JPH0475643B2 - - Google Patents

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JPH0475643B2
JPH0475643B2 JP1118261A JP11826189A JPH0475643B2 JP H0475643 B2 JPH0475643 B2 JP H0475643B2 JP 1118261 A JP1118261 A JP 1118261A JP 11826189 A JP11826189 A JP 11826189A JP H0475643 B2 JPH0475643 B2 JP H0475643B2
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JP
Japan
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legs
reactor
pair
magnetic flux
winding
Prior art date
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Application number
JP1118261A
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English (en)
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JPH01315116A (ja
Inventor
Seiperu Uinfuriido
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Hewlett Packard Japan Inc
Original Assignee
Yokogawa Hewlett Packard Ltd
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Publication date
Application filed by Yokogawa Hewlett Packard Ltd filed Critical Yokogawa Hewlett Packard Ltd
Publication of JPH01315116A publication Critical patent/JPH01315116A/ja
Publication of JPH0475643B2 publication Critical patent/JPH0475643B2/ja
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01FMAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
    • H01F21/00Variable inductances or transformers of the signal type
    • H01F21/02Variable inductances or transformers of the signal type continuously variable, e.g. variometers
    • H01F21/08Variable inductances or transformers of the signal type continuously variable, e.g. variometers by varying the permeability of the core, e.g. by varying magnetic bias
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01FMAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
    • H01F29/00Variable transformers or inductances not covered by group H01F21/00
    • H01F29/14Variable transformers or inductances not covered by group H01F21/00 with variable magnetic bias
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
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    • H01F29/00Variable transformers or inductances not covered by group H01F21/00
    • H01F29/14Variable transformers or inductances not covered by group H01F21/00 with variable magnetic bias
    • H01F2029/143Variable transformers or inductances not covered by group H01F21/00 with variable magnetic bias with control winding for generating magnetic bias

