JPH0459005A - 水平式真空濾過機 - Google Patents
水平式真空濾過機Info
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Abstract
め要約のデータは記録されません。
Description
工業、廃棄物処理産業等において用いられ、かつ溶液中
に固形物を含むものくスラリー)の濾過、特に、粒度の
用い、すなわち20μより1000μの間の粒子を有す
る、主として水溶液を基本するスラリーの濾過及びケー
キの洗浄を行う水平式真空濾過機に関する。
空吸引を連続的に保持するものと、間欠的にバルブ等て
真空吸引と大気開放とを繰り返すものとか知られている
。このうち、前者の連続的に真空吸引を保持するものと
しては、■エンドレスコムベルトを真空箱と接触さゼコ
ムヘルトに同調さ甘酸布駆動さ姐る濾過機、■真空箱を
多数連結し循環移動させる濾過機かある。また、後者の
間欠的に真空吸引するものとしては、■特公昭55〜3
3368号公報に記載の、真空箱か真空吸引時に綿布と
ともに前進し、一定距離まで移動するとバルブの切り替
えにより真空箱か大気開放され、元の位置に急速に戻る
濾過機、■特公昭5526886号公報記載の、真空箱
を固定しノ\ルブの切り替えにて、真空箱に真空吸引と
大気開放とを交互に繰り返し、大気開放時に濾布を移動
させる濾過機がある。
するために、スラリーの供給を濾布上に均一に行うこと
かできる反面、構造か複雑になり価格が高くなるという
問題がある。
あるか、濾布か間欠的に移動し、かつ固定された箇所よ
りスラリーか供給されるため、濾布」二にケーキが均一
に形成されず、脱水効果及び洗浄効果か悪(なる問題か
ある−1−に、供給及び洗浄を間欠的にしなければなら
ず、バルブの開閉操作時の複雑さやバルブの寿命等の問
題かあった。
るものとして、間欠移動する濾布」−にスラリーを連続
的に供給することにより、均一に痔布七にスラリー層を
形成する水平式真空構過方法及び装置を提案したく特開
昭62−114616号公報参照)。
とするところは、j二記発明を改良して、さらに脱水効
果及び6し浄効果を向」ニさせることかでき、均質な製
品を得ることかCきる水平式真空濾過機を提供すること
にある。
機は、所定位置に固定された真空箱の上面に、間欠的に
移動する無端濾布か設けられ、上記真空箱の真空吸引時
には、上記無端濾布を停止させ、該無端dC相」二のス
ラリー等の被処理物の固液分離を行うと共に、洗浄を行
って脱水させる一方、」二記真空箱の真空吸引休止時に
は、上記無端濾布を所定距離移動させる水平式真空濾過
機において、上記無端濾布停止時に、上記無端濾布の間
欠移動距離に合わせて、被処理物供給装置及び洗浄装置
を濾過時間に合わせ、一定時間で前進させ、後退は前進
時間より速やかに(望ましくは前進時間の2〜5倍の速
度で)元の位置に復元させるように往復移動自在に設け
られたものである。
置及び洗浄装置を無端濾布の移動・停止に合わせて往復
移動させて、無端濾布上に被処理物の薄い層を複数層形
成させ、ケーキ形成区画の真空箱の」二部の無端濾布全
面に均一の厚みのケーキを形成させる。この場合、被処
理物供給装置を2箇所にすると、第2図ないし第4図に
示すように2層となり、かつ1箇所にすると、第5図な
いし第7図に示すように1層になる。次いで、このケー
キは無端病布を移動させることにより洗浄区画に移送さ
れる。この洗浄区画においては、例えば、第2図ないし
第7図に示すように、第1洗浄装置から第2洗浄濾液を
散布させ、第2洗浄装置から新鮮な洗浄液(例えば純水
、水道水等)を散布する。この際、各洗浄装置は、被処
理物供給装置と共に往復移動しながら連続的に洗浄液を
散布するので、ケーキ層か均一であることとあわせて、
洗浄液かケーキ層の全面に拡散し易く、ケーキ全体にわ
たってむらなく洗浄液がいきわたる。さらに、洗浄され
たケーキは後段の脱水区画で脱水される。この場合、ケ
ーキ層が均一であるので、ケーキ内の濾液及び通過空気
か平均して真空吸引され、無駄な(かつ脱水効果か高い
。また、被処理物供給装置及び洗浄装置の連結台数は、
ケーキの物性・濾過性及び脱水製品の希望純度等により
、1台ないし複数台か適宜決定される。
明する。
、これらの図において符号1は、無端濾布であり、この
無1JUfa布1は、駆動ロール2と、複数個(第1図
において4個)の支持ロール3゜4、.5.6と、案内
ロール7との間に巻き掛けられたものである。そして、
駆動ロール2の近傍には、無端濾布l」二のケーキを掻
き落とすためのスクレーパ8が設けられている。また、
上記支持ロール4には、上記無端濾布1の張力を緩めた
り強めたりして無端濾布1を間欠的に移動さ已る濾布移
動装置9か設けられているう 」二記載端構布1の水平部分1aの下部には、5個の真
空箱A1〜A5は、それぞれ独立して、制御弁]、Oa
、10bと濾液槽toeとに連結されており、各濾液槽
1.0 Cは、真空ポンプ11及び濾液ポンプ12に連
結されている。そして、各真空箱A]〜八5は、独立し
て所要の真空圧及び大気開放操作を行い得るようになっ
ている。また、各真空箱A1〜A51の無端濾布1は、
それぞれ、第1.第2ケーキ形成区画、第1.第2洗浄
