JPH04158045A - Manufacture of ink jet recording head - Google Patents

Manufacture of ink jet recording head

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JPH04158045A
JPH04158045A JP28520690A JP28520690A JPH04158045A JP H04158045 A JPH04158045 A JP H04158045A JP 28520690 A JP28520690 A JP 28520690A JP 28520690 A JP28520690 A JP 28520690A JP H04158045 A JPH04158045 A JP H04158045A
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thermosetting resin
layer
resin layer
pattern
layers
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Masa Suzuki
雅 鈴木
Naoshi Kotake
小竹 直志
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Abstract

PURPOSE:To suppress heap of uppermost resin layer as low as possible by forming a thermosetting resin layer through patterning of a plurality of layers. CONSTITUTION:A heat accumulation layer 8 is provided on a heater substrate 1; a resistor layer 2 is formed thereon through deposition or sputtering and then subjected to patterning to form an individual electrode 3a and a common electrode 3b. Resistor protective layers 5, 6 and an electrode protective layer 7 are further formed thereon, followed by patterning to form bit layers 41a, 41b with thermosetting resin. Upon finish of exposure, the thermosetting resin 41b is removed from unexposed part thus forming a desired pattern. When prebake is performed, some degree of irregularities corresponding to the pattern of the thermosetting resin layer 41a are formed on the surface of a thermosetting resin layer 42b. Unexposed part 42b is then dissolved and removed and a desired pattern is formed of a thermosetting resin layer 42a. Thus formed pattern has a round profile. The thermosetting resin layers 41a, 42a are finally set through heat treatment.

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、インク流路等インクに接する部分の少なくと
も一部が、熱硬化性樹脂で構成されているインクジェッ
ト記録ヘッドの製造方法に関するものである。
Detailed Description of the Invention (Field of Industrial Application) The present invention relates to a method of manufacturing an inkjet recording head in which at least a portion of the ink flow path and other parts that come into contact with ink are made of a thermosetting resin. be.

(従来の技術) インクジェット記録ヘッドについて、従来、インク流路
等インクに接する部分を形成する材料として、コストや
生産性、加工性の面がら特開昭57−43876号公報
に記されているようにアクリル系樹脂を主成分とした感
光性固体フィルムタイプのものが多く用いられてきた。
(Prior Art) Conventionally, for inkjet recording heads, materials for forming parts that come in contact with ink, such as ink channels, have been used in terms of cost, productivity, and processability, as described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 57-43876. A photosensitive solid film type mainly composed of acrylic resin has been widely used.

しかし、アクリル系樹脂を主成分とした感光性樹脂の硬
化膜を用いてインク流路壁を形成したインクジェット記
録ヘッドでは、記録時間が長くなると、ノズルからのイ
ンクの不吐出や、吐出したインク滴の記録媒体(紙等)
への印字位置精度の悪化が生じるなど、記録ヘッドとし
ての吐出耐久性には不満足な面が多く、これら問題は、
インクジェット記録ヘッド、ひいてはインクジェット記
録法の高信頼度への大きな障害となっていた。
However, in inkjet recording heads whose ink flow path walls are formed using a cured film of photosensitive resin mainly composed of acrylic resin, when the recording time becomes long, ink may not be ejected from the nozzles or ejected ink droplets may occur. Recording media (paper, etc.)
There are many aspects that are unsatisfactory regarding the ejection durability of the recording head, such as deterioration of printing position accuracy.
This has been a major obstacle to achieving high reliability of inkjet recording heads and, by extension, inkjet recording methods.

このような問題を解決するために、特開昭61−249
767号公報に記載されているように、インク流路等イ
ンクに接する部分を形成する材料としてポリイミド系樹
脂やポリアミド系樹脂等が採用され、その結果、インク
ジェット記録ヘッドとしての耐久性が向上し、高信頼性
を得ることができるようになった。
In order to solve such problems, Japanese Patent Application Laid-Open No. 61-249
As described in Japanese Patent No. 767, polyimide resins, polyamide resins, etc. are used as materials for forming parts that come into contact with ink, such as ink flow paths, and as a result, the durability of the inkjet recording head is improved. High reliability can now be achieved.

一方、特開昭62−33648号公報に記されているよ
うに、気泡の成長領域を限定したり、ノズルからの空気
の抱き込み防止を目的とする凹部(加熱素子はこの凹部
内に配置されており、この凹部をビットという。)の形
成にも熱硬化性樹脂が有効に利用されている。
On the other hand, as described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 62-33648, a recess (the heating element is disposed within this recess) is used to limit the bubble growth area and to prevent air from being drawn in from the nozzle. Thermosetting resins are also effectively used to form the recesses (these recesses are called bits).

このような熱硬化性樹脂層を形成する方法としては、通
常、所望の樹脂のワニスをガラスセラミックやSiウェ
ハ等の基板に塗布した後、所望のパターンを形成し、そ
の後熱処理を行なうことによって硬化させる方法が採用
されている。
The method for forming such a thermosetting resin layer is usually to apply a desired resin varnish to a substrate such as a glass ceramic or Si wafer, form a desired pattern, and then harden it by heat treatment. A method has been adopted to

しかし、当然のことながら、前記熱処理を行なうことに
よって前記樹脂層は熱収縮し、その結果として熱処理後
の前記樹脂層により形成されたパターンの端が、額縁状
に盛り上がるという現象が発生する。
However, as a matter of course, by performing the heat treatment, the resin layer is thermally shrunk, and as a result, a phenomenon occurs in which the edges of the pattern formed by the resin layer after the heat treatment swell up into a picture frame shape.

