JPH036229A - 含フッ素結合基を有するポリイミド―ポリアミドポリマー - Google Patents
含フッ素結合基を有するポリイミド―ポリアミドポリマーInfo
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、ヘキサフルオロインプロピリデン又は1−フ
ェニル−2,2,2−)−リフルオロエタン結合基を含
有し、物理的性質及び化学的性質が改善された芳香族ポ
リイミド−ポリアミドポリマー並びに斯かるポリマーの
調製方法に関する、 (従来の技術) ポリアミド−イミドポリマー及びコポリマーは、当該技
術分野では既知である。これらの材料は、トリメリット
酸無水物の4−M塩化物のような三官能性酸モノマーと
一種以上の芳香族ジアミンとの縮合重合により調製され
る。斯かるポリマーの例は、米国特許第3 、347
、828号、同第3,494,890号、同第3.66
1.832号及び同第3,920.612号に開示され
ている。これらのポリマーは、極めて良好な高温性質(
約275℃以上のTg) 、良好な高温安定性、良好な
高温での引っ張り強さ、良好な機械的性質及び良好な化
学的性質を有することを特徴とする。
ェニル−2,2,2−)−リフルオロエタン結合基を含
有し、物理的性質及び化学的性質が改善された芳香族ポ
リイミド−ポリアミドポリマー並びに斯かるポリマーの
調製方法に関する、 (従来の技術) ポリアミド−イミドポリマー及びコポリマーは、当該技
術分野では既知である。これらの材料は、トリメリット
酸無水物の4−M塩化物のような三官能性酸モノマーと
一種以上の芳香族ジアミンとの縮合重合により調製され
る。斯かるポリマーの例は、米国特許第3 、347
、828号、同第3,494,890号、同第3.66
1.832号及び同第3,920.612号に開示され
ている。これらのポリマーは、極めて良好な高温性質(
約275℃以上のTg) 、良好な高温安定性、良好な
高温での引っ張り強さ、良好な機械的性質及び良好な化
学的性質を有することを特徴とする。
これらのポリアミド−イミドは、電線エナメルコーティ
ング、ラミネート、成形品、フィルム、繊維、含浸ワニ
ス及び高温安定性を必要とするその他の用途に有用であ
る。
ング、ラミネート、成形品、フィルム、繊維、含浸ワニ
ス及び高温安定性を必要とするその他の用途に有用であ
る。
ポリイミド−ポリアミドポリマーは、例えば米国特許第
3.179,635号に開示されているように、芳香族
二酸塩化物、芳香族ジアミン及び芳香族二酸塩化物を反
応させて調製することもできる。
3.179,635号に開示されているように、芳香族
二酸塩化物、芳香族ジアミン及び芳香族二酸塩化物を反
応させて調製することもできる。
斯かるポリマーに係わる問題の一つは、一般に流れ特性
に乏しく、加工特に射出成形又は紡糸が困難なことであ
る。これらのポリマーは、比較的親水性でもあって水分
を吸収する傾向を有し、それが透明性、熱安定性、加工
性、機械的及び電気的性質に影響することがある。これ
らのポリマーの多くは有機溶剤に不溶であり、そのため
フィルム流延及び繊維紡糸の用途並びに複合物の製造に
には適性に劣る。
に乏しく、加工特に射出成形又は紡糸が困難なことであ
る。これらのポリマーは、比較的親水性でもあって水分
を吸収する傾向を有し、それが透明性、熱安定性、加工
性、機械的及び電気的性質に影響することがある。これ
らのポリマーの多くは有機溶剤に不溶であり、そのため
フィルム流延及び繊維紡糸の用途並びに複合物の製造に
には適性に劣る。
当該技術分野では、ポリアミド−イミドポリマーの流れ
特性を改善しようとする試みがなされてきた0例えば、
米国特許第4,448,925号は、重合処決に約1乃
至約10パーセントの無水フタル酸を含めて、流れ特性
を改善したポリアミド−イミドコポリマーの提供を開示
している。しかしながら、流れ特性を改善する本技術は
、ポリマーの熱安定性及び化学的抵抗性を犠牲にして行
われる。斯かるポリマーの流れ特性を改善する局別なる
方法は、米国特許第4,575,924号に開示されて
いるように、ナイロン6又はナイロン66等のポリアミ
ドを約10重量%まで混合することである。しかしなが
ら、流れ問題を解決するためのこの方法も、得られるポ
リマーブレンドの熱安定性及び光学的透明性を犠牲にし
てなされる。
特性を改善しようとする試みがなされてきた0例えば、
米国特許第4,448,925号は、重合処決に約1乃
至約10パーセントの無水フタル酸を含めて、流れ特性
を改善したポリアミド−イミドコポリマーの提供を開示
している。しかしながら、流れ特性を改善する本技術は
、ポリマーの熱安定性及び化学的抵抗性を犠牲にして行
われる。斯かるポリマーの流れ特性を改善する局別なる
方法は、米国特許第4,575,924号に開示されて
いるように、ナイロン6又はナイロン66等のポリアミ
ドを約10重量%まで混合することである。しかしなが
ら、流れ問題を解決するためのこの方法も、得られるポ
リマーブレンドの熱安定性及び光学的透明性を犠牲にし
てなされる。
(発明が解決しようとする課題)
本発明は、卓越した流れ特性及び水分安定性を有し1w
t維、フィルム、シート及びその他の成形品への加工を
更に容易にする新規な熱安定性ポリイミド−ポリアミド
ポリマーを提供するものである。このポリマーは、一種
以上の芳香族ジアミン。
t維、フィルム、シート及びその他の成形品への加工を
更に容易にする新規な熱安定性ポリイミド−ポリアミド
ポリマーを提供するものである。このポリマーは、一種
以上の芳香族ジアミン。
一種以上の四官能性芳香族二酸無水物及び二官能性の芳
香族カルボン酸又は両芳香族部分を結合するCF、−C
−R(但し、RはCF、又はフェニルであぎ る)基を含有する芳香族カルボン酸のアミド形成誘導体
の重縮合生成物を形成することにより調製される1本発
明のポリイミド−ポリアミドポリマーは、流れ特性の改
善に加えて、大部分の有機溶剤に対する溶解性の改善、
トリクロロエチレン等塩素化溶剖の攻撃に対する抵抗が
ポリイミドよりも改善されること、疎水性並びに熱酸化
分解抵抗性を含む卓越した熱的性質の改善も示す。
香族カルボン酸又は両芳香族部分を結合するCF、−C
−R(但し、RはCF、又はフェニルであぎ る)基を含有する芳香族カルボン酸のアミド形成誘導体
の重縮合生成物を形成することにより調製される1本発
明のポリイミド−ポリアミドポリマーは、流れ特性の改
善に加えて、大部分の有機溶剤に対する溶解性の改善、
トリクロロエチレン等塩素化溶剖の攻撃に対する抵抗が
ポリイミドよりも改善されること、疎水性並びに熱酸化
分解抵抗性を含む卓越した熱的性質の改善も示す。
(課題を解決するための手段)
本発明のポリイミド−ポリアミドポリマー(以下、PI
−PAポリマーと称する)は、次式(1)の構造単位を