区画脱水区画に区分されている。
フレーム]3に支持された第1.第2スラリー供給装置
1.4.1.5及び第1.第26Q浄装置16.17か
、互いに連結具18を介して連結された状態で往復移動
自在に設けられている。そして、jz 記a 結具18
には、シリンダ19のピストンロット15は、−に記第
1,第2ケーキ形成区画にそれぞれスラリーを供給する
と共に、各洗浄装置1617は、上記第1,第2洗浄区
画に、それぞれ、第2洗浄濾液(第2洗浄区画を透過し
た回収液)及び新鮮な洗浄液(例えば水道水)を供給す
るようになっている。
空濾過を行った場合について、第2図ないし第4図に基
ついて説明すると、まず、第4図において、各真空箱A
1〜A5への真空吸引を休tl=した後、濾布移動装置
9によって無端濾布1を1区画分右方に急速に移動させ
る。この場合、無端濾布1の移動に伴い、真空箱Al上
のケーキ形成区画においては、第1スラリー供給装置1
4によってスラリーか供給され、真空箱A2上の第2ケ
ーキ形成区画には、第2スラリー供給装置15によって
スラリーが供給されると共に、各真空箱A3A4上の第
1,第2洗浄区画にあっては、それぞれ、第1,第2洗
浄装置16 17によって第2洗浄痔液及び新鮮な洗浄
液か、順次、各2層のケーキ層の上に供給されて洗浄か
行われる(第2図参照〉。
、かつ各真空箱A1〜A5の真空吸引を開始すると共に
、シリンダ19のビス1〜ンロツドをゆっくり後退させ
ることによって、連結具18を介して各スラリー供給装
置1.4..1.5及び各洗浄装置16.1.7を右方
に一区画性移動させる。
、かつ第2ケーキ形成区画に第2層目のケーキ層かそれ
ぞれ形成されると共に、第1,第2洗浄区画においては
、それぞれ第2洗浄傷液及び新鮮な洗浄液が各2層のケ
ーキ層上に供給されて、ケーキ層に111着している不
純物を洗い流す一方、脱水区画にあっては、洗浄後のケ
ーキ層を真空吸引することにより、脱水乾燥が行われる
(第3図参照)。
l”を急前進させることにより、連結具18を介して各
スラリー供給装置14.,15及び各洗浄装置16,1
.7を左方に一区画性移動させる。
層か、かつ第2形成区画に第2層目のケーキ層かそれぞ
れ形成完了されると共に、第1,第2洗浄区画において
、それぞれ、第2洗fp濾液及び新鮮な洗浄液か各ケー
キ層に供給されて洗浄される一方、脱水区画においては
、洗浄後のケーキ層への脱水乾燥か継続される(第4図
参照)。そして、第4図に示す状態になると、また、上
述した初期状態に戻り、真空箱A1〜A5の真空吸弓を
休止すると共に、無端濾布1を1区画分右方に移動させ
る。
供給装置].、4.1.5によって合計2層のケーキ層
か形成され、かつ第1,第2洗浄装置16、17によっ
て順次洗浄が行われ、さらに、真空箱A51の脱水区画
において脱水乾燥か行われた後に、上記ケーキ層はスク
レーパ8によって剥ぎ取られて製品として回収される。
運転例を記述する。機器の主要寸法は、無端6も布1の
有効幅が800 mII、各真空箱A1〜A5の長さか
700u*て、かつ平均1′−γ径20μmの磁性酸化
鉄濃度15.0wt%、苛性ソータ濃度12.0wt%
の溶液を構過δL浄した。スラリーの供給速度は2箇所
からそれぞれ3000kg/hて、かつ各スラリー供給
装置1.4.15の供給口及び各洗浄装置16.]、7
の供給口をそれぞれ700i+i間隔て連結具18に取
イτjは、シリンダ1つによって連結具18を700f
flff往復移動させるようになっている。本水平式真
空濾過機を用いて、無端濾布1の静Iヒ時間15秒、移
動時間5秒、被処理物供給装置及び洗浄装置前進時間1
2秒、後退時間3秒、真空箱Al−A3の真空度4.0
0 mmHg、洗浄水600ρ/hの運転条件で、脱水
ケーキを乾燥品基桑て448 ky/h得た。得られた
脱水ケーキの物性は、水分43%、ケーキ中の苛性ソー
ダ濃度0.12wt%てあった。一方、供給装置及び洗
浄装置を固定した同機種の水平式真空濾過機で同条件で
運転した結果、得られた脱水ケーキの物性は、水分54
%、ケーキ中の苛性ソータ濃度0.37れ%であった。
に比へてはるかに純度か悪い。これは、ケーキ層の形成
か均一でなく、このため脱水にむらがあり、かつ洗浄液
か均一・にケーキに分散しなかった結果によるものと考
えられる。
。また、普通、脱水ケーキを形成する長さは、最低]ス
トロークから最高4ス1−ローフであり、これはケーキ
の濾過特性により決定する。さらに、洗浄比]の場合に
は経験的に、洗浄時間か、ケーキ形成時間よりもはるか
に短く、従って、多段洗浄によって、洗浄比を少なくし
て、なるべく1ストロ一ク以内に洗浄時間をおさえるこ
とが可能である。
もので、この実施例においては、スラリー供給装置を1
台たけにし、かつ真空箱を71個にしたものである。そ
して、それ以外の運転手順は」−記第1実施例と同様で
あり、これにより、無端濾布1」−のケーキ形成区画、
第1.第2洗浄区画、脱水区画にはそれぞれ各1層のケ
ーキ層か形成される。
所定位置に固定された真空箱の上面に、間欠的に移動す
る無端濾布が設けられ、−1−記真空箱の真空吸引時に
は、上記無端濾布を停止させ、該無端濾布−1−のスラ
