JPH04328521A - Liquid crystal display device - Google Patents

Liquid crystal display device

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Publication number
JPH04328521A
JPH04328521A JP3097806A JP9780691A JPH04328521A JP H04328521 A JPH04328521 A JP H04328521A JP 3097806 A JP3097806 A JP 3097806A JP 9780691 A JP9780691 A JP 9780691A JP H04328521 A JPH04328521 A JP H04328521A
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JP
Japan
Prior art keywords
row
pixel
picture elements
pixels
pixel group
Prior art date
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Pending
Application number
JP3097806A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Shinzo Matsumoto
信三 松本
Masaru Fujita
優 藤田
Hideaki Taniguchi
秀明 谷口
Hirobumi Kunito
国藤 博文
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP3097806A priority Critical patent/JPH04328521A/en
Publication of JPH04328521A publication Critical patent/JPH04328521A/en
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  • Liquid Crystal (AREA)

Abstract

PURPOSE:To use formed picture elements is a picture element group in an effective display area by holding the picture elements even in the uppermost and lowermost rows in an excellent display state as well as picture elements in other rows. CONSTITUTION:The picture elements are arrayed in matrix and additional capacity means 10 and 11 are formed for each of the picture elements. In this liquid crystal display device, the additional capacity means 10 and 14 for each of the picture elements in the uppermost row in picture element groups in respective rows have larger capacity values than additional capacity values of other picture elements and are made equal in resistance value to other picture elements, and the additional capacity means for each of the picture elements in the lowermost row are equalized in capacity value and resistance value to other picture elements.

Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

【0001】0001

【産業上の利用分野】本発明は、液晶表示装置に係り、
特に、マトリックス状に配置された画素群のうち最上行
および最下行に配列された画素群の改良を行った液晶表
示装置に関する。
[Industrial Application Field] The present invention relates to a liquid crystal display device.
In particular, the present invention relates to a liquid crystal display device in which the pixel groups arranged in the top and bottom rows of the pixel groups arranged in a matrix are improved.

【0002】0002

【従来の技術】このようにマトリックス状に画素を配置
させてなる液晶表示装置は、各画素のパターンが同一で
済むことから、全て同一のパターンとして形成し、列方
向の画素群を担当する各ドレイン線に映像駆動信号を、
および行方向の画素群を担当する各ゲート線に垂直走査
信号を入力させる構成としているものである。
2. Description of the Related Art In a liquid crystal display device in which pixels are arranged in a matrix as described above, since the pattern of each pixel can be the same, all the pixels are formed in the same pattern, and each pixel in charge of a group of pixels in the column direction is Connect the video drive signal to the drain line,
A vertical scanning signal is input to each gate line in charge of a group of pixels in the row direction.

【0003】そして、マトリックス状に配置された画素
群のうち、最上行および最下行にそれぞれ配置された画
素群においては、静電気の浸入等により他の行の画素群
に比べて表示状態が良好でなく、このために、最上行お
よび最下行における画素群は、たとえばブラックマトリ
ックス技術を用いていずれも有効表示領域内の画素群と
ならないよう表示不可状態としていた。
Among the pixel groups arranged in a matrix, the display conditions of the pixel groups arranged in the top and bottom rows are better than those in other rows due to penetration of static electricity, etc. For this reason, the pixel groups in the top row and the bottom row are set in a display-disabled state using, for example, black matrix technology so that neither of them becomes a pixel group within the effective display area.

【0004】このような構成からなる液晶表示装置とし
ては、たとえば「アプライド  フィジクス  レター
  45,No.10,1021,1984(Appl
ied Physics Letter, T.J.S
cheffer, J.Nehring: “A ne
w, highly multiplexable l
iquidcrystal display”)」に知
られている。
[0004] A liquid crystal display device having such a configuration is described, for example, in “Applied Physics Letter 45, No. 10, 1021, 1984 (Appl.
ied Physics Letter, T. J. S
cheffer, J. Nehring: “A ne
w, highly multiplexable l
known as "IQUID CRYSTAL DISPLAY").