第6図は、その現象モデル図である。図中、1はヒータ
ー基板、4はビット層としての樹脂層、9はチャンネル
基板であり、同図(A)は、パターン露光、現像後、加
熱硬化処理前の状態、同図(B)は、加熱硬化処理後の
状態を示す。同図(A)の状態にある樹脂層4を、例え
ば400°Cで加熱処理すると、熱収縮は、膜厚方向に
生ずると同時に、平面方向にも生ずる。また、硬化は、
エツジ部分が先に進む。樹脂層4が基板1に接している
部分の寸法は変化しないから、樹脂層内部には大きな歪
を生じ、樹脂層の端部には、同図(B)に示すような盛
り上がり部分aが額縁状に発生する。
FIG. 6 is a model diagram of the phenomenon. In the figure, 1 is a heater substrate, 4 is a resin layer as a bit layer, and 9 is a channel substrate. FIG. , shows the state after heat curing treatment. When the resin layer 4 in the state shown in FIG. 2A is heat-treated at, for example, 400° C., thermal contraction occurs not only in the film thickness direction but also in the planar direction. In addition, curing is
The edge part moves forward. Since the dimensions of the part where the resin layer 4 is in contact with the substrate 1 do not change, a large strain occurs inside the resin layer, and at the end of the resin layer, a raised part a as shown in FIG. It occurs like this.

盛り上がりの度合いの1例を第7図で説明する。An example of the degree of excitement will be explained with reference to FIG.

樹脂層として、Probimide (登録商標)(C
iba−Geigy社製)を用いて、350℃で2時間
加熱した例である。図の横軸は、硬化前の樹脂層の厚さ
であり、縦軸は、硬化後の樹脂層の厚さD[μm]と、
その上に、盛り上がりの高さd[μm]を加えたもので
ある。膜厚が厚いほど盛り上がりの高さdが大きく、そ
の傾向がより大きくなることがわかる。
As the resin layer, Probimide (registered trademark) (C
(manufactured by iba-Geigy) and heated at 350° C. for 2 hours. The horizontal axis of the figure is the thickness of the resin layer before curing, and the vertical axis is the thickness D [μm] of the resin layer after curing,
On top of that, the height of the bulge d [μm] is added. It can be seen that the thicker the film, the larger the height d of the bulge, and the greater the tendency.

このような現象が発生すると、インクジェット記録ヘッ
ドとして組み上げる時に、次のような不具合が生じる。
When such a phenomenon occurs, the following problems occur when assembling an inkjet recording head.

すなわち、インクジェット記録ヘッドのノズルを形成す
る方法としては、第4図に示すように、ヒーター基板1
に、図示しない熱作用部を形成し、その上に上述した樹
脂で所望のパターンにビット層4を形成した後、このヒ
ーター基板に、ノズル10、フィルタ11、インク供給
口12を形成したチャンネル基板9を接着する方法や、
第5図に示すように、熱作用部を形成したヒーター基板
1に、上述した樹脂で隔壁14を形成し、その上に上部
基板としての天板13で覆い、ノズル10を形成する方
法が採用されているが、どのような場合でも、通常の形
成方法では熱処理を行なう限り、必ずパターンの端が額
縁状に盛り上がるという現象が発生する。
That is, as a method for forming the nozzles of an inkjet recording head, as shown in FIG.
A heat acting part (not shown) is formed thereon, and a bit layer 4 is formed thereon in a desired pattern using the resin described above, and then a channel board is formed in which a nozzle 10, a filter 11, and an ink supply port 12 are formed on this heater board. How to glue 9,
As shown in FIG. 5, a method is adopted in which a partition wall 14 is formed using the above-mentioned resin on a heater substrate 1 on which a heat acting part is formed, and a top plate 13 as an upper substrate is covered thereon to form a nozzle 10. However, in any case, as long as heat treatment is performed in a normal forming method, a phenomenon occurs in which the edges of the pattern are raised in the shape of a frame.

このようなパターンの端の額縁状の盛り上がりは、上述
したように、樹脂の膜厚と大きな相関があり、厚くなる
ほど大きくなることがわかっている。したがって、膜厚
が薄い場合にはそれほど問題にならないが、インクジェ
ット記録ヘッドとしての実用性を考慮するならば、少な
くとも5〜100μm程度の比較的厚い樹脂層が必要で
あるから、従来の方法ではパターンの端が額縁状に盛り
上がってくることは避けられない。その結果、前述のチ
ャンネル基板や天板との密着が完全にできず、歩留まり
を低下させるとともに、インクジェット記録ヘッドとし
ての信頼性を著しく低下させていた。
As mentioned above, it is known that the frame-like bulges at the edges of the pattern have a strong correlation with the resin film thickness, and become larger as the resin film becomes thicker. Therefore, if the film thickness is thin, this will not be much of a problem, but if practicality as an inkjet recording head is considered, a relatively thick resin layer of at least 5 to 100 μm is required. It is inevitable that the edges of the frame will bulge out like a picture frame. As a result, the inkjet recording head could not be completely adhered to the channel substrate and the top plate, which lowered the yield and significantly lowered the reliability of the inkjet recording head.

(発明が解決しようとする課題) 本発明は、熱硬化性樹脂層でインク流路の少なくとも一
部を形成した基板と、該基板に貼り合わされる基板とに
より構成されるインクジェット記録ヘッドの製造方法に
おいて、熱硬化性樹脂により形成されたパターンの端に
発生する額縁状の盛り上がりを防止することによって、
高信頼性のインクジェット記録ヘッドが得られる製造方
法を提供することを目的とするものである。
(Problems to be Solved by the Invention) The present invention provides a method for manufacturing an inkjet recording head comprising a substrate in which at least a portion of an ink flow path is formed with a thermosetting resin layer, and a substrate bonded to the substrate. By preventing frame-like bulges that occur at the edges of the pattern formed by thermosetting resin,
It is an object of the present invention to provide a manufacturing method by which a highly reliable inkjet recording head can be obtained.

