JPH0415618A - Variable aperture device - Google Patents

Variable aperture device

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JPH0415618A
JPH0415618A JP2119173A JP11917390A JPH0415618A JP H0415618 A JPH0415618 A JP H0415618A JP 2119173 A JP2119173 A JP 2119173A JP 11917390 A JP11917390 A JP 11917390A JP H0415618 A JPH0415618 A JP H0415618A
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JP
Japan
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variable aperture
aperture element
variable
transparent substrate
grooves
Prior art date
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Pending
Application number
JP2119173A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Takashi Shibakuchi
芝口 孝
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Ricoh Co Ltd
Original Assignee
Ricoh Co Ltd
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Filing date
Publication date
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Publication of JPH0415618A publication Critical patent/JPH0415618A/en
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  • Laser Beam Printer (AREA)
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Abstract

PURPOSE:To make grooves for the formation of aperture elements deep to the inside of a transparent substrate, to make the capacity between the aperture elements, and to prevent the generation of crosstalk by adhering an electrooptic medium which constitutes a variable aperture element and the transparent substrate in one body with an optical adhesive. CONSTITUTION:The electrooptic medium 103 which constitutes the variable aperture element 1' and the transparent substrate 102 are adhered together in one body by using the optical adhesive 104. When the grooves 105 and 107 - 109 are formed in the electrooptic medium 103 to partition the electrooptic medium 103 into plural aperture elements 101, the grooves 105 and 107 - 109 can be made deep to the inside of the transparent substrate 102. Consequently, the capacity between adjacent aperture elements can be made small and the variable aperture device equipped with the variable aperture element 1' having such structure that no crosstalk is generated and the capacitor capacity is small can be realized.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、レーザープリンタや、デジタル複写機等の光
記録装置の記録光学系に使用される可変アパーチャ装置
に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a variable aperture device used in a recording optical system of an optical recording device such as a laser printer or a digital copying machine.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

近年、レーザープリンタや、デジタル複写機、デジタル
ファクシミリ等、デジタル情報により変調されたレーザ
ービームで感光体等の像形成手段上を走査し、像形成手
段上に形成された画像を現像した後、紙などに転写して
情報の記録を行う光記録装置が開発されている。
In recent years, laser printers, digital copying machines, digital facsimiles, etc. scan an image forming means such as a photoreceptor with a laser beam modulated by digital information, develop the image formed on the image forming means, and then print it on paper. Optical recording devices have been developed that record information by transferring the information to, for example, a recording medium.

このような光記録装置においては、記録情報を高精度化
するために、多階調記録等の実現も要求され、1画素に
相当するドツトサイズを変化させる手段が必要となる。
In such an optical recording device, in order to improve the accuracy of recorded information, it is also required to realize multi-gradation recording, and a means for changing the dot size corresponding to one pixel is required.

このドツトサイズを変化させる手段の一つとして、可変
アパーチャ素子(空間光変調素子)を用いることが考え
られるが、この可変アパーチャ素子としては、例えば、
PLZT電気光学結晶の面にすだれ状電極を形成し、各
々のビットを独立制御して光のON、OFFを行い光透
過量を制御するものが知られており、ビットサイズ0.
125X6.5ml1lで、270μmピッチで100
ビツトを並べたもの等がある(例えば1文献”P L 
Z T 5patial lightmodulato
r for a 1−D hologram mea+
ory”:Applied0ptics Vol、19
.No1(1980)参照)。
One possible means of changing this dot size is to use a variable aperture element (spatial light modulation element), but as this variable aperture element, for example,
It is known to form interdigital electrodes on the surface of a PLZT electro-optic crystal and independently control each bit to turn on and off the light to control the amount of light transmission.
125 x 6.5 ml 1 liter, 100 at 270 μm pitch
There are things in which bits are arranged (for example, 1 document "P L
Z T 5patial light modulato
r for a 1-D hologram mea+
ory”: Applied0ptics Vol, 19
.. No. 1 (1980)).

〔発明が解決しようとする課題〕[Problem to be solved by the invention]

ところで、前記文献に記載された技術の欠点としては、
素子の応答速度が立上り30μsec、立下り8μSe
cと遅い点にある。
By the way, the drawbacks of the technology described in the above literature are as follows:
The response speed of the element is 30μsec for rising and 8μsec for falling.
It is at the slow point c.