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかし、近年において
、画素数の向上が要請され、このため、画素の行数を予
め多く形成し、その上で、最上行および最下行の画素群
を表示不可状態とするようなことがなされるようになっ
た。
[Problem to be Solved by the Invention] However, in recent years, there has been a demand for an increase in the number of pixels, and for this reason, it is necessary to form a large number of pixel rows in advance, and then make it impossible to display the groups of pixels in the top and bottom rows. Things like making it a state began to be done.

【0006】しかし、形成した画素は全て有効表示領域
内の画素とすることが好ましいことはいうまでもなく、
本発明はこのような観点からなされたものである。
However, it goes without saying that it is preferable that all the formed pixels be within the effective display area.
The present invention has been made from this viewpoint.

【0007】それ故、本発明は、このような事情からな
されたものであり、その目的とするところのものは、形
成した画素は、その最上行および最下行にあっても他の
行の画素群と同様に表示状態を良好にし有効表示領域内
の画素群として用いることのできる液晶表示装置を提供
することにある。
[0007] Therefore, the present invention has been made in view of the above circumstances, and its object is to ensure that even if the formed pixels are in the top and bottom rows, they do not interfere with pixels in other rows. It is an object of the present invention to provide a liquid crystal display device which has a good display state like a pixel group and can be used as a pixel group within an effective display area.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】このような目的を達成す
るために、本発明は、基本的には、マトリックス状に画
素が配列され、これら各画素ごとに付加容量手段が形成
されている液晶表示装置において、各行における画素群
のうち最上行の各画素の付加容量手段を、その容量値を
他の画素における付加容量値よりも大きく、かつ、その
抵抗値を他の画素における抵抗値と同じに構成するとと
もに、最下行の各画素の付加容量手段を、その容量値お
よび抵抗値を他の画素における容量値および抵抗値と同
じに構成したことを特徴とするものである。
[Means for Solving the Problems] In order to achieve the above object, the present invention basically provides a liquid crystal display in which pixels are arranged in a matrix and an additional capacitance means is formed for each pixel. In a display device, the additional capacitance means for each pixel in the top row of the pixel group in each row has a capacitance value larger than the additional capacitance value in other pixels, and a resistance value equal to the resistance value in other pixels. The additional capacitance means of each pixel in the bottom row has the same capacitance value and resistance value as the capacitance value and resistance value of the other pixels.

【0009】[0009]

【作用】このように構成した液晶表示装置は、最上行の
画素群および最下行の画素群の各ゲート線における容量
値、抵抗値を、原則として他の行の画素群のそれと同じ
にすれば、表示むらがなくなる。
[Operation] In the liquid crystal display device configured in this way, if the capacitance and resistance values of each gate line of the pixel group in the top row and the pixel group in the bottom row are made the same as those of the pixel groups in other rows, then , display unevenness is eliminated.

【0010】しかし、最上行の画素群に関しては、その
付加容量手段を通して、2行目の画素群におけるTFT
型のMOSトランジスタのソース電圧に飛込みがあると
いう特殊事情があるため、前記付加容量手段における容
量値を他の行の画素群のそれよりも大きく構成して前記
飛込み量を小さくしたものである。
However, regarding the pixel group in the top row, the TFT in the pixel group in the second row is
Since there is a special situation in which there is a jump in the source voltage of the type MOS transistor, the capacitance value of the additional capacitance means is configured to be larger than that of the pixel groups in other rows to reduce the jump amount.

【0011】このようにすれば、最上行が最下行までの
各画素群において表示むらがなくなり、最上行の各画素
群、および最下行の各画素群を表示領域内として用いる
ことができるようになる。
[0011] In this way, display unevenness is eliminated in each pixel group from the top row to the bottom row, and each pixel group in the top row and each pixel group in the bottom row can be used as the display area. Become.

