JPH0478669B2 - - Google Patents

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JPH0478669B2
JPH0478669B2 JP60131581A JP13158185A JPH0478669B2 JP H0478669 B2 JPH0478669 B2 JP H0478669B2 JP 60131581 A JP60131581 A JP 60131581A JP 13158185 A JP13158185 A JP 13158185A JP H0478669 B2 JPH0478669 B2 JP H0478669B2
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JP
Japan
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monomer
molecular weight
high molecular
weight
copolymer
Prior art date
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Application number
JP60131581A
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Japanese (ja)
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JPS61291608A (en
Inventor
Takashi Kokubo
Nobuaki Ito
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Mitsubishi Kasei Polytec Co
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Mitsubishi Kasei Polytec Co
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Description

【発明の詳細な説明】 「産業上の利用分野」 本発明は、帯電防止剤に関するものであり、詳
しくは、ビニルピリジン系くし型共重合体を使用
した帯電防止剤であつて、成形用樹脂類に対して
優れた持続性を有する帯電防止剤に関するもので
ある。
Detailed Description of the Invention "Field of Industrial Application" The present invention relates to an antistatic agent, and more specifically, an antistatic agent using a vinylpyridine-based comb copolymer, which is applicable to molding resins. This invention relates to an antistatic agent that has excellent durability compared to other antistatic agents.

「従来の技術」 テレビ、ラジオ、電気冷蔵庫等の家庭電気機
器、タイプライター、ワードプロセツサー、パソ
コン等の事務機器等の筐体、部品の製造に用いら
れる成形材料としては、ポリメチルメタクリレー
ト、ABS樹脂、AS樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ
フエニレンエーテルとゴム変性ポリスチレンとか
らなる組成物(いわゆる、ノリル樹脂)等(以下
「成形用熱可塑性樹脂」という。)が広く用いられ
ている。これらの成形用熱可塑性樹脂は、電気絶
縁性に優れているので、上記筐体等の成形材料と
して優れているが、静電気を帯びやすいという欠
点があつた。静電気を帯びると、すなわち、帯電
するとゴミ、ホコリ等を吸着して、外観を損ねる
のみでなく、スイツチ類の接点の接触不良を惹起
する等の問題があつた。
"Prior Art" Molding materials used in the manufacture of housings and parts for home appliances such as televisions, radios, electric refrigerators, and office equipment such as typewriters, word processors, and personal computers include polymethyl methacrylate, ABS resin, AS resin, polyvinyl chloride, a composition consisting of polyphenylene ether and rubber-modified polystyrene (so-called Noryl resin), etc. (hereinafter referred to as "thermoplastic resin for molding") are widely used. These thermoplastic resins for molding have excellent electrical insulation properties and are therefore excellent as molding materials for the above-mentioned casings, etc., but they have the drawback of being easily charged with static electricity. When charged with static electricity, it attracts dirt, dust, etc., which not only impairs the appearance, but also causes problems such as poor contact at the contacts of switches.

このような問題点を解決するために従来から、
公知の帯電防止剤を、成形物の表面に塗布する方
法、又は、公知の帯電防止剤を、成形用熱可塑性
樹脂に練り込む方法等により帯電防止能力を付与
することが行なわれていた。これら公知の帯電防
止剤としては、一般に成形用熱可塑性樹脂に親水
性を付与することによつて、該樹脂の電気抵抗を
低下させて、静電気の帯電を防止する働きを有す
る物質が用いられる。
Traditionally, to solve these problems,
Antistatic ability has been imparted by applying a known antistatic agent to the surface of a molded article, or kneading a known antistatic agent into a thermoplastic resin for molding. As these known antistatic agents, substances are generally used that have the function of imparting hydrophilicity to a thermoplastic resin for molding, thereby lowering the electrical resistance of the resin and preventing static electricity charging.

従来、用いられていたこれら公知の帯電防止剤
の例としては、ポリエチレングリコールの脂肪酸
エステル、アルキルベンゼンスルホン酸塩等の界
面活性剤、ビニルピリジンとメチルメタクリレー
トのランダム共重合体をピリジニウム塩化して得
られる共重合体、アクリルアミドとアクリル酸エ
ステルトとの共重合体、SO3M(M=アルカリ金
属)基及び/又は、ポリエチレンオキサイド基を
含有するくし型共重合体(特開昭59−230057号公
報)等の親水性重合体が知られている。
Examples of these known antistatic agents that have been used in the past include fatty acid esters of polyethylene glycol, surfactants such as alkylbenzene sulfonates, and pyridinium salts of random copolymers of vinyl pyridine and methyl methacrylate. Copolymer, copolymer of acrylamide and acrylic acid ester, comb-shaped copolymer containing SO 3 M (M=alkali metal) group and/or polyethylene oxide group (Japanese Patent Application Laid-Open No. 59-230057) Hydrophilic polymers such as

「発明が解決しようとする問題点」 しかしながら、成形物表面に公知の帯電防止剤
を塗布する方法では、経時変化、あるいは、洗浄
等によつて帯電防止剤がはく落し、帯電防止効果
が失なわれやすく、また成形工程とは別個に帯電
防止剤の塗布工程が必要となるので、成形品の生
産性が低いという問題点があつた。
"Problems to be Solved by the Invention" However, in the method of applying a known antistatic agent to the surface of a molded product, the antistatic agent peels off due to changes over time or washing, etc., and the antistatic effect is lost. The problem was that the product was easily broken and the productivity of the molded product was low because an antistatic agent coating process was required separately from the molding process.

また、公知の帯電防止剤を、成形用熱可塑性樹
脂に練り込む方法では、この帯電防止剤のはく
落、生産性の低下等の問題点は解決されるが、経
時変化、表面の汚れによる帯電防止効果の減少等
の問題点は、十分には改善されなかつた。すなわ
ち、帯電防止効果の持続性の改善が十分でなかつ
た。これは、一般に従来のこれら帯電防止剤が極
性基を有する比較的低分子量の化合物であるの
で、成形用熱可塑性樹脂との相溶性が悪く、多量
に練り込むと該樹脂の物性の低下を惹起するの
で、必要な帯電防止効果及びその持続性を得るの
に十分な量を練り込むことができなかつたことに
よるものである。なお、特開昭59−230057号公報
に記載される如き、くし型共重合体では、いわゆ
る、ミクロ相分離構造を有するので、〔「表面」22
巻297〜308頁(1984)」、極性基を有していても、
相溶性は高いが、帯電防止効果の持続性の改善
は、なお、十分でなかつた。
In addition, the method of kneading a known antistatic agent into a thermoplastic resin for molding solves problems such as peeling off of the antistatic agent and reduced productivity, but it also prevents static electricity from changing over time and due to surface stains. Problems such as decreased effectiveness were not sufficiently improved. That is, the sustainability of the antistatic effect was not sufficiently improved. This is because these conventional antistatic agents are generally relatively low-molecular-weight compounds with polar groups, so they have poor compatibility with thermoplastic resins for molding, and when incorporated in large amounts, they cause a decline in the physical properties of the resin. Therefore, it was not possible to mix in a sufficient amount to obtain the necessary antistatic effect and its sustainability. Incidentally, the comb-shaped copolymer as described in JP-A No. 59-230057 has a so-called micro phase separation structure.
Volume 297-308 (1984)", even if it has a polar group,
Although the compatibility was high, the sustainability of the antistatic effect was still not sufficiently improved.

