JPH038345Y2 - - Google Patents

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JPH038345Y2
JPH038345Y2 JP1985163155U JP16315585U JPH038345Y2 JP H038345 Y2 JPH038345 Y2 JP H038345Y2 JP 1985163155 U JP1985163155 U JP 1985163155U JP 16315585 U JP16315585 U JP 16315585U JP H038345 Y2 JPH038345 Y2 JP H038345Y2
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gas
switching valve
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regeneration
supply
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JP1985163155U
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  • Oxygen, Ozone, And Oxides In General (AREA)
  • Hydrogen, Water And Hydrids (AREA)
  • Separation Of Gases By Adsorption (AREA)

Description

【考案の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕 本考案は、原料ガスの供給路に接続した精製系
列に、原料ガス中の不純ガスを除去する充填物を
内蔵させ、その充填物に対する再生用ガスの供給
路を前記精製系列に接続し、前記精製系列に原料
ガスと再生用ガスを選択供給する切換弁装置を前
記両供給路に設け、精製ガスの回収路と再生排ガ
スの回収路を前記精製系列に接続し、前記両回収
路に、それらを選択的にガス回収状態にする切換
弁装置を設けたガス精製装置、詳しくは、精製系
列をガス精製状態と再生状態に切換える手段の改
良に関する。 〔従来の技術〕 従来、原料ガスや再生用ガスの供給路並びに精
製ガスや再生排ガスの回収路に設けた切換弁装置
は空気圧作動式であり、原料ガスを充填物で精製
する工程と、充填物を再生用ガスで再生する工程
の切換えを遠隔操作で又は自動的に行えるように
構成していた。 〔考案が解決しようとする問題点〕 しかし、切換弁装置の可動部周辺はリーク発生
の可能性が最も高く、切換弁装置におけるリーク
に起因して不純物である空気が供給路や回収路に
流入する危険性が大であり、例えば半導体製造工
業等の精密プロセスで使用される不純物がPPbオ
ーダーの超高純度ガスを製造する場合、微量の空
気混入であつても致命的な不純物濃度となるた
め、殊に切換弁装置でのリークが大きな問題にな
つていた。 本考案の目的は、極めて簡単かつ合理的な改造
でもつて、たとえ切換弁装置の可動部周りでリー
クが生じたとしても、精製ガスの不純物濃度を極
めて低くできるようにする点にある。 〔問題点を解決するための手段〕 本考案の特徴構成は、原料ガスや再生ガスの供
給路並びに精製ガスや再生排ガスの回収路に設け
た切換弁装置がガス圧駆動式であり、それら切換
弁装置に駆動用ガスとして原料ガスを供給する操
作用管路を設けたことにあり、その作用効果は次
の通りである。 〔作用〕 つまり、切換弁装置の可動部分であるベローズ
等にピンホールができたとしても、駆動用ガスと
して供給している原料ガスが供給路や回収路に流
入するだけで、供給路や回収路への空気流入は原
料ガスの作用で確実に阻止される。 そして、一般に原料ガス中の不純物の濃度は空
気中の不純物の濃度よりもはるかに低く、一例を
下記表に示す。
【表】
〔考案の効果〕
その結果、切換弁装置の可動部周りでのリーク
に起因する精製ガスの致命的な品質劣化を防止で
きると共に、各流路で切換弁装置による安定した
切換を確実に行えるから、切換えの際に再生ガス
等の不純物が精製ガス中に流入しにくくなり精製
ガスの良好な品質を維持でき、殊に超高純度ガス
の精製に有利な装置を提供できるようになつた。 〔実施例〕 次に、図面により実施例を示す。 窒素やアルゴン等の不活性ガスに微量の不純ガ
スが混入して成る原料ガスを貯留するガスホルダ
ー1に、夫々触媒筒2と吸着筒3から成る第1及
び第2精製系列A及びBを原料ガスの供給路4で
並列接続し、精製ガスを消費する消費設備5を回
収路6で両精製系列A,Bに接続し、不純ガス中
のO2を酸化物として除去すると共にCOを吸着す
るニツケル系の触媒を触媒筒2内に、かつ、不純
ガス中のCO,CO2,H2O等を吸着除去する合成
ゼオライト等の吸着剤3aを吸着筒3内に内蔵さ
せてある。 第1及び第2精製系列A及びBに原料ガスを択