【0012】0012

【実施例】図1は、本発明による液晶表示装置の一実施
例を示す構成図であり、特に、マトリックス状に配列さ
れている画素のうち最上行、および2行目に配列されて
いる画素のパターンを示す構成図である。
[Embodiment] FIG. 1 is a block diagram showing an embodiment of a liquid crystal display device according to the present invention. In particular, the pixels arranged in the top row and the second row among the pixels arranged in a matrix form are shown in FIG. FIG.

【0013】なお、該パターンは、液晶を介在して配置
される二枚のガラス基板のうち一方のガラス基板の液晶
側の面に形成されているものである。
The pattern is formed on the liquid crystal side surface of one of the two glass substrates arranged with the liquid crystal interposed therebetween.

【0014】同図において、まず、2行目に配列されて
いる画素群には、その下方に共通のゲート線2が行方向
に走行して形成されている。なお、2行目の画素群は前
記ゲート線2と最上行に配列されている画素群における
共通のゲート線1との間に位置づけられているとともに
、この2行目の画素群の各画素領域は後述するドレイン
線4によりそれぞれ画されるようになっている。
In the figure, a common gate line 2 is formed below the pixel group arranged in the second row, running in the row direction. The pixel group in the second row is located between the gate line 2 and the common gate line 1 in the pixel groups arranged in the top row, and each pixel area in the pixel group in the second row are defined by drain lines 4, which will be described later.

【0015】前記ゲート線2上には、各画素毎にTFT
型のMOSトランジスタ5が形成され、ゲート線2の一
部がそのまま前記MOSトランジスタ5のゲート電極2
Aとして構成されている。
A TFT is provided on the gate line 2 for each pixel.
A MOS transistor 5 of the same type is formed, and a part of the gate line 2 is directly connected to the gate electrode 2 of the MOS transistor 5.
It is configured as A.

【0016】なお、MOSトランジスタ5は並設された
2個から構成され、そのうちいずれか一方が動作しなく
ても支障のないようにしている。
Note that the MOS transistor 5 is composed of two transistors arranged in parallel, so that there is no problem even if one of them does not operate.

【0017】前記MOSトランジスタ5は前記ゲート電
極(ゲート線の一部)の上面に半導体層7が形成され、
この半導体層7の両端部(図においては上辺と下辺のそ
れぞれ)にソース電極8、およびドレイン電極9が形成
されたものとなっている。
The MOS transistor 5 has a semiconductor layer 7 formed on the upper surface of the gate electrode (part of the gate line),
A source electrode 8 and a drain electrode 9 are formed at both ends of this semiconductor layer 7 (in the figure, the upper side and the lower side, respectively).

【0018】ここで、ドレイン電極9は、前記ドレイン
線4の一部を構成するようになっている。
Here, the drain electrode 9 constitutes a part of the drain line 4.

【0019】そして、前記ソース電極8と接続された透
明画素電極10があり、この透明画素電極10は前記画
素形成領域のほぼ全域に及んで形成されている。
There is a transparent pixel electrode 10 connected to the source electrode 8, and this transparent pixel electrode 10 is formed over almost the entire area of the pixel formation area.

【0020】また、透明画素電極10における図中上部
領域の下層には、誘電体膜を介して、付加容量形成電極
11が形成されている。この付加容量形成電極11は、
この付加容量形成電極11と重畳する部分の前記透明画
素電極10とで付加容量手段を構成するものであり、画
素形成領域の両脇に沿って突出部を有するコ字形状をな
しているとともに、最上行の画素群におけるゲート電極
1に接続されたものとなっている。
Further, an additional capacitance forming electrode 11 is formed in the lower layer of the upper region of the transparent pixel electrode 10 in the figure with a dielectric film interposed therebetween. This additional capacitance forming electrode 11 is
This additional capacitance forming electrode 11 and the overlapping portion of the transparent pixel electrode 10 constitute an additional capacitance means, which has a U-shape with protrusions along both sides of the pixel forming area, and It is connected to the gate electrode 1 in the pixel group in the top row.