含むことを特徴とする。(1)但し上式(1,)中、(
a)及び(b)はポリマー鎖中の繰り返し単位のモル分
率に等しく、(a)は約0.05乃至約0.95の範囲
にあって、(b)は約0.95乃至約0.05の範囲に
あり、但しくa)と(b)の合計はl、00に等しく、
nはPDP^の固有粘度(ジメチルアセトアミド中ポリ
マー濃度0.5重量パーセントのポリマー溶液、25℃
で測定)を約0.05以上とするため十分な数であり、
Aは二価の芳香族部分であり、かつ、Bは四価の芳香族
有機基であって、環部分B内の隣接炭素原子にカルボニ
ル基の多対が結合している。
−PAポリマーと称する)は、次式(1)の構造単位を
含むことを特徴とする。(1)但し上式(1,)中、(
a)及び(b)はポリマー鎖中の繰り返し単位のモル分
率に等しく、(a)は約0.05乃至約0.95の範囲
にあって、(b)は約0.95乃至約0.05の範囲に
あり、但しくa)と(b)の合計はl、00に等しく、
nはPDP^の固有粘度(ジメチルアセトアミド中ポリ
マー濃度0.5重量パーセントのポリマー溶液、25℃
で測定)を約0.05以上とするため十分な数であり、
Aは二価の芳香族部分であり、かつ、Bは四価の芳香族
有機基であって、環部分B内の隣接炭素原子にカルボニ
ル基の多対が結合している。
式(1)のBは、好ましくは、フェニレン、ナフタレン
若しくはとスーフェニレン型化合物、又は斯かる化合物
の混合物を含み、その全てはハロゲン、水酸基、自乃至
C6の低級アルキル又は自乃至C6の低級アルコキシ基
で置換されたもの、或いは置換されていないものであり
、nは固有粘度(ジメチルアセトアミド中ポリマー濃度
0.5重量パーセントのポリマー溶液、25℃で測定)
を約0,1以上にする十分な数であり、かつ、RはCF
3である。
若しくはとスーフェニレン型化合物、又は斯かる化合物
の混合物を含み、その全てはハロゲン、水酸基、自乃至
C6の低級アルキル又は自乃至C6の低級アルコキシ基
で置換されたもの、或いは置換されていないものであり
、nは固有粘度(ジメチルアセトアミド中ポリマー濃度
0.5重量パーセントのポリマー溶液、25℃で測定)
を約0,1以上にする十分な数であり、かつ、RはCF
3である。
本発明に使用して好適なテトラカルボン酸二無水物の例
には下記のものが包含される。
には下記のものが包含される。
1.2,3.4−ベンゼンテトラカルボン酸二無水物;
1.4−ビス(2,3−ジカルボキシフェノキシ)ベン
ゼン二酸無水物: 1.3−ビス(3,4−ジカルボキシフェノキシ〉ベン
ゼン二酸無水物; 1.2,4.5−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物
;1.2,5.6−ナフタレンテトラカルボン酸二無水
物:1.4,5.8−ナフタレンテトラカルボン酸二無
水物;1.2,4.5−ベンゼンテトラカルボン酸二無
水物;2.3.6.7−ナフタレンテトラカルボン酸二
無水物;2.6−シクロロナフタレンー1.4.5.8
−テトラカルボン酸二無水物; 2.7−シクロロナフタレンー1.4,5.8−テトラ
カルボン酸二無水物; 2.3,6.7−テトラクロロナフタレンー1.4.5
J−テトラカルボン酸二無水物; 3.3’、4.4’−ジフェニルテトラカルボン酸二無
水物: 2,2’、3.3’−ジフェニルテトラカルビ
ン酸二無水物、 4.4’−ビス(3,4−ジカルボキ
シフェノキシ)ジフェニルエーテル二酸無水物; ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)エーテル二酸無
水物: 4.4°−ビス(2,3−ジカルボキシフェノキシ)ジ
フェニルエーテル二酸無水物; 4.4°−ビス(3,4−ジカルボキシフェノキシ)ジ
フェニルエーテル二酸無水物; ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)スルフィド二酸
無水物: 4.4°−ビス(2,3−ジカルボキシフェノキシ)ジ
フェニルスルフィド二酸無水物; 4.4′−ビス(3,4−ジカルボキシフェノキシ)ジ
フェニルスルフィド二酸無水物; ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)スルホン二酸無
水物; 4.4′−ビス(2,3−ジカルボキシフェノキシ)ジ
フェニルスルホン二酸無水物; 4.4′−ビス(3,4−ジカルボキシフェノキシ)ジ
フェニルスルホン二酸無水物; 3.3′−4,4°−ベンゾフェノンテトラカルボン酸
二無水物; 2.2°、3.3’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸
二無水物; 2.3.3’、4°−ベンゾフェノンテトラカルビン酸
二無水物; 4.4°−ビス(3,4−ジカルボキシフェノキシ)ペ
ンゾフエノン二酸無水物: ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)メタン二酸無水
物; ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)メタン二酸無水
物; 11−ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)エタン二
酸無水物; 1.1−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)エタン
二酸無水物; 1.2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)エタン
二酸無水物: 22−ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)プロパン
二酸無水物; 2.2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)プロパ
ン二酸無水物: 2.2ビス[4−(2,3−ジカルボキシフェノキシ)
フェニル]プロパン二酸無水物; 2.2ビス[4−(3,4−ジカルボキシフェノキシ)
フェニル]プロパン二酸無水物: 4−(2,3−ジカルボキシフェノキシ)−4′−(3
,4−ジカルボキシフェノキシ)ジフェニル−2,2−
プロパン二酸無水物; 2.2−ビス[4−(3,4−ジカルボキシフェノキシ
−3,5−ジメチル)フェニル]プロパン二酸無水物;
2.3,4.5−チオフェンテトラカルボン酸二無水物
;2.34.5−ピロリジンテトラカルボン酸二無水物
;2.3.5.6−ピラジンテトラカルボン酸二無水物
;1.8,9.10−フェナントレンテトラカルボン酸
二無水物; 3.4,9.10−ペリレンテトラカルボン酸二無水物
:2.2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)ヘキ