この原因は、ビットサイズが0.125X6.5mmと
大きく、引き出し用のリード電極も長くなっているため
、コンデンサー容量が大きくなっていることにある。ま
た、平面電極構成になっているため。
The reason for this is that the bit size is large at 0.125 x 6.5 mm and the lead electrode for extraction is also long, resulting in a large capacitance of the capacitor. Also, because it has a planar electrode configuration.

駆動電圧が高いこと、隣接する電極間容iによるクロス
トークが発生する等である。
The driving voltage is high, and crosstalk occurs due to the capacitance i between adjacent electrodes.

本発明は上記技術課題を解決するためになされたもので
あり9、その目的とするところは、第】に応答速度の速
い可変アパーチャ素子を備えた可変アパーチャ装置を実
現することであり、言い換えると、コンデンサー容量が
小さくなるような構造を持つ可変アパーチャ素子を備え
た可変アパーチャ装置の実現である。また、第2は駆動
電圧の低い可変アパーチャ装置の実現であり、第3はク
ロストークの無い可変アパーチャ装置の実現である。
The present invention has been made in order to solve the above-mentioned technical problems9, and its first objective is to realize a variable aperture device equipped with a variable aperture element having a fast response speed. This is the realization of a variable aperture device equipped with a variable aperture element having a structure that reduces the capacitance of the capacitor. The second goal is to realize a variable aperture device with low driving voltage, and the third goal is to realize a variable aperture device without crosstalk.

〔課題を解決するための手段〕[Means to solve the problem]

上記目的を達成するため、本発明による可変アパーチャ
装置は、電気光学媒体と透明基板を光学接着剤で接着す
ると共に上記電気光学媒体に溝を形成してなり、その溝
によって仕切られた複数の光透過領域がアパーチャエレ
メントとして機能する可変アパーチャ素子と、該可変ア
パーチャ素子の各々のアパーチャエレメントに形成され
た電極と、可変アパーチャ素子の各アパーチャエレメン
トを駆動するための記動用集積回路と、該集積回路と各
アパーチャエレメントを接続する回路とを基板上に実装
してなることを特徴とする。
In order to achieve the above object, a variable aperture device according to the present invention is constructed by bonding an electro-optic medium and a transparent substrate with an optical adhesive and forming a groove in the electro-optic medium, and a plurality of light beams partitioned by the groove. A variable aperture element whose transmission region functions as an aperture element, an electrode formed on each aperture element of the variable aperture element, a recording integrated circuit for driving each aperture element of the variable aperture element, and the integrated circuit. and a circuit for connecting each aperture element are mounted on a substrate.

〔作  用〕[For production]

本発明による可変アパーチャ装置では、可変アパーチャ
素子を構成する電気光学媒体と透明基板を光学接着剤で
接着一体化しているので、電気光学媒体に溝を形成して
この溝により電気光学媒体を仕切って複数のアパーチャ
エレメントを形成するときに、溝を透明基板内まで深く
することができ、これにより、隣接するアパーチャエレ
メント間の容量を小さくすることができ、コンデンサ容
量が小さくなるような構造を持つ可変アパーチャ素子を
備えた可変アパーチャ装置が実現される。
In the variable aperture device according to the present invention, since the electro-optic medium constituting the variable aperture element and the transparent substrate are bonded together with an optical adhesive, grooves are formed in the electro-optic medium and the electro-optic medium is partitioned by the grooves. When forming multiple aperture elements, the grooves can be deepened into the transparent substrate, which can reduce the capacitance between adjacent aperture elements, resulting in a variable capacitor with a structure that reduces the capacitance. A variable aperture device with an aperture element is realized.

〔実 施 例〕〔Example〕

以下、本発明の実施例について図面を参照して詳細に説
明する。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

第1図(a)、(b)は本発明による可変アパーチャ装
置の一実施例を示す概略的構成図であり、同図(a)は
光軸に直交する方向から見た側面図、同図(b)は光軸
方向から見た平面図である。
FIGS. 1(a) and 1(b) are schematic configuration diagrams showing one embodiment of a variable aperture device according to the present invention, and FIG. 1(a) is a side view seen from a direction perpendicular to the optical axis; (b) is a plan view seen from the optical axis direction.