【0021】上述の付加容量手段は、前記MOSトラン
ジスタ5がスイッチングする際に、いわゆる中点電位(
画素電極電位)に対するゲート電位変化の影響を低減さ
せたり、また、MOSトランジスタがオフした後の映像
情報を長く蓄積するために設けられたものである。
The above-mentioned additional capacitor means has a so-called midpoint potential (
This is provided to reduce the influence of gate potential changes on the pixel electrode potential (pixel electrode potential) and to store video information for a long time after the MOS transistor is turned off.

【0022】さらに、最上行の画素群は、上述した2行
目の画素群とほぼ同様の構成となっているものであるが
、その上部にはコモン電圧が印加されるゲート電極13
が形成されているとともに、各画素領域毎に前記付加容
量形成電極11と形状の異なる付加容量形成電極14が
形成されている。
Furthermore, the pixel group on the top row has almost the same configuration as the pixel group on the second row described above, but there is a gate electrode 13 on the top of which a common voltage is applied.
In addition, an additional capacitance forming electrode 14 having a shape different from that of the additional capacitance forming electrode 11 is formed in each pixel region.

【0023】この付加容量形成電極14は、まず、前記
付加容量形成電極11より透明画素電極10との重畳領
域が大きくなるように構成され、前記透明画素電極10
とで構成される付加容量手段の容量値が大きくなってい
る。
First, the additional capacitance forming electrode 14 is constructed so that the overlapping area with the transparent pixel electrode 10 is larger than that of the additional capacitance forming electrode 11.
The capacitance value of the additional capacitance means consisting of is increasing.

【0024】具体的には、図1において、最上行におけ
る画素群の図中上下方向の重畳幅l11は、2行目にお
ける画素群の図中上下方向の重畳幅l12に比較して大
きく(4μm程度)なっている。
Specifically, in FIG. 1, the superimposition width l11 of the pixel group in the top row in the vertical direction in the drawing is larger (4 μm) compared to the superimposition width l12 in the vertical direction in the drawing of the pixel group in the second row. degree).

【0025】そして、前記付加容量形成電極14を接続
させているゲート線13の全体の抵抗値は、2行目の画
素群におけるゲート線2の全体の抵抗値と等しく構成さ
れている。
The overall resistance value of the gate line 13 connecting the additional capacitance forming electrode 14 is configured to be equal to the overall resistance value of the gate line 2 in the second row pixel group.

【0026】具体的には、図1において、最上行におけ
る画素群の図中上下方向の重畳幅l21、l22、l2
3を適当な値に定めることにより設定している。
Specifically, in FIG. 1, the overlapping widths l21, l22, l2 of the pixel group in the top row in the vertical direction in the figure are
It is set by setting 3 to an appropriate value.

【0027】次に、上述したように、最上行の各画素の
付加容量手段を、その容量値を他の画素における付加容
量値よりも大きく、かつ、その抵抗値を他の画素におけ
る抵抗値と同じに構成することにより、表示むらがなく
なる理由について説明する。
Next, as described above, the additional capacitance means of each pixel in the top row is set so that its capacitance value is larger than the additional capacitance value in other pixels, and its resistance value is the same as the resistance value in other pixels. The reason why display unevenness is eliminated by having the same configuration will be explained.

【0028】まず、図2において、その(a)は、最上
行の画素群におけるゲート線1につながるMOSトラン
ジスタ5のソース電極8のソース電圧の変化を示した図
である。
First, in FIG. 2, (a) is a diagram showing changes in the source voltage of the source electrode 8 of the MOS transistor 5 connected to the gate line 1 in the top row of pixels.