本発明者等は、持続性の優れた帯電防止剤を得
ることを目的として、鋭意研究を重さねた結果本
発明に到達したものである。
The present inventors have arrived at the present invention as a result of intensive research aimed at obtaining an antistatic agent with excellent durability.

「問題点を解決するための手段」 本発明の上記の目的は、数平均分子量が、1×
103〜2×104であるビニル系単量体残基からなる
重合体部分からなり、しかも、該重合体部分は、
その1つの末端に重合性ビニル基を有する高分子
量単量体残基20〜80重量%、ビニルピリジン系単
量体残基及びビニルピリジニウム系単量体残基か
らなる群から選ばれた少なくとも1種の単量体残
基80〜20重量%、ならびに、親水性単量体残基0
〜60重量%からなるビニルピリジン系くし型共重
合体を使用したことを特徴とする帯電防止剤によ
つて達せられる。
"Means for Solving the Problems" The above object of the present invention is that the number average molecular weight is 1×
It consists of a polymer part consisting of vinyl monomer residues of 10 3 to 2 × 10 4 , and furthermore, the polymer part is
At least one selected from the group consisting of 20 to 80% by weight of a high molecular weight monomer residue having a polymerizable vinyl group at one end, a vinylpyridine monomer residue, and a vinylpyridinium monomer residue. 80-20% by weight of species monomer residues and 0 hydrophilic monomer residues
This can be achieved by using an antistatic agent characterized by using a vinylpyridine-based comb copolymer containing ~60% by weight.

本発明において、くし型共重合体の製造に用い
られる「高分子量単量体」とは、高分子鎖の1つ
の末端に、重合性ビニル基を有する高分子化合物
をいう。
In the present invention, the "high molecular weight monomer" used for producing the comb copolymer refers to a polymer compound having a polymerizable vinyl group at one end of the polymer chain.

また、本発明において、「くし型共重合体」と
は、上記高分子量単量体残基及び高分子量単量体
と共重合可能な単量体残基からなる共重合体をい
う。
In the present invention, the term "comb copolymer" refers to a copolymer consisting of the above-mentioned high molecular weight monomer residues and monomer residues copolymerizable with the high molecular weight monomers.

本発明におけるビニル単量体残基からなる重合
体部分は、数平均分子量が、1×103〜2×104
好ましくは3×103〜1.5×104の範囲のビニル系
単量体残基からなる重合体部分からなり、しか
も、該重合体部分は、その1つの末端に、重合性
ビニル基を有する化合物である。
The polymer portion consisting of vinyl monomer residues in the present invention has a number average molecular weight of 1×10 3 to 2×10 4 ,
Preferably, the polymer portion consists of a vinyl monomer residue in the range of 3×10 3 to 1.5×10 4 , and the polymer portion is a compound having a polymerizable vinyl group at one end thereof. It is.

高分子量単量体の重合体部分の数平均分知量
が、1×103未満であると、得られたくし型共重
合体のミクロ相分離が生じ難く、その結果成形用
熱可塑性樹脂との相溶性が低下するので好ましく
ない。また、上記数平均分子量が2×104を越え
ると、高分子量単量体の有機溶媒への溶解度が低
下し、さらに、得られた溶液の粘度も高くなるの
で、かかる高分子量単量体を用いてくし型共重合
体を製造することは困難となるので好ましくな
い。
When the number average molecular weight of the polymer portion of the high molecular weight monomer is less than 1×10 3 , microphase separation of the obtained comb-shaped copolymer is difficult to occur, and as a result, it is difficult to cause microphase separation from the thermoplastic resin for molding. This is not preferred because the compatibility decreases. Furthermore, if the above number average molecular weight exceeds 2×10 4 , the solubility of the high molecular weight monomer in organic solvents will decrease and the viscosity of the obtained solution will also increase. It is difficult to produce a comb-shaped copolymer using this method, so it is not preferred.

高分子量単量体は、その重合体部分がビニル単
量体残基からなるものが適当である。
The high molecular weight monomer is suitably one in which the polymer portion consists of vinyl monomer residues.

上記重合体部分が、ビニル系単量体残基以外の
単量体残基からなるもの、例えば、ポリエステル
系、ポリエーテル系、ポリアミド系等の重縮合体
系の重合体部分からなるものは、成形用熱可塑性
樹脂との相溶性が低いこと、くし型共重合体の製
造の際に適当な溶媒がないこと等の理由から好ま
しくない。
If the above polymer part is made of monomer residues other than vinyl monomer residues, for example, if it is made of a polycondensation polymer part such as polyester, polyether, or polyamide, molding is possible. This is not preferred because of its low compatibility with the thermoplastic resin for use and the lack of a suitable solvent for producing the comb copolymer.

ビニル系単量体残基としては、アクリル酸、ま
たは、メタクリル酸と炭素数が1〜10の範囲のア
ルコールとのエステル、スチレン、α−メチルス
チレン、o−、m−、もしくは、p−ビニルトル
エン、ビニルトルエンのo−、m−、及びp−各
異性体の混合物、該ハロゲン化スチレン、また
は、α−、もしくは、β−ビニルナフタレン等の
各残基が挙げられる。
Vinyl monomer residues include esters of acrylic acid or methacrylic acid and alcohols having 1 to 10 carbon atoms, styrene, α-methylstyrene, o-, m-, or p-vinyl Examples include toluene, a mixture of o-, m-, and p-isomers of vinyltoluene, the halogenated styrene, and residues such as α- or β-vinylnaphthalene.

本発明の帯電防止剤のくし型共重合体の高分子
量単量体残基は、その重合体部分が、アクリル
酸、または、メタクリル酸のエステル、特にメチ
ルメタクリレートの残基からなるものが好まし
い。これは重合操作が工業的製造に適したラジカ
ル重合法によつて、高分子量単量体の製造ができ
るからである。
The high molecular weight monomer residue of the comb copolymer of the antistatic agent of the present invention is preferably one in which the polymer portion consists of a residue of an ester of acrylic acid or methacrylic acid, particularly methyl methacrylate. This is because a high molecular weight monomer can be produced by a radical polymerization method suitable for industrial production.

