JPH0467544A - 陰極線管の帯電防止膜形成方法 - Google Patents

陰極線管の帯電防止膜形成方法

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JPH0467544A
JPH0467544A JP17742790A JP17742790A JPH0467544A JP H0467544 A JPH0467544 A JP H0467544A JP 17742790 A JP17742790 A JP 17742790A JP 17742790 A JP17742790 A JP 17742790A JP H0467544 A JPH0467544 A JP H0467544A
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JP
Japan
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silicate
ray tube
film
preventing film
atmosphere
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Pending
Application number
JP17742790A
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English (en)
Inventor
Toshio Tojo
利雄 東條
Shoko Nishizawa
昌紘 西澤
Seiji Miura
清司 三浦
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Hitachi Consumer Electronics Co Ltd
Japan Display Inc
Original Assignee
Hitachi Device Engineering Co Ltd
Hitachi Ltd
Hitachi Consumer Electronics Co Ltd
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Publication date
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  • Formation Of Various Coating Films On Cathode Ray Tubes And Lamps (AREA)
  • Vessels, Lead-In Wires, Accessory Apparatuses For Cathode-Ray Tubes (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は陰極線管の7工−ス表面にシリカ膜よりなる帯
電防止膜を形成する方法に関する。
〔従来の技術〕
従来、陰極線管の帯電防止膜形成方法として、例えば特
開昭63−124331号公報に示すように、陰極線管
のフェース表面に、金属化合物を含みシリケートを主成
分とするアルコール溶液をスプレー塗布あるいは回転塗
布した後、加熱処理することにより、金属化合物を含み
シリカ(sio、)金主成分とし、微細な凹凸と導電性
を有する反射防止効果及び帯電防止効果を持つ膜を形成
する技術か知られている。
〔発明が解決しようとする課題〕
上記従来技術により、帯電防止膜の表面抵抗は101〜
1011Ωのものが形成できる。しかし、この表面抵抗
値の範囲は陰極線管の帯電防止膜としては、ばらつきの
大きいものであり、安定した帯電防止効果を持つ陰極線
管が得ら扛ないという問題があった。
本発明の目的は、表面抵抗のばらつきが小さく、また表
面抵抗値も低く、導電性の良い帯電防止膜が得られる陰
極線管の帯電膜形成方法を提供することKある。
〔課題を解決するための手段〕
上記目的を達成するために、陰極線管のフェース表面を
予熱するフェース予熱工程と、無機塩あるいは金属酸化
物等の導電材料を含みシリケートを主成分とするアルコ
ール溶液全フェース表面に塗布するシリケート液塗布工
程と、塗布したシリカ膜を加熱処理する加熱処理工程か
らなる陰極線管の帯電防止膜形成方法において、少なく
とも前記シリケート塗布工程の雰囲気を10〜3ot/
rrr”の絶対湿度で規定したものである。
〔作用〕
無機塩や金属酸化物等の導電材料金倉みシリカを主成分
とする膜については、シリカや無機塩の吸着水が導電性