【0029】図において、ゲート電圧20により、MO
Sトランジスタ5がオン状態となり、ドレイン信号22
がソース信号23として現われることを示している。
In the figure, the gate voltage 20 causes the MO
The S transistor 5 turns on, and the drain signal 22
appears as the source signal 23.

【0030】一方、図2の(b)は、2行目の画素群に
おけるゲート線2につながるMOSトランジスタ5のソ
ース電極8のソース電圧の変化を示した図である。
On the other hand, FIG. 2(b) is a diagram showing changes in the source voltage of the source electrode 8 of the MOS transistor 5 connected to the gate line 2 in the second row of pixels.

【0031】この際、ゲート電圧21によりMOSトラ
ンジスタ5がオン状態となるが、ソース信号へは、前記
ゲート線1(最上行の画素群におけるゲート線)からの
パルス10が付加容量形成電極14からなる付加容量手
段を介して飛込み、このソース信号23に飛込み分24
が加わることになる。
At this time, the MOS transistor 5 is turned on by the gate voltage 21, but the pulse 10 from the gate line 1 (the gate line in the top row of pixels) is transmitted from the additional capacitance forming electrode 14 to the source signal. The jump portion 24 is added to this source signal 23 via an additional capacitance means.
will be added.

【0032】この飛込み分の量は、概算で、次式である
数式1によって表せることになる。
The amount of this jump can be roughly expressed by the following equation, Equation 1.

【0033】[0033]

【数1】[Math 1]

【0034】この飛込み分があるため、ソース電圧の実
効値を最小とする値(図中、符号25で示す。)は、該
飛込み分がない場合に比べて図中上側へシフトすること
になる。
Because of this jump, the value that minimizes the effective value of the source voltage (indicated by 25 in the figure) is shifted upward in the figure compared to the case where there is no jump. .

【0035】ここで、このシフト量は、次式である数式
2によって表せることになる。
[0035] Here, this shift amount can be expressed by the following equation (2).

【0036】[0036]

【数2】[Math 2]

【0037】なお、たとえば、具体的に、Cadd=1
.67pF、Cgs=0.15pF、Cpx=0.3p
F、ΔT=64μS、T=15mS、Vg=25Vの場
合、該シフト量は0.08Vとなる。
[0037] For example, specifically, Cadd=1
.. 67pF, Cgs=0.15pF, Cpx=0.3p
In the case of F, ΔT=64μS, T=15mS, and Vg=25V, the shift amount is 0.08V.

【0038】そして、このようなシフトは、最上行の画
素群においては、全く存在しないために、これが原因で
表示むらを生じさせることになる。
[0038] Since such a shift does not exist at all in the pixel group of the top row, this causes display unevenness.

【0039】このために、ゲート電圧の立ち下がりから
生じるソース電圧波形の落ちこみ量26と27のシフト
量分だけ補正すればよいことになる。
For this reason, it is only necessary to correct the drop in the source voltage waveform caused by the fall of the gate voltage by the shift amount 26 and 27.

【0040】ここで、この落ちこみ分量は、概算で、次
式である数式3によって表せることになる。
[0040] Here, this amount of drop can be approximately expressed by the following equation (3).

【0041】[0041]

【数3】[Math 3]

【0042】このことから、Caddの値を増大させる
ことにより、該落ちこみ分量が減少する。この落ちこみ
分27と26の差を上記数式2と等しくすることにより
、電圧28と25を一致させることができるようになる
。すなわち、
From this, by increasing the value of Cadd, the amount of the drop decreases. By making the difference between the dips 27 and 26 equal to Equation 2 above, the voltages 28 and 25 can be matched. That is,

【0043】[0043]

【数4】[Math 4]

【0044】を成立させればよいことになる。It is sufficient if the following holds true.

【0045】ここで、Cadd1は、最上行の画素群に
おける付加容量であり、Caddは、他の行の画素群に
おける付加容量である。
Here, Cadd1 is the additional capacitance in the pixel group in the top row, and Cadd is the additional capacitance in the pixel groups in the other rows.