第1図(a)、(b)において、可変アパーチャ装置1
は、レーザ光r透過領域に開口部を持つセラミック基板
2にアパーチャ素子1′を接着剤、合金等で固定したも
のであり、セラミック基板2には配線パターンが印刷さ
れ、且つ駆動用集積回路6゜7が実装されている。可変
アパーチャ素子1′の各々のアパーチャエレメント(後
述する)の電極リード端子と、セラミック基板2上の配
線パターンとはボンディングワイヤー5により接続され
ており、恥動用隼積回路6,7によって各アパーチャエ
レメントが0N−OFF訃動されるようになっている。
In FIGS. 1(a) and 1(b), variable aperture device 1
The aperture element 1' is fixed with an adhesive, an alloy, etc. to a ceramic substrate 2 having an opening in the laser beam r transmission area, and a wiring pattern is printed on the ceramic substrate 2, and a driving integrated circuit 6 is attached.゜7 has been implemented. The electrode lead terminal of each aperture element (described later) of the variable aperture element 1' is connected to the wiring pattern on the ceramic substrate 2 by a bonding wire 5, and each aperture element is is turned ON-OFF.

尚、第1図に示すように、可変アパーチャ装置1の前後
には偏光子3及び検光子4が直交位に配置される。
Note that, as shown in FIG. 1, a polarizer 3 and an analyzer 4 are arranged at right angles before and after the variable aperture device 1.

次に、可変アパーチャ装置1の可変アパーチャ素子1′
の構成をさらに詳しく説明する。
Next, variable aperture element 1' of variable aperture device 1
The configuration will be explained in more detail.

第2図(a)、(b)、(c)は可変アパーチャ素子1
′の構造を示す図であフて、同図(a)、(c)は光軸
に直交する2方向から見たときの側面図、(b)は光軸
方向から見たときの図である。
FIGS. 2(a), (b), and (c) show variable aperture element 1.
Figures (a) and (c) are side views when viewed from two directions perpendicular to the optical axis, and (b) is a diagram when viewed from the optical axis direction. be.

第2図(a)、(b)、(c)において、可変アパーチ
ャ素子1′は電気光学媒体103と透明基板102を光
学接着剤104で接着すると共に上記電気光学媒体10
3に溝105.107.108.109を形成してなり
In FIGS. 2(a), (b), and (c), the variable aperture element 1' is bonded to an electro-optic medium 103 and a transparent substrate 102 with an optical adhesive 104, and the electro-optic medium 10
Grooves 105, 107, 108, and 109 are formed in 3.

この各溝105.107.108.109によって仕切
られた複数の光透過領域がアパーチャエレメント101
として機能する構成となっている。
A plurality of light transmitting regions partitioned by each groove 105, 107, 108, 109 are an aperture element 101.
It is configured to function as

より具体的には、先ず、電気光学媒体103としてPL
ZT電気光学結晶を用い、PLZT電気光学結晶103
と透明基板102を透明な光学接着剤104で一体化す
る。ここで、透明基板102としてはガラスを使用する
が、動作時に発生する熱を効率よく放散するためには、
より熱伝導率のよい透明基板を使用することになり、こ
の場合には、例えばサファイア基板等が使用される。
More specifically, first, PL is used as the electro-optic medium 103.
Using ZT electro-optic crystal, PLZT electro-optic crystal 103
and a transparent substrate 102 are integrated with a transparent optical adhesive 104. Here, glass is used as the transparent substrate 102, but in order to efficiently dissipate the heat generated during operation,
A transparent substrate with better thermal conductivity is used, and in this case, for example, a sapphire substrate is used.

次に、PLZTt気光学結晶103に溝を切って複数の
角柱状の突起部(光透過領域)を形成して、アパーチャ
エレメント101とするが、この角柱の大きさは、50
μmX50μmX100μm程度のものであり、その角
柱の側壁には電極106が形成される。
Next, grooves are cut in the PLZTt pneumatic crystal 103 to form a plurality of prismatic protrusions (light transmitting regions) to form the aperture element 101.
The size is approximately μm×50 μm×100 μm, and electrodes 106 are formed on the side walls of the prism.