高分子量単量体は、分子鎖の末端に1個の重合
性ビニル基を有することが必要である。重合性ビ
ニル基を含有しない場合は、ビニルピリジン等の
単量体と共重合させることができず、2個以上の
重合性ビニル基を含有するとビニルピリジン等の
単量体と共重合させる際に架橋を生じるので好ま
しくない。
The high molecular weight monomer needs to have one polymerizable vinyl group at the end of its molecular chain. If it does not contain a polymerizable vinyl group, it cannot be copolymerized with a monomer such as vinylpyridine, and if it contains two or more polymerizable vinyl groups, it cannot be copolymerized with a monomer such as vinylpyridine. This is not preferred because it causes crosslinking.

重合性ビニル基としては、本発明におけるくし
型共重合体を構成する、他の共重合体と共重合し
得るものであればよい。
The polymerizable vinyl group may be any group as long as it can be copolymerized with other copolymers constituting the comb copolymer of the present invention.

重合性ビニル基としては、アクリル基、メタク
リル基、又はアクリル基、あるいは、メタクリル
基を含有する官能基が、高分子量単量体の製造の
際に導入が容易であり、かつ、共重合性が優れて
いるので好ましい。
As the polymerizable vinyl group, an acrylic group, a methacrylic group, or a functional group containing an acrylic group or a methacrylic group can be easily introduced during the production of a high molecular weight monomer, and can be copolymerized. It is preferable because it is excellent.

高分子量単量体の重合体部分は、ラジカル重
合、または、アニオン重合させることによつて製
造される。
The polymer portion of the high molecular weight monomer is produced by radical polymerization or anionic polymerization.

ラジカル重合による場合は、過硫酸塩、ベンゾ
イルパーオキサイド、ジ−t−ブチルパーオキサ
イド等の有機過酸化物、アゾビスイソブチロニト
リル等のアゾ化合物その他通常用いられるラジカ
ル開始剤を用いるか、または、熱重合によりビニ
ル系単量体を重合させ高分子量単量体の重合体部
分を形成する。その際、連鎖移動剤を使用して数
平均分子量を調整するが、連鎖移動剤として、カ
ルボキシル基、水酸基等の反応性の官能基を有す
る化合物を用いることによつて、重合性ビニル基
を定量的に導入することができる。すなわち、連
鎖移動剤は、重合体部分の末端に結合して、重合
を停止させるが、その結果、該連鎖移動剤に結合
した反応性官能基が、末端に結合した、高分子量
単量体の重合体部分が形成される。得られた反応
性官能基を有する重合体部分を重合性ビニル基を
有する化合物と反応させることによつて、高分子
量単量体が得られる。
In the case of radical polymerization, use of persulfates, organic peroxides such as benzoyl peroxide and di-t-butyl peroxide, azo compounds such as azobisisobutyronitrile, and other commonly used radical initiators, or , a vinyl monomer is polymerized by thermal polymerization to form a polymer portion of a high molecular weight monomer. At that time, a chain transfer agent is used to adjust the number average molecular weight, and by using a compound having a reactive functional group such as a carboxyl group or a hydroxyl group as a chain transfer agent, the polymerizable vinyl group can be quantified. It can be introduced as follows. That is, the chain transfer agent binds to the terminal end of the polymer moiety and terminates the polymerization, but as a result, the reactive functional group bound to the chain transfer agent binds to the terminal end of the high molecular weight monomer. A polymeric portion is formed. A high molecular weight monomer is obtained by reacting the obtained polymer portion having a reactive functional group with a compound having a polymerizable vinyl group.

反応性官能基を有する連鎖移動剤としては、ヒ
ドロキシエチルメルカプタン、ヒドロキシプロピ
ルメルカプタン等のヒドロキシアルキルメルカプ
タン(アルキル基の炭素数は、1〜12の範囲が好
ましい。)、チオグリコール酸、プロパンサルトン
等が挙げられる。
Examples of the chain transfer agent having a reactive functional group include hydroxyalkyl mercaptans such as hydroxyethyl mercaptan and hydroxypropyl mercaptan (the number of carbon atoms in the alkyl group is preferably in the range of 1 to 12), thioglycolic acid, propane sultone, etc. can be mentioned.

また、上記重合性ビニル基を有する化合物とし
ては、アクリル酸、メタクリル酸、グリシジルア
クリレート、グリシジルメタクリレート、アクリ
ル酸及びメタクリル酸とポリエチレングリコール
又は、アルキレングリコールとのモノエステル
(重合度1〜70)等が挙げられる。
In addition, examples of the compound having a polymerizable vinyl group include acrylic acid, methacrylic acid, glycidyl acrylate, glycidyl methacrylate, and monoesters of acrylic acid and methacrylic acid with polyethylene glycol or alkylene glycol (degree of polymerization 1 to 70). Can be mentioned.

高分子量単量体を、アニオン重合法で製造する
場合は、重合開始剤として、n−ブチルリチウ
ム、sec.ブチルリチウム等のアルキルリチウム化
合物等のアルキルアルカリ金属化合物を用いる。
この場合、重合体部分の数平均分子量は、開始剤
の使用量によつて調節できる。
When producing a high molecular weight monomer by an anionic polymerization method, an alkyl alkali metal compound such as an alkyl lithium compound such as n-butyl lithium or sec. butyl lithium is used as a polymerization initiator.
In this case, the number average molecular weight of the polymer portion can be controlled by the amount of initiator used.

アニオン重合によると、重合体部分の末端にリ
チウム等のアルカリ金属が結合した、いわゆるリ
ビングポリマーが得られるので、これに、所望の
重合性ビニル基を含有するハロゲン化合物、例え
ば、アクリルクロライド、メタクリルクロライ
ド、ビニルクロライド等を反応させることによつ
て、高分子量単量体が得られる。
According to anionic polymerization, a so-called living polymer is obtained in which an alkali metal such as lithium is bonded to the end of the polymer moiety, and a halogen compound containing a desired polymerizable vinyl group, such as acryl chloride or methacryl chloride, is added to this. , vinyl chloride, etc., a high molecular weight monomer can be obtained.

高分子量単量体と共重合して、くし型共重合体
を構成する単量体残基としては、ビニルピリジン
系単量体残基及びビニルピリジニウム塩系単量体
残基からなる群から選ばれた少なくとも1種の単
量体残基が適当である。これは、ビニルピリジニ
ウム系単量体を含む、くし型共重合体の帯電防止
効果の持続性が高いこと、これらの単量体がくし
型共重合体の製造の際に高分子量単量体その他の
共重合体と共重合させることが容易であるという
理由による。また、ビニルピリジン系単量体残基
は、後記する方法によつて、容易にビニルピリジ
ニウム系単量体残基に変換することができる。
The monomer residue copolymerized with the high molecular weight monomer to form the comb copolymer is selected from the group consisting of vinylpyridine monomer residues and vinylpyridinium salt monomer residues. At least one monomeric residue is suitable. This is due to the long-lasting antistatic effect of the comb copolymer containing vinylpyridinium monomers, and the fact that these monomers are mixed with high molecular weight monomers and other materials during the production of the comb copolymer. This is because it is easy to copolymerize with a copolymer. Furthermore, vinylpyridine monomer residues can be easily converted to vinylpyridinium monomer residues by the method described below.

