JPH04222855A - Epoxy resin sealing material for photosemiconductor - Google Patents

Epoxy resin sealing material for photosemiconductor

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JPH04222855A
JPH04222855A JP2405688A JP40568890A JPH04222855A JP H04222855 A JPH04222855 A JP H04222855A JP 2405688 A JP2405688 A JP 2405688A JP 40568890 A JP40568890 A JP 40568890A JP H04222855 A JPH04222855 A JP H04222855A
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JP
Japan
Prior art keywords
filler
refractive index
epoxy resin
sealing material
matrix
Prior art date
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Pending
Application number
JP2405688A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kenji Kitamura
賢次 北村
Taro Fukui
太郎 福井
Shinji Hashimoto
眞治 橋本
Hiroshi Yamamoto
広志 山本
Yasuhisa Kishigami
泰久 岸上
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Electric Works Co Ltd
Original Assignee
Matsushita Electric Works Ltd
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Publication date
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Publication of JPH04222855A publication Critical patent/JPH04222855A/en
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Abstract

PURPOSE:To obtain an epoxy resin sealing material for photosemiconductor having low linear expansion property, hygroscopic property and heat generation in curing and high transparency. CONSTITUTION:(A) 100 pts.wt. epoxy resin is blended with (B) 30-80 pts. wt. phenolic curing agent (e.g. phenol novolak resin) and 10-85 pts.wt. filler (e.g. globular glass, preferably consisting of barium borosilicate glass) having refractive index satisfying the formula [n (matrix) is refractive index of a cured product obtained by curing components except filler in all sealing materials; n (filler) is refractive index of filler].

Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

【0001】0001

【産業上の利用分野】この発明は、フォトカップラー、
フォトインタラプタなどの素子内に受発光素子を同時に
搭載し、受光素子と発光素子の間で信号の授受を行う「
複合光素子」と呼ばれる光半導体を安価に封止できるエ
ポキシ樹脂封止材料に関する。
[Industrial Application Field] This invention relates to photocouplers,
A device that simultaneously mounts a light receiving and emitting device inside an element such as a photointerrupter, and transmitting and receiving signals between the light receiving device and the light emitting device.
This invention relates to an epoxy resin encapsulating material that can inexpensively encapsulate optical semiconductors called "composite optical devices."

【0002】0002

【従来の技術】従来、フォトカップラーとしては、たと
えば、以下のようなものがある。図3は、従来のフォト
カップラーの封止構造を表す。このフォトカップラーは
、リードフレーム1aおよび1b上にそれぞれ発光素子
2aおよび受光素子2bを搭載している。発光素子2a
と受光素子2bは、発光素子2aから出た光が受光素子
2bに効果的に到達するように向かい合って配置されて
いる。発光素子2aは、ガリウム−ヒ素系半導体であり
、応力に弱いため、その回りを透明なシリコーンゲル(
シリコーンポッティング)3で覆うことにより保護され
ている。これらの部品は、トランスファー成形された透
光性樹脂4により封止されている。透光性樹脂4は、エ
ポキシ樹脂、フェノール系硬化剤、および充填材を主な
構成要素とするものであり、低線膨張性、低吸湿性、低
硬化発熱性等を持つ。透光性樹脂4の回りは、さらに、
通常の黒色封止材5で覆って二重成形することによって
保護されている。
2. Description of the Related Art Conventionally, there are the following photocouplers, for example. FIG. 3 shows the sealing structure of a conventional photocoupler. This photocoupler has a light emitting element 2a and a light receiving element 2b mounted on lead frames 1a and 1b, respectively. Light emitting element 2a
and the light receiving element 2b are arranged facing each other so that the light emitted from the light emitting element 2a effectively reaches the light receiving element 2b. The light emitting element 2a is a gallium-arsenic semiconductor and is weak against stress, so it is surrounded by transparent silicone gel (
Protected by covering with silicone potting) 3. These parts are sealed with a transfer-molded translucent resin 4. The translucent resin 4 has an epoxy resin, a phenolic curing agent, and a filler as main components, and has low linear expansion, low hygroscopicity, low curing heat generation, and the like. Around the translucent resin 4, furthermore,
It is protected by covering it with a normal black sealing material 5 and performing double molding.