【0046】たととえば、前述した値を使用するとCa
dd=1.67pF、Cadd1=1.77pFとなる
。すなわち、約0.1pFだけ最上行の画素群における
付加容量を増大させればよい。
For example, using the above values, Ca
dd=1.67pF, Cadd1=1.77pF. That is, it is sufficient to increase the additional capacitance in the top row pixel group by about 0.1 pF.

【0047】仮りに、介在絶縁膜のε=6.7、膜厚を
0.35μmとすると対向させる電極を約590μm2
だけオーバラップを増大させることになる。
Assuming that the intervening insulating film has ε=6.7 and a film thickness of 0.35 μm, the opposing electrodes are approximately 590 μm2.
This will increase the overlap.

【0048】なお、付加容量形成電極14を接続させて
いるゲート線13の全体の抵抗値を、2行目の画素群に
おけるゲート線2の全体の抵抗値と等しく構成するのは
、ゲート線13におけ付加容量手段を介して伝搬するソ
ース信号を遅延時間を他と同一とするためである。
It should be noted that the gate line 13 is configured so that the overall resistance value of the gate line 13 connecting the additional capacitance forming electrode 14 is equal to the overall resistance value of the gate line 2 in the second row pixel group. This is to make the delay time of the source signal propagated through the additional capacitance means the same as that of the other sources.

【0049】また、図3は、マトリックス状に配列され
ている画素のうち最下行、およびこの最下行より一行上
(以下、下2行目と称する)に配列されている画素のパ
ターンを示す構成図である。
FIG. 3 shows a configuration showing a pattern of pixels arranged in the bottom row and one row above the bottom row (hereinafter referred to as the second bottom row) among the pixels arranged in a matrix. It is a diagram.

【0050】なお、該パターンは、図1のパターンが形
成されているガラス基板と同一のガラス基板に形成され
ているものである。
Note that this pattern is formed on the same glass substrate on which the pattern of FIG. 1 is formed.

【0051】最下行の画素群、および下2行目の画素群
もその構成においては同様であるが、最下行の画素群に
おけるゲート電極30の構成が他のゲート電極と構成を
異にしている。すなわち、他のゲート電極は、各画素形
成領域毎に突出部を有するコ字形状からなる付加容量形
成電極が接続されて形成されたものであるが、前記ゲー
ト電極30においては、上述したような付加容量形成電
極は形成されておらず、ゲート線の幅を大きくした形状
で構成した電極32が備わったものとなっているのみで
ある。
The pixel group in the bottom row and the pixel group in the second bottom row have the same structure, but the structure of the gate electrode 30 in the pixel group in the bottom row is different from that of the other gate electrodes. . That is, the other gate electrodes are formed by connecting U-shaped additional capacitance forming electrodes having protrusions for each pixel forming region, but in the gate electrode 30, as described above, No additional capacitance forming electrode is formed, and only an electrode 32 formed in the shape of a gate line with a larger width is provided.

【0052】したがって、突出部を有するコ字形状とは
なっておらず、また重畳配置される透明画素電極も存在
していない。
Therefore, it does not have a U-shape with a protrusion, and there is no transparent pixel electrode arranged in an overlapping manner.

【0053】前記電極32は、これによりゲート線30
の全部の抵抗値が他のゲート線のそれと同じにさせるよ
うに形成されているものである。そして電極32の抵抗
値は、図中上下方向の幅l31、l32によって設定す
ることができる。
[0053] The electrode 32 is thereby connected to the gate line 30.
The resistance values of all the gate lines are made to be the same as those of other gate lines. The resistance value of the electrode 32 can be set by the widths l31 and l32 in the vertical direction in the figure.

【0054】また、ゲート線30の容量値は、図4に示
すように、ゲート線30の両端に新たに設けた容量手段
により確保し、他のゲート線の容量値と同じにしている
Further, as shown in FIG. 4, the capacitance value of the gate line 30 is ensured by capacitance means newly provided at both ends of the gate line 30, and is made equal to the capacitance value of the other gate lines.