に大きく関与していると一般に考えられている。従って
、シリカ膜の導電性が膜表面の化学吸着、物理吸着によ
る水分量によって得られている場合は、雰囲気の相対湿
度によりシリカ膜の表面抵抗が変り易(・と考えられ、
実際にも確認されている。
しかしながら、シリカ膜を形成する工程において、特に
シリケート液をスプレー塗布あるいは回転塗布するシリ
ケート液塗布工程での絶対湿度が高℃・はどシリカ膜の
導電性が艮くなり、雰囲気の相対湿度にあまり影響を受
けないことが判明した。
これは、シリカ腹表面の化学吸着、物理吸着の水分量だ
けでな(、シリカ膜中に取り込まれる水分量が増大した
ため、これが導を性を良くしたものと考えられる。
実験の結果、シリケート液塗布工程の雰囲気の絶対湿度
を10〜309/m’の範囲、好1しくは10〜20t
/ゴの範囲江規定した場合に良好な結果が得られた。部
ら、10g/rn’以下では目おとする導電性が得られ
ず、30♂7″m’以上ではスプレー塗布や回転塗布に
よる均一な膜はできなかったり、膜の機械的強度が急に
弱くなったりして、陰極線管のフェース表面に形成する
帯電防止膜としては不適当なものとなってしまう。
〔実施例〕
以下、本発明の一実施例を図上用いて説明する。
帯電防止膜は第1図に示す工程によって形成される。
まず、陰極線管のフェース表面を洗浄工した後、フェー
ス表面を30〜60℃に予熱2する。次にシリケートの
アルコール溶液をフェース表面にスプレー塗布又は回転
塗布3する。ここで、前記シリケートのアルコール溶液
としては、エチルシリケート6〜9wt%、イソプロピ
ルアルコール8wt%、硝酸1〜6wt%、純水6〜9
wt%、塩化アルミニウム(L5〜2wt%、エタノー
ル残部からなるものを用いた。次にこの塗布工程3で得
られたシリカ膜を100〜200℃、30〜60分間で
加熱処理4し、陰極線管の7工−ス表面に0.1〜20
厚さのシリカ系の帯電防止膜を形成した。
第2図は前記シリケート液塗布工程3及び加熱処理工程
4において、絶対湿度を変えた時のシリカ膜の表面抵抗
値を示す。またIE3図は陰極線管のスイッチ(SW)
−ON・OFF後のフェース表面の帯電圧の減衰曲線を
示す。これらの図から明らかなように1絶対湿度が10
97’!L’以上のときシリカ膜の表面抵抗値をlXl
0’・Ω以下と低くでき、陰極線管のフェース表面の帯
電圧の減衰も速くできた。しかしながら、絶対湿度が3
0t、/ビ以上の時、スプレー塗布ではフェース表面上
に付着する個々のシリカ粒子の輪郭が不明瞭になり、シ
リカ膜としては官能的に好ましくない微少部分のぎらつ
き現象が発生したり、シリカ膜の機械的強度が急に弱く
なってしまう。従って、絶対湿度10〜30t/ビの範
囲が陰極線管の帯電防止膜を形成する最適な環境である
なお、上記実施例においては、加熱処理工程4もシリケ
ート液塗布工程3と同じ雰囲気で行ったが、シリケート
液塗布工程3のみ絶対湿度10〜30t/ゴの雰囲気で
行ってもよい。
〔発明の効果〕
本発明によれは、シリケート液塗布工程の雰囲気fjr
lo〜3ot/m’の絶対湿度にすることにより、シリ
カ膜の導電性が向上し、また陰極線管としての帯電防止
効果も同上し、更に動作時の空調湿度による帯電防止効
果の変動も小さくできる。
【図面の簡単な説明】
第1図は帯電防止膜の製造工程図、第2図は雰囲気の絶
対湿度とシリカ膜の表面抵抗値との関係を示す図、第3
図は5W−ON・OFF後のフェース帯電圧減衰曲線を
示す図である。 2・・・フェース予熱工程、   3・・・シリケート
液塗布工程、  4・・・加熱処理工程。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1、陰極線管のフェース表面を予熱するフェース予熱工
    程と、無機塩あるいは金属酸化物等の導電材料を含みシ
    リケートを主成分とするアルコール溶液をフェース表面
    に塗布するシリケート液塗布工程と、塗布したシリカ膜
    を加熱処理する加熱処理工程からなる陰極線管の帯電防
    止膜形成方法において、少なくとも前記シリケート塗布
    工程の雰囲気を10〜30g/m^2の絶対湿度で規定
    したことを特徴とする陰極線管の帯電防止膜形成方法。
JP17742790A 1990-07-06 1990-07-06 陰極線管の帯電防止膜形成方法 Pending JPH0467544A (ja)

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