JPH0440787Y2 - - Google Patents

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JPH0440787Y2
JPH0440787Y2 JP1986203634U JP20363486U JPH0440787Y2 JP H0440787 Y2 JPH0440787 Y2 JP H0440787Y2 JP 1986203634 U JP1986203634 U JP 1986203634U JP 20363486 U JP20363486 U JP 20363486U JP H0440787 Y2 JPH0440787 Y2 JP H0440787Y2
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container
drying
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cleaning
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Description

【考案の詳細な説明】 産業上の利用分野 本考案は、有底容器を自動的に洗浄ならびに乾
燥をするための装置に関する。
従来技術 典型的な先行技術においては、容器内に連続的
に洗浄液を噴射し続けて、その容器の内面を洗浄
していた。このような先行技術では、汚損した水
が容器の内面に付着したまま残留するなどしてい
た。またその状態で乾燥すると、容器内が汚損す
ることになつた。
したがつてこのような容器が試料の分析などに
用いられる場合などには、分析の精度が低下する
などの問題点があつた。
考案が解決すべき問題点 本考案の目的は、有底容器の内面を可及的に清
浄にすることができる容器の自動洗浄・乾燥装置
を提供することである。
問題点を解決するための手段 本考案は、開口端を有する有底容器と、 有底容器を傾斜する手段と、 有底容器の開口端が下方に臨む姿勢となつた状
態で、容器内に洗浄液を噴射する洗浄液噴射手段
と、 有底容器の開口端が下方に臨む姿勢となつた状
態で、容器内に乾燥用圧縮気体を噴射する乾燥用
圧縮気体噴射手段と、 有底容器の開口端が下方に臨む姿勢となつた状
態で、容器内に乾燥用温風を連続的に噴射する乾
燥用温風噴射手段と、 傾斜手段によつて有底容器の開口端が下方に臨
む姿勢とし、次に、洗浄液噴射手段によつて洗浄
液を間欠的に第1の予め定める時間T1だけ噴射
させ、その後、乾燥用圧縮気体を間欠的に第2の
予め定める時間T2だけ噴射させ、その後、乾燥
用温風噴射手段によつて乾燥用温風を連続的に第
3の予め定める時間T3だけ噴射させる制御手段
とを含むことを特徴とする容器の自動洗浄・乾燥
装置である。
作 用 本考案に従えば、容器の開口端を下方にして、
その容器内に入つている液体および粉体などの内
容物を排出するとともに、下方から水などの洗浄
液を容器内に噴射する。この洗浄液は間欠的に噴
射されるので、休止期間に汚損した洗浄液が排出
され、容器内に残留することはない。その後、圧
縮気体を容器内に間欠的に噴射し、容器内面に付
着している洗浄液を外部に吹き飛ばし、また蒸発
させる。この圧縮気体もまた間欠的に噴射される
ので、容器内に圧縮気体も澱んで残留することが
なく、容器内部が確実に清浄化される。
このようにして乾燥用圧縮気体を間欠的に噴射
することによつて、容器内に残留した洗浄液の水
滴などが吹き飛ばされて排出されて除去されるこ
とになる。その後、乾燥用温風が連続的に噴射さ
れて、容器内に残留して付着している前記水滴を
蒸発させて、容器内の水滴を除去し、清浄にす
る。
実施例 第1図は本考案の一実施例である容器の自動洗
浄・乾燥装置2の構成を示す図である。石炭粉末
と水とを含んで成る石炭・水スラリを貯留する容
器1は、その石炭・水スラリの物理的特性などを
分析するために用いられ、この分析作業が終了し
た後に、本考案に従う容器1の自動洗浄・乾燥装
置2によつて、洗浄および乾燥が行なわれる。
洗浄されるべき容器2は、複数軸を有する産業
用ロボツトのマニユピレータの作業端3によつて
支持されており、上記作業端3は軸線4まわりに
前記容器2を矢符A方向に傾けて開口端5が下方
に臨むように傾斜させることができる。上記洗浄
されるべき容器2に収納される物体は、たとえば
燃料として用いられる石炭・水スラリおよびその
他の流動体(液体・粉体)などであつてもよい。
容器2の下方側には、下方に臨む開口端5に向
けて取付けられているノズル6にたとえば水など
の洗浄液を圧送する管路7が配設されており、こ
の管路7の途中には圧送される洗浄液の流れを制
御する電磁弁V1が設けられる。同様にして上記
開口端5に向けて取付けられるノズル8に、たと
えば空気などの圧縮気体を圧送する管路9が、そ
の途中に電磁弁V2を介して配設される。また、
上記開口端5に向けて取付けられるノズル10に
乾燥用温風を圧送する管路11が、ヒータ12を
介して配設され、この管路11には送風機15か
ら空気が圧送される。これらの電磁弁V1,V2
および送風機15は、それぞれ処理回路12によ
つて制御され、また上記産業用ロボツトの作業端
3は、駆動装置13を介して同じく処理回路12
に制御される。この処理回路12には、たとえば
キーボードなどによつて実現される入力回路14
が接続されており、これによつてたとえば電磁弁
V1〜V2および送風機15の後述される制御に
関連する設定条件などを希望する値に設定するこ
とができる。
第2図は自動洗浄・乾燥装置1の動作を示すフ
ローチヤートであり、第3図は処理回路12から
2つの電磁弁V1,V2および送風機15に対し
てそれぞれ出力される制御信号を示すタイミング
チヤートである。以下、第2図および第3図を併
せて参照して、自動洗浄・乾燥装置1の動作につ
いて説明する。
ステツプn1では、処理回路12から駆動装置
13を介して上記産業用ロボツトに駆動信号が与
えられ、作業端3によつて容器2が矢符A1方向
に角変位駆動され、開口端5が下方に臨むように
傾斜される。これに伴つて容器2内に収納された
流体が下方側に落下する。しかしながら上記流体
が一定以上の粘度を有するものであれば、容器2
をこのように傾けても容器2の内壁面に石炭・水
スラリの一部が残留する。
ステツプn2においては、処理回路12から電
磁弁V1に対して第3図1図示のような制御信号
が与えられる。すなわち時刻t0から、作動期間
