JPH04310544A - 導電ガラス - Google Patents
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- JPH04310544A JPH04310544A JP19265791A JP19265791A JPH04310544A JP H04310544 A JPH04310544 A JP H04310544A JP 19265791 A JP19265791 A JP 19265791A JP 19265791 A JP19265791 A JP 19265791A JP H04310544 A JPH04310544 A JP H04310544A
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Landscapes
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は導電ガラスに関し、特に
高強度・高耐摩耗性能を有する導電ガラスに関する。
高強度・高耐摩耗性能を有する導電ガラスに関する。
【0002】
【従来の技術】近年、導電ガラスは、各種ディスプレ−
・薄膜太陽電池などの電極、また透明タッチセンサ−、
透明帯電防止体、透明電磁波遮蔽体など様々な分野で応
用が図られている。導電ガラスはもっぱら、ガラス上に
透明導電性の被膜材料をコ−ティングすることで得られ
ている。この種の材料としては、半金属的挙動を示す酸
化物材料が好んで使用され、代表的なものとしては酸化
錫、酸化インジウム錫(以下ITOと記述する)、酸化
亜鉛、酸化カドミウム錫などが挙げられる。
・薄膜太陽電池などの電極、また透明タッチセンサ−、
透明帯電防止体、透明電磁波遮蔽体など様々な分野で応
用が図られている。導電ガラスはもっぱら、ガラス上に
透明導電性の被膜材料をコ−ティングすることで得られ
ている。この種の材料としては、半金属的挙動を示す酸
化物材料が好んで使用され、代表的なものとしては酸化
錫、酸化インジウム錫(以下ITOと記述する)、酸化
亜鉛、酸化カドミウム錫などが挙げられる。
【0003】用途によっては、導電ガラスが通常使用空
間に露出するため、高い耐摩耗性、耐薬品性(耐酸、耐
アルカリ性)を要求されるものもある。また、安全性を
確保するため、ガラス自体も通常板ガラスより著しく高
い強度を要求される場合がある。高い強度のガラスを得
るためには通常、軟化点以上に加熱したガラスを、急速
に表面から冷却して圧縮応力を得る風冷強化と言われる
手段ないしは、ガラスをカリウムイオンを含む溶融塩に
浸漬し、ガラス中のナトリウムイオンと交換させ、イオ
ンの大きさの違いに基づいて表面圧縮応力を得る化学強
化と呼ばれる手段が好まれる。いずれにせよ、ガラスの
強度を増加させる工程では400℃から600℃程度の
高温にさらされることになる。
間に露出するため、高い耐摩耗性、耐薬品性(耐酸、耐
アルカリ性)を要求されるものもある。また、安全性を
確保するため、ガラス自体も通常板ガラスより著しく高
い強度を要求される場合がある。高い強度のガラスを得
るためには通常、軟化点以上に加熱したガラスを、急速
に表面から冷却して圧縮応力を得る風冷強化と言われる
手段ないしは、ガラスをカリウムイオンを含む溶融塩に
浸漬し、ガラス中のナトリウムイオンと交換させ、イオ
ンの大きさの違いに基づいて表面圧縮応力を得る化学強
化と呼ばれる手段が好まれる。いずれにせよ、ガラスの
強度を増加させる工程では400℃から600℃程度の
高温にさらされることになる。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、導電ガ
ラスの電気的特性と膜の機械的強度並びにガラス強度を
同時に満足させるのは困難であった。例えば、透明導電
膜として代表的なITO膜では、優れた電気特性を示す
のであるが、膜の耐摩耗性・耐薬品性は弱い上にガラス
の強度を得るために風冷強化または化学強化処理を行な
うと、電気特性が劣化したりあるいは膜が欠損するとい
う問題に直面する。
ラスの電気的特性と膜の機械的強度並びにガラス強度を
同時に満足させるのは困難であった。例えば、透明導電
膜として代表的なITO膜では、優れた電気特性を示す
のであるが、膜の耐摩耗性・耐薬品性は弱い上にガラス
の強度を得るために風冷強化または化学強化処理を行な
うと、電気特性が劣化したりあるいは膜が欠損するとい
う問題に直面する。
【0005】一方酸化錫膜では、耐摩耗性能がITO膜
に比して優れている。しかし、これを風冷強化してガラ
スの強度を増そうとすると、その工程の急激な温度変化
のために、しばしば膜に亀裂が生じたり、著しくガラス
が変形してしまう。従ってこの風冷強化処理に当たって
