JPH04288887A - Excimer laser device - Google Patents
Excimer laser deviceInfo
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Abstract
Description
【0001】0001
【産業上の利用分野】この発明は、エキシマレーザー装
置に係り、特にそのレーザーガスの長寿命化とレーザー
ビームの高品質化を図るものに関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an excimer laser device, and more particularly to an excimer laser device for extending the life of the laser gas and improving the quality of the laser beam.
【0002】0002
【従来の技術】図3は、この種従来のエキシマレーザー
装置を示す構成図である。図において、1は内部に一対
の電極2を収容するレーザーチャンバー、3はレーザー
チャンバー1の両端に設けられたミラー等の光学部品、
4は内部に機械式フィルター5が取付けられたフィルタ
ー装置、6はガス純化装置である。そして、レーザーチ
ャンバー1、フィルター装置4およびガス純化装置6は
外部配管7で直列に連通しており、全体として密閉容器
を構成しその内部にKrF 等のレーザーガス8が封入
されている。また、このレーザーガス8は図示しない循
環装置により図中矢印に示す方向に循環する。2. Description of the Related Art FIG. 3 is a block diagram showing a conventional excimer laser device of this type. In the figure, 1 is a laser chamber that houses a pair of electrodes 2 inside, 3 is an optical component such as a mirror provided at both ends of the laser chamber 1,
4 is a filter device having a mechanical filter 5 attached therein, and 6 is a gas purification device. The laser chamber 1, the filter device 4, and the gas purification device 6 are connected in series through an external pipe 7, and the whole constitutes a sealed container in which a laser gas 8 such as KrF is sealed. Further, this laser gas 8 is circulated in the direction shown by the arrow in the figure by a circulation device (not shown).
【0003】エキシマレーザー装置では、レーザーチャ
ンバー1内における電極2間の放電により電極2自身が
スパッタされ微粒子となってガス空間中に漂うことにな
る。このような微粒子が放電空間に存在すると、望まし
い均一な放電が乱され、レーザービームの強度分布が不
均一になったり出力が不安定になるなどの弊害が生じる
。また、エキシマレーザー装置ではFやCl等のハロゲ
ンガスを媒体ガスとして用いているが、これらのハロゲ
ンガスはNe,He等の希ガスバッファに比較して微量
しか封入されていないので、少量の不純物や微粒子によ
りレーザー出力が低下するなどの影響が顕著に現れる。
そこで、ポンプ等の循環装置を駆動してレーザーチャン
バー1内のレーザーガス8を外部配管7を経てフィルタ
ー装置4に送り、その内部の機械式フィルター5を透過
させることによりガス中の微粒子を除去し、更にガス純
化装置6を循環させることにより不純物を除去する。こ
のようにしてレーザービームの高品質化とレーザーガス
の長寿命化を図っている訳である。In the excimer laser device, the electrodes 2 themselves are sputtered by the discharge between the electrodes 2 in the laser chamber 1, and become fine particles that float in the gas space. If such fine particles exist in the discharge space, the desired uniform discharge is disturbed, causing problems such as the intensity distribution of the laser beam becoming non-uniform and the output becoming unstable. In addition, excimer laser devices use halogen gases such as F and Cl as medium gases, but since these halogen gases are enclosed in only trace amounts compared to rare gas buffers such as Ne and He, small amounts of impurities may be present. The effect of laser output reduction due to particles and particles is noticeable. Therefore, by driving a circulation device such as a pump, the laser gas 8 in the laser chamber 1 is sent to the filter device 4 via the external piping 7, and the particulates in the gas are removed by passing through the mechanical filter 5 inside the filter device 4. Furthermore, impurities are removed by circulating the gas purifier 6. In this way, we aim to improve the quality of the laser beam and extend the life of the laser gas.
【0004】0004
【発明が解決しようとする課題】このように、従来のエ
キシマレーザー装置では、放電により発生する微粒子を
機械式フィルター5で除去していた。ところで、この機
械式フィルター5は例えば細かい格子状のフィルターで
形成されるが、その適用にあたっては、循環するガス流
がこのフィルターを透過する構成とする必要がある。従
って、より微細な微粒子を除去しようとしてフィルター
の網目を細かくするとガスの流れが阻害され、逆に網目
を粗くしてガス流を妨げないようにすると細かい微粒子
は除去できなくなる。また、網目の細かいフィルターが
微粒子を捕獲するとガスの流れを阻害し以後の捕獲能力
も低下するので、煩雑なフィルター交換を頻繁に行う必
要があるなどの問題点があった。この発明は以上のよう
な問題点を解消するためになされたもので、レーザーガ
スの流れを妨げることなく微粒子を除去することができ
るエキシマレーザー装置を得ることを目的とする。SUMMARY OF THE INVENTION As described above, in the conventional excimer laser device, the mechanical filter 5 removes fine particles generated by discharge. By the way, this mechanical filter 5 is formed of, for example, a fine lattice-like filter, but in its application, it is necessary to have a structure that allows the circulating gas flow to pass through this filter. Therefore, if the mesh of the filter is made finer in an attempt to remove finer particulates, the gas flow will be obstructed, and conversely, if the mesh is made coarser so as not to impede the gas flow, finer particulates will not be removed. Furthermore, if a fine-mesh filter captures particulates, it obstructs the flow of gas and reduces the subsequent capture ability, resulting in problems such as the need for frequent and complicated filter replacement. The present invention was made to solve the above-mentioned problems, and an object of the present invention is to obtain an excimer laser device that can remove fine particles without interfering with the flow of laser gas.