サフルオロプロパンニ無水物; 1.3−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)ヘキサ
フルオロプロパン二酸無水物: 1.1−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)−1−
フエニルー2.2.2− t−リフルオロエタン二酸無
水物;2,2−ビス[4−(3,4−ジカルボキシフェ
ノキシ)フェニル]ヘキサフルオロプロパンニ無水物;
1.1−ビス[4−(3,4−ジカルボキシフェノキシ
)フェニル]−1−フェニル−2,2,2−)−リフル
オロエタン二酸無水物;及び 4.4′−ビス[2−(3,4−ジカルボキシフェニル
)へキサフルオロイン10ビル1ジフエニルエーテル二
酸無水物; ビス[2−(4−カルボキシフェニル)へキサフルオロ
イソプロピル]ジフェニルエーテル二酸無水物;並びに
それらの混合物。
1.4−ビス(2,3−ジカルボキシフェノキシ)ベン
ゼン二酸無水物: 1.3−ビス(3,4−ジカルボキシフェノキシ〉ベン
ゼン二酸無水物; 1.2,4.5−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物
;1.2,5.6−ナフタレンテトラカルボン酸二無水
物:1.4,5.8−ナフタレンテトラカルボン酸二無
水物;1.2,4.5−ベンゼンテトラカルボン酸二無
水物;2.3.6.7−ナフタレンテトラカルボン酸二
無水物;2.6−シクロロナフタレンー1.4.5.8
−テトラカルボン酸二無水物; 2.7−シクロロナフタレンー1.4,5.8−テトラ
カルボン酸二無水物; 2.3,6.7−テトラクロロナフタレンー1.4.5
J−テトラカルボン酸二無水物; 3.3’、4.4’−ジフェニルテトラカルボン酸二無
水物: 2,2’、3.3’−ジフェニルテトラカルビ
ン酸二無水物、 4.4’−ビス(3,4−ジカルボキ
シフェノキシ)ジフェニルエーテル二酸無水物; ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)エーテル二酸無
水物: 4.4°−ビス(2,3−ジカルボキシフェノキシ)ジ
フェニルエーテル二酸無水物; 4.4°−ビス(3,4−ジカルボキシフェノキシ)ジ
フェニルエーテル二酸無水物; ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)スルフィド二酸
無水物: 4.4°−ビス(2,3−ジカルボキシフェノキシ)ジ
フェニルスルフィド二酸無水物; 4.4′−ビス(3,4−ジカルボキシフェノキシ)ジ
フェニルスルフィド二酸無水物; ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)スルホン二酸無
水物; 4.4′−ビス(2,3−ジカルボキシフェノキシ)ジ
フェニルスルホン二酸無水物; 4.4′−ビス(3,4−ジカルボキシフェノキシ)ジ
フェニルスルホン二酸無水物; 3.3′−4,4°−ベンゾフェノンテトラカルボン酸
二無水物; 2.2°、3.3’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸
二無水物; 2.3.3’、4°−ベンゾフェノンテトラカルビン酸
二無水物; 4.4°−ビス(3,4−ジカルボキシフェノキシ)ペ
ンゾフエノン二酸無水物: ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)メタン二酸無水
物; ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)メタン二酸無水
物; 11−ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)エタン二
酸無水物; 1.1−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)エタン
二酸無水物; 1.2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)エタン
二酸無水物: 22−ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)プロパン
二酸無水物; 2.2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)プロパ
ン二酸無水物: 2.2ビス[4−(2,3−ジカルボキシフェノキシ)
フェニル]プロパン二酸無水物; 2.2ビス[4−(3,4−ジカルボキシフェノキシ)
フェニル]プロパン二酸無水物: 4−(2,3−ジカルボキシフェノキシ)−4′−(3
,4−ジカルボキシフェノキシ)ジフェニル−2,2−
プロパン二酸無水物; 2.2−ビス[4−(3,4−ジカルボキシフェノキシ
−3,5−ジメチル)フェニル]プロパン二酸無水物;
2.3,4.5−チオフェンテトラカルボン酸二無水物
;2.34.5−ピロリジンテトラカルボン酸二無水物
;2.3.5.6−ピラジンテトラカルボン酸二無水物
;1.8,9.10−フェナントレンテトラカルボン酸
二無水物; 3.4,9.10−ペリレンテトラカルボン酸二無水物
:2.2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)ヘキ
サフルオロプロパンニ無水物; 1.3−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)ヘキサ
フルオロプロパン二酸無水物: 1.1−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)−1−
フエニルー2.2.2− t−リフルオロエタン二酸無
水物;2,2−ビス[4−(3,4−ジカルボキシフェ
ノキシ)フェニル]ヘキサフルオロプロパンニ無水物;
1.1−ビス[4−(3,4−ジカルボキシフェノキシ
)フェニル]−1−フェニル−2,2,2−)−リフル
オロエタン二酸無水物;及び 4.4′−ビス[2−(3,4−ジカルボキシフェニル
)へキサフルオロイン10ビル1ジフエニルエーテル二
酸無水物; ビス[2−(4−カルボキシフェニル)へキサフルオロ
イソプロピル]ジフェニルエーテル二酸無水物;並びに
それらの混合物。
式1のPr−PAポリマーに関し、Bは2,2−ビス(
3゜4−ジカルボキシフェニル)へキサフルオロ10バ
ン二酸無水物、1.3−ビス〈3.トジカルポキシフ工
二ル)ヘキサフルオロプロパン二酸無水物、2゜2−ビ
ス[4−(3,4−ジカルボキシフェノキシ)フェニル
]ヘキサフルオロプロパン二酸無水物、ljビス(3,
4−ジカルボキシフェニル)−1−フェニル−2゜2.
