JPH0422018B2 - - Google Patents

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JPH0422018B2
JPH0422018B2 JP57075268A JP7526882A JPH0422018B2 JP H0422018 B2 JPH0422018 B2 JP H0422018B2 JP 57075268 A JP57075268 A JP 57075268A JP 7526882 A JP7526882 A JP 7526882A JP H0422018 B2 JPH0422018 B2 JP H0422018B2
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JP
Japan
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pattern
distance
defect
signal
standard
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JP57075268A
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Yutaka Sako
Haruo Yoda
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Hitachi Ltd
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Hitachi Ltd
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Publication date
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Publication of JPS58192342A publication Critical patent/JPS58192342A/ja
Publication of JPH0422018B2 publication Critical patent/JPH0422018B2/ja
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L22/00Testing or measuring during manufacture or treatment; Reliability measurements, i.e. testing of parts without further processing to modify the parts as such; Structural arrangements therefor

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、プリント基板や半導体集積回路の配
線パターン等のパターンの検査方法及び装置に関
する。
従来、プリント基板や半導体集積回路の配線パ
ターンの欠陥の検出方法として、(1)被検査パター
ンと標準パターンを比較する方法、(2)被検査パタ
ーン内の特定の特徴のある部分を欠陥とする方法
などがある。がある(例えば特開昭54−91359号
公報参照)。これらの方法では、どちらも欠陥の
位置、寸法しか判定できる、欠陥のパターンに与
える致命度を判定するまでには至つていなかつ
た。この問題を解決するため、近年、パターンの
線幅を調べてそれがある固定の基準値より小さけ
れば致命的欠陥を判断する方法が考案されてい
る。しかし、一般に欠陥のパターンに与える致命
度は、パターンの線幅そのものでなく正常時に有
するべきパターンの幅に対する欠陥パターンの幅
の割り合いで決まる。したがつて、従来の方法で
は、致命度を考慮した欠陥パターンの判定が不可
能であつた。
本発明の目的は、前記の従来方法の問題点を解
消し、配線パターン等における欠陥の致命度の判
定を、より適切に行うことのできるパターンの検
査方法及び装置を提供することにある。
この目的を達成するために、本発明では、被検
査パターンを撮像手段により撮像して映像信号を
出力し、この映像信号をパターン抽出手段により
二値化した被検査パターン信号に変換して被検査
パターンを抽出し、欠陥のない上記被検査パター
ンに対応する二値化した標準パターンを記憶手段
に予め記憶しておき、上記パターン抽出手段の被
検査パターンの抽出と同期して、上記記憶手段か
ら上記標準パターンをパターン発生手段により読
み出し、上記被検査パターン及び上記標準パター