【0003】0003

【発明が解決しようとする課題】ところが、前述した従
来のフォトカップラーに用いられている透光性樹脂は、
マトリックス樹脂(樹脂成分)と充填材との界面におい
て光の散乱や反射が起こりやすいものであるため、1m
m厚では光透過性が20〜23%程度しか得られない。 そのため、発光素子から出された信号光は、受光素子に
有効に到達しにくいので、発光素子と受光素子の間の距
離を大きくとることができない。その結果、両電子回路
系間の絶縁耐圧が悪くなるという問題があった。
[Problems to be Solved by the Invention] However, the light-transmitting resin used in the conventional photocouplers mentioned above is
Since light is easily scattered and reflected at the interface between the matrix resin (resin component) and the filler,
With a thickness of m, a light transmittance of only about 20 to 23% can be obtained. Therefore, it is difficult for the signal light emitted from the light emitting element to effectively reach the light receiving element, so it is not possible to increase the distance between the light emitting element and the light receiving element. As a result, there was a problem in that the dielectric strength between the two electronic circuit systems deteriorated.

【0004】このような事情に鑑み、この発明は、低線
膨張性、低吸湿性、低硬化発熱性であるとともに、透明
性の高い光半導体用エポキシ樹脂封止材料を提供するこ
とを課題とする。
In view of these circumstances, it is an object of the present invention to provide an epoxy resin encapsulating material for optical semiconductors that has low linear expansion, low hygroscopicity, low curing heat generation, and is highly transparent. do.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】前記課題を解決するため
に、請求項1から3までの各発明にかかる光半導体用エ
ポキシ樹脂封止材料は、エポキシ樹脂、フェノール系硬
化剤および充填材を含有する封止材料であって、前記充
填材が、下記(I)式の関係を満たす屈折率を持つもの
であることを特徴とする。
[Means for Solving the Problems] In order to solve the above problems, an epoxy resin encapsulating material for optical semiconductors according to each of the inventions of claims 1 to 3 contains an epoxy resin, a phenolic curing agent, and a filler. The sealing material is characterized in that the filler has a refractive index that satisfies the relationship of formula (I) below.

【0006】   n(matrix)−0.02≦n(filler
)≦n(matrix)+0.07      …(I
)〔式中、n(matrix)は封止材料全部のうち充
填材以外の成分を硬化させてなる硬化物の屈折率を表し
、n(filler)は充填材の屈折率を表す。〕請求
項2の発明によれば、さらに、前記充填材としてガラス
が含有されている。
[0006]n(matrix)−0.02≦n(filler
)≦n(matrix)+0.07...(I
) [In the formula, n (matrix) represents the refractive index of a cured product obtained by curing components other than the filler among all the sealing materials, and n (filler) represents the refractive index of the filler. ] According to the invention of claim 2, glass is further contained as the filler.

【0007】請求項3の発明によれば、さらに、前記充
填材として球状のものが用いられている。なお、前記屈
折率は、たとえば、通常nD と呼ばれている数値であ
る。また、n(matrix)は、たとえば、室温(2
0℃)での値である。前記課題の解決のためには、光透
過率を増加させることが必須であり、そのために最も有
効な手段は、組成物中の充填材の屈折率を、マトリック
ス樹脂の屈折率と一致させることである。
[0007] According to the third aspect of the invention, furthermore, a spherical filler is used as the filler. Note that the refractive index is, for example, a numerical value commonly called nD. In addition, n (matrix) is, for example, room temperature (2
0°C). In order to solve the above problem, it is essential to increase the light transmittance, and the most effective means for this purpose is to match the refractive index of the filler in the composition with the refractive index of the matrix resin. be.