この各々の角柱状突起は、ダイシングソウ(ダイヤモン
ドカッター)により形成された溝108及び溝109に
より複数個に切り離されている。尚、溝108は電気光
学結晶103内にとどまり、溝109は電気光学結晶1
03を突き抜けて透明基板102内まで達するようにな
っている。
Each of these prismatic projections is cut into a plurality of pieces by grooves 108 and grooves 109 formed by a dicing saw (diamond cutter). Note that the groove 108 remains within the electro-optic crystal 103, and the groove 109 remains within the electro-optic crystal 1.
03 and reaches inside the transparent substrate 102.

次に、この可変アパーチャ素子の製作工程をより詳しく
説明する。
Next, the manufacturing process of this variable aperture element will be explained in more detail.

先ず、両面が光学研磨された厚さ300μmのPLZT
電気光学結晶103と透明基板102を紫外線硬化型透
明接着剤で接着一体化し、電気光学結晶103の他方の
面に約200μmの深さの溝105.107をダイシン
グソウで形成する。そして溝105.107の間に光透
過領域が50μmの幅で線路状に突起して残るようにす
る。尚、溝105.107の幅は1mm以上にするか、
または光透過領域を残して結晶全面にわたってもよい。
First, 300 μm thick PLZT with optical polishing on both sides.
The electro-optic crystal 103 and the transparent substrate 102 are bonded together with an ultraviolet curable transparent adhesive, and grooves 105 and 107 with a depth of about 200 μm are formed on the other surface of the electro-optic crystal 103 using a dicing saw. Then, a light transmitting area is left between the grooves 105 and 107, protruding in the shape of a line with a width of 50 μm. In addition, the width of grooves 105 and 107 should be 1 mm or more, or
Alternatively, it may cover the entire surface of the crystal, leaving a light transmitting region.

この状態で、線路状に突起した光透過領域の側壁から溝
105.107にかけて、アルミニウムの電極膜106
をスパッタ等により形成する。そして、電極膜106の
形成後、溝105.107と直交する方向に深さ250
μm、溝幅50μmの溝108を100μmピッチで複
数本掘り、1!極を分離すると共に前述したように複数
の角柱状の突起部を形成し、アパーチャエレメント10
1を形成する。そして、さらに溝@20μmの溝109
を100μmピンチで透明基板内に50μmの深さまで
達するように掘る。この溝109はアパーチャエレメン
ト101相互のクロストークを防止するためのものであ
る。
In this state, the aluminum electrode film 106 extends from the side wall of the light transmitting region protruding like a line to the groove 105, 107.
is formed by sputtering or the like. After forming the electrode film 106, a depth of 250 mm is formed in the direction perpendicular to the grooves 105 and 107.
Dig multiple grooves 108 with a groove width of 50 μm at a pitch of 100 μm, 1! In addition to separating the poles, a plurality of prismatic protrusions are formed as described above, and the aperture element 10
Form 1. Then, a further groove @20 μm groove 109
Dig into the transparent substrate with a 100 μm pinch to a depth of 50 μm. This groove 109 is for preventing crosstalk between the aperture elements 101.

さて、以上のようにして、光のON、OFF領域である
アパーチャエレメント101 を複数個列状に備えたア
パーチャ素子1′が形成される。
Now, as described above, an aperture element 1' having a plurality of aperture elements 101, which are light ON/OFF regions, arranged in a row is formed.

次に、上記可変アパーチャ素子1′を備えた本発明によ
る可変アパーチャ装置1の動作について説明する。
Next, the operation of the variable aperture device 1 according to the present invention including the variable aperture element 1' will be described.

第3図は第1図に示す構成の可変アパーチャ装置1の動
作原理を示したもので、偏光子3.検光子4は互いに直
交関係にあり、可変アパーチャ素子1′に印加する電界
方向と45°の角度に設定されている。また、第3図で
は、入射光として平行レーザービームを入射したときの
出射パターンの一例を示しである。尚、この例では、中
心にある3個のアパーチャエレメント101が光透過状
態にあり、残りの4個のアパーチャエレメント101が
光遮断状態にある。
FIG. 3 shows the operating principle of the variable aperture device 1 having the configuration shown in FIG. 1, in which the polarizer 3. The analyzers 4 are orthogonal to each other and set at an angle of 45° with respect to the direction of the electric field applied to the variable aperture element 1'. Further, FIG. 3 shows an example of an output pattern when a parallel laser beam is input as incident light. In this example, the three central aperture elements 101 are in a light transmitting state, and the remaining four aperture elements 101 are in a light blocking state.