一供給するためのガス圧駆動式第1切換弁装置
V1を供給路4に設け、第1及び第2精製系列A
及びBの一方から精製ガスを回収するためのガス
圧駆動式第2切換弁装置V2を回収路6に設け、
第1及び第2切換弁装置V1,V2の操作によつて、
いずれか一方の精製系列A又はBにおいてかつ交
互に原料ガスを精製して、精製ガスを消費設備5
に送るように構成してある。 高温(300〜400℃)の再生用水素を給気装置7
から供給する供給路8、並びに、再生排ガスを排
気設備9に送る回収路10を第1及び第2精製系
列A及びBに接続し、第1及び第2精製系列A及
びBに再生用水素を択一供給するためのガス圧駆
動式第3切換弁装置V3を供給路8に設け、第1
及び第2精製系列A及びBのいずれか一方から再
生排ガスを排気設備9に取出すためのガス圧駆動
式第4切換弁装置V4を回収路10に設け、第3
及び第4切換弁装置V3,V4の操作によつて、第
1及び第2精製系列A及びBの一方においてかつ
交互に、触媒2aを水素で還元して再生すると共
に、吸着剤3aを不純ガスの脱着で再生するよう
に構成してある。 第1ないし第4切換弁装置V1ないしV4の全て
に駆動用ガスとしてガスホルダー1からの原料ガ
スを供給する操作用管路11を設け、その管路1
1に、第1ないし第4切換弁装置V1ないしV4
各別操作する電磁式操作弁CV1ないしCV8を設
け、それら操作弁CV1ないしCV8の遠隔操作や自
動操作によつて、第1精製系列Aでガス精製をか
つ第2精製系列Bで再生を夫々行わせる状態と、
第1精製系列Aで再生をかつ第2精製系列Bでガ
ス精製を夫々に行わせる状態が交互に得られて、
ガス精製を連続して行えるように構成してある。 〔別実施例〕 次に別の実施例を説明する。 原料ガスの種類は適当に変更でき、また、原料
ガスの供給源や精製ガスの用途及び送り先は不問
である。 精製系列A,Bの設置数は、1個又は3個以上
と自由に変更でき、また、精製系列A,Bの具体
構成は、原料ガスや不純ガスの種類に見合つて適
宜選定でき、例えば、前述の触媒筒2及び吸着筒
3の一方だけを設けてもよい。また、触媒2aや
吸着剤3aに代えて適当な不純ガス除去用物質を
利用でき、それらを充填物2a,3aと総称す
る。 再生用水素に代えて、充填物2a,3aや不純
ガスに見合つた適当なガスを利用でき、それらを
再生用ガスと総称する。また、再生排ガスの処理
方式は不問である。 精製系列A,Bに原料ガスと再生ガスを選択供
給する手段、及び、回収路6,10を選択的にガ
ス回収状態にする手段は、精製系列A,Bの設置
数等に応じて適当に選択でき、それら手段を切換
弁装置V1,V3及び切換弁装置V2,V4と称する。 操作用管路11からの原料ガスによつて両切換
弁装置V1,V3及びV2,V4を操作する手段は、両
切換弁装置V1,V3及びV2,V4の具体構成等に応
じて適当に選択できる。 両切換弁装置V1,V3及びV2,V4以外の弁を、
ガス圧駆動式に形成して、原料ガスで操作するよ
うに構成することが望ましい。 なお、本発明は消費設備5でも使用可能であ
り、さらに、経済性を無視すれば、駆動用ガスと
して精製されたガスを用いることも可能である。
【図面の簡単な説明】
図面は本考案の実施例を示すフローシートであ
る。 2a,3a……充填物、4……原料ガスの供給
路、6……精製ガスの回収路、8……再生用ガス
の供給路、10……再生排ガスの回収路、11…
…操作用管路、A……第1精製系列、B……第2
精製系列、V1,V3及びV2,V4……切換弁装置。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 原料ガスの供給路4に接続した精製系列A,B
    に、原料ガス中の不純ガスを除去する充填物2
    a,3aを内蔵させ、その充填物2a,3aに対
    する再生用ガスの供給路8を前記精製系列A,B
    に接続し、前記精製系列A,Bに原料ガスと再生
    用ガスを選択供給する切換弁装置V1,V3を前記
    両供給路4,8に設け、精製ガスの回収路6と再
    生排ガスの回収路10を前記精製系列A,Bに接
    続し、前記両回収路6,10に、それらを選択的
    にガス回収状態にする切換弁装置V2,V4を設け
    たガス精製装置であつて、前記両切換弁装置V1
    V3及びV2,V4がガス圧駆動式であり、それら両
    切換弁装置V1,V3及びV2,V4に駆動用ガスとし
    て原料ガスを供給する操作用管路11を設けてあ
    るガス精製装置。
JP1985163155U 1985-10-24 1985-10-24 Expired JPH038345Y2 (ja)

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JPS5541300U (ja) * 1979-09-04 1980-03-17

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