JPH0388296A - El表示素子 - Google Patents
El表示素子Info
- Publication number
- JPH0388296A JPH0388296A JP1224942A JP22494289A JPH0388296A JP H0388296 A JPH0388296 A JP H0388296A JP 1224942 A JP1224942 A JP 1224942A JP 22494289 A JP22494289 A JP 22494289A JP H0388296 A JPH0388296 A JP H0388296A
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- JP
- Japan
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- electric field
- voltage
- light emitting
- electrode
- display element
- Prior art date
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- Pending
Links
- 230000005684 electric field Effects 0.000 claims abstract description 18
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 abstract description 13
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 abstract description 3
- 238000009413 insulation Methods 0.000 abstract 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は、エレクトロルミネッセンス(以下。
単にELという)表示素子の改良に関し、駆動電圧の低
減および絶縁破壊に対する信頼性の向上をはかったF、
L表示素子に関する。
減および絶縁破壊に対する信頼性の向上をはかったF、
L表示素子に関する。
〈従来の技術〉
例えば透明ガラス基板上に上部電極と下部!極を所望の
形状に形成し、この間に絶縁層とEL発光素子を挟んで
電極間に電圧を印加して発光層を発光させる様にしたE
L表示素子やEL発光素子と絶縁層を挾む上部電極と下
部電極を帯状に直交する関係で配設し、上部電極と下部
電極との間に選択的に電圧を印加する事により、それら
の交点部のEL発光層が発光する事を利用して所望の形
状を表示する様にしたEL表示素子は公知である。
形状に形成し、この間に絶縁層とEL発光素子を挟んで
電極間に電圧を印加して発光層を発光させる様にしたE
L表示素子やEL発光素子と絶縁層を挾む上部電極と下
部電極を帯状に直交する関係で配設し、上部電極と下部
電極との間に選択的に電圧を印加する事により、それら
の交点部のEL発光層が発光する事を利用して所望の形
状を表示する様にしたEL表示素子は公知である。
〈発明が解決しようとする課題〉
ところで、上記の様なEL表示素子において。
一般に発光層としてはZnS、絶縁層としては5102
が用いられる。その場合、電極間に電圧を印加して発光
層ZnSが発光を開始する端子電圧VE Lと絶縁層S
i 02が絶縁破壊する端子電圧V breakは非
常に接近している。
が用いられる。その場合、電極間に電圧を印加して発光
層ZnSが発光を開始する端子電圧VE Lと絶縁層S
i 02が絶縁破壊する端子電圧V breakは非
常に接近している。
ここで、上記EL表示素子における発光層と3102I
Nl!の耐圧の関係について第5図を参照して説明する
。第5図において1,2は下部および上部を極+ jl
+ t3 + t5 + t7は5i02膜。
Nl!の耐圧の関係について第5図を参照して説明する
。第5図において1,2は下部および上部を極+ jl
+ t3 + t5 + t7は5i02膜。
t2.tsはT a20s M、t aは厚さ1μm程
度のZnS膜である。この様な構造のBL素子が発光す
る為に必要な端子電圧VE Lは次式により与えられる
。
度のZnS膜である。この様な構造のBL素子が発光す
る為に必要な端子電圧VE Lは次式により与えられる
。
V!: L =εXEE L xtZnS
εzns;ZnSの比誘電率
t;比誘電率を考慮した実効膜厚
t=1/4(t t +h ”t5 ”h )
+1/23(j 2 +ts )+(t4 /8
) [cll14 ; Si02の比誘電率 23; Ta2O、の比誘電率 8 ; ZnSの比誘電率 ここでZnSを発光させる為の電界EE Lを1〜2X
10’V/cmとした場合。
+1/23(j 2 +ts )+(t4 /8
) [cll14 ; Si02の比誘電率 23; Ta2O、の比誘電率 8 ; ZnSの比誘電率 ここでZnSを発光させる為の電界EE Lを1〜2X
10’V/cmとした場合。
VE t=8〜16X10’ xt [V]となる
。一方、5iO211!の破壊電圧V はreak 次式により与えられる。