今、入射光強度を11、出射光強度を工。とじ、1個の
アパーチャエレメント内で考えると、次式の関係が成立
する。
Now, set the input light intensity to 11 and the output light intensity to 11. When considered within one aperture element, the following relationship holds true.

Io=I+sin”(r/2)          ”
(1)ただし、r=(i/λ)・t−n03・R1・E
2λ :波長  、tニアパーチャ素子の厚さno:屈
折率 、E:電界強度 R6:二次電気光学定数 ここで、(1)式は、位相差rがmπ(mは奇数)のと
き工。が最大となる。すなわち、アパーチャが光透過状
態となり、m′π(m’は偶数)のときI。
Io=I+sin”(r/2)”
(1) However, r=(i/λ)・t−n03・R1・E
2λ: wavelength, t thickness of near aperture element no: refractive index, E: electric field strength R6: second-order electro-optic constant Here, equation (1) is expressed when the phase difference r is mπ (m is an odd number). is the maximum. That is, when the aperture is in a light transmitting state and m'π (m' is an even number), I.

が最小となって、アパーチャが光遮断状態となる。becomes the minimum, and the aperture is in a light-blocking state.

したがって、この動作原理により、各々のアパーチャエ
レメント101に独立に電圧を印加して任意のアパーチ
ャエレメントを開閉制御することができ、可変アパーチ
ャ素子1′の透過光を制御することができる。
Therefore, according to this operating principle, it is possible to control the opening and closing of any aperture element by independently applying a voltage to each aperture element 101, and it is possible to control the light transmitted through the variable aperture element 1'.

次に、第4図は可変アパーチャ素子の別の実施例を示す
側面図であり、第2図(a)に相当する図である。
Next, FIG. 4 is a side view showing another embodiment of the variable aperture element, and corresponds to FIG. 2(a).

この実施例と第2図に示した実施例との相違点は、電気
光学結晶203のアパーチャエレメントを構成する角柱
突起部201の近辺で、溝205.207を透明基板2
02に達するまでダイシングソウにより加工したことに
ある。すなわち、このように溝205.207を加工す
ることにより、大きい誘電率を持つ電気光学結晶と電極
とが接触する領域を少なくすることができ、したがって
、電極間容量をより小さくすることができる。
The difference between this embodiment and the embodiment shown in FIG.
The reason is that processing was performed using a dicing saw until reaching 02. That is, by processing the grooves 205 and 207 in this manner, it is possible to reduce the area in which the electro-optic crystal having a large dielectric constant and the electrode come into contact, and therefore, the inter-electrode capacitance can be further reduced.

次に、第5図(a)、(b)は本発明による可変アパー
チャ装置を、レーザープリンタの記録光学系に応用した
場合の実施例を示す光学系の概略的構成図であり5同図
(a)は回転ポリゴンミラー12よる偏向走査面に重置
で且つ光軸を含む面上における光学系配置を示す図、同
図(b)は偏向走査面上における光学系配置を示す図で
ある。
Next, FIGS. 5(a) and 5(b) are schematic configuration diagrams of an optical system showing an embodiment in which the variable aperture device according to the present invention is applied to a recording optical system of a laser printer. FIG. 3A is a diagram showing the arrangement of the optical system on a plane superimposed on the deflection scanning plane of the rotating polygon mirror 12 and including the optical axis, and FIG.

第5図(a)、 (b)において、半導体レーザーLD
からの出射光はカップリングレンズ10で平行光にされ
た後、λ/2板11により光ビームの偏光方向が副走査
方向と458になるように偏光面が回転される。そして
、λ/2板11からの射出ビームは、シリンダレンズC
LIにより可変アパーチャ装置1上に絞り込んで入射さ
れる。ここで、可変アパーチャ装置IIはアパーチャ素
子部の個々のアパーチャエレメントが副走査方向に並ぶ
ように配置される。
In FIGS. 5(a) and 5(b), the semiconductor laser LD
The emitted light is made into parallel light by the coupling lens 10, and then the plane of polarization is rotated by the λ/2 plate 11 so that the polarization direction of the light beam is 458 times the sub-scanning direction. The beam emitted from the λ/2 plate 11 is transmitted through the cylinder lens C.
The light is focused onto the variable aperture device 1 by the LI. Here, the variable aperture device II is arranged so that the individual aperture elements of the aperture element section are lined up in the sub-scanning direction.