(課題を解決するための手段) 本発明は、第1発明においては、熱硬化性樹脂層でイン
ク流路の少なくとも一部を形成した基板と、該基板に貼
り合わされる基板とにより構成されるインクジェット記
録ヘッドの製造方法において、前記熱硬化性樹脂層を複
数層パターニングして重ね合わせて形成することを特徴
とするものであり、第2発明においてlよ、第1発明に
おける複数層の熱硬化性樹脂層を重ね合わせて形成する
に際して、下層をパターニングした後、その上の層を下
層より大きくパターニングすることを特徴とするもので
あり、第3発明においては、第1発明における複数層の
熱硬化性樹脂層を重ね合わせて形成するに際して、下層
をパターニングした後、その上の層を下層より小さくパ
ターニングすることを特徴とするものであり、第4発明
においては、第1発明における複数層の熱硬化性樹脂層
を重ね合わせて形成するに際して、下層をパターニング
し、硬化させた後、その上の層を下層より薄く形成して
パターニングすることを特徴とするものである。
(Means for Solving the Problems) In the first aspect of the invention, the present invention includes a substrate in which at least a part of an ink flow path is formed with a thermosetting resin layer, and a substrate bonded to the substrate. The method for manufacturing an inkjet recording head is characterized in that the thermosetting resin layer is formed by patterning and overlapping a plurality of layers, and in the second invention, the thermosetting resin layer of the plurality of layers in the first invention is When forming the thermoplastic resin layers by overlapping each other, the lower layer is patterned, and then the upper layer is patterned larger than the lower layer. When forming the curable resin layers by overlapping each other, the lower layer is patterned, and then the upper layer is patterned to be smaller than the lower layer. When forming thermosetting resin layers one on top of the other, the lower layer is patterned and cured, and then the upper layer is formed thinner than the lower layer and patterned.

(作 用) 本発明によるインクジェット記録ヘッドの製造方法によ
れば、熱硬化性樹脂層を複数層パターニングして重ね合
わせて形成することにより、少なくとも最上層の熱硬化
性樹脂層の熱硬化処理前のパターン端部を、丸みをもた
せた形状とすること、あるいは、下層を硬化させた後、
その上の層を薄く形成することにより、熱硬化処理時に
収縮による最上層の樹脂層の盛り上がりを、わずがな程
度に抑えることができるものである。
(Function) According to the method for manufacturing an inkjet recording head according to the present invention, by patterning and overlapping a plurality of thermosetting resin layers, at least the uppermost thermosetting resin layer can be formed before the thermosetting treatment. The edge of the pattern is rounded, or after the lower layer is cured,
By forming the upper layer thinly, the swelling of the uppermost resin layer due to shrinkage during thermosetting can be suppressed to a slight degree.

(実施例) 本発明のインクジェット記録ヘッドの製造方法は、熱硬
化性樹脂層を所要のパターンで複数回それぞれ所定の厚
さで積層成膜することにより、パターンの端の額縁状の
盛り上がりが防止できることを発見したもので、以下に
、その一実施例の工程を説明する。
(Example) In the method for manufacturing an inkjet recording head of the present invention, a thermosetting resin layer is laminated multiple times in a desired pattern to a predetermined thickness, thereby preventing frame-like bulges at the edges of the pattern. We have discovered that this can be done, and the process of one example will be described below.

■ ガラス、セラミック、Siウェハ等の基板の上にあ
らかじめ所望の材料で所望のパターンを形成し、その上
に熱硬化性樹脂のワニスをスピンコード、ロールコート
等の方法で塗布する。
(2) A desired pattern is formed in advance using a desired material on a substrate such as glass, ceramic, or Si wafer, and a thermosetting resin varnish is applied thereon by a method such as spin cord or roll coating.

■ ベーキングを行ない、熱硬化性樹脂ワニスを乾燥さ
せる。
■ Perform baking to dry the thermosetting resin varnish.

■ 所望のパターンに対応したマスクを介して熱硬化性
樹脂ワニスを露光する。
(2) Expose the thermosetting resin varnish through a mask corresponding to the desired pattern.

■ 熱硬化性樹脂ワニスに適した方法で現像を行ない、
所望のパターンを形成する。なお、感光性を有しない熱
硬化性樹脂を使用するときには、上記■の後、適当なレ
ジストを塗布してから露光、現像を行なう。
■ Develop using a method suitable for thermosetting resin varnish,
Form the desired pattern. When using a thermosetting resin that does not have photosensitivity, after step (1) above, a suitable resist is applied and then exposed and developed.

■ 適当な温度で適当な時間だけベーキングを行ない、
熱硬化性樹脂を硬化させる。
■ Baking is performed at an appropriate temperature for an appropriate time,
Curing the thermosetting resin.

■ さらに、その上に再び熱硬化性樹脂のワニスをスピ
ンコード・ロールコート等の方法で塗布する。
■Furthermore, a thermosetting resin varnish is applied thereon again using a method such as spin cord or roll coating.

■ ベーキングを行ない、熱硬化性樹脂ワニスを乾燥さ
せる。
■ Perform baking to dry the thermosetting resin varnish.

■ 上記■から■の工程を繰り返す。この場合露光パタ
ーンは、前工程のパターンに合わせ適当な寸法関係にな
るようにする。
■ Repeat the steps from ■ to ■ above. In this case, the exposure pattern is made to have an appropriate dimensional relationship in accordance with the pattern of the previous process.

■ この後、必要な回数だけ■から■の工程を繰り返す
■ After this, repeat steps from ■ to ■ as many times as necessary.

ただし、■の工程に関しては、必ずしも各層ごとに行な
う必要はなく、最後に1回行なえば良い場合もある。
However, regarding the step (2), it is not necessarily necessary to perform it for each layer, and it may be sufficient to perform it once at the end.

このようにして、得られた熱硬化性樹脂の層は、少なく
とも最上層における盛り上がりは、僅かなものとなり、
これに貼り合わせられる基板との密着性が良好なものと
なる。
In this way, the thermosetting resin layer obtained has a slight swell at least in the top layer,
This provides good adhesion to the substrate bonded thereto.

以下、図面を参照しつつ、より詳細に本発明の詳細な説
明する。
Hereinafter, the present invention will be explained in more detail with reference to the drawings.