2−トリフルオロエタン二酸無水物、1,1−ビス[4
−(3,4−ジカルボキシフェニル)フェニル]−1フ
ェニル−2,2,2−トリフルオロエタン二酸無水物、
又は4.4−ビス[2−(3,4−ジカルボキシフェニ
ル)へキサフルオロイソプロピル]ジフェニルエーテル
二酸無水物の何れかの四価残基であることが好ましい。
3゜4−ジカルボキシフェニル)へキサフルオロ10バ
ン二酸無水物、1.3−ビス〈3.トジカルポキシフ工
二ル)ヘキサフルオロプロパン二酸無水物、2゜2−ビ
ス[4−(3,4−ジカルボキシフェノキシ)フェニル
]ヘキサフルオロプロパン二酸無水物、ljビス(3,
4−ジカルボキシフェニル)−1−フェニル−2゜2.
2−トリフルオロエタン二酸無水物、1,1−ビス[4
−(3,4−ジカルボキシフェニル)フェニル]−1フ
ェニル−2,2,2−トリフルオロエタン二酸無水物、
又は4.4−ビス[2−(3,4−ジカルボキシフェニ
ル)へキサフルオロイソプロピル]ジフェニルエーテル
二酸無水物の何れかの四価残基であることが好ましい。
式lのPl−PAポリマーでは、Aは次式(2)の−種
若しくは組み合わせの二価残基である。
若しくは組み合わせの二価残基である。
(2) NH2−D−NO3
但し式(2)中、Dはフェニレン、ナフタレン、ビスフ
ェニレン若しくはポリフェニレン型の化合物である。
ェニレン若しくはポリフェニレン型の化合物である。
Dは、好ましくは、下記の式のものから選択され但し上
式中、R′は、炭素−炭素共有結合、メチレン、エチレ
ン、プロピレン、イソプロピレン、ヘキサフルオロイソ
プロピリデン、■−フェニルー2,2゜2−トリフルオ
ロエチリデン、3炭素までのジクロロアルキレン及びジ
フルオロアルキレン、オキシ、チオ、スルフィニル、ス
ルホニル、スルホンアミド、カルボニル、オキシジメチ
レン、スルホニルジオキシ、カルボニルジオキシ、ジシ
ラニレン、8Si原子までのポリシラニレン、ジシロキ
サニレン、及び8 Si原子までのポリシロキサニレン
から独立に選択される二価の部分である。結合基R′は
、好ましくは、オキシ、ヘキサフルオロイソプロピリデ
ン、■−フェニルー2.2.2− )リフルオロエチリ
デン、カルボニル、メチレン、炭素−炭素共有結合、ジ
シロキサニレン及びポリシロキサニレンから選択される
。R゛は炭素−炭素結合、メチレン、ヘキサフルオロプ
ロピリデン、l−フェニル2.2.2−トリフルオロエ
チリデン及びオキシであることが最も好ましい。
式中、R′は、炭素−炭素共有結合、メチレン、エチレ
ン、プロピレン、イソプロピレン、ヘキサフルオロイソ
プロピリデン、■−フェニルー2,2゜2−トリフルオ
ロエチリデン、3炭素までのジクロロアルキレン及びジ
フルオロアルキレン、オキシ、チオ、スルフィニル、ス
ルホニル、スルホンアミド、カルボニル、オキシジメチ
レン、スルホニルジオキシ、カルボニルジオキシ、ジシ
ラニレン、8Si原子までのポリシラニレン、ジシロキ
サニレン、及び8 Si原子までのポリシロキサニレン
から独立に選択される二価の部分である。結合基R′は
、好ましくは、オキシ、ヘキサフルオロイソプロピリデ
ン、■−フェニルー2.2.2− )リフルオロエチリ
デン、カルボニル、メチレン、炭素−炭素共有結合、ジ
シロキサニレン及びポリシロキサニレンから選択される
。R゛は炭素−炭素結合、メチレン、ヘキサフルオロプ
ロピリデン、l−フェニル2.2.2−トリフルオロエ
チリデン及びオキシであることが最も好ましい。
芳香族基A及び/又はBの水素原子を塩素、フッ素、6
炭素原子まで有する低級のアルキル又はアルコキシ及び
フェニル等の非妨害性−価置換基の一種以上で置換して
もよい6本発明で使用する「芳香族」なる語は、環原子
の一以上が一〇−−S−又は−N−原子でで置換された
複素芳香族も包含する。
炭素原子まで有する低級のアルキル又はアルコキシ及び
フェニル等の非妨害性−価置換基の一種以上で置換して
もよい6本発明で使用する「芳香族」なる語は、環原子
の一以上が一〇−−S−又は−N−原子でで置換された
複素芳香族も包含する。
本発明PI−PAポリマーの調製に使用される二価のジ
アミンモノマーは下記のものを包含する。
アミンモノマーは下記のものを包含する。
置−フェニレンジアミン
P−フェニレンジアミン;
x、3−ヒス(4−アミノフェニル)プロパン2.2−
ビス(4−アミノフェニル)プロパン;4.4′−ジア
ミノ−ジフェニルメタン;1.2−ビス(4−アミノフ
ェニル)エタン:L、l−ビス(ドアミノフェニル)エ
タン;22−ジアミノ−ジエチルスルフィド・ビス(4
−アミノフェニル)スルフィド:2.4゛−ジアミノ−
ジフェニルスルフィド;ビス(3−アミノフェニル)ス
ルホン;ビス(ドアミノフェニル)スルホン; 4.4′−ジアミノ−ジベンジルスルホキシド;ビス(
4−アミノフェニル)エーテル;ビス(3−アミノフェ
ニル)エーテル:ビス(4−アミノフェニル)ジエチル
シラン;ビス(ドアミノフェニル)ジフェニルシラン;
ビス(4−アミノフェニル)エチルホスフィンオキシト
: ビス(4−アミノフェニル)フェニルホスフィンオキシ
ト; ビス(4−アミノフェン)−N−フェニルアミン;ビス
(4−アミノフェニル)−N−メチルアミン:1.2−
ジアミノ−ナフタレン: 1.4−ジアミノ−ナフタレン; 15−ジアミノ−ナフタレン; 16−シアミツ−ナフタレン: 1.7−シアミツ−ナフタレン: 1.8−ジアミノ−ナフタレン; 2.3−ジアミノ−ナフタレン; 2.6−シアミツ−ナフタレン; 1.4−ジアミノ−2−メチル−ナフタレン;1.5−
ジアミノ−2−メチル−ナフタレン;1.3−ジアミノ