この可変アパーチャ装!1により制御された出射ビーム
は、レンズLl、シリンダレンズCL2によりビーム変
換され、回転ポリゴンミラー12により偏向走査されて
トロイダルfθレンズ13により被走査面14上に収束
され結像される。
This variable aperture device! The output beam controlled by 1 is converted into a beam by a lens Ll and a cylinder lens CL2, is deflected and scanned by a rotating polygon mirror 12, and is focused and imaged on a scanned surface 14 by a toroidal fθ lens 13.

ここで、上記記録光学系で重要なことは、可変アパーチ
ャ装置1と、被走査面14が結像の共役関係となってい
ることである。つまり、可変アパーチャ装置llの素子
面が被走査面上に結像されているのである。
Here, what is important in the recording optical system is that the variable aperture device 1 and the surface to be scanned 14 are in a conjugate relationship in terms of image formation. In other words, the element surface of the variable aperture device 11 is imaged on the scanned surface.

次に、上記構成の記録光学系におけるドツト径可変の具
体例について説明する。
Next, a specific example of variable dot diameter in the recording optical system having the above configuration will be described.

第6図は可変アパーチャ装H1により副走査方向のドツ
ト径を変化させたものである。すなわち、画像信号によ
り半導体レーザーLDを訃動制御すると同時に、画像信
号の濃淡に応じて可変アパーチャ装置の各7バーチヤエ
レメントを制御し、多値階調記録を実現するものである
FIG. 6 shows the dot diameter in the sub-scanning direction changed by the variable aperture device H1. That is, the semiconductor laser LD is controlled by the image signal, and at the same time, each of the seven virtual elements of the variable aperture device is controlled according to the density of the image signal, thereby realizing multilevel gradation recording.

また、第7図は可変アパーチャ装置により副走査方向の
ドツト径を変化させるのと、主走査方向を半導体レーザ
ーのパルス幅変調駆動によりドツト径を可変にしたもの
とを組み合わせた例である。
FIG. 7 shows an example in which the dot diameter in the sub-scanning direction is varied by a variable aperture device, and the dot diameter is varied in the main-scanning direction by pulse width modulation driving of a semiconductor laser.

尚、第6図の例と半導体レーザーの多値変調(パワー変
調)を組み合わせることにより、ドツト径可変記録も可
能である。また、可変アパーチャ装置によるドツト径可
変と、パルス幅変調によるドツト径可変、及び多値変調
(パワー変:[)によるドツト径可変との組合せによる
多値階調記録も実現することができる。
Incidentally, by combining the example shown in FIG. 6 with multilevel modulation (power modulation) of a semiconductor laser, variable dot diameter recording is also possible. It is also possible to realize multilevel gradation recording by combining dot diameter variation using a variable aperture device, dot diameter variation using pulse width modulation, and dot diameter variation using multilevel modulation (power variation: [).

(発明の効果〕 以上説明したように、本発明による可変アパーチャ装置
では、可変アパーチャ素子を構成する電気光学媒体と透
明基板を光学接着剤で接着一体化しているので、電気光
学媒体に溝を形成してこの溝により電気光学媒体を仕切
って複数の7バーチヤエレメントを形成するときに、溝
を透明基板内まで深くすることができ、これにより、隣
接するアパーチャエレメント間の容量を小さくすること
ができるため、コンデンサー容量が小さくなるような構
造を持ち、且つクロストークの発生を防止することがで
きる可変アパーチャ素子を備えた可変アパーチャ装置が
実現される。
(Effects of the Invention) As explained above, in the variable aperture device according to the present invention, the electro-optic medium constituting the variable aperture element and the transparent substrate are bonded together with an optical adhesive, so grooves are formed in the electro-optic medium. When forming a plurality of 7-vertical elements by partitioning the electro-optic medium with this groove, the groove can be made deep into the transparent substrate, thereby reducing the capacitance between adjacent aperture elements. Therefore, it is possible to realize a variable aperture device including a variable aperture element that has a structure that reduces the capacitance of the capacitor and can prevent the occurrence of crosstalk.