【0005】[0005]
【課題を解決するための手段】この発明に係るエキシマ
レーザー装置は、一対の電極を収容しレーザーガスを封
入した容器内に磁石を設けたものである。[Means for Solving the Problems] An excimer laser device according to the present invention is one in which a magnet is provided in a container that accommodates a pair of electrodes and seals in laser gas.
【0006】[0006]
【作用】電極間の放電で発生した微粒子は、レーザーガ
スとともに容器内を移動し磁石の近傍に達すると磁気吸
引力で当該磁石に捕獲される。[Operation] Fine particles generated by the discharge between the electrodes move within the container together with the laser gas, and when they reach the vicinity of the magnet, they are captured by the magnet due to magnetic attraction.
【0007】[0007]
【実施例】図1はこの発明の一実施例によるエキシマレ
ーザー装置を示す構成図である。図において、従来と異
なるのはフィルター装置4であるので、以下この点を中
心に説明する。即ち、この実施例のフィルター装置4で
は、流路断面を拡大してガスの流速を低下させる空間部
分の底部に磁石9を設けている。この磁石9には永久磁
石を使用してもよいし、また電磁石を使用してもよい。
そして、この磁石9の磁気吸引力により微粒子を捕獲す
る訳である。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS FIG. 1 is a block diagram showing an excimer laser apparatus according to an embodiment of the present invention. In the figure, since the filter device 4 is different from the conventional one, this point will be mainly explained below. That is, in the filter device 4 of this embodiment, the magnet 9 is provided at the bottom of the space where the cross section of the flow path is enlarged to reduce the gas flow velocity. This magnet 9 may be a permanent magnet or an electromagnet. Then, the fine particles are captured by the magnetic attraction force of the magnet 9.
【0008】即ち、レーザーガス8としてKrF ガス
を使用したエキシマレーザー装置においては、その電極
2には比較的耐弗素性に富む材料であるNiが用いられ
、また、その微粒子が弗素と反応してNiF 等が生成
されるが、これらはすべて磁性体であるため磁石9によ
ってほぼ捕獲することができる。従って、レーザーチャ
ンバー1内で、放電する電極2のスパッタ等によって発
生した微粒子やその弗化物はレーザーガス8とともに循
環装置により外部配管7を経てフィルター装置4に送り
込まれ、ここで磁石9に捕獲されガス中から除去される
。更に、フィルター装置4から出たガスはガス純化装置
6により不純物が除去され、微粒子、不純物の無い状態
でレーザーチャンバー1に戻る。その結果、レーザーチ
ャンバー1内での放電、従ってレーザ出力が安定し、ガ
スの寿命も増大する。そして、この場合、磁石9の磁気
吸引力により微粒子を引きつけ捕獲除去する方式である
ので、磁石9はガス流路の脇に配置すればよく、従来の
機械式フィルター5の場合のようなガス流を遮る構成と
する必要がないので、ガスの循環が妨げられる恐れがな
い。また、微粒子の捕獲能力もほとんど低下することは
ないので、従来のようなフィルター交換を頻繁に行う必
要もなくなる。もっとも、微粒子の発生量に異常がない
かどうか等を点検したり、大量に溜まった微粒子を排出
する等の必要もあることから、例えばフィルター装置4
の下部を開放可能として磁石9を取出し交換もできる構
造とした方がよい。That is, in an excimer laser device using KrF gas as the laser gas 8, Ni, which is a material with relatively high fluorine resistance, is used for the electrode 2, and its fine particles react with fluorine. NiF and the like are generated, but since these are all magnetic substances, they can be almost captured by the magnet 9. Therefore, in the laser chamber 1, fine particles and their fluorides generated by sputtering etc. of the discharging electrode 2 are sent together with the laser gas 8 by the circulation device via the external piping 7 to the filter device 4, where they are captured by the magnet 9. removed from the gas. Furthermore, impurities are removed from the gas discharged from the filter device 4 by a gas purification device 6, and the gas returns to the laser chamber 1 free of fine particles and impurities. As a result, the discharge within the laser chamber 1 and therefore the laser output are stabilized, and the life of the gas is also increased. In this case, the magnetic attraction force of the magnet 9 attracts, captures and removes fine particles, so the magnet 9 only needs to be placed beside the gas flow path, and the gas flow as in the case of the conventional mechanical filter 5 is used. Since there is no need for a configuration that blocks gas, there is no risk that gas circulation will be hindered. In addition, the ability to capture particulates hardly decreases, so there is no need to replace the filter as often as in the past. However, since it is necessary to check whether there are any abnormalities in the amount of fine particles generated, or to discharge a large amount of fine particles that have accumulated, for example, the filter device 4
It is better to have a structure in which the lower part of the magnet 9 can be opened so that the magnet 9 can be taken out and replaced.