。一方、5iO211!の破壊電圧V はreak 次式により与えられる。
Vbreak SIO2break=ε XE
Xt ここで、ε (Si02の比誘電率)をSi02 3〜4 E br+eak (SIOxの破壊電界)を6X1
0’V/cmとすると Vbreah = 18〜24X102Xt [V/c
m]そしてZnSの発光開始の端子電圧vELとSiO
2の破壊の電圧Vbreakを比較するとVbreaに
/VE l =(18〜24)/(8〜16)=1.1
3〜3(各部材の比誘電率の値はNational T
ech、Rep。
Xt ここで、ε (Si02の比誘電率)をSi02 3〜4 E br+eak (SIOxの破壊電界)を6X1
0’V/cmとすると Vbreah = 18〜24X102Xt [V/c
m]そしてZnSの発光開始の端子電圧vELとSiO
2の破壊の電圧Vbreakを比較するとVbreaに
/VE l =(18〜24)/(8〜16)=1.1
3〜3(各部材の比誘電率の値はNational T
ech、Rep。
、30(1) Feb、−1980,:よる)となり、
極めて余裕度のないものとなっている。
極めて余裕度のないものとなっている。
また、端子電圧が150〜250Vr1sと大きく駆動
回路がおおがかりになるという問題がある。
回路がおおがかりになるという問題がある。
そこで、絶縁部材としては耐電圧の大きなSiN膜(比
誘電率8・・・5io2の2倍)やY2O3m<比誘電
率12・・・S i 02の3倍)等を用いることも考
えられるがその様な部材は例えば剥離などの問題がある
。
誘電率8・・・5io2の2倍)やY2O3m<比誘電
率12・・・S i 02の3倍)等を用いることも考
えられるがその様な部材は例えば剥離などの問題がある
。
本発明は上記従来技術の問題を解決するために成された
もので1発光素子や5iO211iの材質はそのままに
して駆動電圧の低減および絶縁破壊に対する信頼性の向
上をはかったEL表示素子を実現することを目的とする
。
もので1発光素子や5iO211iの材質はそのままに
して駆動電圧の低減および絶縁破壊に対する信頼性の向
上をはかったEL表示素子を実現することを目的とする
。
く課題を解決するための手段〉
上記従来技術の課題を解決する為の本発明のEL表示素
子の構成は、電極間にEL発光層および絶縁層を備えて
なるEL表示素子において、前記EL発光層に接する前
記@極の少なくとも一方に電界集中が発生する程度の複
数の突起部を形成した事を特徴とするものである。
子の構成は、電極間にEL発光層および絶縁層を備えて
なるEL表示素子において、前記EL発光層に接する前
記@極の少なくとも一方に電界集中が発生する程度の複
数の突起部を形成した事を特徴とするものである。
く作用〉
電極の少なくとも一方に電界集中が起きる程度の突起を
設けたので、この突起に接している発光層には強電界が
発生する。従って電極には従来よりも低い電圧を印加し
ても発光層が発光する。また、絶縁層に接する側の電極
には突起がないので強電界は発生せず絶縁破壊の確率は
低くなる。
設けたので、この突起に接している発光層には強電界が
発生する。従って電極には従来よりも低い電圧を印加し
ても発光層が発光する。また、絶縁層に接する側の電極
には突起がないので強電界は発生せず絶縁破壊の確率は
低くなる。
〈実施例〉
以下1図面に従い本発明を説明する。第1図は本発明の
EL表示素子の一実施例を示す拡大断面図である6図に
おいて1は下部電極、2は上部電極であり、これら電極
間には下部型@1に接して発光713が形成され、その
発光層と上部電極2の間に絶縁14が形成されている。
EL表示素子の一実施例を示す拡大断面図である6図に
おいて1は下部電極、2は上部電極であり、これら電極
間には下部型@1に接して発光713が形成され、その
発光層と上部電極2の間に絶縁14が形成されている。
下部電極1には先端のRが0.2μm以下の円錐状の突
起(この様な突起の作製は公知の半導体技術により可能
である)が多数形成されている。
起(この様な突起の作製は公知の半導体技術により可能
である)が多数形成されている。
上記構成においてt[!間に電圧を印加すると突起の先
端には矢印Aで示すような電界の集中がおこり発光層は
従来の印加電圧より低い端子電圧で発光する。しかし上
部電極2側には突起がないので電界集中は絶縁層までは
達せず絶縁層が破壊される恐れはない。
端には矢印Aで示すような電界の集中がおこり発光層は
従来の印加電圧より低い端子電圧で発光する。しかし上
部電極2側には突起がないので電界集中は絶縁層までは
達せず絶縁層が破壊される恐れはない。
第2図(a)はギャップgを1.5μm、Rを0.2μ
mとし上部、下部の電極1.2間に電圧(V)を印加し
た状態を示す拡大図である。論2図(b)はその表示素
子を真空中に配置しギヤ116間のχ点における電界強
度を計算した結果を示す図である。(b)図によれば下
部電極に形成された突起の先端R付近の電界は1.41
X10’ xV (V/cm)、上部電極付近の0.3
0X10’ XV (V/cm)であり、その電界強度
は4倍以上であることが分る。また1例えば発光層の厚
さを0.6μmとしたときの絶縁層中の電界強度は0.
