JPH04358332A - 光学的情報記録用媒体 - Google Patents
光学的情報記録用媒体Info
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Landscapes
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Abstract
め要約のデータは記録されません。
Description
り記録層が可逆的に相変化することを利用した、高速、
高密度かつオーバーライト可能な光学的情報記録用媒体
に関するものである。
でかつ高速に大量のデータの記載・再生ができる記録媒
体が求められているが、光ディスクはまさにこうした用
途に応えるものとして期待されている。光ディスクには
一度だけ記録が可能な追記型と、記録・消去が何度でも
可能な書換型がある。書換型光ディスクとしては、光磁
気効果を利用した光磁気記録媒体や、可逆的な結晶状態
の変化に伴う反射率変化を利用した相変化媒体があげら
れる。
ザー光のパワーを変調するだけで記録・消去が可能であ
り、記録・再生装置を小型化できるという利点を有する
。さらに、消去と再記録を単一レーザー光ビームで同時
に行う、いわゆる1ビームオーバーライトが可能である
。このような、1ビームオーバーライトが可能な相変化
媒体の記録層材料としては、カルコゲン系合金薄膜を用
いることが多い。たとえば、GeTeSb系、InSb
Te系、GeSnTe系等があげられる。また、実際の
媒体は、記録層を誘電体層ではさんで繰り返しオーバー
ライトに伴う劣化を防止したり、干渉効果を利用して反
射率差(コントラスト)を改善するのが普通である。
記録・消去状態を結晶状態とし、非晶質のビットを形成
する。非晶ビットは記録層を融点より高い温度まで加熱
し、急冷することによって形成される。この場合、誘電
体層は十分な過冷却状態を得るための放熱層として働く
。一方、消去(結晶化)は、記録層の結晶化温度よりは
高く融点よりは低い温度まで記録層を加熱して行う。 この場合、誘電体層は結晶化が完了するまでの間、記録
層の温度を高温に保つ蓄熱層として働く。
溶融・体積膨張に伴う変形や、プラスチック基板への熱
的ダメージを防いだり、湿気による記録層の劣化を防止
するためにも、上記誘電体層からなる保護層は重要であ
る。保護層材料は、レーザー光波長において透明である
こと、融点が高く耐熱性に優れること、酸化等にたいし
て化学的に安定であること、適度な熱伝導率であること
、さらには形成が容易であることなどの多岐にわたる要
求を満たさねばならない。相変化媒体の実用化のために
は記録層もさることながら、この保護層の選定、改良が
極めて重要である。
高融点で機械的・化学的に安定な誘電体が用いられるこ
とが多い。しかしながら、保護層が十分な耐熱性及び機
械的強度を有していないなどの原因のため、記録・消去
を繰り返すうちに、記録層、保護層、基板が変形したり
クラックが生じたり、剥離が生じたりし、記録・消去の
繰り返し回数とともに欠陥やノイズが増加するなどの問
題がある。保護層として優れた物性をもつ膜であるか否
かは、材料以外に成膜条件によるところが大きい。例え
ば本発明者らは、すぐに、上記誘電体保護膜として密度
7.25g/cm3 以上の酸化タンタルを用いれば繰
り返し特性に優れた媒体が得られることを示した。保護
層誘電体材料としてはこのほかに、Si,Alなどの酸
化物・窒化物やZnS,ZnO及びこれらの混合物が提
案されている。(特開昭63−276724、特開昭6
2−167090、特開昭63−102048)一般に
これらの誘電体材料はスパッタリング法によって成膜さ
れるが、単独の酸化物、窒化物、硫化物等ではいわゆる
atomic peening効果(J. Vac
. Sci. Technol. A7 (1
989)、1105)により圧縮応力を生じ易く、この
傾向はスパッタリング時の不活性ガスの圧力を低くする
ほど著しい。本発明者らの検討によれば、低圧で成膜し
た誘電体膜を用いた方が、繰り返しオーバーライトによ
る劣化がすくないことが判明したが、これらの膜では圧
縮応力が極めて高いためにふくれや剥離を生じやすく、
経時安定性に問題があることが多い。特に、上部誘電体
保護層(第2の誘電体保護層)と記録層との間で剥離が
生じ易く、上部誘電体保護層の圧縮応力を軽減する必要
があった。
中の圧力を高くするとふくれや剥離を生じにくいものの
、機械的強度が十分でなく繰り返しオーバーライトに伴
う劣化がはやい。またZnSと金属酸化物の混合膜は低
圧縮応力ではあるが高圧縮応力の酸化タンタル膜に比べ
れば繰り返し特性におとる。このように、繰り返しオー
バーライト特性、および経時安定性の両方に優れた誘電
体保護層を得ることは互いに相反する関係にあり、本発
明者らはこの矛盾を解決するために、種々の検討を行っ
た。
するために、記録層を誘電体保護層ではさみ、その上部
に反射層を設けた相変化型記録媒体において、記録層と
基板との間に設けた第1の誘電体保護層を酸化タンタル
とし、記録層と金属反射層との間に設けた第2の誘電体