【0009】図2はこの発明の他の実施例を示すもので
、各符号はそれぞれ図1の実施例の同符号に相当するも
のである。ここでは、レーザーチャンバー1内の一角に
フィルター装置4を設定し、その内部に磁石9を取付け
ている。10はレーザーチャンバー1内でレーザーガス
8を循環させるファンである。電極2間の放電で発生し
た微粒子はファン10によってレーザーチャンバー1内
を循環し磁石9に捕獲されガス中から除去される。FIG. 2 shows another embodiment of the invention, and each reference numeral corresponds to the same reference numeral in the embodiment of FIG. Here, a filter device 4 is set in one corner of the laser chamber 1, and a magnet 9 is attached inside the filter device 4. 10 is a fan that circulates the laser gas 8 within the laser chamber 1. Fine particles generated by the discharge between the electrodes 2 are circulated within the laser chamber 1 by a fan 10, captured by a magnet 9, and removed from the gas.
【0010】0010
【発明の効果】以上のように、この発明では、その容器
内に磁石を設け、電極間の放電で発生する微粒子を上記
磁石により捕獲するようにしたので、煩雑な保守作業を
ほとんど必要とすることなく、レーザービームの高品質
化とレーザーガスの長寿命化が実現する。[Effects of the Invention] As described above, in this invention, a magnet is provided inside the container, and the fine particles generated by the discharge between the electrodes are captured by the magnet, so that almost no complicated maintenance work is required. This results in higher quality laser beams and longer life of the laser gas.
【図1】この発明の一実施例によるエキシマレーザー装
置を示す構成図である。FIG. 1 is a configuration diagram showing an excimer laser device according to an embodiment of the present invention.
【図2】この発明の他の実施例によるエキシマレーザー
装置を示す構成図である。FIG. 2 is a configuration diagram showing an excimer laser device according to another embodiment of the present invention.
【図3】従来のエキシマレーザー装置を示す構成図であ
る。FIG. 3 is a configuration diagram showing a conventional excimer laser device.
1 レーザーチャンバー 2 電極 4 フィルター装置 8 レーザーガス 9 磁石 1 Laser chamber 2 Electrode 4 Filter device 8 Laser gas 9 Magnet
Claims (1)
にレーザーガスを封入し上記両電極間の放電励起でレー
ザー光を発生させるエキシマレーザー装置において、上
記容器内に磁石を設け、上記放電で発生する微粒子を上
記磁石によりその磁気吸引力で捕獲するようにしたこと
を特徴とするエキシマレーザー装置。Claim 1: An excimer laser device that houses a pair of electrodes in a container and encloses a laser gas, and generates laser light by excitation of a discharge between the two electrodes, wherein a magnet is provided in the container, and the laser gas is generated by the discharge. 1. An excimer laser device characterized in that said magnet captures fine particles by its magnetic attraction force.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4150991A JPH04288887A (en) | 1991-03-07 | 1991-03-07 | Excimer laser device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4150991A JPH04288887A (en) | 1991-03-07 | 1991-03-07 | Excimer laser device |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04288887A true JPH04288887A (en) | 1992-10-13 |
Family
ID=12610337
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4150991A Pending JPH04288887A (en) | 1991-03-07 | 1991-03-07 | Excimer laser device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04288887A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007531312A (en) * | 2004-03-31 | 2007-11-01 | サイマー インコーポレイテッド | Gas discharge laser chamber improvement |
-
1991
- 1991-03-07 JP JP4150991A patent/JPH04288887A/en active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007531312A (en) * | 2004-03-31 | 2007-11-01 | サイマー インコーポレイテッド | Gas discharge laser chamber improvement |
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