JPH0374131B2 - - Google Patents
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- JRIXTOAARDBEIG-UHFFFAOYSA-N tris(2,3,4-trimethoxyphenyl)phosphane Chemical compound COC1=C(OC)C(OC)=CC=C1P(C=1C(=C(OC)C(OC)=CC=1)OC)C1=CC=C(OC)C(OC)=C1OC JRIXTOAARDBEIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08C—TREATMENT OR CHEMICAL MODIFICATION OF RUBBERS
- C08C19/00—Chemical modification of rubber
- C08C19/02—Hydrogenation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F15/00—Compounds containing elements of Groups 8, 9, 10 or 18 of the Periodic Table
- C07F15/0006—Compounds containing elements of Groups 8, 9, 10 or 18 of the Periodic Table compounds of the platinum group
- C07F15/0046—Ruthenium compounds
- C07F15/0053—Ruthenium compounds without a metal-carbon linkage
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F8/00—Chemical modification by after-treatment
- C08F8/04—Reduction, e.g. hydrogenation
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は窒素を含有する還元可能な基を有する
不飽和の、任意に高分子量の化合物の選択的水素
添加方法に関するものである。
不飽和の、任意に高分子量の化合物の選択的水素
添加方法に関するものである。
Ｃ−Ｃ二重結合が、窒素を含有する還元可能な
基の存在下で、固体触媒上で選択的に水素添加し
得ることは公知事項である。この目的には、パラ
ジウムまたは白金触媒を用いる。この方法で90％
までの収率が達成される（フーベン−ワイン
（Houben−Weyl）有機化学の方法
（Methodender Organischen Chemie）巻、、
1c、還元（1980）、168ページ）。しかし、選択
性は、しばしば不満足なものである。１−シアノ
シクロヘキセンの水素添加に白金触媒を用いる
と、所望のシアノシクロヘキサンは31％が得られ
るのみである（フライフエルダー（M.
Freifelder）、実用接触水素添加（Practical
Catalytic Hydrogenation）、（1971）、157ページ
を参照）。
基の存在下で、固体触媒上で選択的に水素添加し
得ることは公知事項である。この目的には、パラ
ジウムまたは白金触媒を用いる。この方法で90％
までの収率が達成される（フーベン−ワイン
（Houben−Weyl）有機化学の方法
（Methodender Organischen Chemie）巻、、
1c、還元（1980）、168ページ）。しかし、選択
性は、しばしば不満足なものである。１−シアノ
シクロヘキセンの水素添加に白金触媒を用いる
と、所望のシアノシクロヘキサンは31％が得られ
るのみである（フライフエルダー（M.
Freifelder）、実用接触水素添加（Practical
Catalytic Hydrogenation）、（1971）、157ページ
を参照）。
均一触媒としてロジウム錯体（ウイルキンソン
錯体）を用いる不飽和ニトリルの水素添加法も公
知である。この方法ではシアノ基は水素添加され
ない。しかし、配位子交換の結果として、この触