ン夫々に対し、判定手段によりパターンの境介か
ら特定の位置までの絵素の値を加算して距離を計
測し、計測した値を比較して欠陥の判定を行うこ
とを特徴とする。更に、このパターンの検査方法
を直接実施するためのパターンの検査装置を特徴
とするものである。
以下、本発明を実施例により詳細に説明する。
第1図は本発明のパターンの検査装置の全体の構
成を示している。7は全体を制御する計算機であ
り、検査物10は計算機7からの制御信号7aに
より位置制御されたステージ9上に置かれてい
る。検査物10のパターンは撮像装置1によつて
同期信号6aに同期してラスタ走査され映像信号
1Sとなる。この映像信号1Sは二値化回路等か
ら成るパターン抽出回路2により基本クロツク信
号6dによりサンプリングされ、かつ二値化され
ることにより被検査パターン信号2Sに変換され
る。一方、パターン発生回路4は記憶回路5に格
納されている欠陥のないときの検査パターンを表
わす標準パターンデータを同期信号発生回路6か
ら発せられるアドレス信号6bによつて読み出
し、各絵素(i,j)に対する標準パターン信号
4Sを被検査パターン信号2Sに同期して出力す
る回路である。判定回路3は本発明にかかわるも
のであり、被検査パターン2Sと標準パターン4
Sを並列的に処理して欠陥の致命度を判定し、致
命的であれば同期信号発生回路6から出力される
影像画面のX,Y座標信号6cをその時点で記憶
する。記憶された致命的な欠陥のXY座標3Sの
映像走査が完了した後に計算機7によつて読取ら
れ、表示装置8に欠陥検査結果7bとして表示さ
れる。
先ず、判定回路3におけるパターンの検査方法
の基本原理について説明する。第2図は、配線の
パターンの方向と欠陥の方向の基本的なケースを
描いたものである。検査を行なうパターンの長手
方向が1通りに予め決まつており、しかも、その
長手方向に直交する方向に伸びる欠陥がある場合
(例えば、第2図のA1,A4又はB1,B4又はC1
C4又はD1,D4)には、次のような1方向の距離
を求める距離変換処理の内の1つを行なえば、パ
ターンの幅を求めることができる。
F1(i,j)=〔F1(i,j−1)+f(i,j)〕 ・g(i,j)(A1,A4の場合) F2(i,j)=〔F2(i−1,j)+f(i,j)〕 ・g(i,j)(B1,B4の場合) F3(i,j)=〔F3(i−1,j−1) +f(i,j)〕 ・g(i,j)(C1,C4の場合) F4(i,j)=〔F4(i+1,j+1) +f(i,j)〕 ・g(i,j)(D1,D4の場合) (1) ここで、Fk(i,j)(k=1〜4)は(i,
j)座標での距離変換値、f(i,j)は被検査
パターン、g(i,j)はf(i,j)に、対応す
る標準パターンである。これらの距離変換処理は
パターン撮像装置1の走査方向がi方向であると
きに効果のあるものである。第3図は上式の説明
のためにA1の場合を示したものである。図中、
f(i,j)=0、g(i,j)=1すなわち欠陥部
では、Fk(i,j)=Fk(i,j−1)となり上の
距離変換値がそのまま伝ぱんされる。f(i,j)
=1、g(i,j)=1、すなわち正常部ではFk
(i,j)=Fk(i,j−1)+1となり上の距離
変換値にプラス1される。g(i,j)=0の場合
は、距離変換値は常に0である。このような処理
によるFk(i,j)のパターンの最下部(図中の
矢印j8の部分)の値はパターンの幅を表わしてい
ることになり、基準値と比較することにより致命
性を判定できる。なお、比較すべき位置j8を知る
ために、各絵素(i,j)がこの位置に属するか
否かを示すデータD(i,j)を予め記憶してお
いてもよいが、標準パターンg(i,j)から次
のようにして求めることもできる。
D1(i,j)=g(i,j)・{1 −g(i,j+1)}(A1,A4の場合) D2(i,j)=g(i,j)・{1 −g(i+1,j)}(B1,B4の場合) D3(i,j)=g(i,j)・{1 −g(i+1,j+1)}(C1,C4の場合) D4(i,j)=g(i,j)・{1 −g(i−1,j+1)}(D1,D4の場合) (2) 第3図ではA1,A4の場合を示しており、g
(i,j)=1かつg(i,j+1)=0の位置が判
定すべき場所となる。また、比較すべき基準値が
定数ではなく、場所によつて標準パターンの幅が
異なる場合には、前の距離変換と同様にして、入
力パターンf(i,j)にかえ標準パターンg
(i,j)に対して距離変換をすることにより、
標準パターンの幅、すなわち、基準値を逐次求め
て検査パターンの幅と比較するようにすればよ
い。
以上の説明では、配線パターンの方向が1つで
しかもそのパターンに対して垂直方向の欠陥のみ
が存在する場合をとりあげたが、実際には、第2