リー等の被処理物の固液分離を行うど共に、洗浄を行っ
て脱水させる一方、上記真空箱の真空吸引休止時には、
」−記載端濾布を所定距離移動させる水平式真空濾過機
において、上記無端濾布停tl=、時に、上記無端濾布
の間欠移動距離に合わせて、被処理物供給装置及び洗浄
装置か往復移動自在に設けられたちのであるから、被処
理物供給装置及び洗浄装置を無端濾布の移動・停止に合
わせて往復移動させることにより、ケーキ形成区画の真
空箱の上部の無端濾布全面に均一・の厚みのケーキを形
成させることかできると共に、洗浄区画において、洗浄
装置か往復移動しながら連続的に洗浄液を散布すること
により、ケーキ層が均一であることとあわせて洗浄を伐
がケーキ層の全面に拡散し易く、ケーキ全体にわたって
むらなく洗浄液をいきわたらせることができて、円滑に
かつ確実に洗浄することができる。また、上記ケーキ層
を脱水する場合に、ケーキ層が均一であるので、濾液及
び通過空気が平均して真空吸引することかでき、無駄な
くかつ脱水効果が高い。
、第1図は概略構成図、第2図は濾布か1区画移動した
状態を示す説明図、第3図は被処理物供給装置及び洗浄
装置が1区画前進した状態を示す説明図、第4図は被処
理物供給装置及び洗浄装置が1区画後退し、1サイクル
終了して、第1ケーキ形成区画に1層目のケーキ層が、
また第2ケーキ形成区画には2層目のケーキ層が形成さ
れた状態を示す説明図、第5図ないし第7図は本発明の
第2実施例を示すものて、第5図は濾布か1区画移動し
た状態を示す説明図、第6図は被処理物供給装置及び洗
浄装置が1区画前進した状態を示す説明図、第7図は被
処理物供給装置及び洗浄装置が1区画後退し、]サイク
ル終了して、ケーキ形成区画にケーキ層が形成された状
態を示す説明図である。 1・・無端〜布、14・・第1スラリー供給装置、15
第2スラリー供給装置、16 第1洗浄装置、17
第2洗浄装置、Δ1〜Δ5・・真空箱。 出顆人 月島機械株式会社 a) 第6図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 所定位置に固定された真空箱の上面に、間欠的に移動す
る無端濾布が設けられ、上記真空箱の真空吸引時には、
上記無端濾布を停止させ、該無端濾布上のスラリー等の
被処理物の固液分離を行うと共に、洗浄を行って脱水さ
せる一方、上記真空箱の真空吸引休止時には、上記無端
濾布を所定距離移動させる水平式真空濾過機において、 上記無端濾布停止時に、上記無端濾布の間欠移動距離に
合わせて、被処理物供給装置及び洗浄装置が往復移動自
在に設けられたことを特徴とする水平式真空濾過機。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP02161858A JP3091200B2 (ja) | 1990-06-20 | 1990-06-20 | 水平式真空濾過機 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP02161858A JP3091200B2 (ja) | 1990-06-20 | 1990-06-20 | 水平式真空濾過機 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0459005A true JPH0459005A (ja) | 1992-02-25 |
JP3091200B2 JP3091200B2 (ja) | 2000-09-25 |
Family
ID=15743298
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP02161858A Expired - Lifetime JP3091200B2 (ja) | 1990-06-20 | 1990-06-20 | 水平式真空濾過機 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3091200B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000271414A (ja) * | 1999-03-26 | 2000-10-03 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | 真空濾過による粒状固形物の洗浄方法 |
-
1990
- 1990-06-20 JP JP02161858A patent/JP3091200B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000271414A (ja) * | 1999-03-26 | 2000-10-03 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | 真空濾過による粒状固形物の洗浄方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP3091200B2 (ja) | 2000-09-25 |
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