媒はニトリルにより不活性化される（フーベン−
ワイルの前掲書）、57乃至60ページを参照）。
錯体）を用いる不飽和ニトリルの水素添加法も公
知である。この方法ではシアノ基は水素添加され
ない。しかし、配位子交換の結果として、この触
媒はニトリルにより不活性化される（フーベン−
ワイルの前掲書）、57乃至60ページを参照）。
式［（C6H5）3P］3Rh〓Ｘのロジウム錯体もニト
リルの水素添加に適している。（DE−AS １
793 616）が、ニトリル基の存在下でのオレフイ
ン性二重結合の水素添加には、選択性が常に妥当
なものではないと考えられる。
リルの水素添加に適している。（DE−AS １
793 616）が、ニトリル基の存在下でのオレフイ
ン性二重結合の水素添加には、選択性が常に妥当
なものではないと考えられる。
ホスフインを含有するLoMX2型の錯体（Ｌ＝
COまたは第三級ホスフイン、ｎ＝３または４、
Ｍ＝ルテニウムまたはオスミウム、Ｘ＝ハロゲン
および／または水素）を用いてケト−、ホルミル
−、ニトリル−、非芳香族−Ｃ＝Ｃおよび−Ｃ≡
Ｃ基を水素添加し得ることはUS−Ｐ ３ 454
644により公知事項であり、この場合には、存在
するこの型の全ての基が水素添加される。
COまたは第三級ホスフイン、ｎ＝３または４、
Ｍ＝ルテニウムまたはオスミウム、Ｘ＝ハロゲン
および／または水素）を用いてケト−、ホルミル
−、ニトリル−、非芳香族−Ｃ＝Ｃおよび−Ｃ≡
Ｃ基を水素添加し得ることはUS−Ｐ ３ 454
644により公知事項であり、この場合には、存在
するこの型の全ての基が水素添加される。
酸性のメタノール溶液でのオレフインの水素添
加に均一触媒として好適なカチオン性ルテニウム
錯体は、ドールトン（J.C.S.Dalton）1973の846
乃至854ページに記載されている。内部に位置す
る二重結合の水素添加は、この触媒では起こらな
い。
加に均一触媒として好適なカチオン性ルテニウム
錯体は、ドールトン（J.C.S.Dalton）1973の846
乃至854ページに記載されている。内部に位置す
る二重結合の水素添加は、この触媒では起こらな
い。
窒素を含有する還元可能な基を有する重合体性
不飽和化合物の選択的水素化は、この場合に、副
生成物の分離が不可能であるか、または、少なく
とも極めて大きな費用を払つてはじめて可能であ
るので、特に問題である。
不飽和化合物の選択的水素化は、この場合に、副
生成物の分離が不可能であるか、または、少なく
とも極めて大きな費用を払つてはじめて可能であ
るので、特に問題である。
均一系で、クロロベンゼン中でロジウム−ハロ
ゲン錯体を用いて、ジエン−ニトリル交替単位が
大部分を占めるジエン−（メタ）−アクリロニトリ
ル共重合体のＣ−Ｃ二重結合に水素添加する方法
は、US−Ｐ ３ 700 637により公知である。均
一系であれ、不均一系であれ、他の金属、たとえ
ば白金、ルテニウム、イリジウム、パラジウム、
レニウム、コバルトまたは銅の適合性も示されて
いる。
ゲン錯体を用いて、ジエン−ニトリル交替単位が
大部分を占めるジエン−（メタ）−アクリロニトリ
ル共重合体のＣ−Ｃ二重結合に水素添加する方法
は、US−Ｐ ３ 700 637により公知である。均
一系であれ、不均一系であれ、他の金属、たとえ
ば白金、ルテニウム、イリジウム、パラジウム、
レニウム、コバルトまたは銅の適合性も示されて
いる。
DE−OS ２ 539 132のブタジエン−アクリロ
ニトリル共重合体の選択的水素添加は溶媒に依存
し、公知のロジウム触媒を前提にすれば、クロロ
ベンゼンを溶媒として用いる場合には、CN−三
重結合およびシス−二重結合は保存され、ビニル
−およびトランス二重結合は定量的に水素添加さ
れる。他の溶媒、特にケトンでは、水素添加速度
が遅いのみである。
ニトリル共重合体の選択的水素添加は溶媒に依存
し、公知のロジウム触媒を前提にすれば、クロロ
ベンゼンを溶媒として用いる場合には、CN−三
重結合およびシス−二重結合は保存され、ビニル
−およびトランス二重結合は定量的に水素添加さ
れる。他の溶媒、特にケトンでは、水素添加速度
が遅いのみである。
最後に、DE−OS ２ 459 115は、ルテニウム
触媒を用い、水酸基を保存しながら分子量4000以