【0008】もしも、屈折率を完全に一致できれば、充
填材含有の硬化物を透明にすることができることは公知
の事実であるが、有機物であるマトリックス樹脂と、線
膨張係数の低下のために添加する無機充填材とでは、屈
性率の温度依存性が異なる(有機物の方が温度依存性が
大きい)ため、温度変化も含めて両者の屈折率を一致さ
せることは不可能である。
It is a well-known fact that if the refractive index can be perfectly matched, a cured product containing a filler can be made transparent. Since the temperature dependence of the refractive index is different from that of the inorganic filler (the temperature dependence of the organic material is greater), it is impossible to match the refractive index of the two, including the temperature change.

【0009】発明者らは、光半導体用として要求される
透明度と使用温度範囲(たとえば、通常0〜100℃程
度である)を鑑み、研究を行った結果、充填材として、
前記(I)式を満たす屈折率を持つものを用いることに
よって、0〜100℃程度の全領域で光半導体用として
の透明度が確保できることを見出したのである。この発
明の封止材料には、前述の必須成分以外にも、硬化促進
剤、カップリング剤、その他の、マトリックス樹脂に溶
解して機能を発揮する添加剤を加えてもよい。このよう
に必須成分に加えてその他の成分を加えた場合にも、前
記(I)式を満足する範囲に充填材屈折率があることが
必須である。さらに、透明性を悪化させるような物質で
あっても、微量添加ならば光半導体用としての透明度を
確保できるものならば添加しても差し支えない。
[0009] The inventors conducted research in view of the transparency and operating temperature range (for example, usually about 0 to 100°C) required for optical semiconductors, and found that as a filler,
They have discovered that by using a material with a refractive index that satisfies the above formula (I), transparency for optical semiconductors can be ensured over the entire range of approximately 0 to 100°C. In addition to the above-mentioned essential components, the sealing material of the present invention may contain a curing accelerator, a coupling agent, and other additives that function when dissolved in the matrix resin. Even when other components are added in addition to the essential components, it is essential that the refractive index of the filler falls within a range that satisfies the above formula (I). Further, even if a substance deteriorates transparency, it may be added in a small amount as long as it can ensure transparency for use in optical semiconductors.

【0010】この発明に用いる充填材の大きさ等には、
特に制限はないが、充填材量を多くした時に粘度が高く
なって気泡を生じやすいという意味から、通常の封止材
料の充填材として用いられている粒度、粒度分布である
ことが好ましい。たとえば、平均粒度1〜30μmが好
ましい。これらの範囲を外れると、成形時の流動性が悪
くなったり、トランスファー成形時のゲートが詰まった
りする恐れがある。
[0010] The size etc. of the filler used in this invention include:
Although there are no particular limitations, it is preferable that the particle size and particle size distribution be those used as a filler for ordinary sealing materials, since the viscosity increases when the amount of filler is increased and bubbles are likely to occur. For example, an average particle size of 1 to 30 μm is preferred. If it is out of these ranges, there is a risk that the fluidity during molding may deteriorate or the gate during transfer molding may become clogged.

【0011】充填材の形状についても特に制限されない
が、破砕状のものよりも球状充填材の方が好ましい。こ
れは、図1にみるように、球状の充填材6がマトリック
ス樹脂7中に分散している場合、臨界角を超えた入射光
8が散乱(反射)される確率が小さいのに、図2にみる
ように、破砕状の充填材16がマトリックス樹脂7中に
分散している場合、臨界角を超えた入射光8が散乱(反
射)される確率が大きく、少しの屈折率差でも透明性が
低下する傾向にあるためである。球状の充填材としては
、真球であることが好ましいが、通常、破砕状のもの(
鋭利な先端を持っている)をいわゆる溶射と呼ばれる方
法によって前記鋭利な部分を丸くしたものも球状と呼ば
れており、このようなものは、この発明の効果の点が、
破砕状のものよりは高い。
[0011] There are no particular restrictions on the shape of the filler, but spherical fillers are preferable to crushed ones. This is because, as shown in FIG. 1, when the spherical filler 6 is dispersed in the matrix resin 7, the probability that the incident light 8 exceeding the critical angle will be scattered (reflected) is small; As shown in , when the crushed filler 16 is dispersed in the matrix resin 7, there is a high probability that the incident light 8 exceeding the critical angle will be scattered (reflected), and even a small difference in refractive index will reduce the transparency. This is because there is a tendency to decrease. The spherical filler is preferably a true sphere, but it is usually a crushed filler (
(having a sharp tip) whose sharp part is rounded by a method called thermal spraying is also called spherical, and the effect of this invention is that
Higher than crushed ones.