第1図は、インクを加熱して気泡を発生させインク滴を
形成して記録を行なうタイプのインクジェット記録ヘッ
ドのビット部分に本発明を適用した実施例である。図中
、1はヒーター基板、2は抵抗体層、3aは個別電極、
3bは共通電極、41a、41b、42a、42bは熱
硬化性樹脂層、5.6は抵抗体保護層、7は電極保護層
、8は蓄熱層である。
FIG. 1 shows an embodiment in which the present invention is applied to a bit part of an inkjet recording head of a type that performs recording by heating ink to generate bubbles and forming ink droplets. In the figure, 1 is a heater substrate, 2 is a resistor layer, 3a is an individual electrode,
3b is a common electrode, 41a, 41b, 42a, and 42b are thermosetting resin layers, 5.6 is a resistor protection layer, 7 is an electrode protection layer, and 8 is a heat storage layer.

まず、Siウェハ、セラミック、ガラス等のヒーター基
板1上に、蓄熱層8を設け、抵抗体層2を蒸着、スパッ
タ等により着膜し、所望の形状にパターニングする。次
に、電極層を着膜し、パターニングして個別電極3a、
共通電極3bを形成する。さらに、抵抗体保護層5,6
を着膜し、パターニングする。次に、電極保護層7を着
膜し、パターニングした後、熱硬化性樹脂によりビット
層を形成する。ビット層の厚さは5〜100μm程度で
あり、より好ましくは20〜40μm程度である。
First, a heat storage layer 8 is provided on a heater substrate 1 made of a Si wafer, ceramic, glass, etc., and a resistor layer 2 is deposited by vapor deposition, sputtering, etc., and patterned into a desired shape. Next, an electrode layer is deposited and patterned to form individual electrodes 3a,
A common electrode 3b is formed. Furthermore, resistor protection layers 5 and 6
is deposited and patterned. Next, an electrode protective layer 7 is deposited and patterned, and then a bit layer is formed using a thermosetting resin. The thickness of the bit layer is about 5 to 100 μm, more preferably about 20 to 40 μm.

ビット層に適する具体的な市販の熱硬化性樹脂としては
、例えばPIMEL(登録商標)の06000 (旭化
成社製)、LITHOCOAT (登録商標)のPI−
400T、Pニー410 (宇部興産社製)、5ele
ctilux (登録商標)のHTR3−200(Ci
ba−Geigy社製)、Probimide (登録
商標)の337,348.349,412 (Ciba
−Geigy社製)、Photoneece (登録商
標)のUR3840、UR3600(東し社製)、Py
ralin(登録商標)のPI−2702D (Du 
−POnt社製)などの感光性ポリイミドワニスや、P
IQ−6700,PIQ−3200,PIX−3400
、PIX−3500,PIQ−3600゜PIX−81
03,PIX−8203(日立化成社製)Semico
fine (登録商標)の5p−480(東し社製)、
Pyralin (登録商標)のPI−2525,PI
−2611D、(Du−Pont社製)、LITHOC
OAT (登録商標)の5I−100,5I−110,
5I−500,5I−510(宇部興産社製)、Pro
bimide (登録向1111)の293 (Cib
a−Geigy社製)などのポリイミドワニスや、LI
THOCOAT (登録商標)(7)PA−100(宇
部興産社製)などの感光性ポリアミドワニスや、Pro
bimide (登録商標)の10.32 (Ciba
−Geigy社製)などのポリイミドアミドワニス等が
ある。
Specific commercially available thermosetting resins suitable for the bit layer include, for example, PIMEL (registered trademark) 06000 (manufactured by Asahi Kasei Corporation), LITHOCOAT (registered trademark) PI-
400T, P knee 410 (manufactured by Ube Industries), 5ele
ctilux® HTR3-200 (Ci
ba-Geigy), Probimide (registered trademark) 337,348.349,412 (Ciba
-Geigy), Photoneece (registered trademark) UR3840, UR3600 (Toshisha), Py
Ralin® PI-2702D (Du
- Photosensitive polyimide varnish such as POnt), P
IQ-6700, PIQ-3200, PIX-3400
, PIX-3500, PIQ-3600゜PIX-81
03, PIX-8203 (manufactured by Hitachi Chemical) Semico
fine (registered trademark) 5p-480 (manufactured by Toshisha),
Pyralin® PI-2525, PI
-2611D, (manufactured by Du-Pont), LITHOC
OAT (registered trademark) 5I-100, 5I-110,
5I-500, 5I-510 (manufactured by Ube Industries), Pro
bimide (registration direction 1111) 293 (Cib
Polyimide varnish such as a-Geigy), LI
Photosensitive polyamide varnish such as THOCOATS (registered trademark) (7) PA-100 (manufactured by Ube Industries, Ltd.) and Pro
bimide (registered trademark) 10.32 (Ciba
- Polyimide amide varnish such as Geigy Co., Ltd.).

この実施例では、感光性ポリイミドワニスであるPro
bimide (登録商標)の348などを用いて、ビ
ット層を2層で構成した場合についてその作製方法を説
明するが、用いる熱硬化性樹脂の種類等に応じて任意の
ものを用いることができることは言うまでもない。
In this example, the photosensitive polyimide varnish Pro
We will explain the manufacturing method for the case where the bit layer is composed of two layers using bimide (registered trademark) 348, etc. However, it is noted that any material can be used depending on the type of thermosetting resin used, etc. Needless to say.