また、本発明による可変アパーチャ装置では、アパーチ
ャ素子を構成する電気光学結晶に接触する電極リードの
長さを短くできるため、各々のアパーチャエレメントの
容量が小さく、したがって応答速度の速い駆動が可能と
なる。
Furthermore, in the variable aperture device according to the present invention, since the length of the electrode lead that contacts the electro-optic crystal that constitutes the aperture element can be shortened, the capacitance of each aperture element is small, and therefore, driving with high response speed is possible. .

また、本発明による可変アパーチャ装置ではアパーチャ
エレメントを構成する角柱状突起の側壁に駆動用電極を
形成しているので、光学長が長くなると同時に電界が効
果的に印加されるため、低電圧駆動が可能となる。
In addition, in the variable aperture device according to the present invention, since the driving electrode is formed on the side wall of the prismatic projection constituting the aperture element, the optical length is lengthened and at the same time an electric field is effectively applied, so low voltage driving is possible. It becomes possible.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図(a)、(b)は本発明による可変アパーチャ装
置の一実施例を示す概略的構成図であり、同図(a)は
光軸に直交する方向から見た側面図、同図(b)は光軸
方向から見た平面図、第2図(a)。 (b)、(C)は可変アパーチャ素子の構造を示す図で
あって、同図(a)、(c)は光軸に直交する2方向か
ら見たときの側面図、(b)は光軸方向から見たときの
平面図、第3図は第1図に示す構成の可変アパーチャ装
置の動作原理の説明図、第4図は可変アパーチャ素子の
別の実施例を示す側面図、第5図(a)、(b)は本発
明による可変アパーチャ装置をレーザープリンタの記録
光学系に応用した場合の実施例を示す光学系の概略的構
成図であり、同図(a)は回転ポリゴンミラー12よる
偏向走査面に垂直で且つ光軸を含む面上における光学系
配置を示す図、同図(b)は偏向走査面上における光学
系配置を示す図、第6図、第7図は夫々第5図に示す記
録光学系におけるドツト径可変の具体例を示す説明図で
ある。
FIGS. 1(a) and 1(b) are schematic configuration diagrams showing one embodiment of a variable aperture device according to the present invention, and FIG. 1(a) is a side view seen from a direction perpendicular to the optical axis; (b) is a plan view seen from the optical axis direction, and FIG. 2 (a). (b) and (C) are diagrams showing the structure of the variable aperture element, in which (a) and (c) are side views when viewed from two directions perpendicular to the optical axis, and (b) is a diagram showing the structure of the variable aperture element. 3 is an explanatory diagram of the operating principle of the variable aperture device configured as shown in FIG. 1; FIG. 4 is a side view showing another embodiment of the variable aperture element; FIG. Figures (a) and (b) are schematic configuration diagrams of an optical system showing an embodiment in which the variable aperture device according to the present invention is applied to a recording optical system of a laser printer, and (a) is a rotating polygon mirror. Figure 12 shows the optical system arrangement on a plane perpendicular to the deflection scanning plane and including the optical axis; FIG. 6(b) shows the optical system arrangement on the deflection scanning plane; FIGS. 6 is an explanatory diagram showing a specific example of variable dot diameter in the recording optical system shown in FIG. 5. FIG.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 電気光学媒体と透明基板を光学接着剤で接着すると共に
上記電気光学媒体に溝を形成してなり、その溝によって
仕切られた複数の光透過領域がアパーチャエレメントと
して機能する可変アパーチャ素子と、該可変アパーチャ
素子の各々のアパーチャエレメントに形成された電極と
、可変アパーチャ素子の各アパーチャエレメントを駆動
するための駆動用集積回路と、該集積回路と各アパーチ
ャエレメントを接続する回路とを基板上に実装してなる
ことを特徴とする可変アパーチャ装置。
A variable aperture element, which is formed by bonding an electro-optic medium and a transparent substrate with an optical adhesive and forming grooves in the electro-optic medium, and in which a plurality of light transmission areas partitioned by the grooves function as an aperture element; An electrode formed on each aperture element of the aperture element, a driving integrated circuit for driving each aperture element of the variable aperture element, and a circuit connecting the integrated circuit and each aperture element are mounted on a substrate. A variable aperture device characterized by:
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