−2−フェニル−ナフタレン:4.4°−ジアミノ−ビ
フェニル; 3.3゛−ジアミノ−ビフェニル; 33°−ジクロロ−4,4°−ジアミノ−ビフェニル;
33゛−ジメチル−4,4′−ジアミノ−ビフェニル;
3.4°−ジメチル−4,4−ジアミノ−ビフェニル:
33゛−ジメトキシ−4,4“−ジアミノ−ビフェニル
:4.4°−ビス〈4−アミノフェノキシ)ビフェニル
;2.4−ジアミノ−トルエン; 2.5−ジアミノ−トルエン; 26−シアミツ−トルエン: 3.5−ジアミノ−トルエン; 13−ジアミノ−2,5−ジクロロ−ベンゼン;1.4
−ジアミノ−2,5−ジクロロ−ベンゼン:1−メトキ
シ−2,4〜ジアミノ−ベンゼン:1.4−ジアミノ−
2−メトキシ−5−メチルベンゼン:1.4−ジアミノ
−2,3,5,6−シトラメチルベンゼン:1.4−ビ
ス(2−メチル−4−アミノ−ペンチル)−ベンゼン・ 1.4−ビス(l、1−ジメチル−5−アミノ−ペンチ
ル)−ベンゼン; 1.4−ビス(4−アミノフェノキシ)−゛ベンゼン;
0−キシリレンジアミノ: m−キシレンジアミン; p−キシリレンジアミン; 3.3′−ジアミノ−ベンゾフェノン;4.4′−ジア
ミノ−ベンゾフェノン;2.6−シアミツ−ピリジン; 3.5−ジアミノ−ピリジン; 13−ジアミノ−アダマンタン; 3.3゛−ジアミノ−1,1,1’−ジアダマンタン:
N−(3−アミノフェニル)−4−アミノベンズアミド
;4−アミノフェニル−3−アミノベンゾエート:2.
2−ビス(4−アミノフェニル)ヘキサフルオロプロパ
ン; 2.2−ビス(3−アミノフェニル)ヘキサフルオロプ
ロパン; 2−(3−アミノフェニル)−2−(4−アミノフェニ
ル))ヘキサフルオロプロパン; 2.2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル
]ヘキサフルオロプロパン; 2.2−ビス[4−(2−クロロ−4−アミノフェノキ
シ)フェニル]ヘキサフルオロプロパン; 1.1−ビス(4−アミノフェニル)−1−フェニル−
2,22−トリフルオロエタン: 1.1−ビス[4−<4−アミノフェノキシ)フェニル
]−1−フェニル−2,2,2−1−リフルオロエタン
;1.4−ビス(3−アミノフェニル)ブタ−1−エン
−3イン; 1.3−ビス(3−アミノフェニル)ヘキサフルオロプ
ロパン; 1.5−ビス(3−アミノフェニル゛)デカフルオロペ
ンタン: 2−(3−アミノフェニル) −2−(4−アミノフェ
ニル)ヘキサフルオロプロパン: 2.2−ビス(3−アミノ−4−メチルフェニル)ヘキ
サフルオロプロパン; 2.2−ビス(4−アミノ−3−メチルフェニル)ヘキ
サフルオロプロパン; 2.2−ビス(3−アミノ−4,5ジメチルフエニル)
ヘキサフルオロプロパン: 2.2−ビス(4−アミノ−3,5−ジメチルフェニル
)ヘキサフルオロプロパン; 及びそれらの混合物。
ビス(4−アミノフェニル)プロパン;4.4′−ジア
ミノ−ジフェニルメタン;1.2−ビス(4−アミノフ
ェニル)エタン:L、l−ビス(ドアミノフェニル)エ
タン;22−ジアミノ−ジエチルスルフィド・ビス(4
−アミノフェニル)スルフィド:2.4゛−ジアミノ−
ジフェニルスルフィド;ビス(3−アミノフェニル)ス
ルホン;ビス(ドアミノフェニル)スルホン; 4.4′−ジアミノ−ジベンジルスルホキシド;ビス(
4−アミノフェニル)エーテル;ビス(3−アミノフェ
ニル)エーテル:ビス(4−アミノフェニル)ジエチル
シラン;ビス(ドアミノフェニル)ジフェニルシラン;
ビス(4−アミノフェニル)エチルホスフィンオキシト
: ビス(4−アミノフェニル)フェニルホスフィンオキシ
ト; ビス(4−アミノフェン)−N−フェニルアミン;ビス
(4−アミノフェニル)−N−メチルアミン:1.2−
ジアミノ−ナフタレン: 1.4−ジアミノ−ナフタレン; 15−ジアミノ−ナフタレン; 16−シアミツ−ナフタレン: 1.7−シアミツ−ナフタレン: 1.8−ジアミノ−ナフタレン; 2.3−ジアミノ−ナフタレン; 2.6−シアミツ−ナフタレン; 1.4−ジアミノ−2−メチル−ナフタレン;1.5−
ジアミノ−2−メチル−ナフタレン;1.3−ジアミノ
−2−フェニル−ナフタレン:4.4°−ジアミノ−ビ
フェニル; 3.3゛−ジアミノ−ビフェニル; 33°−ジクロロ−4,4°−ジアミノ−ビフェニル;
33゛−ジメチル−4,4′−ジアミノ−ビフェニル;
3.4°−ジメチル−4,4−ジアミノ−ビフェニル:
33゛−ジメトキシ−4,4“−ジアミノ−ビフェニル
:4.4°−ビス〈4−アミノフェノキシ)ビフェニル
;2.4−ジアミノ−トルエン; 2.5−ジアミノ−トルエン; 26−シアミツ−トルエン: 3.5−ジアミノ−トルエン; 13−ジアミノ−2,5−ジクロロ−ベンゼン;1.4
−ジアミノ−2,5−ジクロロ−ベンゼン:1−メトキ
シ−2,4〜ジアミノ−ベンゼン:1.4−ジアミノ−
2−メトキシ−5−メチルベンゼン:1.4−ジアミノ
−2,3,5,6−シトラメチルベンゼン:1.4−ビ
ス(2−メチル−4−アミノ−ペンチル)−ベンゼン・ 1.4−ビス(l、1−ジメチル−5−アミノ−ペンチ
ル)−ベンゼン; 1.4−ビス(4−アミノフェノキシ)−゛ベンゼン;
0−キシリレンジアミノ: m−キシレンジアミン; p−キシリレンジアミン; 3.3′−ジアミノ−ベンゾフェノン;4.4′−ジア
ミノ−ベンゾフェノン;2.6−シアミツ−ピリジン; 3.5−ジアミノ−ピリジン; 13−ジアミノ−アダマンタン; 3.3゛−ジアミノ−1,1,1’−ジアダマンタン:
N−(3−アミノフェニル)−4−アミノベンズアミド
;4−アミノフェニル−3−アミノベンゾエート:2.