【0012】以上に述べたような効果を持つためには、
構成樹脂の屈折率が1.61程度であることが好ましい
。したがって、充填材としては、それ以上の屈折率を持
つホウケイ酸バリウム系ガラスやホウケイ酸鉛系ガラス
等を用いることが好ましい。これらのガラスの中でも、
特に、1.53〜1.68の範囲の屈折率を持つものが
好ましい。
[0012] In order to have the effects described above,
It is preferable that the refractive index of the constituent resin is about 1.61. Therefore, it is preferable to use barium borosilicate glass, lead borosilicate glass, or the like having a refractive index higher than that as the filler. Among these glasses,
In particular, those having a refractive index in the range of 1.53 to 1.68 are preferred.

【0013】前述の屈折率の範囲について、さらに説明
すると、マトリックス樹脂に粉体充填して透明性を得る
ためには、両者の屈折率が等しいことが好ましいが、両
者に差がある場合、マトリックス樹脂の屈折率<充填材
屈折率の関係の方が、より透明化を達成することができ
る。光半導体用として許される範囲は、理由は不明であ
るが、下記(II)式の範囲であることが実験的に確認
されている。(マトリックス樹脂の屈折率−0.02)
〜(マトリックス樹脂の屈折率+0.09      
                         
                         
  …(II)さて、無機充填材の屈折率は、0〜10
0℃では大きく変化しないが、マトリッスク樹脂硬化物
は、100℃での屈折率が0℃でのそれに対して0.0
2程度小さくなる。したがって、封止材料のうち充填材
以外の全成分を用いた硬化物の20℃での屈折率をn(
matrix)とした時、0〜100℃の範囲では、硬
化物の屈折率は、n(matrix)からn(matr
ix)−0.02程度変化する。この全温度領域に対し
て前記関係式(II)を満たすための条件は、前記関係
式(I)となる。
To further explain the range of refractive indexes mentioned above, in order to fill the matrix resin with powder and obtain transparency, it is preferable that the refractive indexes of the two are the same, but if there is a difference between the two, the matrix resin The relationship of refractive index of resin<refractive index of filler makes it possible to achieve better transparency. Although the reason is unknown, it has been experimentally confirmed that the allowable range for optical semiconductors is the range expressed by the following formula (II). (Refractive index of matrix resin -0.02)
~(Refractive index of matrix resin +0.09


...(II) Now, the refractive index of the inorganic filler is 0 to 10
Although it does not change much at 0°C, the refractive index of the cured matrix resin at 100°C is 0.0 compared to that at 0°C.
About 2 times smaller. Therefore, the refractive index at 20°C of a cured product using all components other than the filler in the sealing material is n(
In the range of 0 to 100°C, the refractive index of the cured product is from n(matrix) to n(matr
ix) changes by about -0.02. The condition for satisfying the above-mentioned relational expression (II) over this entire temperature range is the above-mentioned relational expression (I).

【0014】この発明に用いるエポキシ樹脂の硬化剤と
しては、フェノール系のものが必須である。アミン系、
酸無水物系硬化剤は、耐熱性、耐湿性に劣るため、好ま
しくない。フェノール系硬化剤の好ましい例としては、
たとえば、フェノールノボラック樹脂、クレゾールノボ
ラック樹脂などを挙げることができる。この発明には、
エポキシ樹脂として、通常のグリシジルエーテル型エポ
キシ樹脂(ビスフェノールA型、ビスフェノールF型、
ノボラック型、クレゾールノボラック型など)をはじめ
、いかなるエポキシ樹脂を用いてもよい。
[0014] As the curing agent for the epoxy resin used in this invention, a phenolic curing agent is essential. amine type,
Acid anhydride curing agents are not preferred because they have poor heat resistance and moisture resistance. Preferred examples of phenolic curing agents include:
For example, phenol novolak resin, cresol novolak resin, etc. can be mentioned. This invention includes:
As epoxy resin, ordinary glycidyl ether type epoxy resin (bisphenol A type, bisphenol F type,
Any epoxy resin may be used, including novolac type, cresol novolac type, etc.).

