ）を得る。反応液中の１ＨＰＯと３ＨＰＯとの含
量比率は１／５２であり、１ＨＰＯ反応率は９０．０
％、３ＨＰＯ反応率は１１．７％である。この反応液か
ら７０℃、２０ｍｍＨｇで未反応シメン７７５．１ｇ
（純度99.7% ）を留出させ濃縮し、濃縮液１１５．２ｇ
（シメン:24.8%, ３ＨＰＯ:51.7%,１ＨＰＯ:0.96%, Ｃ
ＡＬ:10.3%, ＣＵＬ:6.8%, ＣＵＡ:3.9%, ＣＬＦ:0.0
7%,その他:1.5% ）を得る。
【００２９】 濃硫酸０．０９２ｇおよびアセトン１
４ｇをフラスコに仕込み、加熱して還流状態とし、これ
にで得られた濃縮液１１５．２ｇを還流下に滴下す
る。滴下終了後、６５℃で０．５時間保温する。反応
後、分解液１２９．２ｇ（シメン:22.4%, ３ＨＰＯ: 検
出せず, １ＨＰＯ: 検出せず, ＣＡＬ:0.57%, ＣＵＬ:
5.1%,ＣＵＡ:3.4%, ＤＭＳＴ:5.6%, ＣＬＦ:29.9%,
アセトン:27.0%, その他:6.1% ）を得る。消費シメンに
対するクレゾール収率は６０．７％である。
４ｇをフラスコに仕込み、加熱して還流状態とし、これ
にで得られた濃縮液１１５．２ｇを還流下に滴下す
る。滴下終了後、６５℃で０．５時間保温する。反応
後、分解液１２９．２ｇ（シメン:22.4%, ３ＨＰＯ: 検
出せず, １ＨＰＯ: 検出せず, ＣＡＬ:0.57%, ＣＵＬ:
5.1%,ＣＵＡ:3.4%, ＤＭＳＴ:5.6%, ＣＬＦ:29.9%,
アセトン:27.0%, その他:6.1% ）を得る。消費シメンに
対するクレゾール収率は６０．７％である。
【００３０】 で得られた分解液１２９．２ｇおよ
び５％パラジウムカーボン触媒１．２９ｇを、ステンレ
ス製オートクレーブに仕込み、水素ゲージ圧力３ｋｇ／
ｃｍ2、１００℃で２．５時間水素を導入し、反応を行
う。反応後、触媒を濾過して除き、得られた溶液を水酸
化ナトリウム水溶液を用いて水層のｐＨが７になるまで
中和する。得られる有機層から常圧にてアセトンを留去
後、さらに減圧にて蒸留して、クレゾール３１．５ｇお
よびシメン４６．１ｇを得る。クレゾール収率は８２．
２％（対消費シメン）である。
び５％パラジウムカーボン触媒１．２９ｇを、ステンレ
ス製オートクレーブに仕込み、水素ゲージ圧力３ｋｇ／
ｃｍ2、１００℃で２．５時間水素を導入し、反応を行
う。反応後、触媒を濾過して除き、得られた溶液を水酸
化ナトリウム水溶液を用いて水層のｐＨが７になるまで
中和する。得られる有機層から常圧にてアセトンを留去
後、さらに減圧にて蒸留して、クレゾール３１．５ｇお
よびシメン４６．１ｇを得る。クレゾール収率は８２．
２％（対消費シメン）である。
【００３１】比較例１ 攪拌機、空気吹き込み管、温度計、コンデンサーを
備えた反応器に、シメン（含量99.0% ）８１３．１ｇ、
シメンヒドロペルオキシドを含むシメン溶液（シメン含
量:82.0%, ３ＨＰＯ含量:12.8%, １ＨＰＯ含量:0.44%）
７２．２ｇを仕込み、常圧下、５時間１２０℃で空気を
吹き込みつつ、反応を行う。その後、反応液を１％水酸
化ナトリウム水溶液９０ｇで洗浄し、ヒドロペルオキシ
ド混合物含有油相９０５．５ｇ（シメン:82.6%, ３ＨＰ
Ｏ:11.1%, １ＨＰＯ:2.1%, ＣＡＬ:1.1%, ＣＵＬ:0.2
3%, ＣＵＡ:0.21%, ＣＬＦ:0.03%, その他:2.6% ）を得
る。この反応液から６０℃、１０〜３０ｍｍＨｇで未反
応シメン６８７．２ｇ（純度99.2% ）を留出させ濃縮
し、濃縮液２１０．７ｇ（シメン:31.5%, ３ＨＰＯ:47.