まず、感光性ポリイミドワニスをスピンコード、ロール
コートなどの方法で塗布する。このときの塗布条件は、
熱処理後の収縮分と2層構成であることを考慮した上で
、必要とする厚さによって任意に選択される。なお、下
地材料との密着性を向上させるために感光性ポリイミド
ワニスを塗布する前に、アミノシラン系等の接着促進剤
を塗布しておいても良い。次に、必要に応じてプリベー
クを施す。プリベーク条件は、特に限定されるものでは
ないが、この実施例では110°C925分とした。プ
リベーク終了後、所望のパターンを有するマスクを介し
て露光を行なう。マスクの大きさは、目的とするビット
の開口より大きいものとした。露光量は、特に限定され
るものではないが、この実施例では、400mJ/cm
2 (波長365nm、405nm、436nmの総計
露光量)とした。(第1図(A)) 露光終了後、Probimide (登録商標)348
用の現像液QZ3301を用いて、未露光部の熱硬化性
樹脂層41bを溶解除去して、所望のパターンを形成す
る。(第1図(B))この後、必要に応じてProbi
mide (登録商標)348用のリンス液QZ331
1.QZ3312でリンスを行なう。
First, a photosensitive polyimide varnish is applied using a method such as spin cord or roll coating. The coating conditions at this time are:
The thickness is arbitrarily selected depending on the required thickness, taking into account the shrinkage after heat treatment and the two-layer structure. Note that an adhesion promoter such as aminosilane may be applied before applying the photosensitive polyimide varnish in order to improve the adhesion with the base material. Next, prebaking is performed as necessary. Prebaking conditions are not particularly limited, but in this example, they were set at 110°C for 925 minutes. After the prebaking is completed, exposure is performed through a mask having a desired pattern. The size of the mask was larger than the opening of the target bit. The exposure amount is not particularly limited, but in this example, it is 400 mJ/cm
2 (total exposure amount for wavelengths of 365 nm, 405 nm, and 436 nm). (Figure 1 (A)) After exposure, Probimide (registered trademark) 348
The unexposed portions of the thermosetting resin layer 41b are dissolved and removed using developer solution QZ3301 to form a desired pattern. (Figure 1 (B)) After this, Probi
Rinse liquid QZ331 for mide (registered trademark) 348
1. Rinse with QZ3312.

次に、再び前述したのと同様にして、Probimid
e (登録商標)348を塗布し、プリベークを行なう
。このとき2層目の熱硬化性樹脂層42bの表面には、
1層目の熱硬化性樹脂層41aによって形成されたパタ
ーンに対応しである程度の凹凸が形成される。(第1図
(C))一般的に、下地の凹凸を平坦化するために、ポ
リイミド等を使用したりするが、本実施例のように、下
地がおおむね5μm以上の凹凸を有する場合には、明ら
かに下地パターンに対応した凹凸が形成される。次に、
露光を行なう。この時使用するマスクは、1層目に使用
したマスクとは異なり、各非露光領域42bが、1層目
に使用のマスクに比べ、−回り小さくなっているものを
使用し、目的どするビット開口とほぼ同じ大きさのもの
とした。このマスクを1層目のパターンと位置合わせを
して露光する。(第1図(D)) 次に、前述のようにして、2層目の非露光部分42bを
溶解除去して、熱硬化性樹脂層42aによる所望のパタ
ーンを形成する。このようにして得られたパターンの断
面は、第1図(E)に示すように、角がとれ丸みを帯び
た形状となる。このような断面形状は、本実施例のよう
に複数層で形成することによって発生する表面の凹凸と
各未露光領域が下層に比べ上層の方が小さくなるように
したことによって、得られたものである。
Next, again as described above, Probimid
e Apply (registered trademark) 348 and pre-bake. At this time, on the surface of the second thermosetting resin layer 42b,
A certain degree of unevenness is formed corresponding to the pattern formed by the first thermosetting resin layer 41a. (Fig. 1 (C)) Generally, polyimide or the like is used to flatten the unevenness of the base, but when the base has irregularities of approximately 5 μm or more as in this example, , unevenness clearly corresponding to the underlying pattern is formed. next,
Perform exposure. The mask used at this time is different from the mask used for the first layer, in which each non-exposed area 42b is smaller than the mask used for the first layer. It was made to be approximately the same size as the opening. This mask is aligned with the first layer pattern and exposed. (FIG. 1(D)) Next, as described above, the non-exposed portion 42b of the second layer is dissolved and removed to form a desired pattern of the thermosetting resin layer 42a. The cross section of the pattern thus obtained has a rounded shape with rounded corners, as shown in FIG. 1(E). Such a cross-sectional shape was obtained by making the surface unevenness caused by forming multiple layers as in this example and by making each unexposed area smaller in the upper layer than in the lower layer. It is.

最後に、熱処理によって熱硬化性樹脂層41a。Finally, the thermosetting resin layer 41a is formed by heat treatment.

42aを硬化させる。熱処理条件は、特に限定されるも
のではないが、この実施例では、真空中で室温から40
00Cまで3時間で昇温し、400℃で2時間加熱した
後、室温までゆっくりと降温した。この後断面形状を観
察したところ、通常の方法で作製し熱処理前の断面が第
6図(A)のような形状を持つものでは、2層の合計膜
厚が約40μmの時、熱処理後の断面形状が、パターン
の端で約10μm程度(第6図(B)のh)盛り上がっ
ているのに対して、この実施例によって作製されたもの
では、約0.5μmとなっていた。(第1図(F)) 二のように、パターンの端での盛り上がりは、熱処理前
のパターンの端の断面形状に大きく依存しており、本実
施例のように、断面形状の角を落としたものでは、熱処
理時の膜収縮による歪みが発生せず、後述するヒーター
基板と、チャンネル基板との接着工程において障害とな
るような盛り上がりは全く発生しない。
42a is cured. The heat treatment conditions are not particularly limited, but in this example, heat treatment conditions range from room temperature to 40°C in vacuum.
The temperature was raised to 00C over 3 hours, heated at 400C for 2 hours, and then slowly lowered to room temperature. When we observed the cross-sectional shape after the heat treatment, we found that in the case where the cross-section before heat treatment was made by the usual method and had the shape as shown in Figure 6(A), when the total thickness of the two layers was approximately 40 μm, the shape after heat treatment was While the cross-sectional shape was raised by about 10 μm at the edge of the pattern (h in FIG. 6(B)), the cross-sectional shape was raised by about 0.5 μm in the case of this example. (Fig. 1 (F)) As shown in 2, the swelling at the edge of the pattern largely depends on the cross-sectional shape of the edge of the pattern before heat treatment. In this case, distortion due to film shrinkage during heat treatment does not occur, and no swelling occurs that would be an obstacle in the bonding process between the heater substrate and the channel substrate, which will be described later.