【0015】この発明では、前記構成成分の配合割合は
、特に限定されないが、たとえば、エポキシ樹脂100
重量部に対して、フェノール系硬化剤30〜80重量部
、メチロール基折率を持つ充填材10〜85重量部、そ
の他の配合物0〜2重量部とするのが好ましい。フェノ
ール系硬化剤の割合が前記範囲を外れると、硬化物のT
gが低く、電気特性も悪化し、吸湿性も高くなる恐れが
ある。前記充填材の割合が前記範囲を下回ると、封止材
料の線膨張係数や吸湿率が増加し、信頼性が低下してし
まう。上回ると、高粘度となり成形できない恐れがある
。その他の配合物の割合が前記範囲を上回ると、硬化物
の透明性の低下が大きくなる恐れがある。ただし、透明
性を損なわないものならば0.5重量部以上入れてもよ
い。
[0015] In the present invention, the blending ratio of the constituent components is not particularly limited, but for example, epoxy resin 100%
It is preferable to use 30 to 80 parts by weight of a phenolic curing agent, 10 to 85 parts by weight of a filler having a methylol group refraction index, and 0 to 2 parts by weight of other compounds based on the weight part. If the ratio of the phenolic curing agent is out of the above range, the T of the cured product will be
g is low, the electrical properties are deteriorated, and the hygroscopicity may also be high. If the proportion of the filler is below the range, the linear expansion coefficient and moisture absorption rate of the sealing material will increase, resulting in a decrease in reliability. If it exceeds the viscosity, the viscosity may become high and molding may not be possible. If the proportion of other compounds exceeds the above range, there is a risk that the transparency of the cured product will decrease significantly. However, 0.5 parts by weight or more may be added as long as it does not impair transparency.

【0016】この発明の封止材料の形態は、特に制限さ
れるものではなく、液状であっても、成形材料化されて
粉体であってもよい。さらに、グラニュールであっても
、これをペレットまたはタブレット化したものであって
もよい。成形材料化する場合には、組成物全体をホモデ
ィスパーで混練してB−ステージ化を進めておくことが
好ましい。材料は、よく混練して、充填材とマトリック
ス樹脂をよく親和させておく必要があり、マクロな気泡
が残らないように成形する必要がある。混練時も不透明
化を起こす物質が混入しないようにゴミの混入を避け、
混練機もセラミック、ステンレス等の硬い素材を用いる
ことが好ましい。
The form of the sealing material of the present invention is not particularly limited, and may be liquid or powder formed into a molding material. Furthermore, it may be a granule or a pellet or tablet. When used as a molding material, it is preferable to knead the entire composition in a homodisper to advance B-stage formation. The material must be thoroughly kneaded to ensure good affinity between the filler and the matrix resin, and must be molded so that no macroscopic bubbles remain. Avoid contamination with dust during kneading to prevent substances that cause opacity from being mixed in.
It is also preferable to use a hard material such as ceramic or stainless steel for the kneader.

【0017】[0017]

【作用】前記(I)式を満たす範囲の屈折率を持つ充填
材を用いるようにすると、従来の封止材料の低線膨張性
、低吸湿性、低硬化発熱性を維持したまま、高透明性(
たとえば、従来品の3〜4倍)を達成することが可能と
なる。
[Operation] By using a filler having a refractive index within the range that satisfies the above formula (I), it is possible to maintain high transparency while maintaining the low linear expansion, low hygroscopicity, and low curing heat generation of conventional sealing materials. sex(
For example, 3 to 4 times that of conventional products) can be achieved.