4%, １ＨＰＯ:9.2%, ＣＡＬ:4.6%, ＣＵＬ:1.1%, Ｃ
ＵＡ:0.85%, ＣＬＦ:0.07%, その他:5.4% ）を得る。
備えた反応器に、シメン（含量99.0% ）８１３．１ｇ、
シメンヒドロペルオキシドを含むシメン溶液（シメン含
量:82.0%, ３ＨＰＯ含量:12.8%, １ＨＰＯ含量:0.44%）
７２．２ｇを仕込み、常圧下、５時間１２０℃で空気を
吹き込みつつ、反応を行う。その後、反応液を１％水酸
化ナトリウム水溶液９０ｇで洗浄し、ヒドロペルオキシ
ド混合物含有油相９０５．５ｇ（シメン:82.6%, ３ＨＰ
Ｏ:11.1%, １ＨＰＯ:2.1%, ＣＡＬ:1.1%, ＣＵＬ:0.2
3%, ＣＵＡ:0.21%, ＣＬＦ:0.03%, その他:2.6% ）を得
る。この反応液から６０℃、１０〜３０ｍｍＨｇで未反
応シメン６８７．２ｇ（純度99.2% ）を留出させ濃縮
し、濃縮液２１０．７ｇ（シメン:31.5%, ３ＨＰＯ:47.
4%, １ＨＰＯ:9.2%, ＣＡＬ:4.6%, ＣＵＬ:1.1%, Ｃ
ＵＡ:0.85%, ＣＬＦ:0.07%, その他:5.4% ）を得る。
【００３２】 濃硫酸０．１９ｇおよびアセトン２７
ｇをフラスコに仕込み、加熱して還流状態とし、これに
で得られた濃縮液２１０．７ｇを還流下に滴下する。
滴下終了後、６５℃で０．５時間保温する。反応後、分
解液２３７．９ｇ（シメン:28.3%, ３ＨＰＯ: 検出せ
ず, １ＨＰＯ:1.20%, ＣＡＬ:0.15%, ＣＵＬ:1.6%, Ｃ
ＵＡ:1.3%, ＤＭＳＴ:1.6%, ＣＬＦ:26.3%, アセト
ン:26.1%, その他:13.4%）を得る。３ＨＰＯ反応率は１
００％、１ＨＰＯ反応率は８５．３％である。消費シメ
ンに対するクレゾール収率は６３．５％である。
ｇをフラスコに仕込み、加熱して還流状態とし、これに
で得られた濃縮液２１０．７ｇを還流下に滴下する。
滴下終了後、６５℃で０．５時間保温する。反応後、分
解液２３７．９ｇ（シメン:28.3%, ３ＨＰＯ: 検出せ
ず, １ＨＰＯ:1.20%, ＣＡＬ:0.15%, ＣＵＬ:1.6%, Ｃ
ＵＡ:1.3%, ＤＭＳＴ:1.6%, ＣＬＦ:26.3%, アセト
ン:26.1%, その他:13.4%）を得る。３ＨＰＯ反応率は１
００％、１ＨＰＯ反応率は８５．３％である。消費シメ
ンに対するクレゾール収率は６３．５％である。
【００３３】 で得られた分解液２３７．９ｇおよ
び１％パラジウムチタニア触媒４．７６ｇを、ステンレ
ス製オートクレーブに仕込み、水素ゲージ圧力５ｋｇ／
ｃｍ2、７５℃で２時間水素を導入し、反応を行う。反
応後、触媒を濾過して除き、得られた溶液を水酸化ナト
リウム水溶液を用いて水層のｐＨが７になるまで中和す
る。得られる有機層から常圧にてアセトンを留去後、さ
らに減圧にて蒸留して、クレゾール類６１．６ｇおよび
シメン８４．７ｇを得る。クレゾール収率は７２．８％
（対消費シメン）である。
び１％パラジウムチタニア触媒４．７６ｇを、ステンレ
ス製オートクレーブに仕込み、水素ゲージ圧力５ｋｇ／
ｃｍ2、７５℃で２時間水素を導入し、反応を行う。反
応後、触媒を濾過して除き、得られた溶液を水酸化ナト
リウム水溶液を用いて水層のｐＨが７になるまで中和す
る。得られる有機層から常圧にてアセトンを留去後、さ
らに減圧にて蒸留して、クレゾール類６１．６ｇおよび
シメン８４．７ｇを得る。クレゾール収率は７２．８％
（対消費シメン）である。
【００３４】比較例２ フラスコに硫酸濃度を３．２９×１０-3ｇ／ｍｌに濃度
調整したアセトン溶液０．６ｍｌと、アセトン４．４ｍ
ｌを仕込み、加熱して還流状態とし、これに比較例１の
と同様にして得られる濃縮液３０．０ｇ（シメン:31.