Taにおいて、Hレベルの信号を電磁弁V1に与
え、停止期間TbにおいてLレベルの信号を与え
る。これによつて、作動期間Taにおいては電磁
弁V1は開弁状態となり、停止期間Tbにおいて
電磁弁V1は閉弁状態となる。このようにして電
磁弁V1は開弁/閉弁動作を交互に繰返し、した
がつてノズル6からは洗浄液が容器2の開口端5
へ向けて間欠的に噴射される。
このように洗浄液を間欠的に噴射するのは、以
下の理由による。すなわち、作動期間Taにおい
て容器2内に噴射された洗浄液によつて、残留し
ている流体は吹き飛ばされるが、連続して洗浄液
を噴射すれば、吹き飛ばされた流体が容器2内か
ら落下せずに、残留することになる。したがつ
て、停止期間Tbにおいて、噴射を停止させるこ
とによつて、前記残留する流体を落下せしめる。
なお、このようにノズル6から間欠的に洗浄液
が噴射されている洗浄期間T1においては、電磁
弁V2は閉弁状態であり、送風機15は停止され
ている。上記作動期間Taおよび停止期間Tbは、
それぞれたとえば10秒間に選んでもよい。また、
間欠的に洗浄液を噴射することによつて、ノズル
6からの噴射圧力の低下が防がれる。
ステツプn3においては、ノズル6からの間欠
的噴射動作が開始された時刻t0から洗浄期間T
1が終了したかどうかが判断され、終了していな
ければステツプn2に戻り、上記動作を連続して
繰返し、洗浄期間T1が終了していればステツプ
n4に進む。なおこの洗浄期間T1は入力回路1
4によつて、予め希望する値に設定することがで
き、たとえば1分間に設定してもよい。
ステツプn4においては、上記洗浄期間T1が
終了した時刻t1から第3図2図示のような制御
信号が処理回路12によつて、電磁弁V2に与え
られる。すなわち、洗浄期間T1の終了時刻t1
からHレベルとなる作動期間Tcにおいて、電磁
弁V2が開弁状態となり、この後にLレベルとな
る停止期間Tdにおいて閉弁状態となり、これ以
降時刻t2まで電磁弁V2は開弁/閉弁動作を交
互に繰返す。これによつてノズル8からは圧縮空
気体が間欠的に噴射され、容器2内に残留してい
る流体または洗浄液を吹き飛ばして、容器2内を
清掃する。
停止期間Tdを設けるのは、以下の理由による。
すなわち、作動期間Tcにおいて吹き飛ばされた
流体または洗浄液は、圧縮気体が連続的に噴射さ
れると落下せず容器2内に残留するので、停止期
間Tcにおいてこれを落下せしめる。また、、間欠
的に圧縮気体を噴射することによつて、ノズル8
からの噴射圧力の低下を防ぐことができる。
なお、時刻t1から時刻t2までの清掃期間T
2においては電磁弁V1は閉弁状態であり、送風
機15は停止状態を保つている。また前記作動期
間Tcおよび停止期間Tdはそれぞれ2秒および5
秒間にそれぞれ設定してもよい。
ステツプn5においては、時刻t1から予め設
定された清掃期間T2が終了したかどうかが判断
され、終了していなければステツプn4に戻り、
前述した電磁弁V2の開弁/閉弁動作が繰返さ
れ、清掃期間T2が終了すればステツプn6に進
む。なおこの清掃期間T2はたとえば28秒間に設
定してもよい。
ステツプn6においては、処理回路12から第
3図3図示のような制御信号を送風機15に与え
る。これによつて送風機15は時刻t2において
起動され、ノズル10から温風が容器2内に連続
的に噴射される。これによつて容器2内に残留し
ているたとえば洗浄液などが蒸発し、容器2内を
乾燥させることができる。なお送風機15が作動
している乾燥期間T3においては、電磁弁V1,
V2はともに閉弁状態である。
ステツプn7においては、乾燥期間T3が終了
したかどうかが判断され、終了していなければス
テツプn6に戻り、前述した乾燥動作が継続され
乾燥期間T3が終了するとステツプn8に進み、
上記送風機15が時刻t3において停止される。
なお上記乾燥期間T3はたとえば2分間に設定し
てもよい。
このようにして間欠的に容器2内に噴射し、そ
の後に圧縮空気を間欠的に噴射することによつ
て、容器2内に残留している流体または洗浄液が
除去され、この後に乾燥用温風を噴射することに
よつて洗浄液などが蒸発して、容器2内が乾燥さ
れて清掃される。
以上のように自動洗浄・乾燥装置1を用いるこ
とによつて、容器2内に付着した流体を短時間で
洗浄することができる。なおノズル6から噴射さ
れる洗浄液はたとえば2Kg/cm2で、200cc/secに
選んでもよく、圧縮気体は100/分でノズル8
から噴射するようにしてもよい。さらに温風はた
とえば50/分で50℃程度の温風を噴射するもの
であつて、商業的に入手可能な髪を乾燥するため
のドライヤーのうち、消費電力約1kWのものを
そのまま使用することができる。
容器内の内径は約10cmで、深さは約20cmであ
る。またノズル6から噴射される洗浄液は水以外
であつてもよく、圧縮気体は空気に代えてその他
の気体が用いられてもよい。
効 果 以上のように本考案に従う容器の自動洗浄・乾
燥装置においては、短時間に確実に容器を洗浄し
て乾燥することができる。
すなわち本考案によれば、傾斜手段によつて有
底容器を傾斜して開口端が下方に臨む姿勢とし、
次に、洗浄液噴射手段によつて容器内に洗浄液を
間欠的に第1の予め定める時間T1だけ噴射さ
せ、その後、乾燥用圧縮気体を間欠的に第2の予
め定める時間T2だけ噴射して容器2の洗浄液の
水滴などを除去し、その後、乾燥用温風を連続的
に第3の予め定める時間T3だけ噴射して容器内
に残留して付着している水滴などの洗浄液を蒸発
して除去する。このようにして容器を自動的に洗
浄・乾燥することが可能になる。洗浄液は間欠的
に噴射され、したがつて容器内に洗浄液が滞留し
てしまうことはなく、また乾燥用圧縮気体も間欠
的に噴射され、したがつて容器内に圧縮気体が残
留することはなく、洗浄液の除去が確実になり、
乾燥用温風は連続的に容器内に供給されることに
よつて、容器内の洗浄液などの水滴などの除去を
できるだけ短時間に行うことが可能になる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本考案の一実施例である自動洗浄・乾
燥装置1の構成を示す図、第2図は自動洗浄・乾
燥装置1の動作を示すフローチヤート、第3図は
処理回路12から出力される制御信号のタイミン
グチヤートである。 1……自動洗浄・乾燥装置、2……容器、5…
…開口端、6,8、10……ノズル、7,9,1
1……管路、12……処理回路、13……駆動装
置、14……入力回路、15……送風機。