こうして作製されたヒーター基板1と、別工程によりイ
ンク流路を形成するためのノズル10とインク溜(図示
せず)、およびインク供給口12が設けられているチャ
ンネル基板9を張り合わせた後、ダイシング工程により
切り出すことによって第4図に示すようなインクジェッ
ト記録ヘッドが作製される。
After the heater substrate 1 thus produced and the channel substrate 9 on which the nozzle 10 and ink reservoir (not shown) and ink supply port 12 for forming an ink flow path are attached are attached in a separate process, dicing is performed. An inkjet recording head as shown in FIG. 4 is manufactured by cutting out the inkjet recording head according to the process.

第2図は、本発明のインクジェット記録ヘッドの製造方
法の他の実施例を説明するための工程図である。熱硬化
性樹脂層の作製条件は、第1図で説明したものと同様で
あるので、その説明は省略し、特に、熱硬化性樹脂のパ
ターニングについて説明する。また、第1図と同様な部
分は、同じ符号を付して説明を省略する。
FIG. 2 is a process diagram for explaining another embodiment of the method for manufacturing an inkjet recording head of the present invention. The conditions for producing the thermosetting resin layer are the same as those explained in FIG. 1, so the explanation thereof will be omitted, and in particular, the patterning of the thermosetting resin will be explained. Further, the same parts as in FIG. 1 are given the same reference numerals and the description thereof will be omitted.

熱硬化性樹脂は、第1図と同様に、Probimici
e (登録商標)の348を使用した。
As in FIG. 1, the thermosetting resin is Probimici
e (registered trademark) 348 was used.

まず、第1図(A)で説明した工程と同様の工程によっ
て、各層を形成した後、1層目の熱硬化性樹脂層として
Probimide (登録商標)348を塗布、プリ
ベーク、露光、現像することにより、熱硬化性樹脂層4
1aが形成される。この場合、未露光部分を形成するた
めのマスクは、目的とするビットの開口とほぼ同じ大き
さのものであり、第1図(A)で説明したものより小さ
いものを用いた。(第2図(A)) 次に、2層目の熱硬化性樹脂層42bとして、同様にP
robimide (登録商標)348を塗布し、プリ
ベークして(第2図(B))、露光を行なう。この露光
に使用するマスクは、1層目のマスクとは異なり、未露
光領域が1層目に使用のマスクに比べて1回り大きくな
っているものを使用し、1層目のパターンと位置合わせ
をして露光する。(第2図(C)) 次に、現像を行ない、未露光部分42bを溶解除去して
、2層目の熱硬化性樹脂層42aを形成する。(第2図
(D)) このようにして得られた2層目の熱硬化性樹脂層42a
のよるパターンの断面は、第2図(D)に示すように、
その端部は角がとれ、丸みを帯びた形状となる。このよ
うな断面形状は、この実施例のように、複数層を形成す
ることによって発生する表面の凹凸と、各未露光領域が
下層に比べ上層の方が後退していることによって、得ら
れたものである。
First, each layer is formed by a process similar to that described in FIG. 1(A), and then Probimide (registered trademark) 348 is applied as the first thermosetting resin layer, prebaked, exposed, and developed. Accordingly, the thermosetting resin layer 4
1a is formed. In this case, the mask used to form the unexposed portions had approximately the same size as the opening of the intended bit, and was smaller than that described with reference to FIG. 1(A). (FIG. 2(A)) Next, as the second thermosetting resin layer 42b, P
Robimide (registered trademark) 348 is applied, prebaked (FIG. 2(B)), and exposed. The mask used for this exposure is different from the first layer mask, and the unexposed area is one size larger than the mask used for the first layer, and it is aligned with the first layer pattern. and expose. (FIG. 2(C)) Next, development is performed to dissolve and remove the unexposed portion 42b, thereby forming a second thermosetting resin layer 42a. (FIG. 2(D)) The second thermosetting resin layer 42a obtained in this way
The cross section of the pattern is as shown in Figure 2(D).
Its edges are rounded and have a rounded shape. Such a cross-sectional shape was obtained due to the unevenness of the surface caused by forming multiple layers as in this example, and the fact that each unexposed area is set back in the upper layer compared to the lower layer. It is something.

最後に、実施例1と同様にして熱処理によって熱硬化性
樹脂層41a、42aを硬化させる。(第5図(E)) 得られたビット層の断面形状を観察したところ、2層の
合計膜厚が約40μmのとき、盛り上がりは、約0.5
μmとなっており、ヒーター基板と、チャンネル基板と
の接着工程において障害となるような盛り上がりは全く
発生しなかった。
Finally, the thermosetting resin layers 41a and 42a are cured by heat treatment in the same manner as in Example 1. (Fig. 5 (E)) When the cross-sectional shape of the obtained bit layer was observed, it was found that when the total thickness of the two layers was about 40 μm, the bulge was about 0.5 μm.
.mu.m, and no protrusions that would be a hindrance in the bonding process between the heater substrate and the channel substrate occurred.

第3図は、本発明のインクジェット記録ヘッドの製造方
法の他の実施例を説明するための工程図である。熱硬化
性樹脂層の作製条件は、第1図で説明したものと同様で
あるので、その説明は省略し、特に、熱硬化性樹脂のパ
ターニングについて説明する。また、第1図と同様な部
分は、同じ符号を付して説明を省略する。
FIG. 3 is a process diagram for explaining another embodiment of the method for manufacturing an inkjet recording head of the present invention. The conditions for producing the thermosetting resin layer are the same as those explained in FIG. 1, so the explanation thereof will be omitted, and in particular, the patterning of the thermosetting resin will be explained. Further, the same parts as in FIG. 1 are given the same reference numerals and the description thereof will be omitted.

熱硬化性樹脂は、第1図で説明したと同様に、Prob
imide (登録商標)の348を使用した。
As explained in FIG. 1, the thermosetting resin is Prob.
Imide (registered trademark) 348 was used.