は、厳密な温度管理が必要となり、ともすれば生産性を
損なうことになる。
に比して優れている。しかし、これを風冷強化してガラ
スの強度を増そうとすると、その工程の急激な温度変化
のために、しばしば膜に亀裂が生じたり、著しくガラス
が変形してしまう。従ってこの風冷強化処理に当たって
は、厳密な温度管理が必要となり、ともすれば生産性を
損なうことになる。
【0006】さらに、予め風冷・化学強化処理を施した
ガラスに透明導電膜を施すことも考えられるが、この場
合膜付け処理温度が高温であると、表面圧縮応力層が原
子の移動拡散によって消失してしまう。
ガラスに透明導電膜を施すことも考えられるが、この場
合膜付け処理温度が高温であると、表面圧縮応力層が原
子の移動拡散によって消失してしまう。
【0007】したがって、十分なガラス強度を持った導
電ガラスを作製するための手段としては、強化処理を施
した後、低温で膜付け処理が行なえる方法(例えば真空
蒸着、スパッタ法)にならざるをえないが、この種の設
備は真空を必要とし、膜付けコストが高くなるのはやむ
を得ない実状であった。
電ガラスを作製するための手段としては、強化処理を施
した後、低温で膜付け処理が行なえる方法(例えば真空
蒸着、スパッタ法)にならざるをえないが、この種の設
備は真空を必要とし、膜付けコストが高くなるのはやむ
を得ない実状であった。
【0008】本発明は上記従来の問題点を解決し、高強
度・高耐摩耗性能を有する導電ガラスおよびその製造方
法を提供することを目的とする。
度・高耐摩耗性能を有する導電ガラスおよびその製造方
法を提供することを目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】請求項1の導電ガラスは
、ガラス板上に、カリウムを含む酸化錫を主成分とする
被膜が施された導電ガラスであって、■該酸化錫を主成
分とする被膜の厚みが、1〜100nmの範囲であり、
■カリウムの濃度が、0.1〜10.0重量%であり、
■ガラス表面応力が、20〜100kg/mm2である
ことを特徴とする。
、ガラス板上に、カリウムを含む酸化錫を主成分とする
被膜が施された導電ガラスであって、■該酸化錫を主成
分とする被膜の厚みが、1〜100nmの範囲であり、
■カリウムの濃度が、0.1〜10.0重量%であり、
■ガラス表面応力が、20〜100kg/mm2である
ことを特徴とする。
【0010】請求項2の導電ガラスの製造方法は、ガラ
ス上に酸化錫被膜が形成された後、溶融硝酸カリウムと
接触され、ガラスおよび該被膜中にカリウムを含ませる
ことを特徴とする。
ス上に酸化錫被膜が形成された後、溶融硝酸カリウムと
接触され、ガラスおよび該被膜中にカリウムを含ませる
ことを特徴とする。
【0011】請求項3の導電ガラスの製造方法は、該酸
化錫被膜が熱分解法によって形成されるとしてもよい。
化錫被膜が熱分解法によって形成されるとしてもよい。
【0012】
【作用】本発明によれば、適当な厚味の酸化錫膜を成膜
した後、化学強化の手法をとれば、膜の電気的特性を大
きく損なうことなくガラスに強度がもたせられて、かつ
酸化錫膜にカリウムが含まれることによって膜の耐摩耗
性能も向上させることが可能となった。
した後、化学強化の手法をとれば、膜の電気的特性を大
きく損なうことなくガラスに強度がもたせられて、かつ
酸化錫膜にカリウムが含まれることによって膜の耐摩耗
性能も向上させることが可能となった。
【0013】酸化錫の成膜手段としては、真空蒸着法、
スパッタ法、スプレ−法、CVD法、ディッピング法な
ど種々の方法があるが、この中でもコスト・生産性の点
からスプレ−・CVDなどのいわゆる熱分解法が有利で
ある。熱分解法では、熱分解性を有する錫化合物が主原
料となり、具体的にはSnCl4、(CnH2n+1)
4Sn(ただし、n=1〜4)、C4H9SnCl3、
(CH3)2SnCl2、(C4H9)2Sn(OCO
CH3)2 等を使用するのが一般的である。また、電
気的特性を向上させるために、ふっ素がしばしば膜に添
加されるが、この原料としてはHF、CCl2F2、C
HClF2、CH3CHF2、CF3Br、CF3CO
OH、NH4F等が知られている。これらの原料の蒸気
を酸素等の酸化性ガスと共に加熱したガラスに接触させ
て膜を得るか、またはアルコ−ル、ベンゼン、トルエン
等の有機溶媒に溶解して加熱されたガラスに噴霧して膜
を得る。
スパッタ法、スプレ−法、CVD法、ディッピング法な
ど種々の方法があるが、この中でもコスト・生産性の点
からスプレ−・CVDなどのいわゆる熱分解法が有利で
ある。熱分解法では、熱分解性を有する錫化合物が主原
料となり、具体的にはSnCl4、(CnH2n+1)