保護層をZnSと金属酸化物の混合膜とすることにより
、誘電体層の耐熱性・機械的強度を損なうこと無く、全
体として上部誘電体保護層(第2の誘電体保護層)の圧
縮応力を軽減したものである。
。基板上の各層はいずれもスパッタリング法や蒸着法で
作成できるが、量産性に優れるスパッタリング法を用い
、一貫して真空中で成膜するインライン装置で成膜する
のが望ましい。また、各層の厚みは、以下に述べるよう
な理由のほかに、光学的な干渉効果を考慮して結晶状態
と非晶質状態の反射率差(コントラスト)を大きくする
ように選ばれる。
、ポリオレフィン等の透明樹脂、あるいはガラス等があ
げられる。本発明においては、特に記録層材料を限定す
るものではないが、記録層としてはGe,Sb,Te等
を主成分とするカルコゲン系合金薄膜を用いることが多
い。例えばInSbTe,GeSbTe,GeSnTe
等の3元合金や、これらにさらにTa,Co,Ag等を
添加したものがあげられる。特に、GeSbTe3元合
金系は、結晶化速度が速く、非晶質ビットの経時安定性
に優れており、実用上十分な特性を有する。記録層の厚
みは通常100Åから1000Åの範囲に選ばれる。 記録層の厚みが100Åより薄いと結晶状態と非晶質状
態との間で十分な反射率差が得られず、一方、1000
Åを越すとクラックが生じやすくなる。
耐熱性・機械的強度に優れた誘電体が望ましい。本発明
者らの検討によれば、第1保護層は金属反射層による放
熱効果が期待できないため、上部保護層(第2保護層)
より耐熱性・機械的強度に優れた誘電体が望ましい。酸
化タンタルは基板との密着性に優れているためふくれ・
剥離が生じにくいので好ましく、スパッタリング中の圧
力を低くして高密度・高圧縮応力の膜としてもちいるの
がよい。特に2×109 dyn/cm2 以上の高圧
縮応力膜を用いるのが望ましい。また、その厚みは10
0Åから5000Åの範囲であることが望ましい。厚み
が100Å未満であると基板や記録膜の変形防止効果が
不十分であり、5000Å以上ではクラックが発生しや
すい。
応力でありながら十分な耐熱性と機械的強度を有するZ
nSと金属酸化物の混合物を用いる。金属酸化物として
は、酸化タンタルやSiO2 があげられる。金属酸化
物のZnSに対する混合割合は5〜50モル%、好まし
くは10〜30モル%程度である。第2誘電体保護層の
膜厚は1000Å以上であることが望ましい。1000
Å未満では繰り返しオーバーライトにともなう劣化が大
きい。
適に用いられる。好ましくはAlとTaの合金が耐久性
の上から好ましい。更に、反射層の上には紫外線硬化樹
脂等からなるハードコート層を設けるのが好ましい。
。基板としては表面にグルーブを設けた厚さ1.2mm
のポリカーボネート樹脂基板を用いた。記録層として、
Ge14Sb34Te52(原子%)なる組成の3元合
金をDCスパッタリング法で厚み700Åに成膜した。 また、ハードコート層としては厚さ4μmの紫外線硬化
型樹脂を用いた。
(SiO2 20mol%含有)の混合膜を用い、ま
た第1誘電体保護層として厚さ1100Åの酸化タンタ
ルを用いた。これらの誘電体は高周波スパッタリング(
周波数13.56MHz)法により作成した。成膜時の
Arガスの圧力は0.28Paとした。この時の酸化タ
ンタルの圧縮応力は5×109 dyn/cm2 、Z
nS・SiO2 混合膜の圧縮応力は1.4×109
dyn/cm2 であった。なお、圧縮応力は別途、S
iウェハー上に誘電体層のみを成膜し、ウェハーのそり
から求めた。
m/s、記録パワー15mw、消去パワー8mwとし単
一周波数(4MHz,duty50%)で行った。所定
回数のオーバーライトを行った後C/N比を測定し、消
去パワーのみを1回照射して、キャリアレベルの減少分
から消去比を求めた。上記実施例の記録媒体においては
初期のC/N比55dB、消去比25dBが得られる。 繰り返しオーバーライト、5×105 回後のC/N比
は50dB、消去比は22dBであり、極めて良好な繰
り返し特性が得られた。また、この媒体を温度85℃、
相対湿度85%RHの条件下で加速テストを行ったとこ
ろ、1000時間を経過しても、欠陥の増加はみられず
、また、C/N比、消去比、繰り返し特性にも劣化は見
られなかった。
タルの混合膜(酸化タンタル20mol%含有)を用い
、他はまったく実施例1と同様にして記録媒体を作製し
た。上記混合膜の圧縮応力は1.7×109 dyn/
cm2 であった。初期の特性としてC/N比56dB
、消去比27dBが得られ、5×105 回後のC/N
比は50dB、消去比は25dBと良好な特性がえられ
た。 また、加速テスト1000時間後にも欠陥の増加、C/
N比、消去比、繰り返し特性の劣化は見られなかった。
9 dyn/cm2 の酸化タンタルとし、他は実施例
1と同じにした記録媒体を作製した。繰り返し特性は1
06 回まで良好であったが、加速テストでは、100
時間後に記録層と第2誘電保護層との間に剥離・ふくれ
を生じた。
109 dyn/cm2 のZnSとSiO2 混合膜