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Coils Of Transformers For General Uses (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は電力供給装置の出力電圧を制御するた
めに使用されるリアクトル用コアの改良に関す
る。
従来から電力供給装置の出力電圧を制御するた
めに、チヨツパ回路が、商用電源ラインに接続さ
れた整流回路と可変リアクトルとの間に挿入され
ている。
前記可変リアクトルは、同一のコアに巻回され
た制御用巻線およびリアクトル巻線とによつて構
成されており、前記リアクトル巻線はコンデンサ
と共に共振回路を構成している。
出力電圧の制御は以下の様にして行なわれる。
即ち、前記制御用巻線に流れるバイアス電流は出
力電圧によつて制御されるので、制御用巻線を介
して、出力電圧に対応した磁束が前記コア内部に
発生する。
前記磁束により前記リアクトル巻線のインダク
タンスは変化するので共振周波数は変化する。
これによつて出力電圧は制御される(米国特許
願第70479号参照)。
電力供給装置の起動時、制御用巻線はバイアス
されていないので、リアクトル巻線のインダクタ
ンスは最大値を有している。このため、負荷への
供給電圧は低い値に制限され又、制御用巻線に流
れる電流も低い値に制限されるのでリアクトル巻
線のインダクタンスを制御できない。これを防止
するために、コア内部にギヤツプを設けてインダ
クタンスを低下させた場合、大電圧出力を制御で
きないという欠点があつた。
本発明は上記欠点に鑑みなされたもので、ギヤ
ツプを有する一対の脚部と、ギヤツプを有しない
一対の脚部と台部とによつてコアを構成し、可変
リアクトルに使用して最適なリアクトル用コアを
提供することを目的とする。
以下本発明の実施例を用いて詳述する。
第1図は、本発明のコアを使用した可変リアク
トルである。
第1図で示されるコアはフエライトの如き磁性
材料から成つており、また、脚部2および4から
成る第1の対は長方形の対角部に配され、かつ
夫々にギヤツプG1およびG2を有している。脚部
6および8から成る第2の対は別異の対角部の端
部に配されている。台部10はその中に短形開口
部12を有する平板として示されており、部材
S1,S2,S3およびS4を有するフレームは、各々
に、脚部2,6;6,4;4,8および8,2の
上端部の間で磁気回路を構成する。また、台部1
4はここではその中に矩形開口部16を有する平
板として示されており、部材S1′,S2′,S3′および
S4′を有するフレームは、各々、脚部2,6;6,
4;4,8および8,2の下端部の間で磁気回路
を構成する。台部10および14は、その構造を
簡単化するために、脚部2,4,6および8に直
交する矩形フレームとして示されているけれど
も、台部10および14は平板状または矩形状で
ある必要はなく、また、脚部2,4,6およびび
8は並行または長方形の対角端部にある必要はな
い。図示したコアは、台部10及び14から直角
に伸びているそれぞれの脚部の約半分を有する半
片2つを、それぞれにおいてモールド形成しても
良い。台部10および14に対して各々に連接さ
れている脚部2および4の部分は脚部6および8
の部分よりは短かくされており、モールドされた
それぞれの半片がライン18および20で示され
るように互いに脚部6および8を接触させたとき
に、ギヤツプG1およびG2を形成するようにされ
ている。
リアクトル巻線LRおよびLR′は、各々ギヤツプ
のある脚部2および4に巻回されている。また、
制御用巻線LCおよびLC′は、各々、ギヤツプのな
い、即ち連続した脚部6および8に巻回されてい
る。図示されていないけれども、リアクトル巻線
LRおよびLR′は制御用巻線LCおよびLC′と同様に
直列に結合されている。リアクトル巻線LRおよ
びLR′の巻方向は脚部2および4において反対方
向の磁束を生じるように巻回されている。巻方向
は点によつて示されている。また、制御用巻線
LCおよびLC′の巻方向は脚部6および8において
反対方向の磁束を生じるように点によつて示され
ている。
第2図に、本発明の他の実施例を示す。第1図
と同一部分には同一番号を付す。
第2図の実施例では開口部22,24は長方形
でなく円形である。
第3,第4,第5図は、第1,第2図に示すリ
アクトル巻線LR,LR′および制御用巻線LC,LC
に電流を流した場合に生じる磁速を示している。
説明を簡単にするために磁束は、直線で示され
ている。又、各磁束の方向は矢印で示されてい
る。
第3図は、リアクトル巻線LRおよびLR′に正の
半サイクルの交流電流を流した場合に生じる交流
磁束を示している。
また、第4図は、交流電流の負の半サイクルに
よつて生じる交流磁束を示している。第5図は、
制御用巻線LCおよびLC′に直流電流を流した場合
の直流磁速を示している。ある経路における交流
磁速が直流磁束と同一方向であつたとき、コアの
材料が更に飽和されるように駆動されるため、交
流磁束は殆ど流れない。しかし、ある経路におけ
る交流磁束が直流磁束と反対方向にあるときは、
コアの材料が飽和されない方向に駆動されるため
に、より多くの交流磁束が流れる。かくして、第
3および4図において各々に示すようにリアクト
ル巻線LRおよびLR′における電流の半サイクルの
間に、交流磁束は主に点線の矢印のように流れ
る。第3図で例示されている半サイクルの間に、
リアクトル巻線LRによつて生じた交流磁束はコ
アの左後部における経路すなわち、脚部2、部材
S1′脚部6、部材S1を流れ、また、リアクトル巻
線LR′によつて生じた交流磁束はコアの右前部に
おける経路すなわち、脚部4、部材S3、脚部8、
部材S3′を流れる。
第4図で例示されている半サイクルの間に、リ
アクトル巻線LRによつて生じた交流磁束はコア
の左前部における経路すなわち、脚部2、部材
S4、脚部8、部材S4′を流れる。また、リアクト
ル巻線LR′によつて生じた交流磁束はコアの右後
部における経路すなわち、脚部4、部材S2′、脚
部6、部材S2を流れる。
しかしながら、最も重要なことは、ギヤツプ
G1およびG2を有する脚部2および4から成る第
1の対には直流磁束は流れない。しかし、制御さ
れるべき交流磁束が流れる経路には、制御用巻線
LC、LC′によつて直流磁束が流れるので、リアク
トル巻線のインダクタンスを制御できる。
直流磁束はギヤツプG1およびG2を通して流れ
ないので、コアの部分に所望の交流および直流磁
束を維持させるために制御用巻線LCおよびLC′で
必要とされる電流は小さい。
第1図、第2図に示す台部10および14は剛
性の平板であつてもよい。しかしながら、直流磁
束は一方の対角線に沿つて流れ、交流磁束は他の
対角線に沿つて流れるので、交流磁束成分と共通
の直流磁束成分は第1図、第2図に示した実施例
におけるよりも小さい。よつて出力電圧の制御効
果は多少減小する。
以上述べた如く本発明のリアクトル用コアは第
1の脚部の対はギヤツプを有し、第2の脚部の対
はギヤツプを有していない構造なので、可変リア
クトルに応用した場合、制御用巻線に流れる電流
が小さくても、リアクトル巻線のインダクタンス
を制御することができる。また、電力供給装置の
始動時の動作にも悪影響を及ぼすことがなく十分
大きなリアクトル巻線インダクタンスを保持でき
る。
【図面の簡単な説明】
第1図、第2図は本発明のリアクトル用コアを
使用した可変リアクトルを示す図。第3図,第4
図,第5図は本発明のリアクトル用コアを用いた
可変リアクトルに生じる磁束の方向を示す図。 LR,LR′……リアクトル巻線、LC,LC′……制
御用巻線、G1,G2……ギヤツプ、S1,S2,S3
S4,S1′,S2′,S3′,S4′……部材、2,4,6,
8……脚部、10,14……台部。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 ギヤツプを有する脚部の第1の対と、 ギヤツプを有しない脚部の第2の対と、 開口部を有し、該開口部の周りに、前記それぞ
    れの対における2つの脚部が互いに該開口部を挟
    んで対向しかつ該2つの脚部を結ぶ線が他の対に
    おける2つの脚部を結ぶ線と交差するよう、それ
    ぞれの脚部の一端を結合し、該各一端間で磁束通
    路を構成する第1の台部と、 開口部を有し、該開口部の周りに前記それぞれ
    の対における脚部の他端を結合し、該各他端間で
    の磁束通路を構成する第2の台部と、 を備えて成り、前記第1の対の各脚部には互い
    に直列接続されたリアクトル巻線の各々が巻装さ
    れ、前記第2の対の各脚部には互いに直列接続さ
    れた制御用巻線の各々が巻装されて使用されるこ
    とを特徴とするリアクトル用コア。 2 前記第1および第2の台部の少なくとも1つ
    が前記開口部を有しないことを特徴とする特許請
    求の範囲第1項記載のリアクトル用コア。
JP1118261A 1981-04-24 1989-05-11 リアクトル用コア Granted JPH01315116A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US06/257,018 US4419648A (en) 1981-04-24 1981-04-24 Current controlled variable reactor
US257018 1981-04-24

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Publication Number Publication Date
JPH01315116A JPH01315116A (ja) 1989-12-20
JPH0475643B2 true JPH0475643B2 (ja) 1992-12-01

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ID=22974562

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JP1982059493U Pending JPS57178408U (ja) 1981-04-24 1982-04-23
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