4Sn(ただし、n=1〜4)、C4H9SnCl3、
(CH3)2SnCl2、(C4H9)2Sn(OCO
CH3)2 等を使用するのが一般的である。また、電
気的特性を向上させるために、ふっ素がしばしば膜に添
加されるが、この原料としてはHF、CCl2F2、C
HClF2、CH3CHF2、CF3Br、CF3CO
OH、NH4F等が知られている。これらの原料の蒸気
を酸素等の酸化性ガスと共に加熱したガラスに接触させ
て膜を得るか、またはアルコ−ル、ベンゼン、トルエン
等の有機溶媒に溶解して加熱されたガラスに噴霧して膜
を得る。
【0014】膜厚は電気抵抗を低くするという点からは
厚いほうがよいが、あまり厚いと膜の光吸収により透明
性が損なわれたり、化学強化工程でのイオン交換が困難
となる。実用的な膜厚範囲は1〜100nm、望ましく
は5〜50nmである。
厚いほうがよいが、あまり厚いと膜の光吸収により透明
性が損なわれたり、化学強化工程でのイオン交換が困難
となる。実用的な膜厚範囲は1〜100nm、望ましく
は5〜50nmである。
【0015】化学強化は硝酸カリウムのようなカリウム
を含む塩を溶融させ、所定時間ガラスを浸漬させて行な
う。
を含む塩を溶融させ、所定時間ガラスを浸漬させて行な
う。
【0016】こうして得られた導電ガラスでは、その電
気抵抗値は化学強化処理前に比べ若干増加するが実用上
大きな障害ではない。
気抵抗値は化学強化処理前に比べ若干増加するが実用上
大きな障害ではない。
【0017】この膜の耐摩耗性能を調べるために、往復
摺動試験器を用いて電気抵抗値の変化を測定したところ
、化学強化を施したもののほうが初期抵抗値は高いもの
の変化の程度は小さく、最終的には抵抗値が逆転し化学
強化を施したものが高い耐久性能を持つに至った。この
詳細な原因は不明であるが、図2に示す如く酸化錫膜中
にほぼ均一に分布しているカリウムが何らかの関与をし
ていると考えてよかろう。
摺動試験器を用いて電気抵抗値の変化を測定したところ
、化学強化を施したもののほうが初期抵抗値は高いもの
の変化の程度は小さく、最終的には抵抗値が逆転し化学
強化を施したものが高い耐久性能を持つに至った。この
詳細な原因は不明であるが、図2に示す如く酸化錫膜中
にほぼ均一に分布しているカリウムが何らかの関与をし
ていると考えてよかろう。
【0018】化学強化工程で侵入する酸化錫膜中のカリ
ウム濃度は 0.1〜10重量%が望ましい。カリウム
濃度が 0.1重量%より低いと耐摩耗性能の向上への
効果が薄れる。また10重量%より高いと膜の電気抵抗
が高くなる等の悪影響が現れる。
ウム濃度は 0.1〜10重量%が望ましい。カリウム
濃度が 0.1重量%より低いと耐摩耗性能の向上への
効果が薄れる。また10重量%より高いと膜の電気抵抗
が高くなる等の悪影響が現れる。
【0019】またガラスの強度を光弾性法を用いたガラ
ス表面応力測定器で評価したところ、と酸化錫の膜のな
い試料と遜色のない強度を有する膜を得られることがわ
かった。化学強化の妥当性に関してガラス表面のカリウ
ムの深さ方向濃度プロファイルを見たが図1に示すよう
に膜の有無に関わらず同じプロファイルが得られた。
ス表面応力測定器で評価したところ、と酸化錫の膜のな
い試料と遜色のない強度を有する膜を得られることがわ
かった。化学強化の妥当性に関してガラス表面のカリウ
ムの深さ方向濃度プロファイルを見たが図1に示すよう
に膜の有無に関わらず同じプロファイルが得られた。
【0020】化学強化処理によるガラス表面応力の値は
20〜100kg/mm2の値が望ましい。表面応力値
が100kg/mm2以上では、ガラスの破壊応力値(
約200〜300kg/mm2)に近ずき、応力不安定
となり自己破壊の恐れが生じ好ましくない。また表面応
力値が20kg/mm2以下であるとガラスの強度上昇
には事実上結びつかない上に、非膜面(正常に化学強化
される)の表面応力との差が大きくなり反り等の悪影響
が生じてしまう。
20〜100kg/mm2の値が望ましい。表面応力値
が100kg/mm2以上では、ガラスの破壊応力値(
約200〜300kg/mm2)に近ずき、応力不安定
となり自己破壊の恐れが生じ好ましくない。また表面応
力値が20kg/mm2以下であるとガラスの強度上昇
には事実上結びつかない上に、非膜面(正常に化学強化
される)の表面応力との差が大きくなり反り等の悪影響
が生じてしまう。
【0021】
【実施例】実施例1
よく洗浄した100mm角のフロ−ト板ガラス(5mm
厚)を用意し、基板とした。これに以下の方法で酸化錫
膜を施した。
厚)を用意し、基板とした。これに以下の方法で酸化錫
膜を施した。
【0022】モノブチル錫トリクロライドと水蒸気、酸
素ガス、1,1−ジフルオロエタンガスおよび窒素ガス