【0055】なお、前記容量手段は、容量41を介して
ボンデングパッド42からコモン電圧が印加されるよう
になっている。
It should be noted that a common voltage is applied to the capacitor means from the bonding pad 42 via the capacitor 41.

【0056】図5は、前記容量手段をガラス基板に形成
した一実施例の平面図を示している。  同図において
、ゲート線30はリード31を介してパッド32にまで
引き出されている。一方コモン電圧を印加するためのパ
ッド33があり、このパッド33はリード34を介して
前記パッド32と重畳して配置されるパッド35にまで
引き出されている。
FIG. 5 shows a plan view of an embodiment in which the capacitor means is formed on a glass substrate. In the figure, the gate line 30 is drawn out to a pad 32 via a lead 31. On the other hand, there is a pad 33 for applying a common voltage, and this pad 33 is led out through a lead 34 to a pad 35 arranged to overlap with the pad 32.

【0057】そして、前記パッド32とパッド35との
間には絶縁層36、半導体層37の積層体が介在されて
いる。
A laminated body of an insulating layer 36 and a semiconductor layer 37 is interposed between the pad 32 and the pad 35.

【0058】なお、図5のI−I線における断面図を図
6に示している。
Note that FIG. 6 shows a cross-sectional view taken along the line II in FIG. 5.

【0059】図中、符号38は、前記TFT型のMOS
トランジスタのソース・ドレイン層であり、また39は
パッシベーション膜である。
In the figure, reference numeral 38 indicates the TFT type MOS
These are the source/drain layers of the transistor, and 39 is a passivation film.

【0060】このような構成からなる容量手段は、前記
TFT型のMOSトランジスタと同工程で同じに形成で
きるものとなっている。
The capacitor means having such a structure can be formed in the same process as the TFT type MOS transistor.

【0061】図7は、前記容量手段を設けることによる
効果を締め示したグラフである。同図から明らかなよう
に、前記容量手段を設けていない最下行のゲート線の容
量は、図中70で示すように、その上の行のゲート線の
容量71に比較して小さくなっているが、容量手段を設
けることにより図中72に示すように、71に近づくこ
とが判る。
FIG. 7 is a graph illustrating the effects of providing the capacitance means. As is clear from the figure, the capacitance of the gate line in the bottom row, which is not provided with the capacitance means, is smaller than the capacitance 71 of the gate line in the row above it, as indicated by 70 in the figure. However, it can be seen that by providing the capacitive means, the value approaches 71 as shown at 72 in the figure.

【0062】以上説明した実施例によれば、最上行の画
素群および最下行の画素群の各ゲート線における容量値
、抵抗値を、原則として他の行の画素群のそれと同じに
すれば、表示むらがなくなる。
According to the embodiment described above, if the capacitance and resistance values of each gate line of the pixel group in the top row and the pixel group in the bottom row are made the same as those of the pixel groups in other rows, as a general rule, Display unevenness is eliminated.

【0063】しかし、最上行の画素群に関しては、その
付加容量手段を通して、2行目の画素群におけるTFT
型のMOSトランジスタのソース電圧に飛込みがあると
いう特殊事情があるため、前記付加容量手段における容
量値を他の行の画素群のそれよりも大きく構成して前記
飛込み量を小さくしたものである。
However, regarding the pixel group in the top row, the TFT in the pixel group in the second row is
Since there is a special situation in which there is a jump in the source voltage of the type MOS transistor, the capacitance value of the additional capacitance means is configured to be larger than that of the pixel groups in other rows to reduce the jump amount.

【0064】このようにすれば、最上行が最下行までの
各画素群において表示むらがなくなり、最上行の各画素
群、および最下行の各画素群を表示領域内として用いる
ことができるようになる。
By doing this, display unevenness is eliminated in each pixel group from the top row to the bottom row, and each pixel group in the top row and each pixel group in the bottom row can be used as the display area. Become.