ビニルピリジン系単量体残基としては、4−ビ
ニルピリジン及び2−ビニルピリジンの残基が好
ましいが、3−ビニルピリジン、2−メチル−5
−ビニルピリジンのような炭素数が1〜5のアル
キル基でピリジン核を置換した上記各ビニルピリ
ジン異性体の誘導体等の残基も挙げられる。
As vinylpyridine monomer residues, 4-vinylpyridine and 2-vinylpyridine residues are preferred, but 3-vinylpyridine, 2-methyl-5
-Residues such as derivatives of the above-mentioned vinylpyridine isomers in which the pyridine nucleus is substituted with an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, such as vinylpyridine, are also included.

ビニルピリジニウム塩系単量体としては、上記
ビニルピリジン単量体残基を、塩酸、臭化水素
酸、硫酸、燐酸等の鉱酸またはその塩、酢酸等の
カルボン酸、または、その塩、メチルクロライ
ド、メチルブロマイド、エチルクロライド、エチ
ルブロマイド等の炭素数が1〜5のアルキルハロ
ゲン化物等のビニルピリジニウム塩化試薬によつ
てピリジニウム塩化したものが挙げられる。
As the vinyl pyridinium salt monomer, the above vinyl pyridine monomer residue can be replaced with a mineral acid such as hydrochloric acid, hydrobromic acid, sulfuric acid, phosphoric acid or a salt thereof, a carboxylic acid such as acetic acid or a salt thereof, methyl Examples include those obtained by pyridinium chloride using a vinylpyridinium chloride reagent such as alkyl halides having 1 to 5 carbon atoms such as chloride, methyl bromide, ethyl chloride, and ethyl bromide.

ビニルピリジニウム塩系単量体残基を含有する
くし型共重合体の製造にあたつては、予め合成し
たビニルピリジニウム塩系単量体を用いて共重合
させてもよいが、ビニルピリジニウム塩系単量体
は、単量体として不安定な場合もあるので、高分
子量単量体、ビニルピリジン系単量体、及び、必
要に応じて、親水性単量体を共重合させた後、得
られたくし型共重合体を、上記塩酸等のピリジニ
ウム塩化試薬と反応させて、ビニルピリジン系単
量体残基をピリジニウム塩化する方が、製造が容
易であるのでより好ましい。
When producing a comb-shaped copolymer containing a vinylpyridinium salt monomer residue, copolymerization may be performed using a vinylpyridinium salt monomer synthesized in advance; The monomer may be unstable as a monomer, so after copolymerizing a high molecular weight monomer, a vinylpyridine monomer, and, if necessary, a hydrophilic monomer, It is more preferable to react the obtained comb-shaped copolymer with a pyridinium chloride reagent such as the above-mentioned hydrochloric acid to convert the vinylpyridine monomer residue into pyridinium chloride because production is easier.

ビニルピリジニウム塩系単量体残基を含有して
いないビニルピリジン系くし型共重合体は、ジメ
チルホルムアミド、ニトロメタン等の極性溶媒
に、溶解するか、または、ペレツト、もしくは、
粉末状のまま、液状、または気体状のピリジニウ
ム塩化試薬と反応させることによつて、該くし型
共重合体中に含まれるビニルピリジン系単量体残
基をピリジニウム塩化することができる。また、
成形用熱可塑性樹脂と配合した後、ピリジニウム
塩化してもよい。
The vinyl pyridine comb copolymer containing no vinyl pyridinium salt monomer residue is dissolved in a polar solvent such as dimethylformamide or nitromethane, or is formed into pellets or
The vinylpyridine monomer residue contained in the comb copolymer can be converted into pyridinium salt by reacting it with a liquid or gaseous pyridinium chloride reagent in powder form. Also,
After blending with the thermoplastic resin for molding, pyridinium chloride may be formed.

本発明におけるくし型共重合体は、親水性単量
体残基を含有することにより、帯電防止効果が向
上する。
The comb-shaped copolymer of the present invention improves the antistatic effect by containing a hydrophilic monomer residue.

本発明において、親水性単量体残基とは、親水
性基を有するビニル単量体残基をいう。
In the present invention, a hydrophilic monomer residue refers to a vinyl monomer residue having a hydrophilic group.

親水性基としては、カルボキシル基、アミド
基、ラクトン基、ラクタム基、ポリエーテル基、
アルコール性水酸基等が挙げられる。
Hydrophilic groups include carboxyl groups, amide groups, lactone groups, lactam groups, polyether groups,
Examples include alcoholic hydroxyl groups.

親水性単量体残基の具体例としては、アクリル
酸、メタクリル酸、または、これらのアルカリ金
属塩、アミド誘導体、もしくは、重合度が1〜70
の範囲のポリエチレングリコールとのエステル、
及び、p−スチレンスルホン酸ソーダ、エチレン
スルホン酸ソーダ、2−スルホエチルメタクリレ
ート等の残基が挙げられる。
Specific examples of hydrophilic monomer residues include acrylic acid, methacrylic acid, or alkali metal salts or amide derivatives thereof, or those having a degree of polymerization of 1 to 70.
esters with polyethylene glycols in the range of
and residues such as p-styrene sodium sulfonate, ethylene sodium sulfonate, and 2-sulfoethyl methacrylate.

本発明におけるくし型共重合体に含まれる各単
量体残基の含量は高分子量単量体残基20〜80重量
%、好ましくは、40〜60重量%、ビニルピリジン
系単量体残基及びビニルピリジニウム塩系単量体
残基からなる群から選ばれた少なくとも1種の単
量体残基80〜20重量%、好ましくは、50〜30重量
%、ならびに、親水性単量体残基0〜60重量%、
好ましくは、10〜30重量%が適当である。
The content of each monomer residue contained in the comb copolymer of the present invention is 20 to 80% by weight of high molecular weight monomer residue, preferably 40 to 60% by weight, and vinylpyridine monomer residue. 80 to 20% by weight, preferably 50 to 30% by weight, of at least one monomer residue selected from the group consisting of vinylpyridinium salt monomer residues and hydrophilic monomer residues 0-60% by weight,
Preferably, 10 to 30% by weight is appropriate.