内の不飽和ポリヒドロキシ炭化水素を均一系で、
または、好ましくは不均一系で水素添加する方法
を提供している。脂肪族炭化水素、芳香族炭化水
素、アルコール類、エーテル類、エステル類およ
び水が不均一系水素添加加工工程に溶媒として用
いられる。均一系水素添加工程に関しては、詳細
は記載されていない。重合体は明らかに、たとえ
ばアクリロニトリルを共重合単量体として含有し
ていてもよい。しかし、ベンゾニトリルのニトリ
ル基がエタノール中で、不均一Ru−触媒を用い
てアミノ基に水素添加されることがUS−Ｐ ３
454 644、実施例により公知であることは考
慮にあつたに違いないが、詳細な記載はない。
触媒を用い、水酸基を保存しながら分子量4000以
内の不飽和ポリヒドロキシ炭化水素を均一系で、
または、好ましくは不均一系で水素添加する方法
を提供している。脂肪族炭化水素、芳香族炭化水
素、アルコール類、エーテル類、エステル類およ
び水が不均一系水素添加加工工程に溶媒として用
いられる。均一系水素添加工程に関しては、詳細
は記載されていない。重合体は明らかに、たとえ
ばアクリロニトリルを共重合単量体として含有し
ていてもよい。しかし、ベンゾニトリルのニトリ
ル基がエタノール中で、不均一Ru−触媒を用い
てアミノ基に水素添加されることがUS−Ｐ ３
454 644、実施例により公知であることは考
慮にあつたに違いないが、詳細な記載はない。
ロジウムの存在量が極めて少ないものであり、
かつロジウムが化学工業のみでなく、主として電
機工業、ガラス工業およびセラミツクス工業で、
また、最近では、特に自動車工業（排気触媒）で
も用いられているので、この高価な金属の不足の
可能性は将来においては避けられない。
かつロジウムが化学工業のみでなく、主として電
機工業、ガラス工業およびセラミツクス工業で、
また、最近では、特に自動車工業（排気触媒）で
も用いられているので、この高価な金属の不足の
可能性は将来においては避けられない。
本発明の目標は、ロジウムに依らずに、窒素を
含有する還元可能な基を有する不飽和化合物に選
択的に水素添加するための、また、窒素を含有す
る還元可能な基を有する重合体性不飽和化合物
を、窒素を含有する還元可能な基を保存しながら
水素添加するこを可能にする新規な均一水素添加
方法を提供することにあつた。
含有する還元可能な基を有する不飽和化合物に選
択的に水素添加するための、また、窒素を含有す
る還元可能な基を有する重合体性不飽和化合物
を、窒素を含有する還元可能な基を保存しながら
水素添加するこを可能にする新規な均一水素添加
方法を提供することにあつた。
驚くべきことには、この目標は特殊なルテニウ
ムヒドリドホスフアン錯体を用いる均一反応工程
により達成された。
ムヒドリドホスフアン錯体を用いる均一反応工程
により達成された。
したがつて、本発明は式
RuH2o L5-o
式中、
Ｌはホスフインまたはアルシンを表わし、
ｎは１または２を表わす
の化合物を触媒として用いることを特徴とする、
均一相で、窒素を含有する還元可能な基を保存し
ながら行なう、窒素を含有する還元可能な基を有
する不飽和化合物の水素添加方法を提供する。
均一相で、窒素を含有する還元可能な基を保存し
ながら行なう、窒素を含有する還元可能な基を有
する不飽和化合物の水素添加方法を提供する。
ホスフインおよびアルシンは、好ましくは式
および
式中、
R1、R2およびR3は同一であつても異なつてい
てもよく、アルキル、アリール、シクロシアルキ
ルおよびアラールキルを表わす、 に相当するものである。
てもよく、アルキル、アリール、シクロシアルキ
ルおよびアラールキルを表わす、 に相当するものである。
アルキル残基の例は、１乃至20個の、好ましく
は１乃至12個の、特に好ましくは１乃至６個のＣ
−原子を有する直鎖の、または枝分れのある飽和
の炭化水素残基である。
は１乃至12個の、特に好ましくは１乃至６個のＣ
−原子を有する直鎖の、または枝分れのある飽和
の炭化水素残基である。
シクロアルキル残基は、たとえば５乃至７個の
Ｃ−原子を有する環式飽和炭化水素残基である。
Ｃ−原子を有する環式飽和炭化水素残基である。
アリール残基は、たとえば６乃至18個の、好ま