図A2,A3,A5,A6又はB2,B3,B5,B6又はC2
C3,C5,C6又はD2,D3,D5,D6のように、たと
えばパターンの方向が決まつていても欠陥の方向
が様々な場合があり得る。このような場合には、
次式のような複数の方向の距離の伝ぱんすなわち
複数の方向の幅の測定を独立に行ない、各方向ご
とに判定すればよい。
F1(i,j)=〔F1(i,j−1)+f(i,j)〕 ・g(i,j) (A1,A4,C3,C6,D3,D6の場合) F2(i,j)=〔F(i−1,j)+f(i,j)〕 ・g(i,j) (B1,B4,C2,C5,D2,D5の場合) F3(i,j)=〔F(i−1,j−1) +f(i,j)〕・g(i,j) (A3,A6,B3,B6,C1,C4の場合) F4(i,j)=〔F(i+1,j−1) +f(i,j)〕・g(i,j) (A2,A5,B2,B5,D1,D4の場合) (3) すなわち、第2図のA1〜A6のいずれにも対処
するためにはF1,F3,F4,B1〜B6のいずれにも
対処するためにはF2,F3,F4,C1〜C6のいずれ
にも対処するためにはF1,F2,F3,D1〜D6のい
ずれにも対処するためには、F1,F2,F4の距離
変換をそれぞれに行なえばよいことになる。たと
えば、パターンの方向がA1〜A6のごとく、図の
左右に延びていることが分かつている場合、式
F1,F3,F4の各々に基づき検査パターンの距離
変換を行ない、それらの結果の内、パターンの端
における値の内、最小値を与える結果でもつて、
検査パターンの幅とするが、あるいは、F1,F3
F4の各々に基づく結果を正常のパターン幅と比
べてパターンの致命性を判定し、F1,F3,F4
いずれかに対して致命的であると判断されたとき
には、検査パターンは致命的欠陥を有すると判定
することができる。致命度の判定方法は後述す
る。なお、距離変換値を基準値と比較すべき位置
は、水平パターンのA1〜A6に対しては、 D1(i,j)=g(i,j)・{1 −g(i,j+1)} 垂直パターンのB1,B3,B4,B6に対しては、 D2(i,j)=g(i,j) ・{1−g(i+1,j)} 2,B5に対しては D3(i,j)=g(i,j) ・{1−g(i−1,j)} 右上りパターンのC1〜C6に対しては、 D4(i,j)=g(i,j) ・{1−g(i+1,j+1)} 右下りパターンのD1,D3,D4,D6に対しては D5(i,j)=g(i,j) ・{1−g(i−1,j+1)} D2,D5に対しては D6(i,j)=g(i,j) ・{1−g(i+1,j−1)} (4) として求めることができる。また、比較すべき基
準値が定数ではなく、場所によつて異なる場合に
は、先と同様に、入力パターンf(i,j)にか
え標準パターンg(i,j)に対して、各距離変
換(F1〜F4の内の3つ)を行なつて、標準パタ
ーンの各方向の幅を逐次求めて基準値とすればよ
い。
これまでの説明では、配線パターンの方向が予
め1つの方向に決まつている場合に対する方法に
関して述べたが、次に、配線パターンの方向が1
つでなく複数の場合に対する方法を述べる。基本
的に入力パターンの方向及び欠陥の方向が全くわ
からないのであるから、第1にF1,F2,F3,F4
のすべての距離変換を入力パターンに対して行な
い、次に、判定を入力パターンの方向に従つて選
択して行なえばよい。その選択の方法は、距離変
換F1,F2,F3,F4それぞれに対して判定すべき
パターンの境界の位置を入力パターンに対応する
標準パターンg(i,j)から次の様にして求め
ればよい。
D1(i,j)=g(i,j) ・{1−g(i,j+1)} (F1に対する) D2(i,j)=g(i,j) ・{1−g(i+1,j)} (F2に対する) D3(i,j)=g(i,j) ・{1−g(i+1,j+1)} (F3に対する) D4(i,j)=g(i,j) ・{1−g(i−1,j+1)} (F4に対する) (5) 例えば、入力パターンが水平パターンの場合、
パターンの最下部の境界でD1,D3,D4が1とな
り、その方向に対応するF1,F3,F4に基づく距
離変換値が判定される。垂直パターンの場合、右
の境界でD2,D3が1となり、左の境界でD4が1
となるのでF2,F3の距離変換は右の境界、F4
距離変換は左の境界で判定される。右上りのパタ
ーンの場合は、右下の境界でD1,D2,D3が1と
なるので右下の境界でF1,F2,F3の距離変換が
判定される。右下りのパターンの場合は、左下の
境界でD1,D4が1となり、右上の境界でD2が1
となるので、左下の境界でF1,F4の距離変換、
右上の境界でF2の距離変換が判定されることに
なる。したがつて、D1〜D4の内、同時に1とな
つてものに対するF1〜F4の変換結果の内、最小
のものが欠陥部のパターン幅となる。したがつ
て、これを標準パターンの幅と比較することによ
り、致命度を判定できる。また、最小値を求めな
くて、F1〜F4の変換結果の内、D1〜D4の内の1
になつたものに対するものを標準パターンの幅と
それぞれ比較して致命度を比較し、いずれかの比
較で致命度があれば致命的と判断できる。このよ
うにすることにより、自動的に、第2図のA1
A6に対処するためのF1,F3,F4,B1〜B6に対処
するためのF2,F3,F4,C1〜C6に対処するため
のF1,F2,F3,D1〜D6に対処するためのF1
F2,F4の距離変換がそれぞれのパターンに対し
て有効となる。なお、比較する標準パターンの幅
(基準値)が位置によつて異なる場合は標準パタ
ーンg(i,j)に対して各距離変換を行なつて、
それぞれの幅を逐次求めて基準値とすればよい。
第4図は、欠陥が配線パターンに対して一つの
方向ではなくその一つの方向に対してさらに45゜
方向に延びている場合の例を示している。このよ
うな欠陥にも対処するためには、先にF1,F2
F3,F4の距離変換を次のように変更し、距離変
換の値が2つの方向から伝ぱんできるようにすれ
ばよい。ここで下式のMio{ }は{ }内の数
値の内最小なものを示す。
F1(i,j)=〔Mio{F1(i,j−1),F4(i
+1,j−1)}+f(i,j)〕・g(i,j) F2(i,j)=〔Mio{F2(i−1,j),F2(i
−1,j−1)}+f(i,j)〕・g(i,j) F3(i,j)=〔Mio{F3(i−1,j−1),F3
(i,j−1)}+f(i,j)〕・g(i,j) F4(i,j)=〔Mio{F4(i+1,j−1),F4
(i+1,j)〕+(i,j)〕・g(i,j) (6) 第5図a〜dは上式F1〜F4を説明するための
ものである。図の格子図部分はFk(i,j)を求
めるのに用いられる他の二つの絵素に対する距離
値を示し、その格子図部分の下に記載された複数
の矢印は各距離変換の基本の伝ぱん方向を示して
おり、各距離変換は4つの方向に距離変換値を伝
ぱんさせることができる。第6図は第4図A11
B11,C11に対して式(6)の距離変換F1,F4,F2
それぞれ適用したときの距離値lの伝ぱんの様子
を具体的に示したものであり、各々の距離変換に
従つて一方の境界にパターンの残りの寸法lが伝
ぱんされることが分かる。この図から推定できる
ように4つの距離変換F1,F2,F3,F4によつて
第4図と第2図の欠陥すべてに対処できる。すな
わち、水平パターン内の欠陥A1〜A6,A11〜A62
に対してはF1とF3、垂直なパターン内の欠陥B1
〜B3,B11〜B62に対してはF2とF4、右上にパタ
ーンC1〜C6,C11〜C62に対してはF2とF3、右下
りパターンのD1〜D6,D11〜D62に対してはF1
F4の距離変換を行なつて、それぞれに対して、
次の標準パターンの境界位置で判定を行なえよ
い。
D1(i,j)=g(i,j)・g(i+1,j) ・{1−g(i,j+1)} (F1に対して) D2(i,j)=g(i,j) ・g(i,j−1){1−g(i+1,j)} (F2に対して) D3(i,j)=g(i,j) ・g(i−1,j){1−g{i,j+1)} (F3に対して) D4(i,j)=g(i,j) ・g{i,j−1){1−g{i−1,j)} (F4に対して) (7) このようにすると、水平パターンの最下部の境
界で関数D1(i,j)とD3(i,j)のみが1、
垂直パターンの右の境界で関数D2、左の境界で
関数D4のみが1、右上りのパターンの右下の境
界で、関数D2,D3のみが1、右下りのパターン
の左下の境界関数D1,D4のみが1となり、上で
述べた各パターンの欠陥に必要な距離変換の結果
を選択的に判定できる。位置により比較する基準
値が異なる場合は、標準パターンに対しても同じ
距離変換を逐次施こして幅を求めてそれを基準値
とすればよい。
第7図は、上に説明した基本原理、すなわち、
配線パターンの方向、欠陥の方向、標準パターン
幅が一定でない場合での第2図及び第4図に示し
たような欠陥に対して適用できる原理を具体化し
た例である。以下では、距離変換は式(6)に基づき
行なわれる。判定境界位置は式(5)により求めう
る。図において、2Sはパターン抽出回路2から
時系列に出力される2値の被検査パターン信号、
4Sはパターン発生回路4から被検査パターンと
同期して出力される標準パターン信号である。被
検査パターン信号2Sは、標準パターン信号4S
と伴に距離判定回路1,2,3,4でそれぞれ関
数F1,F2,F3,F4に基づく距離変換が施され、
標準パターンから作られた関数D1,D2,D3,D4
が1となる判定の境界で距離変換値を比較し、致
命欠陥がある場合1、ない場合0である信号を3
01S,302S,303S,304Sとして出
力する。なお、これらの致命欠陥の存在を示す信
号は、距離判定回路1,2,3,4での最も遅延
の大きいものと基準とするように、同期を合せる
ようにされている。そしてこれらの信号を論理和
した後、この信号が1の場合のみ、その時の同期
信号発生回路6からのXY座標6cが、記憶回路
305に格納される。このようにすることによ
り、致命的な欠陥の位置を記憶することができ
る。このため、距離判定回路301〜304はい
ずれも同一の絵素(i,j)に対する判定結果を
出力するように、信号2S,4Sを処理する時間
が同一になるように構成されている。さらに、
X、Y座標6cは、信号301S〜304Sが対
応する絵素のアドレスとなるように、同期信号発
生回路6は、撮像装置1による現在の走査位置座
標を上記処理時間分だけ遅れて出力するように構
成されている。
第8図は、距離判定回路3の被検査パターン2
Sと標準パターン4Sの処理過程をパターン図と
して表わしたものである。
図中T0,S0は、対象物10上の横方向(i方
向)に延在している。
配線パターンの一部分を示したもので、T0
被検査パターン、すなわち第1図の信号2Sによ
り表わされるパターンであり、S0は予め記憶して
いる標準パターンで第1図の信号4Sに対応す
る。ここで、被検査パターン、標準パターンの各
絵素(i,j)に対するパターンの有無を表わす
関数をすでに若べたごとく、f(i,j),g(i,
j)で表わす。(i,j)点は一つの絵素の座標
であり前述のx,y座標に対応する。したがつて
f(i,j)に対して、f(i−1,j),g(i−
1,j)は、1基本クロツク前、f(i,j−1)
は1ラスタ走査期間だけ前に入力された信号2
S,4Sに対応する。ただし、これらの関数は
0、1の値しかとらないこととし、1が実際の配
線パターンの存在を表わすとする。T1,S1は配
線パターンT0,S0の上部の境界から各絵素(i,
j)までの距離を表わすパターンで、これらの距
離はすでに式(6)、式(7)で述べた次の関係式により
求められる。
F3(i,j)=〔Mio{F3(i−1,j−1),F3
i,j−1)}+f(i,j)〕・g(i,j) G3(i,j)=〔Mio{G3(i−1,j−1),G(
i,j−1)}+g(i,j)〕・g(i,j) (8) ここで、F3(i,j)、G3(i,j)は多値の関
数となる。S3は、標準パターンS0の判定位置を示
す関数を表わすパターンであり、この関数は、前
述したように標準パターンg(i,j)から式(7)
の関数D3(i,j)である。
D3(i,j)=g(i,j)・g(i−1,j) ・{1−g(i,j+1) (9) T2、S2は、パターンT1、S1それぞれに対して、
パターンS3の1に対応した絵素を取り出して構成
されるパターンであり、次式で表わされる。
F3′(i,j)=F3(i,j)・D3(i,j) G3′(i,j)=G3(i,j)・D3(i,j) (10) パターンT2,S2は、元のパターンS0,T0の幅
の値が多値情報として表現されたものとなる。従
つて両者S2,T2を比較すれば欠陥の致命度が判
定できる。例えば、標準パターンの幅の1/α以
下に被検査パターンの幅がなつた場合に、致命欠
陥であるとすると、次のような式で致命欠陥関数
H0(i,j)を求めればよい。
C0は、判定後のパターンであり1が致命欠陥
の存在を表わし、α=2とした場合である。な
お、上式は一つの例であり、他の判定基準を用い
てもよい。この方法によれば、標準パターンの各
位置の幅を逐次、求めることができるので、各場
所でパターンの幅が異なつていてもそれに対応し
て致命度を決定できる。
第9図は、上記の過程を実現するための距離判
定回路3の具体的回路構成の一例を示したもので
ある。図において、2Sはパターン抽出回路2か
ら時系列に出力される2値の被検査パターン信
号、4Sは、パターン発生回路4から被検査パタ
ーン信号2Sと同期して出力される標準パターン
信号である。被検査パターン信号2Sは、標準パ
ターン信号4Sを参照しながら距離変換回路31
により(8)式に基づきf(i,j)からF3(i,j)
への変換を行なう。こうしてパターンT1を表わ
す信号31Sを出力する。これと同期して、距離
変換回路32、境界抽出回路33では、それぞれ
式(8),(9)によりそれぞれg(i,j)からG3(i,
j)、g(i,j)からD3(i,j)への変換を行
なう。こうして、パターンS1,S3の各絵素の信号
G3(i,j)、D3(i,j)をそれぞれ表わす信号
32S,33Sを出力する。34,35は、アン
ドゲートからなるゲート回路であり、F3(i,
j)、G3(i,j)を表す多値パターン信号31
S,32Sの各ビツトに対して、D3(i,j)を
表わす二値信号33Sとアンドすることにより、
F3′(i,j),G3′(i,j)を表わす多値パター
ン信号34S,35Sをそれぞれ得る。これらの
信号に対するパターンは第8図のT2,S2に相当
する。36は、F3′(i,j)とG3′(i,j)比較
するための比較回路であり、G3(i,j)/α−
F3′(i,j)が正の場合のみ1を信号303Sと
して出力する。信号303Sは、第8図C0に対
応する関数H0(i,j)の値を表わす。そして、
このH0(i,j)が1の絵素が致命的欠陥の存在
する所ということになる。
第10図Aは、距離変換回路31の具体的構成
を示したものであり、シフトレジスタ312と論
理回路311及び遅延回路313からなる。後に
詳述するように論理回路311は、信号2S,4
Sがともに絵素(i,j)に対する信号f(i,
j)、g(i,j)のとき、絵素(i,j)に対す
る距離F3(i,j)を表わす信号311Sを出力
する。シフトレジスタ312は、撮像装置の1ラ
スタ走査内の有効絵素数分に1絵素加えた幅で、
深さ方向はLビツトで、論理回路311から出力
される距離信号311Sが入力される。したがつ
てL=8であれば、255絵素分までの距離を記憶
できる。シフトレジスタ312は、撮像装置1が
1絵素を走査するための期間に等しい周期を有す
るクロツク信号6eによりシフト動作をする。し
たがつて、シフトレジスタ312の最終段の出力
312bは論理回路311への現在の入力信号2
S,4Sが絵素(i,j)のときは、1ラスタと
さらに一つ前の絵素(i−1,j−1)に対する
距離F3(i−1,j−1)を表わし、シフトレジ
スタ312の最終段より一段前の出力312a
は、1ラスタ前の絵素(i,j−1)に対する距
離F3((i,j−1)を表わす。論理回路311
の構成を、第10図Bに示す。図中、3111は
比較器であり、312aが大きい場合のみ、31
11Sが1となる。一方3112は選択回路であ
り、3111Sが1の場合、312bが選択さ
れ、0の場合、312aが選択される。従つて、
3112Sは、312a,312bの小さい方が
常に選ばれることとなる。したがつて、信号31
12Sは信号F3(i−1,j−1)とF3(i,j
−1)の小さい方を表わす。3113は加算器で
あり、多値信号3112Sと二値信号2Sを加算
し、信号3113Sとする。3114はアンドゲ
ートからなるゲート回路であり、3113Sの各
ビツトに対して、二値信号4Sとアンドされ、3
11Sの信号が出力される。信号と式との対応
は、3112SがMio{F3(i−1,j−1),F3
(i,j−1)}、3113SがMio{F3(i−1,
j−1)、F3(i,j−1)}+f(i,j)、31
1SがF3(i,j)=〔Mio{F3(i−1,j−1)、
F3(i,j−1)}+f(i,j)・g(i,j)で
ある。このような構成で、被検査パターンのF
(i,j)に対する距離F3(i,j)が求まる。
遅延回路313は、距離変換パターンF3(i,
j)と判定を行なう境界D3(i,j)とのタイミ
ングを同期させるためのものであり、撮像装置の
1ラスタ内の有効絵素数分の長さのシフトレジス
タで構成する。したがつて、信号2S,4Sが絵
素(i,j)に対応するときには出力31Sは1
ラスタ前の絵素(i,j−1)に対する距離F3
(i,j−1)を表わすことになる。距離変換値
回路32は、第10図A,Bで入力信号2Sを4
Sとするのみでよく、他は距離変換回路31と構
成は全く同様である。
第11図Aは、境界抽出回路33の具体的構成
を示したものであり、シフトレジスタ331と、
論理回路332からなる。シフトレジスタ331
はシフトレジスタ312と同じ構造を有し、クロ
ツク信号6eに応答して信号4Sを順次シフトす
る。この結果、信号4Sの値が絵素(i,j)に
対応するときには、最終段出力331c、最終段
の一段前からの出力331bはそれぞれ絵素(i
−1,j−1),(i,j−1)に対する標準パタ
ーンg(i−1,j−1),g(i,j−1)に対
応させることができる。第11図Bは、論理回路
332の具体的構成例である。1つのインバータ
とアンドゲートによりD3(i,j−1)=g(i,
j−1)・g(i−1,j−1){1−g(i,j)}
を実現する。この式は、先の原理説明のD3(i,
j)の式でjをj−1に変更したもので結果は同
一であるが、g(i,j)の入力があつた時に、
1ラスタ分前のD3(i,j−1)が決定されるこ
とになる。そこで、F3(i,j),G3(i,j)と
同期させるために遅延回路313を必要とした。
以上の回路により、第9図にしたがい距離判定
回路3が実現できる。
なお、距離判定回路3が他の距離判定回路1,
2,4と同期して、同じ絵素(i,j)に対する
判定結果を出力するためには比較回路36の出力
を適当に遅延して出力するシフトレジスタを用い
ればよいが、このシフトレジスタは簡単化のため
に図示されていない。
なお、第7図の距離判定回路1,2,4は、距
離変換F1,F2,F4に関するものであり、具体的
な回路構成は、基本的には第9図と同じで単に、
第10図、第11図のシフトレジスタ回路の切り
出しを、距離判定回路1の場合、F1(i,j−
1),F1(i+1,j−1),g(i,j),g(i
+1,j),g(i,j+1)距離判定回路2の場
合F2(i−1,j),F2(i−1,j−1),g
(i,j),g(i,j−1),g(i+1,j)距
離判定回路4の場合F4(i+1,j−1),F4(i
+1,j),g(i,j),g(i,j−1),g(i
−1,j)のように実質的になるようにすればよ
い。
第12図A〜Hは、第4図の欠陥が45度の方向
転換である例であるのに対して、2方向しかも90
度方向転換のある欠陥の場合である。このような
欠陥の場合、距離変換における値の伝ぱんが第5
図で示したように45度方向しか方向転換できない
ので、値がうまく伝ぱんしない場合がある。そこ
で、このような欠陥に対しては、予め次の式(12)、
式(13)を用いた前処理を被検査パターンf(i,
j)に対して行ない、第12図A′〜H′のような
パターンに変換しておく。
f′(i,j)=f(i,j)+{1−f(i,j)
} ・f′(i−1,j)・f′(i,j−1) (12) ここでf′(i,j)は変換後のパターンである。
ただし、式(12)はパターン内の絵素を“1”とし
て説明してきた値を“0”として反転した場合の
条件式である。これまでと同様に説明するならば
次の式(13)のようになる。
f′(i,j)=f(i,j)−f(i,j) ・{1−f′(i−1,j)} ・{1−f′(i,j−1)} (13) この処理は、第12図に示すようにパターンの
最短距離をかえずに、最短距離の値が45度の方向
変化のみで境界に伝ぱんするように欠陥の形状を
変形するものである。この前処理の具体的回路構
成例を第13図に示す。図中、90Sは被検査パ
ターンf′(i,j)、93Sは変換後のパターンf
(i,j)である。91は、シフトレジスタから
成る、信号93Sに対する遅延回路である。信号
93Sを1クロツクの遅延信号91bとして出力
するための一段のラツチ94と、信号93Sを1
ラスタ分遅延して信号91cとして出力するため
の、1ラスタ内の有効絵素数プラス1の段数のシ
フトレジスタ部95からなる。したがつて、91
b,91cは、f′(i−1,j)f′(i,j−1)
であり、インバータ96の出力91aは1−f
(i,j)であるので、アンドゲート92により、
{1−f(i,j)}・f′(i−1,j)・f′(i,
j−
1)を求め、さらに、オアゲート93により、最
終出力f′(i,j)を求める。以上説明した回路
により、第12図のような欠陥を本方式の原理を
適用できる形状に変換することができる。
以上、説明した実施例では、配線パターン自身
が欠陥のため細くなる場合のみを挙げたが、配線
パターンが太くなる場合に対しては、配線パター
ン間の間隔のチエツクを行なえばよい。すなわ
ち、被検査パターンf(i,j)を1−f(i,
j)、標準パターンg(i,j)を1−g(i,j)
とすれば、配線パターン間の検査ができることに
なる。
以上説明した如く、本発明は、予め被検査パタ
ーンに対応する標準パターンを用意しておき、被
検査パターンとこれとを同期してそれぞれの境界
からの各位置までの距離を計測して、各位置の幅
どうしを比較するものなので、標準パターンの幅
の各位置での変化に対応して欠陥の致命性を判定
でき、従来に比べて、人間の判断に近く有効な発
明である。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明の一実施例にかかるパターン
の検査装置の全体構成を示す図、第2図は、欠陥
の方向が単一である場合の配線パターンと欠陥の
方向の基本的組み合せを示す図、第3図は、水平
な配線パターンに垂直方向の欠陥がある場合の距
離変換を説明するための図、第4図は、欠陥の方
向が45度変化する場合の配線パターンと欠陥の方
向の基本的組み合せを示す図、第5図は、値の伝
ぱんを変化させる距離変換処理を説明するための
図、第6図は、実際の距離変換の値が伝ぱんする
順路を示す図、第7図は、第1図の本発明にかか
わる判定回路3の具体的構成を示した図、第8図
は、判定回路3の距離判定回路3での処理過程を
パターンで示した図、第9図は、距離判定回路3
の具体的構成を示した図、第10図Aは、第9図
の距離変換回路31の具体的構成を示した図、B
はAの論理回路311の具体的構成を示した図、
第11図Aは、第9図の判定境界抽出回路33の
具体的構成を示した図、BはAの論理回路332
の具体的構成を示した図、第12図は欠陥が90度
方向転換する場合の欠陥のパターンを示した図、
及び、そのパターンを本原理に適用できるよう変
形した場合のパターンを示した図、第13図は、
第12図での変形を具体化するための回路の構成
を示した図である。 1…撮像装置、2…パターン抽出回路、3…判
定回路、4…パターン発生回路、5…記憶回路、
6…同期信号発生回路、7…計算機、8…表示装
置、9…ステージ、10…検査物。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 検査物のパターンを撮像手段により撮像して
    映像信号を出力し、 この映像信号をパターン抽出手段により二値化
    した被検査パターン信号に変換して被検査パター
    ンを抽出し、 欠陥のない上記被検査パターンに対応する二値
    化した標準パターンを記憶手段に予め記憶してお
    き、 上記パターン抽出手段の被検査パターンの抽出
    と同期して、上記記憶手段から上記標準パターン
    をパターン発生手段により読み出し、 上記被検査パターン及び上記標準パターン夫々
    に対し、判定手段によりパターンの境界から特定
    の位置までの絵素の値を加算して距離を計測し、
    計測した値を比較して欠陥の判定を行う、 ことを特徴とするパターンの検査方法。 2 特許請求の範囲第1項において、上記距離の
    計測を行うに際し、上記被検査パターン及び上記
    標準パターン夫々のパターン内の絵素の値を
    “1”として加算することを特徴とするパターン
    の検査方法。 3 特許請求の範囲第1項において、上記距離の
    計測を行うに際し、複数の方向に対し夫々絵素の
    値を加算し、少なくとも1つの方向で欠陥と判定
    された場合には欠陥と判定することを特徴とする
    パターンの検査方法。 4 特許請求の範囲第2項において、特定の絵素
    (i,j)の値が“1”であり、1ラスタ走査期
    間前の絵素(i−1,j)およびと1基本クロツ
    ク前の絵素(i,j−1)の両方の変換後の値が
    いずれも“0”である場合、上記の特定の絵素
    (i,j)の値を“0”に反転して、欠陥の判定
    を行うことを特徴とするパターンの検査方法。 5 検査物のパターンを撮像して映像信号を出力
    する撮像手段と、 この映像信号を二値の被検査パターン信号に変
    換して被検査パターンを抽出する手段と、 欠陥のない上記被検査パターンに対応する二値
    化した標準パターンを予め記憶する記憶手段と、 上記パターン抽出手段の被検査パターンの抽出
    と同期して、上記記憶手段から上記標準パターン
    を読み出すパターン発生手段と、 上記被検査パターン及び上記標準パターン夫々
    に対し、パターン境界から特定位置までの絵素の
    値を加算して距離を計測し、計測した値を比較し
    て欠陥の判定を行う判定手段と、 を有することを特徴とするパターンの検査装置。
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Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5491359A (en) * 1977-12-28 1979-07-19 Fujitsu Ltd Pattern detector
JPS5542013A (en) * 1978-09-20 1980-03-25 Hitachi Ltd Automatic appearance test system

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5491359A (en) * 1977-12-28 1979-07-19 Fujitsu Ltd Pattern detector
JPS5542013A (en) * 1978-09-20 1980-03-25 Hitachi Ltd Automatic appearance test system

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