高分子量単量体残基の含量が、20重量%未満で
あると、くし型共重合体と成形用熱可塑性樹脂と
の相溶性が低下し、80重量%を超えると帯電防止
効果が低下するので好ましくない。
If the content of high molecular weight monomer residue is less than 20% by weight, the compatibility between the comb copolymer and the thermoplastic resin for molding will decrease, and if it exceeds 80% by weight, the antistatic effect will decrease. So I don't like it.

ビニルピリジン系単量体残基、及び、ビニルピ
リジニウム塩系単量体残基からなる群から選ばれ
た少なくとも1種の単量体残基の含量が、20重量
%未満であると帯電防止効果、及び、その持続性
が低下し、80重量%を超えると成形用熱可塑性樹
脂との相溶性が低下するので好ましくない。
Antistatic effect when the content of at least one monomer residue selected from the group consisting of vinylpyridine monomer residues and vinylpyridinium salt monomer residues is less than 20% by weight. If it exceeds 80% by weight, the compatibility with the thermoplastic resin for molding will decrease, which is not preferable.

親水性単量体残基の含量が増加すると、帯電防
止効果が向上するが、60重量%を超えると成形用
熱可塑性樹脂との相溶性及び帯電防止効果の持続
性が低下するので好ましくない。
As the content of the hydrophilic monomer residue increases, the antistatic effect improves, but if it exceeds 60% by weight, the compatibility with the thermoplastic resin for molding and the sustainability of the antistatic effect decrease, which is not preferable.

本発明におけるくし型共重合体は、ラジカル重
合法により製造することができる。その場合溶媒
としてジメチルホルムアミド、ジエチレングリコ
ール、メチルエチルケトン、ジメチルエーテル、
テトラハイドロフラン等の極性有機溶媒を用い、
アゾ化合物、有機過酸化物、例えば、アゾビスイ
ソブチロニトリル、ラウリルパーオキサイド等を
開始剤として、所望の各単量体混合物を共重合さ
せるのが好ましい。
The comb copolymer in the present invention can be produced by a radical polymerization method. In that case, the solvent is dimethylformamide, diethylene glycol, methyl ethyl ketone, dimethyl ether,
Using a polar organic solvent such as tetrahydrofuran,
It is preferable to copolymerize each desired monomer mixture using an azo compound, an organic peroxide, such as azobisisobutyronitrile, lauryl peroxide, etc., as an initiator.

得られたくし型共重合体は、成形用熱可塑性樹
脂と配合して使用される。その際、ビニルピリジ
ニウム塩系単量体残基を含有しない、くし型共重
合体を用いる場合は、配合した後、得られた組成
物、または、該組成物を用いて成形した成形品を
ピリジニウム塩化試薬で処理して帯電防止効果を
付与することができる。
The obtained comb-shaped copolymer is used by blending with a thermoplastic resin for molding. At that time, when using a comb-shaped copolymer that does not contain vinylpyridinium salt monomer residues, after blending, the resulting composition or a molded article molded using the composition contains pyridinium. It can be treated with a chlorinating reagent to impart an antistatic effect.

本発明の帯電防止剤のくし型共重合体と成形用
熱可塑性樹脂との配合比率は、必要に応じ、適宜
定められるが、得られた組成物中のビニルピリジ
ン系単量体残基及びビニルピリジニウム塩系単量
体残基の含量の合計量が1〜10重量%とするのが
好ましい。この場合、他の親水性樹脂、例えば親
水性単量体とメチルメタクリレートの共重合体を
配合すると、帯電防止効果をより向上させること
ができる。また、本発明の帯電防止剤のくし型共
重合体は、成形用熱可塑性樹脂成形品の表面に塗
布して使用しても差支えはない。
The blending ratio of the comb-shaped copolymer of the antistatic agent of the present invention and the thermoplastic resin for molding is appropriately determined as necessary, but the vinyl pyridine monomer residue and vinyl The total content of pyridinium salt monomer residues is preferably 1 to 10% by weight. In this case, by blending another hydrophilic resin, such as a copolymer of a hydrophilic monomer and methyl methacrylate, the antistatic effect can be further improved. Furthermore, the comb copolymer of the antistatic agent of the present invention may be used by coating it on the surface of a thermoplastic resin molded article.

「本発明の効果」 本発明の帯電防止剤のくし型共重合体は、成形
用熱可塑性樹脂との相溶性が高い高分子量単量体
残基成分を含むので、該樹脂の物性を低下させる
ことなく、また、ビニルピリジン系単量体残基及
びビニルピリジニウム系単量体残基から成る群か
ら選ばれた少なくとも1種の単量体残基成分を含
むので、優れた帯電防止効果を付与することがで
き、その帯電防止効果の持続性も著しく向上させ
るので、産業上の利用価値は大である。
"Effects of the present invention" The comb-shaped copolymer of the antistatic agent of the present invention contains a high molecular weight monomer residue component that is highly compatible with the thermoplastic resin for molding, so it reduces the physical properties of the resin. Furthermore, since it contains at least one monomer residue component selected from the group consisting of vinylpyridine monomer residues and vinylpyridinium monomer residues, it provides an excellent antistatic effect. It can significantly improve the sustainability of its antistatic effect, so it has great industrial utility value.

〔実施例〕〔Example〕

実施例及び比較例に基づいて、本発明を具体的
に説明する。
The present invention will be specifically explained based on Examples and Comparative Examples.

以下の各実施例及び比較例において、帯電防止
効果は、表面抵抗及び帯電半減期によつて、評価
した。
In each of the following Examples and Comparative Examples, the antistatic effect was evaluated based on surface resistance and charging half-life.

表面抵抗は、107Ω/cm未満の範囲では、三和
計器製作所製、Digital Multimeter、8000 ZM
により、8cm×8cm×1mmの試料片を用いて、電
極間距離5cmで測定して得た抵抗値を、上記電極
間距離(5cm)で除した値で表示した。なお、電
極の接触抵抗の影響を減ずるために、電極−サン
プル間の接触部分には、食塩水を塗布した。
For surface resistance in the range less than 10 7 Ω/cm, use Sanwa Keiki Seisakusho's Digital Multimeter, 8000 ZM.
Using a sample piece of 8 cm x 8 cm x 1 mm, the resistance value was measured at an inter-electrode distance of 5 cm and was expressed as the value divided by the above-mentioned inter-electrode distance (5 cm). In addition, in order to reduce the influence of contact resistance of the electrode, saline solution was applied to the contact area between the electrode and the sample.

表面抵抗値が、107Ω/cm以上の場合は、補償
電極法によつて測定した。測定装置としては、
Hewlett−Packard社Resistivity Cell/High−
Resistance Meterを用いて測定した。試料片は、
8cm×8cm×1mmのものを用いた。帯電半減期
は、Shishido&Co.製“Static Honestometer、
Type S−4104”を用いて測定した。
When the surface resistance value was 10 7 Ω/cm or more, it was measured by the compensation electrode method. As a measuring device,
Hewlett-Packard Resistivity Cell/High-
Measured using a Resistance Meter. The sample piece is
A piece measuring 8 cm x 8 cm x 1 mm was used. The half-life of static electricity is measured using the “Static Honestometer” manufactured by Shishido & Co.
Type S-4104''.