しくは６乃至10個のＣ−原子を有するベンゼン系
列の芳香族炭化水素残基である。
しくは６乃至10個のＣ−原子を有するベンゼン系
列の芳香族炭化水素残基である。
アラールキル残基は、たとえば、脂肪族部分の
１乃至６個のＣ−原子を有する直鎖の、または枝
分かれのある炭化水素残基と芳香族部分のベンゼ
ン系列の残基、好ましくはフエニルとよりなる、
アリールにより置換されたアルキル残基である。
１乃至６個のＣ−原子を有する直鎖の、または枝
分かれのある炭化水素残基と芳香族部分のベンゼ
ン系列の残基、好ましくはフエニルとよりなる、
アリールにより置換されたアルキル残基である。
上記のアルキル−、シクロアルキル−、アリー
ル−およびアラールキル残基は、水酸基、C1−
乃至C6−アルコキシ、C1−乃至C6−カルボ−C1
乃至C4−アルコキシ、フツ素、塩素またはジ−
C1−C4−アルキルアミノ基により置換されてい
てもよく、シクロアルキル−、アリール−および
アラールキル残基はC1乃至C6−アルキルにより
置換されていてもよい。アルキル−、シクロアル
キル−およびアラールキル基はケト基を含有して
いてもよい。
ル−およびアラールキル残基は、水酸基、C1−
乃至C6−アルコキシ、C1−乃至C6−カルボ−C1
乃至C4−アルコキシ、フツ素、塩素またはジ−
C1−C4−アルキルアミノ基により置換されてい
てもよく、シクロアルキル−、アリール−および
アラールキル残基はC1乃至C6−アルキルにより
置換されていてもよい。アルキル−、シクロアル
キル−およびアラールキル基はケト基を含有して
いてもよい。
配位子Ｌとしては、たとえばトリフエニルホス
フイン、ジエチルフエニルホスフイン、トリトル
イルホスフイン、トリナフチルホスフイン、ジフ
エニルメチルホスフイン、ジフエニルブチルホス
フイン、トリス−（ｐ−カルボメトキシフエニル）
−ホスフイン、トリス−（ｐ−シアノフエニル）−
ホスフイン、トリブチルホスフイン、トリス−
（トリメトキシフエニル）−ホスフイン、ビス−
（トリメチルフエニル）−フエニルホスフイン、ビ
ス−（トリメトキシフエニル）−フエニルホスフイ
ン、トリメチルフエニル−ジフエニルホスフイ
ン、トリメトキシフエニル−ジフエニルホスフイ
ン、トリス−（ジメトキシフエニル）−ホスフイ
ン、ビス−（ジメチルフエニル）−フエニルホスフ
イン、ビス−（ジメトキシフエニル）−フエニルホ
スフイン、ジメチルフエニル−ジフエニルホスフ
イン、ジメトキシフエニル−ジフエニルホスフイ
ン、ジフエニルトリフルオロメチルホスフイン、
トリフエニルアルシン、ジトルイルフエニルアル
シン、トリス−（４−エトキシフエニル）−アルシ
ン、ジフエニルシクロヘキシルアルシン、ジブチ
ルフエニルアルシンおよびジエチルフエニルアル
シンを使用し得る。
フイン、ジエチルフエニルホスフイン、トリトル
イルホスフイン、トリナフチルホスフイン、ジフ
エニルメチルホスフイン、ジフエニルブチルホス
フイン、トリス−（ｐ−カルボメトキシフエニル）
−ホスフイン、トリス−（ｐ−シアノフエニル）−
ホスフイン、トリブチルホスフイン、トリス−
（トリメトキシフエニル）−ホスフイン、ビス−
（トリメチルフエニル）−フエニルホスフイン、ビ
ス−（トリメトキシフエニル）−フエニルホスフイ
ン、トリメチルフエニル−ジフエニルホスフイ
ン、トリメトキシフエニル−ジフエニルホスフイ
ン、トリス−（ジメトキシフエニル）−ホスフイ
ン、ビス−（ジメチルフエニル）−フエニルホスフ
イン、ビス−（ジメトキシフエニル）−フエニルホ
スフイン、ジメチルフエニル−ジフエニルホスフ
イン、ジメトキシフエニル−ジフエニルホスフイ
ン、ジフエニルトリフルオロメチルホスフイン、
トリフエニルアルシン、ジトルイルフエニルアル
シン、トリス−（４−エトキシフエニル）−アルシ
ン、ジフエニルシクロヘキシルアルシン、ジブチ
ルフエニルアルシンおよびジエチルフエニルアル
シンを使用し得る。
トリアリールホスフイン、特にトリフエニルホ
スフインが好ましい。
スフインが好ましい。
使用したある種の錯体は公知物質である。これ
らは、たとえば二塩化ルテニウム−トリス−トリ
フエニルホスフインから還元により得られる（有
機金属化学雑誌（J.Organomet.Chem）54、