5%, ３ＨＰＯ:47.4%, １ＨＰＯ:9.2%, ＣＡＬ:4.6%,
ＣＵＬ:1.1%, ＣＵＡ:0.85%, ＣＬＦ:0.07%, その他:
5.4% ）を還流下に滴下する。滴下終了後、６５℃で
０．５時間保温する。反応後、分解液３３．９ｇ（シメ
ン:28.1%, ３ＨＰＯ:32.5%, １ＨＰＯ:5.8%, ＣＡＬ:
3.2%, ＣＵＬ:1.3%, ＣＵＡ:0.69%, ＤＭＳＴ:1.7%,
ＣＬＦ:3.4%, アセトン:15.4%, その他:7.9% ）得
る。３ＨＰＯ反応率は２２．５％、１ＨＰＯ反応率は２
８．７％である。
調整したアセトン溶液０．６ｍｌと、アセトン４．４ｍ
ｌを仕込み、加熱して還流状態とし、これに比較例１の
と同様にして得られる濃縮液３０．０ｇ（シメン:31.
5%, ３ＨＰＯ:47.4%, １ＨＰＯ:9.2%, ＣＡＬ:4.6%,
ＣＵＬ:1.1%, ＣＵＡ:0.85%, ＣＬＦ:0.07%, その他:
5.4% ）を還流下に滴下する。滴下終了後、６５℃で
０．５時間保温する。反応後、分解液３３．９ｇ（シメ
ン:28.1%, ３ＨＰＯ:32.5%, １ＨＰＯ:5.8%, ＣＡＬ:
3.2%, ＣＵＬ:1.3%, ＣＵＡ:0.69%, ＤＭＳＴ:1.7%,
ＣＬＦ:3.4%, アセトン:15.4%, その他:7.9% ）得
る。３ＨＰＯ反応率は２２．５％、１ＨＰＯ反応率は２
８．７％である。
【００３５】実施例３〜９ 表１に示す条件以外は実施例１のと同様にしてヒドロ
ぺルオキシド混合物の部分水素化を行う。使用するヒド
ロぺルオキシド混合物の組成：シメン:81.9%,３ＨＰＯ:
12.1%, １ＨＰＯ:2.2%, ＣＡＬ:1.0%, ＣＵＬ:0.23%,
ＣＵＡ:0.20%, ＣＬＦ:0.01%, その他:2.4%結果を表１
に示す。
ぺルオキシド混合物の部分水素化を行う。使用するヒド
ロぺルオキシド混合物の組成：シメン:81.9%,３ＨＰＯ:
12.1%, １ＨＰＯ:2.2%, ＣＡＬ:1.0%, ＣＵＬ:0.23%,
ＣＵＡ:0.20%, ＣＬＦ:0.01%, その他:2.4%結果を表１
に示す。
【表１】 上記の方法により得られる反応液は濃縮後、実施例１の
〜と同様の操作を付すことにより、クレゾール類、
シメンが高収率で得られる。
〜と同様の操作を付すことにより、クレゾール類、
シメンが高収率で得られる。
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成４年７月２日
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正内容】
【０００８】該工程は通常、常圧または加圧下に行わ
れ、その圧力は通常、ゲージ圧力として０〜２０ｋｇ／
ｃｍ2 である。該工程においては、例えば炭酸ナトリウ
ム、炭酸カリウム等のアルカリ金属の炭酸塩や、水酸化
マグネシウム、水酸化カルシウム、炭酸カルシウム等の
アルカリ土類金属の水酸化物、炭酸塩、さらにはピリジ
ン、ピペリジン、トリエチルアミン等のアミン類、アン
モニア等のアルカリを共存させることもできる。該工程
において、反応開始剤として、例えば２，２’−アゾビ
スイソブチロニトリル等のアゾ化合物や、ベンゾイルペ
ルオキシド、シメンヒドロペルオキシド等の過酸化物を
添加することもできる。その量はシメンに対し通常、
０．０１〜５重量％である。
れ、その圧力は通常、ゲージ圧力として０〜２０ｋｇ／
ｃｍ2 である。該工程においては、例えば炭酸ナトリウ
ム、炭酸カリウム等のアルカリ金属の炭酸塩や、水酸化
マグネシウム、水酸化カルシウム、炭酸カルシウム等の
アルカリ土類金属の水酸化物、炭酸塩、さらにはピリジ
ン、ピペリジン、トリエチルアミン等のアミン類、アン
モニア等のアルカリを共存させることもできる。該工程
において、反応開始剤として、例えば２，２’−アゾビ
スイソブチロニトリル等のアゾ化合物や、ベンゾイルペ
ルオキシド、シメンヒドロペルオキシド等の過酸化物を
添加することもできる。その量はシメンに対し通常、
０．０１〜５重量％である。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正内容】
【００１８】使用する触媒としては、例えばＰｄ、Ｃ
ｒ、Ｃｕ、Ｐｔ、Ｎｉ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｒｅ等の触媒を挙
げることができ、これらの触媒は、例えば活性炭、チタ
ニア、ジルコニア、シリカマグネシア、アルミナマグネ
シア、強酸性イオン交換樹脂等の担体に担持させて使用
することもできる。好ましくはＰｄ触媒、銅クロム触媒
が用いられ、さらに好ましくはＰｄ／Ｃ、Ｐｄ／ＴｉＯ
2 、銅クロム／Ｃ、銅クロム／Ｔｉ０2 、Ｐｄ／強酸性
イオン交換樹脂が用いられる。触媒の使用量は分解処理
液に対し、通常０．０５〜２０重量％である。該工程に
おいては、必要により他の触媒を共存させることもでき
る。かかる触媒としては前記した分解処理工程で用いた
ものと同様のものを用いることができ、分解処理工程で
用いた触媒を除去することなくそのまま分解処理液を該
工程に使用してもよい。