測定条件は、印加電圧8000V、温度23℃、湿度
50%であつた。
Measurement conditions were applied voltage 8000V, temperature 23℃, and humidity.
It was 50%.

なお、表面抵抗及び帯電半減期は、測定値が小
さい程、帯電防止効果が、良好であると評価され
る。
Note that the smaller the measured value of the surface resistance and charging half-life, the better the antistatic effect is evaluated.

帯電防止効果の持続性は、試料を、温度23℃、
湿度50%に所定期間保持した後の表面抵抗及び帯
電半減期の変化によつて評価した。
The sustainability of the antistatic effect is determined by keeping the sample at a temperature of 23°C.
Evaluation was made based on changes in surface resistance and charging half-life after being maintained at 50% humidity for a predetermined period of time.

数平均分子量は、テトラハイドロフランを溶媒
として、ゲル透過型クロマトグラフイー法によつ
て測定した。
The number average molecular weight was measured by gel permeation chromatography using tetrahydrofuran as a solvent.

また、以下の実施例及び比較例で使用した試薬
等の略語は次の通りである。
Furthermore, the abbreviations of reagents, etc. used in the following Examples and Comparative Examples are as follows.

AIBN……アゾビスイソブチロニトリル DMF……ジメチルホルムアミド MEK……メチルエチルケトン MMA……メチルメタクリレート THF……テトラハイドロフラン 4VP……4−ビニルピリジン 実施例 〔高分子量単量体の製造〕 MEK500g、MMA1500g及びチオグリコール
酸52gを、攪拌装置を有する3フラスコに仕込
み、窒素気流下60℃に昇温した。60℃に昇温した
時点で、開始剤として、AIBN10gを添加して、
重合を開始した。AIBN添加後3時間経過した時
点で、ハイドロキノンを微量加えて、重合を停止
させた。反応液に、さらに、MEKを500g添加し
て希釈した後、大過剰のヘキサン中に投入して、
末端にチオグリコール酸が結合したMMAの重合
体を得た。これを、MEK/ヘキサン系で2回再
沈して精製した後、乾燥した。収量は730gであ
つた。また、数平均分子量は、5.7×103であつ
た。
AIBN...Azobisisobutyronitrile DMF...Dimethylformamide MEK...Methyl ethyl ketone MMA...Methyl methacrylate THF...Tetrahydrofuran 4VP...4-vinylpyridine Example [Production of high molecular weight monomer] MEK500g, MMA1500g and 52 g of thioglycolic acid were charged into three flasks equipped with a stirring device, and the temperature was raised to 60° C. under a nitrogen stream. When the temperature was raised to 60℃, 10g of AIBN was added as an initiator.
Polymerization started. Three hours after the addition of AIBN, a small amount of hydroquinone was added to stop the polymerization. Further, 500 g of MEK was added to the reaction solution to dilute it, and then poured into a large excess of hexane.
A polymer of MMA with thioglycolic acid bonded to the terminal was obtained. This was purified by reprecipitation twice with MEK/hexane system, and then dried. The yield was 730g. Further, the number average molecular weight was 5.7×10 3 .

容量500mlのフラスコに、キシレン200gを仕込
み、続いて、上記重合体200g、グリシジルメタ
クリレート9.5g及びp−メトキシフエノール2
mgを仕込んだ。昇温しながら、上記重合体を溶解
した。上記フラスコの内温が、100℃になつた時
点でN,N−ジメチルラウリルアミンを添加し、
130℃まで昇温し、5時間反応させた。
Into a flask with a capacity of 500 ml, 200 g of xylene was charged, followed by 200 g of the above polymer, 9.5 g of glycidyl methacrylate, and 2 g of p-methoxyphenol.
I prepared mg. The above polymer was dissolved while increasing the temperature. When the internal temperature of the flask reached 100°C, N,N-dimethyllaurylamine was added,
The temperature was raised to 130°C and the reaction was continued for 5 hours.

反応終了後、反応液の一部を分取し、酸−塩基
滴定により、上記重合体の末端に結合したチオグ
リコール酸の−COOH基が消失したことを確認
した。続いて、MEKを加えて3倍に希釈した後、
大過剰のヘキサン中に投入して、得られたMMA
系高分子量単量体を沈澱させた。
After the reaction was completed, a portion of the reaction solution was collected and acid-base titration was performed to confirm that the -COOH group of thioglycolic acid bonded to the terminal of the polymer had disappeared. Then, after adding MEK and diluting it 3 times,
MMA obtained by adding it to a large excess of hexane
The system high molecular weight monomers were precipitated.

得られた高分子量単量体を、さらに2回、
MEK/ヘキサン系で再沈精製した。
The obtained high molecular weight monomer was further added twice.
It was purified by reprecipitation using MEK/hexane system.

MMA系高分子量単量体の収量は200gであつ
た。
The yield of the MMA-based high molecular weight monomer was 200 g.

〔MMA系高分子量単量体−4−ビニルピリジ
ン−親水性メタクリレート3元系くし型共重合
体の製造〕 攪拌装置を有する容量200mlのフラスコに、上
記MMA系高分子量単量体を50g、4−VPを25
g、親水性メタクリレートとして、 CH2=C(CH3)CO(―OCH2CH2)―oOH (n=4及び5の混合物)を25gおよびDMFを
75g仕込んだ後、攪拌しながら70℃まで昇温し
た。70℃に昇温した時点で定温に保持し、
AIBN0.2gを添加して、2時間重合させた後、
p−メトキシフエノールを微量加えて重合を停止
させた。反応液をTHFで3倍に希釈した後、大
過剰の水中に投入して、くし型共重合体を沈澱さ
せた。脱水乾燥後、さらに、2回、THF/水系
で再沈精製した後、乾燥した。
[Production of MMA-based high molecular weight monomer-4-vinylpyridine-hydrophilic methacrylate ternary comb copolymer] In a 200 ml flask equipped with a stirring device, 50 g of the above MMA-based high molecular weight monomer, 4 −25 VP
g, as a hydrophilic methacrylate, 25 g of CH2 =C( CH3 )CO( -OCH2CH2 ) -oOH (mixture of n=4 and 5) and DMF.
After charging 75g, the temperature was raised to 70°C while stirring. Once the temperature has risen to 70℃, keep it at a constant temperature.
After adding 0.2 g of AIBN and polymerizing for 2 hours,
Polymerization was stopped by adding a small amount of p-methoxyphenol. The reaction solution was diluted 3 times with THF and then poured into a large excess of water to precipitate the comb copolymer. After dehydration and drying, the product was further purified twice by reprecipitation using a THF/water system, and then dried.