（1973）259−264）。
らは、たとえば二塩化ルテニウム−トリス−トリ
フエニルホスフインから還元により得られる（有
機金属化学雑誌（J.Organomet.Chem）54、
（1973）259−264）。
たとえばニトリル類、イミン類およびオキシム
類が窒素を含有する還元可能な基を有する不飽和
化合物として用いられるが、その内、ニトリルが
好ましい。
類が窒素を含有する還元可能な基を有する不飽和
化合物として用いられるが、その内、ニトリルが
好ましい。
高分子の、窒素を含有する還元可能な基を有す
る不飽和化合物として好ましいものは、85乃至50
重量％、好ましくは82乃至55重量％の少なくとも
１種の共役ジエン、15乃至50重量％、好ましくは
18乃至45重量％の少なくとも１種の不飽和ニトリ
ルおよび０乃至10重量％、好ましくは０乃至８重
量％の少なくとも１種の共役ジエンおよび不飽和
ニトリルと共重合し得る他の単層体よりなるニト
リル基含有共重合体である。
る不飽和化合物として好ましいものは、85乃至50
重量％、好ましくは82乃至55重量％の少なくとも
１種の共役ジエン、15乃至50重量％、好ましくは
18乃至45重量％の少なくとも１種の不飽和ニトリ
ルおよび０乃至10重量％、好ましくは０乃至８重
量％の少なくとも１種の共役ジエンおよび不飽和
ニトリルと共重合し得る他の単層体よりなるニト
リル基含有共重合体である。
たとえば、ブタ−１，３−ジエン、２−メチル
ブタ−１，３−ジエン、２，３−ジメチルブタ−
１，３−ジエンおよびペンタ−１，３−ジエンが
共役ジエンとして用いられ、アクリロニトリルお
よびメタクリロニトリルが不飽和ニトリルとして
用いられる。
ブタ−１，３−ジエン、２，３−ジメチルブタ−
１，３−ジエンおよびペンタ−１，３−ジエンが
共役ジエンとして用いられ、アクリロニトリルお
よびメタクリロニトリルが不飽和ニトリルとして
用いられる。
ビニル芳香族物質、たとえばスチレン、ｏ−、
ｍ−またはｐ−メチルスチレン、エチルスチレ
ン、ビニルナフタレンおよびビニルピリジン、３
乃至５個のＣ原子を有するα、β−不飽和モノカ
ルボン酸たとえばアクリル酸、メタクリル酸およ
びクロトン酸、ならびに４乃至５個のＣ原子を有
するα、β−不飽和ジカルボン酸たとえばマレイ
ン酸、フマル酸、シトラコン酸およびイタコン酸
が、また、アルキル部分に１乃至４個のＣ原子を
有するビニルアルキルエーテルが他の単量体とし
て用いられる。
ｍ−またはｐ−メチルスチレン、エチルスチレ
ン、ビニルナフタレンおよびビニルピリジン、３
乃至５個のＣ原子を有するα、β−不飽和モノカ
ルボン酸たとえばアクリル酸、メタクリル酸およ
びクロトン酸、ならびに４乃至５個のＣ原子を有
するα、β−不飽和ジカルボン酸たとえばマレイ
ン酸、フマル酸、シトラコン酸およびイタコン酸
が、また、アルキル部分に１乃至４個のＣ原子を
有するビニルアルキルエーテルが他の単量体とし
て用いられる。
好ましくは、ブタジエンとアクリロニトリルと
の二元共重合体を水素添加する。
の二元共重合体を水素添加する。
重合体の分子量は厳密ではないが、１モルあた
り500乃至500000ｇ、好ましくは１モルあたり
1000乃至200000ｇ、特に１モルあたり30000乃至
200000ｇ（数平均、ゲル浸透法により測定）であ
る。
り500乃至500000ｇ、好ましくは１モルあたり
1000乃至200000ｇ、特に１モルあたり30000乃至
200000ｇ（数平均、ゲル浸透法により測定）であ
る。
転化率または水素添加度（初期に重合体中に存
在したＣ＝Ｃ二重結合の全数に対する水素添加さ
れたＣ−Ｃ結合の百分率）は、それぞれ100％に
達し得る。しかし、必要ならば水素添加工程をそ
れ以前に中断することもできる。水素添加度が80
％以上、特に90％以上、好ましくは95％以上の重
合体が、本発明記載の方法により好適に製造され
る。水素添加度はIR−およびNMR−スペクトル
により測定する。
在したＣ＝Ｃ二重結合の全数に対する水素添加さ
れたＣ−Ｃ結合の百分率）は、それぞれ100％に
達し得る。しかし、必要ならば水素添加工程をそ
れ以前に中断することもできる。水素添加度が80
％以上、特に90％以上、好ましくは95％以上の重