よりなる混合気体を用い、CVD法により作製した。ガ
ラスの加熱温度は540℃であった。錫原料の流量を適
宜変更させ、膜厚の異なる3種類の膜を得た。この導電
ガラスの電気抵抗値(1cm間隔の2端子間抵抗)およ
びC光線透過率は表1に記載した通りである。(以下余
白)
素ガス、1,1−ジフルオロエタンガスおよび窒素ガス
よりなる混合気体を用い、CVD法により作製した。ガ
ラスの加熱温度は540℃であった。錫原料の流量を適
宜変更させ、膜厚の異なる3種類の膜を得た。この導電
ガラスの電気抵抗値(1cm間隔の2端子間抵抗)およ
びC光線透過率は表1に記載した通りである。(以下余
白)
【0023】次にこの3種類の導電ガラスを溶融状態の
硝酸カリウム(温度470℃)に4.5時間浸漬しその
後引き上げてから徐冷した。比較のために酸化錫膜のな
いフロ−ト板ガラス(5mm厚)も同時に浸漬した。そ
の後水洗し、電気抵抗値およびC光線透過率を測定した
。
硝酸カリウム(温度470℃)に4.5時間浸漬しその
後引き上げてから徐冷した。比較のために酸化錫膜のな
いフロ−ト板ガラス(5mm厚)も同時に浸漬した。そ
の後水洗し、電気抵抗値およびC光線透過率を測定した
。
【0024】このサンプルから50×70mmの小片を
切り出し、この膜の耐摩耗性能を調べるために、往復摺
動試験器を用いて電気抵抗値の変化を測定した。この結
果は図3に示す。
切り出し、この膜の耐摩耗性能を調べるために、往復摺
動試験器を用いて電気抵抗値の変化を測定した。この結
果は図3に示す。
【0025】次いでガラスサンプルから30mm角の小
片を切り出し東芝硝子製硝子表面応力測定装置により上
記強化処理を行なったガラスの表面応力を測定した。こ
れらの結果を同じく表1に記載した。
片を切り出し東芝硝子製硝子表面応力測定装置により上
記強化処理を行なったガラスの表面応力を測定した。こ
れらの結果を同じく表1に記載した。
【0026】イオン交換が行なわれているかどうかを確
認するため、EPMA(電子線マイクロアナライザ−)
によりガラス膜面からカリウムイオンの深さ方向濃度プ
ロファイルを観察した。結果を図1に示す。
認するため、EPMA(電子線マイクロアナライザ−)
によりガラス膜面からカリウムイオンの深さ方向濃度プ
ロファイルを観察した。結果を図1に示す。
【0027】また酸化錫膜への化学強化工程の影響を把
握するためXPS(X線光電子分光)によりSn、K、
Na、Si、原子の深さ方向濃度プロファイルを観察し
た結果を図2に示した。
握するためXPS(X線光電子分光)によりSn、K、
Na、Si、原子の深さ方向濃度プロファイルを観察し
た結果を図2に示した。
【0028】実施例2
よく洗浄した100mm角のフロ−ト板ガラス(5mm
厚)を用意し、基板とした。これに以下の方法で酸化錫
膜を施した。
厚)を用意し、基板とした。これに以下の方法で酸化錫
膜を施した。
【0029】ジブチル錫ジアセテ−トとトリフルオロア
セテ−ト、イソプロパノ−ルを以下の割合で混合し、こ
の液を600℃に加熱したガラスに噴霧して酸化錫膜を
ジブチル錫ジアセテ−ト 10.0gトリフ
ルオロアセテ−ト 1.6gイソプロパ
ノ−ル 200cc作製した。 噴霧時間を変更させて膜厚の異なる3種類の膜を得た。 この導電ガラスの電気抵抗値(1cm間隔の2端子間抵
抗)およびC光線透過率は表2に記載した通りである。
セテ−ト、イソプロパノ−ルを以下の割合で混合し、こ
の液を600℃に加熱したガラスに噴霧して酸化錫膜を
ジブチル錫ジアセテ−ト 10.0gトリフ
ルオロアセテ−ト 1.6gイソプロパ
ノ−ル 200cc作製した。 噴霧時間を変更させて膜厚の異なる3種類の膜を得た。 この導電ガラスの電気抵抗値(1cm間隔の2端子間抵
抗)およびC光線透過率は表2に記載した通りである。
【0030】次にこの4種の導電ガラスを溶融状態の硝
酸カリウム(温度470℃)に4.5時間浸漬しその後
引き上げてから徐冷した。比較のために酸化錫膜のない
フロ−ト板ガラス(5mm厚)も同時に浸漬した。その
後水洗し、電気抵抗値およびC光線透過率を測定した。
酸カリウム(温度470℃)に4.5時間浸漬しその後
引き上げてから徐冷した。比較のために酸化錫膜のない
フロ−ト板ガラス(5mm厚)も同時に浸漬した。その
後水洗し、電気抵抗値およびC光線透過率を測定した。
【0031】次いでガラスサンプルから30mm角の小
片を切り出し東芝硝子製硝子表面応力測定装置により上
記強化処理を行なったガラスの表面応力を測定した。こ
れらの結果を同じく表2に記載した。
片を切り出し東芝硝子製硝子表面応力測定装置により上
記強化処理を行なったガラスの表面応力を測定した。こ
れらの結果を同じく表2に記載した。