【0018】[0018]

【実施例】以下に、この発明の具体的な実施例および比
較例を示すが、この発明は下記実施例に限定されない。 下記実施例では、充填材として、下記の屈折率を持つ、
無アルカリガラスAを用い、比較例では、充填材として
、下記の屈折率を持つ、シリカを主体としたものBを用
いた。
[Examples] Specific examples and comparative examples of the present invention are shown below, but the present invention is not limited to the following examples. In the following examples, the filler has the following refractive index:
A non-alkali glass A was used, and in the comparative example, a filler B mainly composed of silica and having the following refractive index was used.

【0019】   A:n=1.62〔無アルカリガラス(山村ガラス
製)、破砕状〕  B:n=1.51〔通常の溶融シリ
カ(タツモリ社製のRD−8)、破砕状〕なお、これら
充填材の平均粒径は、Aが20μm、Bが15μmであ
った。また、屈折率の測定は、アッベの屈折計を用いて
行った。−実施例−エポキシ樹脂としてクレゾールノボ
ラック型エポキシ樹脂(住友化学工業(株)製のESC
N195XL:エポキシ当量195)と、フェノール系
硬化剤としてフェノールノボラック樹脂(荒川化学(株
)製のPSM6200)とを、後記表1に示した割合で
配合し、ミキシングロールを用いて80℃で10分間混
練を実施して、エポキシ樹脂封止材料を得た。
A: n = 1.62 [alkali-free glass (manufactured by Yamamura Glass), crushed] B: n = 1.51 [normal fused silica (RD-8, manufactured by Tatsumori Co., Ltd.), crushed] The average particle diameters of these fillers were 20 μm for A and 15 μm for B. Further, the refractive index was measured using an Abbe refractometer. -Example- Cresol novolak type epoxy resin (ESC manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.) as epoxy resin
N195XL (epoxy equivalent: 195) and phenol novolac resin (PSM6200 manufactured by Arakawa Chemical Co., Ltd.) as a phenolic curing agent were blended in the proportions shown in Table 1 below, and heated at 80°C for 10 minutes using a mixing roll. Kneading was carried out to obtain an epoxy resin sealing material.

【0020】得られた封止材料を、トランスファー成形
機により所定形状に成形した後、下記の方法により物性
を測定した。なお、光透過率および色合いの測定には、
1mm厚と2mm厚のサンプルを用いた。物性測定・線
膨張係数;TMAにより測定し、50〜80℃の値を計
算した。・光透過率;UV光度計を用い、660nm(
赤色光)での透過率を採用した。・その他;目視により
色合いを見た。
The obtained sealing material was molded into a predetermined shape using a transfer molding machine, and then its physical properties were measured by the following method. In addition, for measuring light transmittance and hue,
Samples with a thickness of 1 mm and a thickness of 2 mm were used. Measurement of physical properties/coefficient of linear expansion: Measured by TMA, and calculated values at 50 to 80°C.・Light transmittance; using a UV photometer, 660 nm (
The transmittance in red light) was adopted.・Others: The color was visually checked.

【0021】−参考例−実施例において、充填材を含ま
ないこと以外は実施例と全く同様にして、エポキシ樹脂
封止材料を得た。得られた封止材料の屈折率を20℃で
測定したところ、1.61であった。また、100℃で
の測定では、1.59であった。
- Reference Example - In the example, an epoxy resin sealing material was obtained in exactly the same manner as in the example except that the filler was not included. The refractive index of the obtained sealing material was measured at 20° C. and found to be 1.61. Moreover, it was 1.59 when measured at 100°C.

【0022】−比較例−実施例において、1.62の屈
折率を持つ充填材Aに代えて、1.59(=1.61−
0.02)未満の屈折率を持つ充填材Bを用いたこと以
外は実施例と全く同様にして、エポキシ樹脂封止材料材
料を得、物性の測定を行った。以上の結果を表1に示し
た。
- Comparative Example - In the example, instead of filler A having a refractive index of 1.62, filler A with a refractive index of 1.59 (=1.61-
An epoxy resin sealing material was obtained in exactly the same manner as in the example except that filler B having a refractive index of less than 0.02) was used, and its physical properties were measured. The above results are shown in Table 1.