合体が、本発明記載の方法により好適に製造され
る。水素添加度はIR−およびNMR−スペクトル
により測定する。
特に、３乃至10個のＣ原子を有する低分子量の
ケトン特にアセトン、ブタノン、ペンタノン、シ
クロペンタノンおよびシクロヘキサノンが本件水
素添加工程に溶媒として用いられる。
ケトン特にアセトン、ブタノン、ペンタノン、シ
クロペンタノンおよびシクロヘキサノンが本件水
素添加工程に溶媒として用いられる。
全溶液に対する不飽和化合物の濃度は１乃至
90、好ましくは５乃至40重量％である。
90、好ましくは５乃至40重量％である。
不飽和化合物に対する触媒の濃度（ルテニウム
として計算）は10乃至1000、好ましくは10乃至
600ppm、より好ましくは40乃至500ppmである。
として計算）は10乃至1000、好ましくは10乃至
600ppm、より好ましくは40乃至500ppmである。
本件水素添加工程は80乃至200℃で、好ましく
は100乃至180℃で、特に115乃至160℃で、また１
乃至350バール、好ましくは20乃至250バールの水
素圧で実施する。
は100乃至180℃で、特に115乃至160℃で、また１
乃至350バール、好ましくは20乃至250バールの水
素圧で実施する。
触媒は反応後に通常の方法で分離することがで
き、生成物は、たとえば蒸留または再結晶により
精製することができる。
き、生成物は、たとえば蒸留または再結晶により
精製することができる。
高分子量化合物の場合には、重合体は通常の方
法を用いて、たとえば蒸留により、水蒸気の注入
により、または非溶媒の添加により溶得から分離
する。残留溶媒または水を除去するために、続い
て乾燥工程を行う。
法を用いて、たとえば蒸留により、水蒸気の注入
により、または非溶媒の添加により溶得から分離
する。残留溶媒または水を除去するために、続い
て乾燥工程を行う。
本発明に従つて水素添加した重合体は、放射線
照射による架橋により加硫するのでなければ、過
酸化物または硫黄による加硫の方法により、通常
の手法で硬化される。
照射による架橋により加硫するのでなければ、過
酸化物または硫黄による加硫の方法により、通常
の手法で硬化される。
耐候性、オゾン抵抗性、耐油性および高温空気
抵抗性ならびに寒冷な気候に対する抵抗性が優れ
ているので、これらの重合体は高級（high−
grade）なゴム製品、たとえば電線絶縁および電
線被覆用のシール、ホース、膜（membrane）に
使用し得る。
抵抗性ならびに寒冷な気候に対する抵抗性が優れ
ているので、これらの重合体は高級（high−
grade）なゴム製品、たとえば電線絶縁および電
線被覆用のシール、ホース、膜（membrane）に
使用し得る。
本発明に従つて水素添加した窒素を含有する還
元可能な基を有する低分子化合物は、活性成分を
製造するための中間体として価値がある。
元可能な基を有する低分子化合物は、活性成分を
製造するための中間体として価値がある。
実施例 １
アクリロニトリル34.9重量％を含有する、ML
１＋４（100℃）のムーニー粘性29のブタジエン−
アクリロニトリル統計的共重合体220ｇを1800ml
のブタノンに溶解させた溶液を窒素で注意深くバ
ージし、これを窒素バージ下で３−リツトルのオ
ートクレーブに入れた。雰囲気を不活性に保ちな
がら、RuH4（PPh3）3590mgを200mlのブタノンに
溶解させ、これも窒素パージした溶液を添加し、
80バールの水素圧を適用した。この混合物を130
℃に加熱し、ついで、140バールの水素圧下、130
℃で４分間、反応を続行した。重合体の水素添加
度はNMR−およびIR−スペクトル法により測定
し、95％であつた。
１＋４（100℃）のムーニー粘性29のブタジエン−
アクリロニトリル統計的共重合体220ｇを1800ml
のブタノンに溶解させた溶液を窒素で注意深くバ
ージし、これを窒素バージ下で３−リツトルのオ
ートクレーブに入れた。雰囲気を不活性に保ちな
がら、RuH4（PPh3）3590mgを200mlのブタノンに
溶解させ、これも窒素パージした溶液を添加し、
80バールの水素圧を適用した。この混合物を130
℃に加熱し、ついで、140バールの水素圧下、130
℃で４分間、反応を続行した。重合体の水素添加