収量は62gであつた。 The yield was 62g.

元素分析の結果、MMA系高分子量単量体残基
68重量%、4VP残基11重量%、親水性メタクリレ
ート残基21重量%であつた。
As a result of elemental analysis, MMA-based high molecular weight monomer residues
68% by weight, 11% by weight of 4VP residues, and 21% by weight of hydrophilic methacrylate residues.

得られた共重合体を用いて、8cm×8cm×1mm
の試料を作成し、デシケーター中で塩酸ガスと24
時間接触させて、表面をピリジニウム塩化した。
Using the obtained copolymer, 8cm x 8cm x 1mm
A sample was prepared and treated with hydrochloric acid gas in a desiccator for 24
The surface was pyridinium salted by contacting for a period of time.

この試料の表面抵抗は、1.5×105Ω/cm、ま
た、帯電半減期は、印加電圧除去後、直ちに、帯
電が消失したので測定できなかつた。
The surface resistance of this sample was 1.5×10 5 Ω/cm, and the charging half-life could not be measured because the charging disappeared immediately after the applied voltage was removed.

〔3元系くし型共重合体とMMA樹脂との組成
物の製造〕 上記3元系くし型共重合体を、MMAホモ重合
体(220℃、10Kgの条件で測定したメルトフロー
インデツクスが3.9g/10分)と4VP残基の含量
が3重量%となるようにブレンド(130℃でロー
ル混練)した後、190℃で圧縮成形した厚さ1mm
のシートを作成した。このシートから、8cm×8
cmの試料を切り取り、デシケーター中で塩酸ガス
と24時間接触させて、ピリジニウム塩化した。こ
の試料の表面抵抗は、2×109Ω/cm、帯電半減
期は、1秒であつた。この試料を、90℃、2mm
Hgの条件で5時間保持した後、及び、1ケ月間
気温23℃、湿度50%で、保存した後、表面抵抗及
び帯電半減期を測定したが、変化はなかつた。
[Manufacture of composition of ternary comb copolymer and MMA resin] The above ternary comb copolymer was mixed with MMA homopolymer (melt flow index measured at 220°C and 10 kg condition is 3.9) g/10 min) and 4VP residue at a content of 3% by weight (roll kneading at 130°C), and then compression molded at 190°C to a thickness of 1 mm.
A sheet was created. From this sheet, 8cm x 8
A cm sample was cut and exposed to hydrochloric acid gas in a desiccator for 24 hours to form a pyridinium salt. The surface resistance of this sample was 2×10 9 Ω/cm, and the charging half-life was 1 second. This sample was heated to 90℃ and 2mm
After being kept under Hg conditions for 5 hours and after being stored for one month at a temperature of 23° C. and a humidity of 50%, the surface resistance and charging half-life were measured, but no changes were found.

実施例 2 〔MMA系高分子量単量体−4VP2元系くし型
共重合体の製造〕 実施例1で製造したMMA系高分子量単量体50
gを4VP50gと実施例1と同様にして重合した。
Example 2 [Production of MMA-based high molecular weight monomer-4VP binary comb copolymer] MMA-based high molecular weight monomer 50 produced in Example 1
Polymerization was carried out in the same manner as in Example 1 using 50 g of 4VP.

得られた、粗くし型共重合体を、クロロホル
ム/ヘキサン系を用いて再沈して精製した後、80
℃で減圧乾燥した。くし型共重合体の収量は69g
であつた。以下、このくし型共重合体を、「くし
型共重合体(V)」という。
The obtained rough-shaped copolymer was purified by reprecipitation using a chloroform/hexane system, and then
It was dried under reduced pressure at ℃. Yield of comb copolymer is 69g
It was hot. Hereinafter, this comb-shaped copolymer will be referred to as "comb-shaped copolymer (V)."

また、元素分析による組成、高分子量単量体残
基60重量%、4VP残基40重量%であつた。実施例
1と同様にして測定した表面抵抗は、2×105
Ω/cm、帯電半減期は、印加電圧除去後、直ちに
帯電が消失した。
Furthermore, the composition according to elemental analysis was 60% by weight of high molecular weight monomer residues and 40% by weight of 4VP residues. The surface resistance measured in the same manner as in Example 1 was 2×10 5
Ω/cm, charging half-life, the charging disappeared immediately after the applied voltage was removed.

〔MMA系高分子量単量体−親水性メタクリレ
ート2元系くし型共重合体の製造〕 実施例1で得られたMMA系高分子量単量体25
g及び親水性メタクリレートとして、 CH2=C(CH3)CO(―OCH2CH2)―oOH (n=4及び5の混合物)25g、ならびに、
MEK25gを攪拌装置付200mlフラスコに仕込み、
70℃に昇温し、この温度で保持した。AIBN0.05
gを添加して、重合を開始し、2時間重合を行な
つた。
[Production of MMA-based high molecular weight monomer-hydrophilic methacrylate binary comb copolymer] MMA-based high molecular weight monomer 25 obtained in Example 1
g and as hydrophilic methacrylate, 25 g of CH2 =C( CH3 )CO( -OCH2CH2 ) -oOH (mixture of n=4 and 5), and
Pour 25g of MEK into a 200ml flask with a stirrer,
The temperature was raised to 70°C and maintained at this temperature. AIBN0.05
g was added to start polymerization, and the polymerization was carried out for 2 hours.

p−メトキシフエノールを微量加えて、重合を
停止した後、反応液をMEKで3倍に希釈した。
これを、大過剰のメタノール中に投入して、くし
型共重合体を沈澱させた。該くし型共重合体を濾
別した後、メタノールで洗浄し、乾燥した。収量
は30gであつた。以下、このくし型共重合体を、
「くし型共重合体(M)」という。
After adding a small amount of p-methoxyphenol to stop polymerization, the reaction solution was diluted 3 times with MEK.
This was poured into a large excess of methanol to precipitate a comb copolymer. The comb copolymer was filtered off, washed with methanol, and dried. The yield was 30g. Below, this comb-shaped copolymer is
It is called "comb copolymer (M)."

〔組成物の製造〕 上記くし型共重合体(V)15g及びくし型共重
合体(M)12gを、実施例1で用いたMMA樹脂
173gと混練した。組成物中の4VP残基含量は、
3重量%であつた。この組成物から、プレス成形
により厚さ1mmのシートを製造し、8cm×8cmの
試料を切り出した。
[Production of composition] 15 g of the comb copolymer (V) and 12 g of the comb copolymer (M) were added to the MMA resin used in Example 1.
It was kneaded with 173g. The 4VP residue content in the composition is
It was 3% by weight. A sheet with a thickness of 1 mm was produced from this composition by press molding, and a sample of 8 cm x 8 cm was cut out.