41 Xl 0’ XV (V/cm)となり発光層中
の電界強度1.41xlO’xV(V/cm)に比較す
ると3倍以上の緩和をはかる事か出来る。
mとし上部、下部の電極1.2間に電圧(V)を印加し
た状態を示す拡大図である。論2図(b)はその表示素
子を真空中に配置しギヤ116間のχ点における電界強
度を計算した結果を示す図である。(b)図によれば下
部電極に形成された突起の先端R付近の電界は1.41
X10’ xV (V/cm)、上部電極付近の0.3
0X10’ XV (V/cm)であり、その電界強度
は4倍以上であることが分る。また1例えば発光層の厚
さを0.6μmとしたときの絶縁層中の電界強度は0.
41 Xl 0’ XV (V/cm)となり発光層中
の電界強度1.41xlO’xV(V/cm)に比較す
ると3倍以上の緩和をはかる事か出来る。
第3図、第4図は他の実施例を示すもので、第3図は異
方性エツチングにより突起を形成したもので、その突起
の角部B、C部分のRを0.2μm以下に形成する。第
4図は絶縁層4を発光層33−で挟み、さらに突起部を
有する上下部の電極で発光層を挟んだもので、絶縁破壊
の恐れが軽減され、より効率的に発光層を発光させる事
が出来る。
方性エツチングにより突起を形成したもので、その突起
の角部B、C部分のRを0.2μm以下に形成する。第
4図は絶縁層4を発光層33−で挟み、さらに突起部を
有する上下部の電極で発光層を挟んだもので、絶縁破壊
の恐れが軽減され、より効率的に発光層を発光させる事
が出来る。
〈発明の効果〉
以上実施例とともに具体的に説明した様に本発明によれ
ば、EL発光層に接する前記電極の少なくとも一方に電
界集中が発生する程度の複数の突起部を形成したので、
駆動電圧の低減および絶縁破壊に対する信頼性の向上を
はかったEL表示素子を実現することが出来る。
ば、EL発光層に接する前記電極の少なくとも一方に電
界集中が発生する程度の複数の突起部を形成したので、
駆動電圧の低減および絶縁破壊に対する信頼性の向上を
はかったEL表示素子を実現することが出来る。
第1図は本発明の一実施例を示すEL表示素子の拡大断
面図、第2図はギャップgと先端のRおよび先端Rから
の任意の距離Xとの関係を示す図(a)1表示素子を真
空中に配置しギヤ718間のX点における電界強度を計
算した結果を示す図(b)、第3図、第4図は他の実施
例を示す図。 第5図は発光層と510211gの絶縁耐圧の関係を説
明するための図である。 1・・・下部電極、2・・・上部電極、3・・・発光層
、4使 ′L−〜 〜11−1 1 L5<ト ′90す→−0〜− 576一
面図、第2図はギャップgと先端のRおよび先端Rから
の任意の距離Xとの関係を示す図(a)1表示素子を真
空中に配置しギヤ718間のX点における電界強度を計
算した結果を示す図(b)、第3図、第4図は他の実施
例を示す図。 第5図は発光層と510211gの絶縁耐圧の関係を説
明するための図である。 1・・・下部電極、2・・・上部電極、3・・・発光層
、4使 ′L−〜 〜11−1 1 L5<ト ′90す→−0〜− 576一
Claims (1)
- 電極間にEL発光層および絶縁層を備えてなるEL表
示素子において、前記EL発光層に接する前記電極の少
なくとも一方に電界集中が発生する程度の複数の突起部
を形成した事を特徴とするEL発光素子。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1224942A JPH0388296A (ja) | 1989-08-31 | 1989-08-31 | El表示素子 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1224942A JPH0388296A (ja) | 1989-08-31 | 1989-08-31 | El表示素子 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0388296A true JPH0388296A (ja) | 1991-04-12 |
Family
ID=16821609
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1224942A Pending JPH0388296A (ja) | 1989-08-31 | 1989-08-31 | El表示素子 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0388296A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100462858B1 (ko) * | 2001-03-01 | 2004-12-17 | 삼성에스디아이 주식회사 | 유기 발광 장치 |
JP2008004552A (ja) * | 2006-06-23 | 2008-01-10 | Kofukin Seimitsu Kogyo (Shenzhen) Yugenkoshi | 電界放出表示装置およびその製造方法 |
-
1989
- 1989-08-31 JP JP1224942A patent/JPH0388296A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100462858B1 (ko) * | 2001-03-01 | 2004-12-17 | 삼성에스디아이 주식회사 | 유기 발광 장치 |
JP2008004552A (ja) * | 2006-06-23 | 2008-01-10 | Kofukin Seimitsu Kogyo (Shenzhen) Yugenkoshi | 電界放出表示装置およびその製造方法 |
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