度はNMR−およびIR−スペクトル法により測定
し、95％であつた。
実施例 ２
実施例１の指示に従い、550mgのRuH2（PPh3）4
を用いて水素添加工程を実施した。重合体の水素
添加度は６時間の反応時間後において97％であつ
た。
を用いて水素添加工程を実施した。重合体の水素
添加度は６時間の反応時間後において97％であつ
た。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 式 RuH2o L5-o 式中、 Ｌはホスフインまたはアルシンを表わし、 ｎは１または２を表わす の化合物を触媒として用いることを特徴とする、
均一相で、窒素を含有する還元可能な基を保存し
ながら行なう、窒素を含有する還元可能な基を有
する不飽和化合物の選択的水素添加方法。 ２ 85乃至50重量％の少なくとも１種の共役ジエ
ン、15乃至50重量％の少なくとも１種の不飽和ニ
トリルならびに０乃至10重量％の少なくとも１種
の共役ジエンおよび不飽和ニトリルと共重合可能
な他の単量体より構成されているニトリル基含有
共重合体を、窒素を含有する還元可能な基を有す
る不飽和化合物として用いることを特徴とする特
許請求の範囲第１項記載の方法。 ３ 低分子量のケトンを溶媒として用いることを
特徴とする特許請求の範囲第１項記載の方法。 ４ トリアリールホスフインを配位子Ｌとして用
いることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載
の方法。 ５ トリフエニルホスフインを配位子Ｌとして用
いることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載
の方法。 ６ 水素添加工程を80乃至200℃で実施すること
を特徴とする特許請求の範囲第１項記載の方法。 ７ 水素添加工程を１乃至350バールの水素圧で
実施することを特徴とする特許請求の範囲第１項
記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE3540918.5 | 1985-11-19 | ||
| DE19853540918 DE3540918A1 (de) | 1985-11-19 | 1985-11-19 | Verfahren zur selektiven hydrierung ungesaettigter verbindungen |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62125858A JPS62125858A (ja) | 1987-06-08 |
| JPH0374131B2 true JPH0374131B2 (ja) | 1991-11-26 |
Family
ID=6286321
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61267867A Granted JPS62125858A (ja) | 1985-11-19 | 1986-11-12 | 不飽和化合物の選択的水素添加方法 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4978771A (ja) |
| EP (1) | EP0223151B1 (ja) |
| JP (1) | JPS62125858A (ja) |
| CA (1) | CA1257876A (ja) |
| DE (2) | DE3540918A1 (ja) |
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| DE3921263A1 (de) * | 1989-06-29 | 1991-01-24 | Bayer Ag | Verfahren zur selektiven hydrierung nitrilgruppenhaltiger olefine |
| JP3477849B2 (ja) * | 1994-09-30 | 2003-12-10 | 日本ゼオン株式会社 | ニトリル基含有高飽和共重合体ゴムとエチレン系飽和型共重合体ゴムとからなるゴム組成物 |