ｒ、Ｃｕ、Ｐｔ、Ｎｉ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｒｅ等の触媒を挙
げることができ、これらの触媒は、例えば活性炭、チタ
ニア、ジルコニア、シリカマグネシア、アルミナマグネ
シア、強酸性イオン交換樹脂等の担体に担持させて使用
することもできる。好ましくはＰｄ触媒、銅クロム触媒
が用いられ、さらに好ましくはＰｄ／Ｃ、Ｐｄ／ＴｉＯ
2 、銅クロム／Ｃ、銅クロム／Ｔｉ０2 、Ｐｄ／強酸性
イオン交換樹脂が用いられる。触媒の使用量は分解処理
液に対し、通常０．０５〜２０重量％である。該工程に
おいては、必要により他の触媒を共存させることもでき
る。かかる触媒としては前記した分解処理工程で用いた
ものと同様のものを用いることができ、分解処理工程で
用いた触媒を除去することなくそのまま分解処理液を該
工程に使用してもよい。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｂ０１Ｊ 27/10 27/19 31/02 １０３ 31/04 31/08 31/22 Ｃ０７Ｃ 37/08 9159−4Ｈ // Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ (72)発明者 岡本 一成 大分県大分市大字鶴崎2200番地 住友化学 工業株式会社内 (72)発明者 徳丸 融 大分県大分市大字鶴崎2200番地 住友化学 工業株式会社内 (72)発明者 間 資雄 大分県大分市大字鶴崎2200番地 住友化学 工業株式会社内
Claims (5)
- 【請求項１】 シメンを酸素酸化処理して３級ヒドロ
ペルオキシドおよび１級ヒドロペルオキシドを含有する
酸化生成物の溶液を得る工程； 該酸化生成物の溶液を水素化処理して、１級ヒドロ
ペルオキシドの含量を低下せしめる工程； 該水素化処理液を触媒存在下に分解処理する工程； 該分解処理液を水素化処理する工程、 によりクレゾール類を得ることを特徴とするクレゾール
類の製造方法。 - 【請求項２】の工程における１級ヒドロペルオキシド
の含量が、３級ヒドロペルオキシドに対し１／２５（重
量／重量）以下となるように水素化処理を行う請求項１
に記載の方法。 - 【請求項３】３級ヒドロペルオキシドの水素化反応率
が、３０％以下である範囲で水素化処理を行う請求項２
に記載の方法。 - 【請求項４】の工程における水素化触媒が、Ｐｄ触媒
またはＮｉ触媒である請求項１、２または３に記載の方
法。 - 【請求項５】の工程における水素化触媒が、Ｐｄ触媒
または銅クロム触媒である請求項１、２、３または４に
記載の方法。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP01613692A JP3537455B2 (ja) | 1992-01-31 | 1992-01-31 | クレゾール類の製造方法 |
| DE1993604087 DE69304087T2 (de) | 1992-01-31 | 1993-01-29 | Verfahren zur Herstellung von Kresolen |
| EP19930101444 EP0553874B1 (en) | 1992-01-31 | 1993-01-29 | Process for production of cresols |
| CN 93100653 CN1040316C (zh) | 1992-01-31 | 1993-01-30 | 甲酚的生产工艺 |
| US08/202,160 US5399791A (en) | 1992-01-31 | 1994-02-25 | Process for production of cresols |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP01613692A JP3537455B2 (ja) | 1992-01-31 | 1992-01-31 | クレゾール類の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05208928A true JPH05208928A (ja) | 1993-08-20 |
| JP3537455B2 JP3537455B2 (ja) | 2004-06-14 |
Family
ID=11908084
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP01613692A Expired - Fee Related JP3537455B2 (ja) | 1992-01-31 | 1992-01-31 | クレゾール類の製造方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0553874B1 (ja) |
| JP (1) | JP3537455B2 (ja) |
| CN (1) | CN1040316C (ja) |
| DE (1) | DE69304087T2 (ja) |
Family Cites Families (2)
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