【0023】[0023]

【表1】[Table 1]

【0024】表1にみるように、実施例にかかる封止材
料は、比較例にかかる封止材料に比べて、線膨張係数や
色合いは、ほぼ同等であったが、光透過率が極めて高い
ことが確認された。
As shown in Table 1, the sealing material according to the example had almost the same coefficient of linear expansion and color as the sealing material according to the comparative example, but the light transmittance was extremely high. This was confirmed.

【0025】[0025]

【発明の効果】この発明にかかる光半導体用エポキシ樹
脂封止材料は、低線膨張性、低吸湿性、低硬化発熱性で
あるとともに、高透明性(たとえば、従来品の3〜4倍
)に優れている。このため、この発明の封止材料を用い
て光半導体を封止することによって、トランジスタ側の
電流増幅率を高めないで、効率の高い複合光素子を設計
したり、絶縁耐圧の高い複合光素子を生み出したりする
ことが可能となる。たとえば、発光素子と受光素子との
間隔を従来品の2倍にしても、従来品以上の光情報の授
受が可能となる。
Effects of the Invention The epoxy resin encapsulant material for optical semiconductors according to the present invention has low linear expansion, low moisture absorption, and low curing heat generation, as well as high transparency (for example, 3 to 4 times that of conventional products). Excellent. Therefore, by encapsulating an optical semiconductor using the encapsulating material of the present invention, it is possible to design a highly efficient composite optical device without increasing the current amplification factor on the transistor side, or to design a composite optical device with high dielectric strength. It becomes possible to generate. For example, even if the distance between the light-emitting element and the light-receiving element is twice that of the conventional product, it is possible to send and receive more optical information than the conventional product.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

【図1】球状の充填材を用いた封止材料への入射光の経
路を模式的に表す断面図である。
FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing the path of incident light to a sealing material using a spherical filler.

【図2】破砕状の充填材を用いた封止材料への入射光の
経路を模式的に表す断面図である。
FIG. 2 is a cross-sectional view schematically showing a path of incident light to a sealing material using a crushed filler.

【図3】従来のフォトカップラーの封止構造を表す断面
図である。
FIG. 3 is a cross-sectional view showing the sealing structure of a conventional photocoupler.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

6    球状の充填材 7    マトリックス樹脂 16  破砕状の充填材 6 Spherical filler 7 Matrix resin 16 Crushed filler

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】  エポキシ樹脂、フェノール系硬化剤お
よび充填材を含有する封止材料であって、前記充填材が
、下記(I)式の関係を満たす屈折率を持つものである
ことを特徴とする光半導体用エポキシ樹脂封止材料。n
(matrix)−0.02≦n(filler)≦n
(matrix)+0.07  …(I)〔式中、n(
matrix)は封止材料全部のうち充填材以外の成分
を硬化させてなる硬化物の屈折率を表し、n(fill
er)は充填材の屈折率を表す。〕
1. A sealing material containing an epoxy resin, a phenolic curing agent, and a filler, characterized in that the filler has a refractive index that satisfies the relationship of formula (I) below. Epoxy resin encapsulation material for optical semiconductors. n
(matrix)-0.02≦n(filler)≦n
(matrix)+0.07...(I) [where n(
matrix) represents the refractive index of a cured product obtained by curing components other than the filler among all the sealing materials, and
er) represents the refractive index of the filler. ]
【請求項2】  充
填材がガラスである請求項1記載の光半導体用エポキシ
樹脂封止材料。
2. The epoxy resin sealing material for optical semiconductors according to claim 1, wherein the filler is glass.
【請求項3】  充填材が球状である請求項1または2
記載の光半導体用エポキシ樹脂封止材料。
[Claim 3] Claim 1 or 2, wherein the filler is spherical.
The described epoxy resin sealing material for optical semiconductors.
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