この試料を、実施例1と同じ方法によつて、塩
化水素ガスで処理した後、表面抵抗及び帯電半減
期を測定した。
This sample was treated with hydrogen chloride gas in the same manner as in Example 1, and then the surface resistance and charging half-life were measured.

表面抵抗は、1.5×109Ω/cm、帯電半減期は1
秒以下であつた。
Surface resistance is 1.5×10 9 Ω/cm, charging half-life is 1
It was less than a second.

この試料を、実施例1と同じ条件で、1ケ月間
保存したが表面抵抗及び帯電半減期に変化はなか
つた。
This sample was stored for one month under the same conditions as in Example 1, but there was no change in surface resistance or charging half-life.

実施例 3 実施例2で製造した、くし型共重合体(V)、
ABS樹脂(三菱モンサント化成(株)TFX −
410CB)とを、4VP残基含量が、2重量%となる
ように混練して得られた、組成物を用いて、厚さ
1mmのシートを作成し、実施例1と同様にして四
級化した後、表面抵抗及び帯電半減期を測定し
た。
Example 3 Comb copolymer (V) produced in Example 2,
ABS resin (Mitsubishi Monsanto Chemical Co., Ltd. TFX −
410CB) so that the 4VP residue content was 2% by weight, a sheet with a thickness of 1 mm was prepared using the composition, and quaternized in the same manner as in Example 1. After that, the surface resistance and charging half-life were measured.

その結果、表面抵抗は、1×1010Ω/cm、ま
た、帯電半減期は、2秒であつた。1ケ月経過後
も、上記測定値に変化がなかつた。
As a result, the surface resistance was 1×10 10 Ω/cm, and the charging half-life was 2 seconds. Even after one month had passed, there was no change in the above measured values.

比較例 1 特開昭59−230057号公報実施例6の記載にした
がい、SO3Na型くし型共重合体−MMA樹脂組
成物を製造した。本明細書記載の方法にしたが
い、上記組成物の表面抵抗及び帯電半減期を測定
した所、表面抵抗は、2×1012Ω/cm、帯電半減
期は3.5秒であつた。
Comparative Example 1 A SO 3 Na comb copolymer-MMA resin composition was produced according to the description in Example 6 of JP-A-59-230057. The surface resistance and charging half-life of the above composition were measured according to the method described in this specification, and the surface resistance was 2×10 12 Ω/cm, and the charging half-life was 3.5 seconds.

実施例1と同様にして、1ケ月経過後の表面抵
抗は、2×1013Ω/cm、帯電半減期は6秒であつ
た。
In the same manner as in Example 1, the surface resistance after one month was 2×10 13 Ω/cm, and the charging half-life was 6 seconds.

すなわち、帯電防止効果の持続性は、本発明に
係るくし型共重合体(実施例1〜3)よりも低い
ものである。
That is, the durability of the antistatic effect is lower than that of the comb copolymers according to the present invention (Examples 1 to 3).

比較例 2 〔4VP−MMAランダム共重合体の製造〕 4VP50g、MMA50g及びDMF50gを攪拌機
を備えた200mlフラスコに秤取し、70℃に昇温し
た。次いで、AIBN0.38gを加え、重合を開始さ
せた。3時間後、ハイドロキノンの微量を加えて
停止した。
Comparative Example 2 [Manufacture of 4VP-MMA random copolymer] 50 g of 4VP, 50 g of MMA, and 50 g of DMF were weighed into a 200 ml flask equipped with a stirrer, and the temperature was raised to 70°C. Next, 0.38 g of AIBN was added to initiate polymerization. After 3 hours, it was stopped by adding a trace amount of hydroquinone.

メタノールで3倍量に希釈してから大量の水中
に投入してポリマーを回収、次いでTHF/ヘキ
サンにより再沈精製した。乾燥ポリマーの収量は
約50gで、4VP残基含量は、56.3重量%であつ
た。
The polymer was diluted to 3 times its volume with methanol and poured into a large amount of water to recover the polymer, and then purified by reprecipitation using THF/hexane. The yield of dry polymer was approximately 50 g, and the 4VP residue content was 56.3% by weight.

〔組成物の製造〕 上記ランダム共重合体とMMA樹脂を、4VP残
基含量が、3重量%となるように混練した。得ら
れた組成物を用いて、厚さ1mmのシートを作成し
て、実施例1と同様にして四級化した。表面抵抗
は、1×1012Ω/cm、帯電半減期は13秒であつ
た。
[Production of Composition] The random copolymer and MMA resin were kneaded so that the 4VP residue content was 3% by weight. Using the obtained composition, a sheet with a thickness of 1 mm was prepared and quaternized in the same manner as in Example 1. The surface resistance was 1×10 12 Ω/cm, and the charging half-life was 13 seconds.

4VP残基を含有するくし型共重合体を用いた場
合(実施例1〜3)に比較して、表面抵抗及び、
帯電半減期がともに劣化した。
Compared to the case of using a comb-shaped copolymer containing 4VP residues (Examples 1 to 3), the surface resistance and
Both charging half-lives deteriorated.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 数平均分子量が、1×103〜2×104であるビ
ニル系単量体残基からなる重合体部分からなり、
しかも、該重合体部分は、その1つの末端に重合
性ビニル基を有する高分子量単量体残基20〜80重
量%、ビニルピリジン系単量体残基及びビニルピ
リジニウム系単量体残基からなる群から選ばれた
少なくとも1種の単量体残基80〜20重量%、なら
びに、親水性単量体残基0〜60重量%からなるビ
ニルピリジン系くし型共重合体を使用したことを
特徴とする帯電防止剤。 2 ビニル系単量体残基が、メチルメタクリレー
ト残基である特許請求の範囲第1項記載の帯電防
止剤。 3 親水性単量体残基を10〜30重量%含有する特
許請求の範囲第1項または第2項記載の帯電防止
剤。
[Scope of Claims] 1. Consists of a polymer portion consisting of vinyl monomer residues having a number average molecular weight of 1×10 3 to 2×10 4 ,
Moreover, the polymer portion is composed of 20 to 80% by weight of high molecular weight monomer residues having a polymerizable vinyl group at one end, vinylpyridine monomer residues, and vinylpyridinium monomer residues. The use of a vinylpyridine-based comb copolymer consisting of 80 to 20% by weight of at least one monomer residue selected from the group consisting of 0 to 60% by weight of a hydrophilic monomer residue Characteristic antistatic agent. 2. The antistatic agent according to claim 1, wherein the vinyl monomer residue is a methyl methacrylate residue. 3. The antistatic agent according to claim 1 or 2, which contains 10 to 30% by weight of hydrophilic monomer residues.
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Citations (5)

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JPS5017233A (en) * 1973-06-13 1975-02-24
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