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| TW593386B (en) | 2001-06-12 | 2004-06-21 | Bayer Inc | Process for the preparation of low molecular weight hydrogenated nitrile rubber |
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| DE102005042265A1 (de) | 2005-09-06 | 2007-03-08 | Lanxess Deutschland Gmbh | Vernetzbare Zusammensetzungen, daraus erhältliche thermoplastische Elastomere und deren Verwendung |
| DE102005047115A1 (de) * | 2005-09-30 | 2007-04-05 | Lanxess Deutschland Gmbh | Vernetzbare Zusammensetzungen, Verfahren zu deren Herstellung und deren Verwendung |
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| DE102006008520A1 (de) * | 2006-02-22 | 2007-08-23 | Lanxess Deutschland Gmbh | Neue Katalysator-Systeme und deren Verwendung für Metathese-Reaktionen |
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| DE102006040569A1 (de) * | 2006-08-30 | 2008-03-06 | Lanxess Deutschland Gmbh | Verfahren zum Metathese-Abbau von Nitrilkautschuken |
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| DE102007024008A1 (de) * | 2007-05-22 | 2008-11-27 | Lanxess Deutschland Gmbh | Nitrilkautschuke |
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| EP2423235A1 (de) | 2010-08-31 | 2012-02-29 | LANXESS Deutschland GmbH | Verfahren zur Herstellung von Nitrilkautschuken in organischen Lösungsmitteln |
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| EP2471851A1 (de) | 2010-12-29 | 2012-07-04 | LANXESS Deutschland GmbH | Vulkanisierbare Zusammensetzungen auf Basis Epoxygruppen-haltiger Nitrilkautschuke |
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| EP3196239A1 (de) | 2016-01-25 | 2017-07-26 | ARLANXEO Deutschland GmbH | Vulkanisierbare zusammensetzungen auf basis von hydriertem nitrilkautschuk, verfahren zu deren herstellung und deren verwendung |
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