2−ビス(4−アミノフェニル)ヘキサフルオロプロパ
ン; 2.2−ビス(3−アミノフェニル)ヘキサフルオロプ
ロパン; 2−(3−アミノフェニル)−2−(4−アミノフェニ
ル))ヘキサフルオロプロパン; 2.2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル
]ヘキサフルオロプロパン; 2.2−ビス[4−(2−クロロ−4−アミノフェノキ
シ)フェニル]ヘキサフルオロプロパン; 1.1−ビス(4−アミノフェニル)−1−フェニル−
2,22−トリフルオロエタン: 1.1−ビス[4−<4−アミノフェノキシ)フェニル
]−1−フェニル−2,2,2−1−リフルオロエタン
;1.4−ビス(3−アミノフェニル)ブタ−1−エン
−3イン; 1.3−ビス(3−アミノフェニル)ヘキサフルオロプ
ロパン; 1.5−ビス(3−アミノフェニル゛)デカフルオロペ
ンタン: 2−(3−アミノフェニル) −2−(4−アミノフェ
ニル)ヘキサフルオロプロパン: 2.2−ビス(3−アミノ−4−メチルフェニル)ヘキ
サフルオロプロパン; 2.2−ビス(4−アミノ−3−メチルフェニル)ヘキ
サフルオロプロパン; 2.2−ビス(3−アミノ−4,5ジメチルフエニル)
ヘキサフルオロプロパン: 2.2−ビス(4−アミノ−3,5−ジメチルフェニル
)ヘキサフルオロプロパン; 及びそれらの混合物。
本発明のポリマーの調製に使用される第三のモノマー成
分は、次式(3)のジカルボン酸又はそのアミド形成誘
導体である。
分は、次式(3)のジカルボン酸又はそのアミド形成誘
導体である。
2.2−ビス(3−カルボキシフェニル)ヘキサフルオ
ロプロパン、及び 1.1−ビス(4−カルボキシフェニル)−1−フェニ
ル2.2.2− トリフルオロエタンの酸ハロゲン化物
誘導体である。
ロプロパン、及び 1.1−ビス(4−カルボキシフェニル)−1−フェニ
ル2.2.2− トリフルオロエタンの酸ハロゲン化物
誘導体である。
本発明のポリマーは、前記の含フッ素芳香族二酸又は誘
導体と一種以上の相異なる二酸又はその誘導体、好まし
くは芳香族ジカルボン酸ハロゲン化物とのモノマー混合
物を用いて調製することもできる。斯かる混合物に有用
な代表的酸ハロゲン化物は、下式により表される。
導体と一種以上の相異なる二酸又はその誘導体、好まし
くは芳香族ジカルボン酸ハロゲン化物とのモノマー混合
物を用いて調製することもできる。斯かる混合物に有用
な代表的酸ハロゲン化物は、下式により表される。
但し上式(3)中、RはCF、又はフェニルである。
斯かる好適なジカルボン酸誘導体には、その酸ハロゲン
化物、好ましくは酸塩化物又はその低級アルキルエステ
ル又はフェニルエステルが包含される。
化物、好ましくは酸塩化物又はその低級アルキルエステ
ル又はフェニルエステルが包含される。
斯かる好適なジカルボン酸モノマーは、22−ビス(4
−カルボキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン、 但し上式中、Eは二価のアルキレン、脂環式又は芳香族
、好ましくは下記のものから選択される芳香族部分を表
わす。
−カルボキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン、 但し上式中、Eは二価のアルキレン、脂環式又は芳香族
、好ましくは下記のものから選択される芳香族部分を表
わす。
但し上式中、Roは、炭素−炭素共有結合、メチレン、
エチレン、プロピレン、イソプロピレン、3炭素までの
ジクロロアルキレン及びジフルオロアルキレン、l−フ
ェニル−2,2,2−トリクロロエチリデン、オキシ、
チオ、スルフィニル、スルホンアミド、カルボニル、オ
キシジカルボニル、オキシジメチレン、スルホニルジオ
キシ、カルボニルジオキシ、シラニレン、ジシラニレン
、8Si原子までのポリシラニレン、シロキサニシン、
ジシロキサニレン及び8Si原子までのボーリシロキサ
ニレンから独立に選択される二価の部分である。この結
合基R′は、好ましくは、オキシ、カルボニル、メチレ
ン、炭素−炭素共有結合、シロキサニシン、ジシロキサ
ニレン及びポリシロキサニシンから選択され、メチレン
及びオキシが最も好ましい。
エチレン、プロピレン、イソプロピレン、3炭素までの
ジクロロアルキレン及びジフルオロアルキレン、l−フ
ェニル−2,2,2−トリクロロエチリデン、オキシ、
チオ、スルフィニル、スルホンアミド、カルボニル、オ
キシジカルボニル、オキシジメチレン、スルホニルジオ
キシ、カルボニルジオキシ、シラニレン、ジシラニレン
、8Si原子までのポリシラニレン、シロキサニシン、
ジシロキサニレン及び8Si原子までのボーリシロキサ
ニレンから独立に選択される二価の部分である。この結
合基R′は、好ましくは、オキシ、カルボニル、メチレ
ン、炭素−炭素共有結合、シロキサニシン、ジシロキサ
ニレン及びポリシロキサニシンから選択され、メチレン