とし、他は実施例1と同じにした記録媒体を作製した。 加速テストでは、1000時間後もまったく劣化がみら
れなかった。繰り返しオーバーライトでは、初期のC/
N比55dBが5×105 回後には45dBにまで低
下した。
れば繰り返し特性、経時安定性に優れた相変化型情報記
録媒体が得られる。
Claims (4)
- 【請求項1】 透明基板上に、第1誘電体保護層、レ
ーザー光の照射により結晶−非晶質間の可逆的相変化に
伴う光学的変化を利用して情報の記録を行う記録層、第
2誘電体保護層、反射層を順次形成してなる光学的情報
記録用媒体において、上記第1誘電体保護層が酸化タン
タルからなり、かつ、第2誘電体保護層が、ZnSと金
属酸化物の混合膜であることを特徴とする光学的情報記
録用媒体。 - 【請求項2】 第2誘電体保護層の膜厚が1000Å
以上であることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載
の光学的情報記録用媒体。 - 【請求項3】 ZnSと金属酸化物との混合膜が、Z
nSと酸化シリコンまたは酸化タンタルとの混合膜であ
ることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の光学的
情報記録用媒体。 - 【請求項4】 第1誘電体保護層を構成する酸化タン
タル膜の圧縮応力が2×109 dyn/cm2 以上
であることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の光
学的情報記録用媒体。
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JP3133005A Expired - Fee Related JP2967948B2 (ja) | 1991-06-04 | 1991-06-04 | 光学的情報記録用媒体 |
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Country | Link |
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JP (1) | JP2967948B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5914214A (en) * | 1996-12-06 | 1999-06-22 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Method for manufacturing an optical information recording medium |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03241539A (ja) * | 1990-02-19 | 1991-10-28 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 光学情報記録再生消去部材 |
JPH04214244A (ja) * | 1990-12-10 | 1992-08-05 | Nec Corp | 相変化型光記録媒体 |
-
1991
- 1991-06-04 JP JP3133005A patent/JP2967948B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03241539A (ja) * | 1990-02-19 | 1991-10-28 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 光学情報記録再生消去部材 |
JPH04214244A (ja) * | 1990-12-10 | 1992-08-05 | Nec Corp | 相変化型光記録媒体 |
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US5914214A (en) * | 1996-12-06 | 1999-06-22 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Method for manufacturing an optical information recording medium |
US6143469A (en) * | 1996-12-06 | 2000-11-07 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Optical information recording medium and manufacturing method |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2967948B2 (ja) | 1999-10-25 |
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