【0032】残ったサンプルから50×70mmの小片
を切り出し、この膜の耐摩耗性能を調べるために、往復
摺動試験器を用いて電気抵抗値の変化を測定した。この
結果は実施例1と同様であった。
を切り出し、この膜の耐摩耗性能を調べるために、往復
摺動試験器を用いて電気抵抗値の変化を測定した。この
結果は実施例1と同様であった。
【0033】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、酸化錫膜
の中に化学強化処理を行なうことによって膜を通してガ
ラスがイオン交換を受け、強度の高いガラスが得られる
と同時に、膜の耐摩耗性能も著しく増加されることがわ
かった。
の中に化学強化処理を行なうことによって膜を通してガ
ラスがイオン交換を受け、強度の高いガラスが得られる
と同時に、膜の耐摩耗性能も著しく増加されることがわ
かった。
【図1】図1は本発明の実施例における酸化錫膜付けガ
ラスの化学強化処理後のNa,Kイオンの深さ方向プロ
ファイルである。
ラスの化学強化処理後のNa,Kイオンの深さ方向プロ
ファイルである。
【図2】図2は本発明の実施例における酸化錫膜付けガ
ラスの化学強化処理後の膜中およびガラス表面のSn,
Si,Na,Kの深さ方向プロファイルである。
ラスの化学強化処理後の膜中およびガラス表面のSn,
Si,Na,Kの深さ方向プロファイルである。
【図3】図3は本発明の実施例における酸化錫膜付けガ
ラスの化学強化処理前および後のガラスの耐摩耗性能試
験結果である。
ラスの化学強化処理前および後のガラスの耐摩耗性能試
験結果である。
Claims (3)
- 【請求項1】 ガラス板上に、カリウムを含む酸化錫
を主成分とする被膜が施された導電ガラスであって、■
該酸化錫を主成分とする被膜の厚みが、1〜100nm
の範囲であり、■カリウムの濃度が、0.1〜10.0
重量%であり、■ガラス表面応力が、20〜100kg
/mm2であることを特徴とする導電ガラス。 - 【請求項2】 ガラス上に酸化錫被膜が形成された後
、溶融硝酸カリウムと接触され、ガラスおよび該被膜中
にカリウムを含ませることを特徴とする導電ガラスの製
造方法。 - 【請求項3】 該酸化錫被膜が熱分解法によって形成
されることを特徴とする請求項2記載の導電ガラスの製
造方法。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3192657A JP2792276B2 (ja) | 1991-04-03 | 1991-04-03 | 導電ガラス |
US07/856,747 US5279851A (en) | 1991-04-03 | 1992-03-24 | Method of manufacturing a conductive glass with high strength and wear resistance |
DE69215569T DE69215569T2 (de) | 1991-04-03 | 1992-04-01 | Leitfähiges Glas und Verfahren zu seiner Herstellung |
EP92105611A EP0507276B1 (en) | 1991-04-03 | 1992-04-01 | Conductive glass and manufacturing method thereof |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3192657A JP2792276B2 (ja) | 1991-04-03 | 1991-04-03 | 導電ガラス |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP372798A Division JPH10231147A (ja) | 1998-01-12 | 1998-01-12 | 透明帯電防止ガラス板 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04310544A true JPH04310544A (ja) | 1992-11-02 |
JP2792276B2 JP2792276B2 (ja) | 1998-09-03 |
Family
ID=16294879
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3192657A Expired - Fee Related JP2792276B2 (ja) | 1991-04-03 | 1991-04-03 | 導電ガラス |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2792276B2 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001036102A (ja) * | 1999-07-15 | 2001-02-09 | Sanyo Electric Co Ltd | 太陽電池モジュール |