及びオキシが最も好ましい。
結合基E及び/又はRoの水素原子を塩素、フッ素、6
炭素までの低級アルキル及びフェニル等の非妨害性−価
置換基で置換してもよい。本願で使用する「芳香族」及
び「脂環式Jなる語は、環炭素原子の一以上を一〇−−
S−、又は−N−原子で置換した複素芳香族及び複素脂
環式の化合物を包含する。
炭素までの低級アルキル及びフェニル等の非妨害性−価
置換基で置換してもよい。本願で使用する「芳香族」及
び「脂環式Jなる語は、環炭素原子の一以上を一〇−−
S−、又は−N−原子で置換した複素芳香族及び複素脂
環式の化合物を包含する。
斯かる混合物に有用な芳香族ジカルボン酸の酸ハロゲン
化物の例には下記酸の酸塩化物が包含される。
化物の例には下記酸の酸塩化物が包含される。
インフタル酸;
フタル酸;
テレフタル酸;
1.4−フエニレンニエタン酸:
3.3°−ビフェニルジカルボン酸;
4.4′−ビフェニルジカルボン酸;
3.3′〜ジカルボキシジフエニルエーテル;4.4゛
−ジカルボキシジフェニルエーテル;ビス−(4−カル
ボキシフェニル)メタン;ビス−(4−カルボキシフェ
ニル)−メチルーホスハンオキシド(phosphan
e oxide) ;ビス−〈3−カルボキシフェニ
ル)−スルホン;4.4°−ジカルボキシテトラフェニ
ルシラン:ビス(3−カルボキシフェニル)−スルホン
:ビス(4−カルボキシフェニル)−スルホン:5−三
級プチルイソフタル酸; 5−臭化イソフタル酸; 5−フルオロ−イソフタル酸; 5−タロロイソフタル酸; 2.2−ビス(3−カルボキシフェニル)プロパン;2
.2−1:’ス(4−カルボキシフェニル)プロパン:
4.4°−(p−フェニレンジオキシ)二安息香酸;2
.6−ナフタレンジカルボン酸; 4.4′−バラーフェニレンジオキシニ安息香酸4.4
′−ビス[2−(4−カルボキシフェニル)へキサフル
オロイソプロピル]ジフェニルエーテル;ビス(3−カ
ルボキシフェニル)スルフィド;ビス〈4−カルボキシ
フェニル)スルフィド:1.4−フェニレンニエタン酸
; 1トビス(4−カルボキシフェノキシ)フェニレン:2
,2−ビスr4−(4−カルボキシフェノキシ)フェニ
ル]ヘキサフルオロプロパン; 1.1−ビス[4−(4−カルボキシフェノキシ)フェ
ニルJ −1フェニル−2,2,2−トリフルオロエタ
ン;及びそれらの混合物。
−ジカルボキシジフェニルエーテル;ビス−(4−カル
ボキシフェニル)メタン;ビス−(4−カルボキシフェ
ニル)−メチルーホスハンオキシド(phosphan
e oxide) ;ビス−〈3−カルボキシフェニ
ル)−スルホン;4.4°−ジカルボキシテトラフェニ
ルシラン:ビス(3−カルボキシフェニル)−スルホン
:ビス(4−カルボキシフェニル)−スルホン:5−三
級プチルイソフタル酸; 5−臭化イソフタル酸; 5−フルオロ−イソフタル酸; 5−タロロイソフタル酸; 2.2−ビス(3−カルボキシフェニル)プロパン;2
.2−1:’ス(4−カルボキシフェニル)プロパン:
4.4°−(p−フェニレンジオキシ)二安息香酸;2
.6−ナフタレンジカルボン酸; 4.4′−バラーフェニレンジオキシニ安息香酸4.4
′−ビス[2−(4−カルボキシフェニル)へキサフル
オロイソプロピル]ジフェニルエーテル;ビス(3−カ
ルボキシフェニル)スルフィド;ビス〈4−カルボキシ
フェニル)スルフィド:1.4−フェニレンニエタン酸
; 1トビス(4−カルボキシフェノキシ)フェニレン:2
,2−ビスr4−(4−カルボキシフェノキシ)フェニ
ル]ヘキサフルオロプロパン; 1.1−ビス[4−(4−カルボキシフェノキシ)フェ
ニルJ −1フェニル−2,2,2−トリフルオロエタ
ン;及びそれらの混合物。
部分Eは、1乃至20炭素を有するアルキレン部分又は
4乃至18炭素の脂環式部分からも選択される。この類
のジカルボン酸ハロゲン化物の例には、下記のジカルボ
ン酸の酸ハロゲン化物が包含される。
4乃至18炭素の脂環式部分からも選択される。この類
のジカルボン酸ハロゲン化物の例には、下記のジカルボ
ン酸の酸ハロゲン化物が包含される。
1.4−シクロヘキサンジカルボン酸;1.3−シクロ
ヘキサンジカルボン酸;シュウ酸; 1.2−シクロブタンジカルボン酸; 1.4−シクロヘキサンニ酢酸; マロン酸: ベンタンニ酸: ヘキサンニ酸: 2.4−フランジカルボン酸; 1.10−デカンジカルボンv1: 1.12−ドデカンジカルボン酸; コハクM; 1.18−オクタデカンジカルボン酸ニゲルタル酸: 2.6−シクロヘキサンジプロビオン酸:アジビン酸; 2.6−シクロヘキサンニヘキサン酸;及びそれらの混
合物。
ヘキサンジカルボン酸;シュウ酸; 1.2−シクロブタンジカルボン酸; 1.4−シクロヘキサンニ酢酸; マロン酸: ベンタンニ酸: ヘキサンニ酸: 2.4−フランジカルボン酸; 1.10−デカンジカルボンv1: 1.12−ドデカンジカルボン酸; コハクM; 1.18−オクタデカンジカルボン酸ニゲルタル酸: 2.6−シクロヘキサンジプロビオン酸:アジビン酸; 2.6−シクロヘキサンニヘキサン酸;及びそれらの混