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 開口端を有する有底容器と、 有底容器を傾斜する手段と、 有底容器の開口端が下方に臨む姿勢となつた状
    態で、容器内に洗浄液を噴射する洗浄液噴射手段
    と、 有底容器の開口端が下方に臨む姿勢となつた状
    態で、容器内に乾燥用圧縮気体を噴射する乾燥用
    圧縮気体噴射手段と、 有底容器の開口端が下方に臨む姿勢となつた状
    態で、容器内に乾燥用温風を連続的に噴射する乾
    燥用温風噴射手段と、 傾斜手段によつて有底容器の開口端が下方に臨
    む姿勢とし、次に、洗浄液噴射手段によつて洗浄
    液を間欠的に第1の予め定める時間T1だけ噴射
    させ、その後、乾燥用圧縮気体を間欠的に第2の
    予め定める時間T2だけ噴射させ、その後、乾燥
    用温風噴射手段によつて乾燥用温風を連続的に第
    3の予め定める時間T3だけ噴射させる制御手段
    とを含むことを特徴とする容器の自動洗浄・乾燥
    装置。
JP1986203634U 1986-12-31 1986-12-31 Expired JPH0440787Y2 (ja)

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JPS63107786U JPS63107786U (ja) 1988-07-12
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Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07192B2 (ja) * 1990-03-06 1995-01-11 日揮株式会社 槽内洗浄方法および洗浄装置
JP5121176B2 (ja) * 2006-07-19 2013-01-16 三ツ星ベルト株式会社 ウレタン残留物の洗浄装置およびウレタン残留物の洗浄方法

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5110427A (ja) * 1974-07-04 1976-01-27 Hino Motors Ltd Bakyuumuyobarupu
JPS5530233U (ja) * 1978-08-17 1980-02-27
JPS5693093A (en) * 1979-12-27 1981-07-28 Hitachi Ltd Decontaminating device of instruent having radioactive liquid waste

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