WO2013094479A1 (ja) * | 2011-12-19 | 2013-06-27 | 旭硝子株式会社 | 化学強化用ガラス基板およびその製造方法 |
WO2013099620A1 (ja) * | 2011-12-26 | 2013-07-04 | 旭硝子株式会社 | 化学強化処理によるガラス基板の反りを低減する方法、および化学強化ガラス基板の製造方法 |
DE112018002226T5 (de) | 2017-04-28 | 2020-01-23 | AGC Inc. | Glassubstrat mit aufgebrachtem film, gegenstand und verfahren zur herstellung eines glassubstrats mit aufgebrachtem film |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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JPS548492A (en) * | 1977-06-22 | 1979-01-22 | Toshiba Corp | Scanning conversion system |
JPS61227946A (ja) * | 1985-03-30 | 1986-10-11 | Asahi Glass Co Ltd | 電導性ガラス |
JPS632906A (ja) * | 1986-06-23 | 1988-01-07 | Sumitomo Chem Co Ltd | 種子消毒剤 |
JPS63139034A (ja) * | 1986-11-28 | 1988-06-10 | Nec Corp | ガラス基板上の透明導電膜 |
-
1991
- 1991-04-03 JP JP3192657A patent/JP2792276B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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US9023480B2 (en) | 2011-12-19 | 2015-05-05 | Asahi Glass Company, Limited | Glass substrate for chemical strengthening, and method for producing same |
WO2013099620A1 (ja) * | 2011-12-26 | 2013-07-04 | 旭硝子株式会社 | 化学強化処理によるガラス基板の反りを低減する方法、および化学強化ガラス基板の製造方法 |
JPWO2013099620A1 (ja) * | 2011-12-26 | 2015-04-30 | 旭硝子株式会社 | 化学強化処理によるガラス基板の反りを低減する方法、および化学強化ガラス基板の製造方法 |
US9090501B2 (en) | 2011-12-26 | 2015-07-28 | Asahi Glass Company, Limited | Method for reducing warpage of glass substrate caused by chemical strengthening process, and method for producing chemically strengthened glass substrate |
DE112018002226T5 (de) | 2017-04-28 | 2020-01-23 | AGC Inc. | Glassubstrat mit aufgebrachtem film, gegenstand und verfahren zur herstellung eines glassubstrats mit aufgebrachtem film |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2792276B2 (ja) | 1998-09-03 |
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LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |