JPH0421186B2 - - Google Patents

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JPH0421186B2
JPH0421186B2 JP61270008A JP27000886A JPH0421186B2 JP H0421186 B2 JPH0421186 B2 JP H0421186B2 JP 61270008 A JP61270008 A JP 61270008A JP 27000886 A JP27000886 A JP 27000886A JP H0421186 B2 JPH0421186 B2 JP H0421186B2
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photosensitive layer
acid
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photosensitive
exposed
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JP61270008A
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Guroosa Mario
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EIDP Inc
Original Assignee
EI Du Pont de Nemours and Co
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Publication date
Application filed by EI Du Pont de Nemours and Co filed Critical EI Du Pont de Nemours and Co
Publication of JPS62143047A publication Critical patent/JPS62143047A/ja
Publication of JPH0421186B2 publication Critical patent/JPH0421186B2/ja
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
    • G03F7/28Processing photosensitive materials; Apparatus therefor for obtaining powder images
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/0073Masks not provided for in groups H05K3/02 - H05K3/46, e.g. for photomechanical production of patterned surfaces

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、粉体で形成され原画に対してポジで
あるパターンを少なくとも1種の1,4−ジヒド
ロピリジン化合物を含有する感光層を用いて形成
するための方法に関する。
感光層の露光領域と未露光領域の粘着性の差を
利用して像を形成する複写方法が知られている。
即ち、例えば米国特許第3060024号、同第3620726
号、および同第3582327各号明細書記載の複写方
法では、粘着性の光重合性複写材料が像様露光に
より硬化し、これにより露光された像領域がその
粘着性を失う。その後、未露光の粘着性を有する
ところには付着するが露光された非粘着性像領域
からはダスト処理後に除去することのできる適当
なトナーを用いてダスト処理することにより像を
可視化する。原画のポジ像がこの方法により得ら
れる。
ネガ型トナー処理用感光性複写材料もまた知ら
れている。それらの好ましい性質、とりわけ酸素
に対する非感受性およびそれらの良好なトナー処
理適正のために、少なくとも1種の感光性1,4
−ジヒドロピリジン化合物を含有する材料は実用
上極めて良好な結果をもたらす。このような材料
は例えば米国特許第4243741号、同第4346162号お
よび4604340各号明細書に記載されており、カラ
ープルーフ法を行なつたり、プリント回路を製作
したり、セラミツク物品上に像を形成したり、ブ
ラウン管用のリン光スクリーンを製造するのに好
適である。しなしながら広範囲の応用、例えばド
ツトまたはストリツプリン光パターン用黒色マト
リツクスの製造やエツチングまたはメツキしてト
ナー処理されたエレメントの複合回路を製造する
ためには、これら複写材料を使用して簡単な方法
で原画に対してポジのパターンを形成することが
できる方法を必要とする。
従つて、本発明は粉体よりなり原画に対してポ
ジであるパターンを少なくとも1種の1,4−ジ
ヒドロピリジン化合物を含有する感光層を用いて
形成するための方法を提供することを目的として
いる。
この目的は、少なくとも1種の1,4−ジヒド
ロピリジン化合物を含有するネガ型トナー処理用
感光層を基体上に適用し、これを像様露光し、露
光中に形成した粘着性光反応生成物をpKa値2.0
またはそれ以下の有機または無機の強酸で処理す
ることにより非粘着性生成物へ変換し、ひき続き
非像様露光または加熱により非像様露光領域中に
粘着性を生じさせ、そしてこれら粘着性領域に微
細粉末を適用することによりトナー処理して、原
画に対してポジの粉体よりなるパターンを形成す
る方法により達成される。
本発明の出発点は、粘着性光反応生成物を非粘
着性化合物へ変換することにより像反転が可能に
なるという認識にある。
反転工程を行なうのに適当な強酸は例えば、
HCl、HBr、HNO3、H2SO4、p−トルエンスル
ホン酸、およびアミドスルホン酸であり、とりわ
け良好な結果を与えているのが揮発性酸である。
反転は種々の方法で行なうことができる。好ま
しい実施態様によれば、像様露光した材料は酸の
蒸気にさらされる。実際上では、例えば、基体上
の像様露光層を、無水または含水の酸の蒸気、ま
たは酸の蒸気を含有する空気混合物で充たされた
チヤンバー内へ挿入する。
とりわけ好ましい方法では、チヤンバー内の雰
囲気を、塩酸の25重量%溶液の蒸気で25℃で飽和
させる。酸処理の継続時間は感光層の厚みにより
決まり、例えば1μmの厚みの層に対しては約30
〜60秒である。酸処理の後、過剰な分は18〜40℃
の空気流中で吹きとばすことにより除去すること
ができる。
処理は酸の水溶液でその濃度が好ましくは0.5
〜5重量%のものを用いて行なうこともできる。
この場合の処理は、像様露光された材料を水溶液
に浸漬し、その後水ですすぐ簡単な方法で行なう
ことができる。露光の程度、使用されるバインダ
ーの種類、そして層の機械的応力に応じて、この
後、露光された領域を洗去することができる。
別の実施態様によれば、処理は強酸を担持した
担体として働く微細粉末を適用することにより行
なうことができる。担体物質として適当である粉
末は天然または合成の重合体、例えばポリアミ
ド、ポリアルキレンオキシド、ポリビニニルアル
コール、ポリビニルピロリドン、ポリアクリレー
ト例えばポリアクリルメタクリレートおよびアク
リル酸と無水マレイン酸との共重合体である。カ
オリン、SiO2、CaSO4、Al2O3等も適当である。
担体物質に酸を担持させるには、好ましくは担
体物質と水性の酸とを、粉末の流動性が保たれる
ような混合比で混合する。
上記方法によれば、高いトナー密度およびハイ
コントラストにおいて優れている粉体物質のポジ
パターンが得られる。少なくとも1種の1,4−
ジヒドロピリジン化合物を含有する知られたネガ
型トナー処理用複写材料の中で、4位を2′−ピト
ロフエニル環で置換された1,4−ジヒドロピリ
ジン類を含有するものが本発明の方法を実施する
のに特に適しているということがわかつた。好ま
しい化合物は下記式: 〔式中、Rは2′−ニトロフエニル(ただしフエニ
ル基はC1〜C4アルキルまたはオキサルキル、
OH、ハロゲン、NH2基で置換されうるものであ
る)でありR1および/またはR2はCN、
COOR′またはCOR′であるが、ここでR′は1〜11
炭素原子を有するアルキル基(ただしこれもまた
−OCH3または−OC2H5で置換されていてもよ
い)を表わし、さらにR1とR2は同じでも異なつ
ていてもよく、R3およびR4はC1〜C4アルキルた
だしR3とR4は同じでも異なつていてもよく、R1
とR3および/またはR2とR4はカルボニル基を有
する5員または6員の炭素環またはヘテロ環を完
成するのに必要な原子を表わす〕に相当するもの
である。さらに適当な化合物として本明細書に参
考までに包含させた米国特許第4604340号明細書
記載のものをあげることができる。
少なくとも1種の1,4−ジヒドロピリジン化
合物および1種のヘキサアリールビスイミダゾー
ル化合物よりなる別の感光系は、米国特許第
4243741号明細書に記載されており、その内容を
本明細書に参考までに記載する。適当なジヒドロ
ピリジン化合物は、その明細書の表1に記載され
ている。具体的には、2,4,6−トリメチル−
3,5−ビス(カルボエトキシ)−1,4−ジヒ
ドロピリジン;2,6−ジメチル−4−エチル−
3,5−ビス(カルボエトキシ)−1,4−ジヒ
ドロピリジン;2,6−ジメチル−4−n−プロ
ピル−3,5−ビス(カルボエトキシ)−1,4
−ジヒドロピリジン;および2,6−ジメチル−
4−ベンジル−3,5−ビス−カルボエトキシ)
−1,4−ジヒドロピリジンである。
適当なヘキサアリールイビスイミダゾール化合
物、即ち感光系の第2の成分は上記特許明細書の
表2にまとめられている。とりわけ好ましいの
は、2,2′,4,4′,5,5′−ヘキサフエニルビ
イミダゾール;2,2′−ビス(2−クロロフエニ
ル)−4,4′,5,5′−テトラキス(3−メトキ
シフエニル)ビイミダゾール;および2,2′−ビ
ス(2−メトキシフエニル)−4,4′,5,5′−
テトラフエニルビイミダゾールである。
感光性化合物は単独か、またはバインダーと混
合するか一緒に合せるかして知られた方法により
基体へ適用することができる。好適な層の厚みは
0.5〜5μmである。
適当なバインダーはポリアクリル酸エステルま
たはポリメタクリル酸エステルおよびそれらとア
クリル酸またはメタクリル酸または他のアクリル
またはビニル単量体との共重合体;無水マレイン
酸、マレイン酸および/またはそのジエステルま
たはセミエステルとスチレンまたは他のビニル単
量体との共重合体;塩素含有ビニル重合体または
共重合体例えばポリ塩化ビニルおよびそのポリ塩
素化物、ポリ塩化ビニリデン、塩素化ポリエチレ
ン、等;ポリスチレンおよびポリスチレン共重合
体、エチレンおよびエチレン共重合体例えばマレ
イン酸等との共重合体;ブタジエン、クロロプレ
ン等をベースにした合成ゴム類、およびそれらの
共重合体例えば合成ゴム類とスチレンおよびアク
リロニトリルとの共重合体;ポリエーテル例えば
高分子量のポリエチレンオキシドまたはポリエピ
クロロヒドリンである。
層は場合により他の添加剤例えば増感剤、可塑
剤、安定剤、光輝剤、マツト剤、コーテイング
剤、等を含有することができる。なかでも、ベン
ゾフエノン、ミヒラーケトン、または7−(N,
N−ジエチルアミノ)−4−メチル−クマリンが
増感剤としてとりわけ有用であることがわかつ
た。
多くの透明または不透明の材料が感光層の支持
体として適当である。例を挙げれば、場合により
バライタコートされていてもよい紙;ボール紙;
金属ホイル例えばアルミホイル、銅ホイル、鋼ホ
イル等;木材;ガラス;磁器;陶器;フイルムま
たは天然または合成重合体の不織布である。
それ以外の層例えば下ぬりも必要なら層の支持
体上に存在することができる。感光層を覆う特別
の保護被膜ただしトナー処理前に剥がさなければ
ならないものは原理的には必要ではない。しかし
ながら所望により、感光層が傷つくのを防ぐため
に適用することができる。
材料の像様露光はUV光を用いて行なわれる。
300〜400nmの波長が好適である。有効量のこの
照射を供給する適当な照射光源は例えばキセノン
ランプ、水銀蒸気灯、蛍光灯である。感光材料の
感光性および使用される光源との距離や光源の種
類および強度に応じ、露光時間は5〜100秒であ
る。
拡散(即ち非像様)後露光は上記光源を用いて
同様に行なわれる。所望のトナー付着量または密
度は露光の強度および時間を調節することにより
達成することができる。一般的には、後露光は像
様露光より20%短い。
熱処理を行なうにあつては、材料は一般的に、
知られた方法により各々の感光材料のガラス転移
温度より約30℃上の温度にまで上げることができ
る。個々の感光性組成物の粘着温度はそれぞれの
場合について経験的にただし当業者により容易に
得ることができる。
拡散後露光または熱処理に続いて、原画のポジ
像を表わす形成された粘着性の領域は、所望の色
を複写するために適当なトナーでトナー処理され
る。
トナーは例えばコツトンパツドを用いて手操作
でか、または特別の適用器または適用装置を用い
るかして露光層上に適用することができる。適当
な方法は当業者の知るところである。
非常に多種の組成の微細粉末トナーは露光領域
のトナー処理に使用することができる。例えば、
有機または無機の顔料、リン、金属粉、または純
粋な形のまたは有機または無機の粉末状担体上の
可溶性有機染料が適している。
記載された反転工程はカラーテレビ管の蛍光ス
クリーン用の黒色マトリツクスを製造するのに極
めて有利に使用することができる。コントラスト
を改良するために、個々のカラーパターンの間の
スペースが光吸収材料で充てんされるが被覆され
ているような多重スクリーンを用いることが知ら
れている。実際には、このような像スクリーンは
通常は第1段階で黒色マトリクスを形成し、ひき
続き第2製造段階で像の色要素を形成することに
より製造される。
本発明の方法はテレビスクリーン用の黒色マト
リクスの製造を例として用いながら以下に詳述す
る。
感光層を内側に備えた像スクリーンを従来のテ
レビ露光テーブル上で3基本色の異なつた位置に
円形の穴を有するシヤドウマスクを通して露光さ
せてマトリツクスパターンを形成させる。次に、
像スクリーンを酸処理に付し、拡散的に後露光す
るか加熱するかして、それから黒色顔料粉末でト
ナー処理する。円形シヤドウマスクに対応したポ
ジ像が得られ、従つて、後で適用されるはずのリ
ン光ドツト間の空間は黒色にトナー処理される。
原画に対してポジであり粉体より形成されるポ
ジパターンを形成させるための本発明の方法は、
それを実施するために用いられる感光材料が従来
の光重合に基いた材料とは対称的に酸素に対して
非感受性であるということ即ち露光中に被覆層、
コンデイシヨニングまたは保護ガス雰囲気のよう
な特別の保護手段を必要としない点においてとり
わけ優れている。実際の使用にあつては、大気酸
素による障害を受けることなく材料を薄層におい
て使用することができるということは決定的な利
点である。
さらに有利な点は、感光性出発物質は非粘着性
であり、これがそれらの取り扱いをかなり容易に
している点である。さらにまた原画に対してポジ
がネガであり粉体からなるパターンが同じ感光性
材料を用いて単純な方法で製造することができる
利点もある。
さらに、トナー処理可能な密度は拡散後露光を
変化させることにより、調整された像様コントラ
ストや解像度をそこなうことなく所望のとおりに
調節することができる。
以下の実施例により本発明を説明する。%は全
て重量によるものとする。
実施例 1 メチルエチルケトン200ml中の2,6−ジメチ
ル−4−(2′−ニトロフエニル)−1,4−ジヒド
ロピリジン−3,5−ジカルボン酸のジメチルエ
ステル7.5gおよび2,6−ジメチル−4−(2′−
ニトロフエニル)−1,4−ジヒドロピリジン−
3,5−ジカルボン酸のジエチルエステル7.5g
の溶液を2つのガラスプレートAおよびBに塗布
した。乾燥後、層の厚みは1.2μmであつた。両プ
レートを線画の後方で60秒間1000Wの水銀蒸気灯
を用いて40cmの距離から露光した。プレートAは
25%水性塩酸の蒸気に30秒間さらし、空気で吹き
とばし、30秒間拡散的に露光し、それから赤色顔
料粉体でトナー処理した。
プレートBは露光後3%水性塩酸90mlとエタノ
ール10mlの混合物に1分間浸漬し、水ですすぎ、
乾燥した。次にプレートを同様に30秒間拡散的に
露光し、赤色顔料粉体でトナー処理した。両方の
場合において原画のポジ像が得られた。
実施例 2 メチルエチルケトン150ml中の2,6−ジメチ
ル−4−(2′−ニトロフエニル)−1,4−ジヒド
ロピリジン−3,5−ジカルボン酸のジメチルエ
ステル7.0gおよび2,6−ジメチル−4−(2′−
ニトロフエニル)−1,4−ジヒドロピリジン−
3,5−ジカルボン酸のジエチルエステル7.0g
の溶液をガラスプレート上に乾燥後の層厚みが
0.9μmになるように塗布した。次にガラスプレー
トを3√2段階光学くさびを通して40秒間UV−
発光けい光管(光出力5mW/cm2)を装備した光
源を用いて露光した。
その後プレートを60%水性臭化水素酸の蒸気に
30秒間さらし、40℃の空気で吹きとばした。次に
拡散的に40秒間蒸気光源を用いて後露光し、ひき
続いて青色顔料粉体でトナー処理した。くさび原
画のポジ像が形成された。
実施例 3 メチルエチルケトン100ml中の2,6−ジメチ
ル−4−(2′−ニトロフエニル)−1,4−ジヒド
ロピリジン−3,5−ジカルボン酸のジエチルエ
ステル7.0gの溶液を10×4cm銅プレート上に乾
燥後の層厚みが1.0μmになるように塗布した。そ
の後線画を介して30秒間実施例2と同様にして露
光し、露光されたプレートを、17%水性塩酸1重
量部および沈降ケイ酸3重量部を混合して得られ
た粉末30gとともに容器中で振とうした。粉末を
吹き飛ばした後、プレートを青色顔料粉末で30℃
でトナー処理した。原画のポジ像が得られた。
実施例 4 メチルエチルケトン100ml中の2,6−ジメチ
ル−4−(2′−ニトロ−4′,5′−ジメトキシフエニ
ル)−1,4−ジヒドロピリジン−3,5−ジカ
ルボン酸のジ−(β−メトキシエチル)−エステル
5gの溶液をガラスプレート上に乾燥後の層厚み
が0.9μmとなるように塗布した。次にこれを60秒
間3√2段階光学くさびを介して1000Wの水銀蒸
気灯を用いて40cmの距離から露光し、ひき続き沈
降ケイ酸(平均凝集塊径40μm)5gおよび18%
水性臭化水素酸6mlよりなる粉末混合物とともに
30秒間振とうし、それから粉末を空気で吹き去つ
た。
段階光学くさびを介して露光された領域を次に
上記光源を用いて拡散的に40秒間露光し、そして
青色顔料粉末でトナー処理した。光学くさびのポ
ジ像が得られた。
実施例 5 メチルエチルケトン60ml中の2,6−ジメチル
−4−(2′−ニトロフエニル)−1,4−ジヒドロ
ピリジン−3,5−ジカルボン酸のジエチルエス
テル5.0gの溶液を乾燥後の層厚みが0.8μmとな
るように遠心によりカラー像管のスクリーンの内
側に塗布した。次にスクリーンを3原色の各位置
においてスリツトシヤドウマスクを介して従来の
テレビ露光テーブル上で1000Wの水銀蒸気灯を用
いて露光した。灯とスクリーンの距離は22cmであ
り、露光時間は60秒であつた。シヤドウマスクを
とり去つた後、感光層は(a)3%水性塩酸で処理し
そして水ですすぐか、(b)20%水性塩酸の蒸気に4
分間さらすかし、そして吹いて乾燥した。次にこ
れを拡散的に即ちシヤドウマスクなしで30秒間前
記光源を用いて露光しそして黒色酸化鉄粉末を用
いてトナー処理した。両方の場合においてシヤド
ウマスクに対応したポジ像が得られ、これはテレ
ビスクリーン用のマトリツクスとして優れて適し
ていた。
実施例 6 塩化メチレン250ml中の2,4,6−トリメチ
ル−1,4−ジヒドロピリジン−3,5−ジカル
ボン酸ジメチルエステル3.0g、2,6−ジメチ
ル−4−エチル−1,4−ジヒドロピリジン−
3,5−ジカルボン酸ジメチルエステル3.0g、
2,6−ジメチル−4−イソプロピル−1,4−
ジヒドロピリジン−3,5−ジカルボン酸ジメチ
ルエステル3.0g、2,2′−ビス(2−クロロフ
エニル)−4,4′,5,5′−テトラキス(3−メ
トキシフイエニル)ビイミダゾール7.5g、2,
2′−ビス(2−エトキシフエニル)−4,4′,5,
5′−(3−メトキシフエニル)ビイミダゾール
14.0g、ポリスチレン4.0g、およびメチルアク
リレートとブチルアクリレートの共重合体(比
10/90;Tg4℃)20.0gの溶液を100μmの厚
みのポリエステル支持体上に乾燥後の層厚みが
7μmとなるように塗布した。材料は線画の後方
で1000Wの水銀蒸気灯を用いて40cmの距離から2
分間露光し、そしてひき続き(a)水100ml中のアミ
ドスルホン酸3.0gの溶液または(b)水100ml中のp
−トルエンスルホン酸3.0gの溶液に5分間浸漬
し、水ですすぎ、乾燥し、前記光源で90秒間拡散
的に後露光し、グラフアイト粉末でトナー処理し
た。両方の場合において原画のポジ像が形成され
た。
実施例 7 メチルエチルケトン150ml中の2,6−ジメチ
ル−4−メチル−1,4−ジヒドロピリジン−
3,5−ジカルボン酸ジエチルエステル3.0g、
2,6−ジメチル−4−エチル−1,4−ジヒド
ロピリジン−3,5−ジカルボン酸ジエチルエス
テル3.0g、2,6−ジメチル−4−イソプロピ
ル−1,4−ジヒドロピリジン−3,5−ジカル
ボン酸ジエチルエステル3.0g、および2,2′−
ビス(2−クロロフエニル)−4,4′,5,5′−
テトラキス(3−メトキシフエニル)−ビイミダ
ゾール4.0g、およびメチルアクリレートとエチ
ルアクリレートの共重合体(Tg40℃)2.0gの
溶液を乾燥後の層厚みが1.5μmとなるようにポリ
エステル層支持体上に被覆した。次に材料を線画
の後方で90秒間1000Wの水銀蒸気灯を用いて40cm
の距離から露光した。次に材料を2分間1%水性
硫酸中に浸漬し、水ですすぎ、乾燥し、上記光源
を用いて90秒間拡散的に後露光しグラフアイト粉
末を用いてトナー処理した。原画のポジ像が得ら
れた。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 (a) 少なくとも1種の4−(2′−ニトロフエ
    ニル)−1,4−ジヒドロピリジン化合物を含
    有する感光性組成物の層または少なくとも1種
    の1,4−ジヒドロピリジン化合物と少なくと
    も1種のヘキサアリールビスイミダゾール化合
    物とを含む感光系を含有する感光性組成物の層
    を活性線に像露光して粘着性の像領域を形成さ
    せる工程、 (b) pKa値≦2.0を有する無機または有機強酸で
    前記感光層を処理する工程、 (c) 活性線に非像様に露光するか、または加熱し
    て工程(a)で活性線に露光されなかつた領域に粘
    着性を生じさせる工程、そして (d) 粘着性の領域を微細粉末でトナー処理する工
    程 より順次なる、前記感光層を少なくとも一方の面
    に担持している基体の少なくとも一方の面上に原
    画に対してポジの粉体像を形成させる方法。 2 工程(b)において、感光層を揮発性強酸で処理
    する特許請求の範囲第1項に記載の方法。 3 工程(b)において、感光層を塩酸で処理する特
    許請求の範囲第1項に記載の方法。 4 揮発性強酸が塩酸である特許請求の範囲第2
    項に記載の方法。 5 工程(b)において、感光層を揮発性強酸の蒸気
    で処理する特許請求の範囲第1項に記載の方法。 6 感光層が揮発性強酸の蒸気で処理される特許
    請求の範囲第2項に記載の方法。 7 感光層が塩酸の蒸気で処理される特許請求の
    範囲第3項に記載の方法。 8 工程(b)において、感光層が強酸を担持した微
    細担体物質で処理される特許請求の範囲第1項に
    記載の方法。 9 感光層を揮発性強酸を担持した微細担体物質
    で処理する特許請求の範囲第2項に記載の方法。 10 感光層を塩酸を担持した微細担体物質で処
    理する特許請求の範囲第3項に記載の方法。 11 工程(b)において、感光層を塩酸を担持した
    微細ケイ酸で処理する特許請求の範囲第1項に記
    載の方法。 12 感光層を塩酸を担持した微細ケイ酸で処理
    する特許請求の範囲第8項に記載の方法。
JP61270008A 1985-11-16 1986-11-14 トナ−処理可能なポジ像を形成する方法 Granted JPS62143047A (ja)

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