まず、第1図(A)(B)で説明した工程と全く同様に
して、各層を形成した後、1層目のProbimide
 (登録商標)348を塗布、プリベーク、露光、現像
するが、未露光部分のマスクは、第2図(A)で説明し
たと同様に、目的とするビットの開口とほぼ同じ大きさ
のものを用いた。
First, after forming each layer in exactly the same manner as the steps explained in FIGS. 1(A) and (B), the first layer of Probimide
(registered trademark) 348 is coated, prebaked, exposed, and developed, but the mask for the unexposed area is approximately the same size as the opening of the target bit, as explained in Fig. 2 (A). Using.

それにより、1層目の熱硬化性樹脂層41aが形成でき
る。(第2図(A)) 次いで、熱処理を行ない熱硬化性樹脂層41aを硬化さ
せる。熱処理条件は、第1図で説明したものと同様であ
る。熱硬化後の熱硬化性樹脂層41aの厚さは約18μ
mで、パターンの端での盛り上がり量は約2μmであっ
た。(第3図(A))次いで、再び、熱硬化性樹脂層4
2bとして、Probimide (登録商標)348
をスピンコードし、プリベークを行なう。
Thereby, the first thermosetting resin layer 41a can be formed. (FIG. 2(A)) Next, heat treatment is performed to harden the thermosetting resin layer 41a. The heat treatment conditions are the same as those described in FIG. The thickness of the thermosetting resin layer 41a after thermosetting is approximately 18μ.
m, and the amount of swelling at the edge of the pattern was about 2 μm. (FIG. 3(A)) Then, again, the thermosetting resin layer 4
2b, Probimide® 348
Spin code and pre-bake.

スピンコードの条件は、プリベーク後の熱硬化性樹脂層
42bの厚さが約4μmとなるように設定した。プリベ
ーク後の熱硬化性樹脂層42bの表面を調べたところ、
1層目の熱硬化性樹脂層42aのパターンに対応して凹
凸が形成されていたが、パターンの端での盛り上がりは
、2層目の熱硬化性樹脂層42bの平坦化作用によって
吸収され、観測されなかった。(第3図(B))次に。
The spin code conditions were set so that the thickness of the thermosetting resin layer 42b after prebaking was approximately 4 μm. When the surface of the thermosetting resin layer 42b after prebaking was examined, it was found that
Although irregularities were formed corresponding to the pattern of the first thermosetting resin layer 42a, the bulges at the edges of the pattern were absorbed by the flattening effect of the second thermosetting resin layer 42b. Not observed. (Figure 3 (B)) Next.

露光を行なう。このときのマスクは、第1図、第2図で
説明したように、未露光領域の大きさが1層目と2層目
で異なっているものでも良いし、もしくは、ここで説明
するように、1層目と全く同様のものでも差し支えない
。ここでは、1層目のパターンと位置合わせをして、1
層目と同一条件で露光した。(第3図(C))次いで、
1層目の熱硬化性樹脂層と同様に現像、リンス、熱処理
を行なう。
Perform exposure. The mask at this time may be one in which the size of the unexposed area is different between the first layer and the second layer, as explained in FIGS. , it may be exactly the same as the first layer. Here, align with the pattern of the first layer, and
It was exposed under the same conditions as the layers. (Figure 3(C)) Then,
Development, rinsing, and heat treatment are performed in the same manner as for the first thermosetting resin layer.

このようにして形成された熱硬化性樹脂層41a、41
bを観察したところ、膜厚は約20μmで、パターンの
端部の盛り上がりは約0.5μmであり(第3図(D)
)、この程度の盛り上がりでは、ヒーター基板と、チャ
ンネル基板との接着工程において障害にはならなかった
。このようにパターンの端部での盛り上がりがなくなっ
た理由は、1層目の熱硬化性樹脂層41aのパターンの
端部での盛り上がりは、上述したように、2層目の熱硬
化性樹脂層42bの平坦化作用によって吸収され、2回
目の熱処理時の熱収縮は、厚さが約4μmである2層目
の熱硬化性樹脂層42aだけにしか生じないので、2層
あわせて20μm程度の厚さを有するにもかかわらず、
パターンの端部での盛り上がりは、膜厚4μmの場合と
同程度にしか生じないためである。
Thermosetting resin layers 41a, 41 formed in this way
When we observed B, we found that the film thickness was about 20 μm, and the protrusion at the edge of the pattern was about 0.5 μm (Figure 3 (D)).
), this level of swelling did not pose an obstacle in the bonding process between the heater substrate and the channel substrate. The reason why the swells at the ends of the pattern disappear in this way is that the swells at the ends of the pattern of the first thermosetting resin layer 41a are different from those of the second thermosetting resin layer 41a. 42b, and the heat shrinkage during the second heat treatment occurs only in the second thermosetting resin layer 42a, which has a thickness of about 4 μm. Despite its thickness,
This is because the swelling at the end of the pattern occurs only to the same extent as in the case of a film thickness of 4 μm.

熱処理後のパターンの端部での盛り上がりは、第1図、
第2図で説明したように、熱処理前の断面形状に依存す
るが、そればかりではなく、熱硬化性樹脂層の厚さにも
依存する。したがって、熱処理を行なった熱硬化性樹脂
層の上に、薄い熱硬化性樹脂層を設けて、再度の熱処理
を行なうことによって、パターン端部での盛り上がりを
充分小さいものとすることができる。
The swelling at the edge of the pattern after heat treatment is shown in Figure 1.
As explained in FIG. 2, it depends not only on the cross-sectional shape before heat treatment, but also on the thickness of the thermosetting resin layer. Therefore, by providing a thin thermosetting resin layer on the heat-treated thermosetting resin layer and performing heat treatment again, the swelling at the pattern ends can be made sufficiently small.