【0065】[0065]

【発明の効果】以上説明したことから明らかなように、
本発明によれば、形成した画素は、その最上行および最
下行にあっても他の行の画素群と同様に表示状態を良好
にし有効表示領域内の画素群として用いることができる
ようになる。
[Effect of the invention] As is clear from the above explanation,
According to the present invention, even if the formed pixels are in the top row and the bottom row, the display state is as good as that of the pixel groups in other rows, and the pixels can be used as a pixel group within the effective display area. .

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

【図1】本発明による液晶表示装置の一実施例を示す構
成図であり、特に、マトリックス状に配列されている画
素のうち最上行、および2行目に配列されている画素の
パターンを示す構成図である。
FIG. 1 is a configuration diagram showing an embodiment of a liquid crystal display device according to the present invention, and particularly shows a pattern of pixels arranged in the top row and second row among pixels arranged in a matrix. FIG.

【図2】(a)、(b)は、最上行の画素群における付
加容量値を大きくさせる理由を示す説明図である。
FIGS. 2A and 2B are explanatory diagrams showing the reason for increasing the additional capacitance value in the top row pixel group.

【図3】本発明による液晶表示装置の一実施例を示す構
成図であり、特に、マトリックス状に配列されている画
素のうち最下行、およびその1行目上に配列されている
画素のパターンを示す構成図である。
FIG. 3 is a configuration diagram showing an embodiment of a liquid crystal display device according to the present invention, and in particular, a pattern of pixels arranged in the bottom row and the first row above the bottom row of pixels arranged in a matrix. FIG.

【図4】最下行に容量手段を設けることを示す説明図で
ある。
FIG. 4 is an explanatory diagram showing that capacitor means is provided in the bottom row.

【図5】前記容量手段をガラス基板上に形成するパター
ンの一実施例として示した平面図である。
FIG. 5 is a plan view showing an example of a pattern in which the capacitor means is formed on a glass substrate.

【図6】図5のI−I線における断面を示した断面図で
ある。
FIG. 6 is a cross-sectional view taken along line II in FIG. 5;

【図7】最下行のゲート線の容量が他のゲート線のそれ
とほぼ等しく形成できることを示すグラフである。
FIG. 7 is a graph showing that the capacitance of the gate line in the bottom row can be formed to be approximately equal to that of the other gate lines.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1、2、30  ゲート線 10          透明画素電極11、14  
  付加容量形成電極 32          電極 41          容量
1, 2, 30 Gate line 10 Transparent pixel electrode 11, 14
Additional capacitance forming electrode 32 Electrode 41 Capacitance

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】  マトリックス状に画素が配列され、こ
れら各画素ごとに付加容量手段が形成されている液晶表
示装置において、各行における画素群のうち最上行の各
画素の付加容量手段を、その容量値を他の画素における
付加容量値よりも大きく、かつ、その抵抗値を他の画素
における抵抗値と同じに構成するとともに、最下行の各
画素の付加容量手段を、その容量値および抵抗値を他の
画素における容量値および抵抗値と同じに構成したこと
を特徴とする液晶表示装置。
Claim 1: In a liquid crystal display device in which pixels are arranged in a matrix and additional capacitance means is formed for each pixel, the additional capacitance means of each pixel in the top row of the pixel group in each row is defined by its capacitance. The value is larger than the additional capacitance value in other pixels, and the resistance value is the same as the resistance value in other pixels, and the additional capacitance means of each pixel in the bottom row is configured to A liquid crystal display device characterized in that the capacitance and resistance values of other pixels are configured to be the same.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6769758B2 (en) * 2000-04-06 2004-08-03 Seiko Epson Corporation Cleaning device and ink-jet printer

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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US6769758B2 (en) * 2000-04-06 2004-08-03 Seiko Epson Corporation Cleaning device and ink-jet printer

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