したがって、経験的にいえば、熱処理を行なう熱硬化性
樹脂層樹脂の厚さが5μm以下であれば、ヒーター基板
と、チャンネル基板との接着工程において障害となるよ
うな盛り上がりは発生しないということができる。しか
し、ビット層の厚さは、20μm以上であることが好ま
しいがら、単層でこれを得ようとすると、前述の接着工
程で障害となるパターンの端での盛り上がりが発生する
ことは避けられない。ところが、この実施例のように、
熱硬化性樹脂層を複数層で構成することにより、この盛
り上がりを避けることができる。
Therefore, empirically speaking, if the thickness of the thermosetting resin layer resin to be heat-treated is 5 μm or less, no swelling will occur that will hinder the bonding process between the heater substrate and the channel substrate. can. However, although the thickness of the bit layer is preferably 20 μm or more, if you try to obtain this with a single layer, it is inevitable that swelling will occur at the edge of the pattern, which will be an obstacle in the above-mentioned bonding process. . However, as in this example,
By configuring the thermosetting resin layer with multiple layers, this swelling can be avoided.

以上説明した実施例は、いずれも熱硬化性樹脂層が2層
構成の場合について説明したが、必ずしも2層に限られ
るものではなく、3層以上で構成しても、上述した実施
例と全く同じ効果が得られる。また、熱硬化性樹脂層の
形成をビット層について説明したが、これに限られるも
のではなく、インク吐出ノズルや、それに通じるインク
流路等インクに接する部分の少なくとも一部を熱硬化性
樹脂層で形成する場合に、本発明が広く適用できるもの
であることは明らかなところである。
In each of the embodiments described above, the thermosetting resin layer has a two-layer structure, but it is not necessarily limited to two layers, and even if it has three or more layers, it is completely different from the above embodiment You can get the same effect. In addition, although the formation of the thermosetting resin layer has been described with respect to the bit layer, it is not limited to this, and at least a part of the parts that come into contact with ink, such as the ink ejection nozzle and the ink flow path leading thereto, are formed using the thermosetting resin layer. It is clear that the present invention can be widely applied to the case where the structure is formed using:

(発明の効果) 以上の説明から明らかなように、本発明によれば、熱硬
化性樹脂層を複数層で構成することによって、熱硬化性
樹脂層のパターンの端部に額縁状に発生する盛り上がり
をなくすことができ、熱硬化性樹脂層と天板や溝付き基
板等との密着性が向上し、歩留まりが大幅に向上すると
ともに、インクの吐出耐久性に優れた信頼性の高いイン
クジェット記録ヘッドを提供することができる効果があ
る。
(Effects of the Invention) As is clear from the above description, according to the present invention, by configuring the thermosetting resin layer with a plurality of layers, a frame-like shape is generated at the end of the pattern of the thermosetting resin layer. Eliminates swelling, improves adhesion between the thermosetting resin layer and top plate, grooved substrate, etc., significantly improves yield, and provides highly reliable inkjet recording with excellent ink ejection durability. There is an effect that can provide the head.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図乃至第3図は、本発明のインクジェット記録ヘッ
ドの製造方法の異なる実施例を説明するための工程図、
第4図、第5図は、熱硬化性樹脂層を用いいたインクジ
ェット記録ヘッドの概略構成図、第6図、第7図は、熱
硬化性樹脂層の硬化状態の説明図である。 1・・・ヒーター基板、2・・・抵抗体層、3a・・・
個別電極、3b・・・共通電極、41a、41b、42
a。 42b・・・熱硬化性樹脂層、5,6・・・抵抗体保護
層、7・・・電極保護層、8・・・蓄熱層。 特許出願人 富士ゼロックス株式会社
1 to 3 are process diagrams for explaining different embodiments of the method for manufacturing an inkjet recording head of the present invention,
4 and 5 are schematic configuration diagrams of an inkjet recording head using a thermosetting resin layer, and FIGS. 6 and 7 are explanatory diagrams of the cured state of the thermosetting resin layer. 1... Heater board, 2... Resistor layer, 3a...
Individual electrode, 3b... common electrode, 41a, 41b, 42
a. 42b...Thermosetting resin layer, 5, 6... Resistor protection layer, 7... Electrode protection layer, 8... Heat storage layer. Patent applicant Fuji Xerox Co., Ltd.

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)熱硬化性樹脂層でインク流路の少なくとも一部を
形成した基板と、該基板に貼り合わされる基板とにより
構成されるインクジェット記録ヘッドの製造方法におい
て、前記熱硬化性樹脂層を複数層パターニングして重ね
合わせて形成することを特徴とするインクジェット記録
ヘッドの製造方法。
(1) A method for manufacturing an inkjet recording head comprising a substrate on which at least a part of an ink flow path is formed with a thermosetting resin layer, and a substrate bonded to the substrate, in which a plurality of the thermosetting resin layers are formed. A method for manufacturing an inkjet recording head characterized by forming layers by patterning and overlapping them.
(2)複数層の熱硬化性樹脂層を重ね合わせて形成する
に際して、下層をパターニングした後、その上の層を下
層より大きくパターニングすることを特徴とする請求項
第1項に記載のインクジェット記録ヘッドの製造方法。
(2) Inkjet recording according to claim 1, characterized in that when forming a plurality of thermosetting resin layers by overlapping each other, the lower layer is patterned, and then the upper layer is patterned larger than the lower layer. Head manufacturing method.
(3)複数層の熱硬化性樹脂層を重ね合わせて形成する
に際して、下層をパターニングした後、その上の層を下
層より小さくパターニングすることを特徴とする請求項
第1項に記載のインクジェット記録ヘッドの製造方法。
(3) Inkjet recording according to claim 1, characterized in that when forming a plurality of thermosetting resin layers by overlapping each other, the lower layer is patterned, and then the upper layer is patterned to be smaller than the lower layer. Head manufacturing method.
(4)複数層の熱硬化性樹脂層を重ね合わせて形成する
に際して、下層をパターニングし、硬化させた後、その
上の層を下層より薄く形成してパターニングすることを
特徴とする請求項第1項に記載のインクジェット記録ヘ
ッドの製造方法。
(4) When forming a plurality of thermosetting resin layers by overlapping each other, the lower layer is patterned and cured, and then the upper layer is formed thinner than the lower layer and patterned. A method for manufacturing an inkjet recording head according to item 1.
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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5375326A (en) * 1992-02-06 1994-12-27 Seiko Epson Corporation Method of manufacturing ink jet head

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