合物。
本発明のPI−PAポリマーは、A及びBの画部分が芳
香族二酸無水物及びジアミンの反応物に含まれる含フッ
素残基をベースとする式lのポリマーの場合のように、
100モル%の含フッ素モノマーをベースとするもので
あってもよい、しかしながら、このポリマーは、ポリマ
ー中の二酸、二酸無水物及びアミノモノマーの合計重量
を基準として、約25乃至約100モルパーセントの含
フッ素モノマーを含有すると更に好ましく、約50乃至
約75モルパーセントの含フッ素モノマーを含有するこ
とが最も好ましい。
香族二酸無水物及びジアミンの反応物に含まれる含フッ
素残基をベースとする式lのポリマーの場合のように、
100モル%の含フッ素モノマーをベースとするもので
あってもよい、しかしながら、このポリマーは、ポリマ
ー中の二酸、二酸無水物及びアミノモノマーの合計重量
を基準として、約25乃至約100モルパーセントの含
フッ素モノマーを含有すると更に好ましく、約50乃至
約75モルパーセントの含フッ素モノマーを含有するこ
とが最も好ましい。
二酸、二酸無水物及びジアミン反応物、特にフッ素を含
有するものは、実質上電子材料として十分な純度のもの
が好ましく、電子材料板モノマーと称される。斯かる反
応物は、一般に、純度が約98.5%以上でなければな
らず、約99.5%以上であると更に好適である。
有するものは、実質上電子材料として十分な純度のもの
が好ましく、電子材料板モノマーと称される。斯かる反
応物は、一般に、純度が約98.5%以上でなければな
らず、約99.5%以上であると更に好適である。
本発明のPI−PAは、好ましくは溶液重合法により、
すなわち適当な溶剤中、必要に応じて触媒又は添加無機
塩たとえば塩化リチウム又は塩化力ルシュウムの存在下
及び窒素雰囲気下で二酸塩化物、二酸無水物及びジアミ
ンモノマーを反応させて調製される0重合は、無水の等
温重合条件下、好ましくは35℃未満の温度で実施され
る。続いて中間体のポリアミド−ポリアミン酸反応生成
物を、化学的脱水又は適当な加熱処理により環化してイ
ミド結合を形成する。ポリマーは、水中又はメタノール
等のアルコール中での沈殿により回収され洗浄される。
すなわち適当な溶剤中、必要に応じて触媒又は添加無機
塩たとえば塩化リチウム又は塩化力ルシュウムの存在下
及び窒素雰囲気下で二酸塩化物、二酸無水物及びジアミ
ンモノマーを反応させて調製される0重合は、無水の等
温重合条件下、好ましくは35℃未満の温度で実施され
る。続いて中間体のポリアミド−ポリアミン酸反応生成
物を、化学的脱水又は適当な加熱処理により環化してイ
ミド結合を形成する。ポリマーは、水中又はメタノール
等のアルコール中での沈殿により回収され洗浄される。
このポリマーを合成するための溶液重合法に有用な溶剤
は、反応物とあまり反応しない官能基を有する有機溶剤
である。この有機溶剤は、系に対して不活性であること
及び好ましくはポリマーの溶剤であることに加え、反応
物の少なくとも一種、好ましくは反応物の全種に対する
溶剤でなければならない、 N、N−ジアルキルカルボ
キシルアミド類の通常液状の有機溶剤が、本法の溶剤と
して有用である。好適溶剤は、本類の低分子量物、特に
N。
は、反応物とあまり反応しない官能基を有する有機溶剤
である。この有機溶剤は、系に対して不活性であること
及び好ましくはポリマーの溶剤であることに加え、反応
物の少なくとも一種、好ましくは反応物の全種に対する
溶剤でなければならない、 N、N−ジアルキルカルボ
キシルアミド類の通常液状の有機溶剤が、本法の溶剤と
して有用である。好適溶剤は、本類の低分子量物、特に
N。
N−ジメチルホルムアミド及びN、N−ジメチルアセト
アミドである、その他の有用溶剤は、N、N−ジエチル
ホルムアミド、N、N−ジエチルアセトアミド、N。
アミドである、その他の有用溶剤は、N、N−ジエチル
ホルムアミド、N、N−ジエチルアセトアミド、N。
N−ジメチルメトキシアセトアミド、N−メチルカプロ
ラクタム等である。使用可能なその他の溶剤にはジメチ
ルスルホキシド、N−メチル−2−ピロリドン、テトラ
メチル尿素、ピリジン、ジメチルスルホン、ヘキサメチ
ルホスホルアミド、テトラメチレンスルホン、ホルムア
ミド、N−メチルホルムアミド、ブチロラクトン及び■
−クレゾール等のフェノールが包含される。溶剤は、単
独若しくは組合合わせて使用することができる。
ラクタム等である。使用可能なその他の溶剤にはジメチ
ルスルホキシド、N−メチル−2−ピロリドン、テトラ
メチル尿素、ピリジン、ジメチルスルホン、ヘキサメチ
ルホスホルアミド、テトラメチレンスルホン、ホルムア
ミド、N−メチルホルムアミド、ブチロラクトン及び■
−クレゾール等のフェノールが包含される。溶剤は、単
独若しくは組合合わせて使用することができる。
モノマー、溶剤等の任意特定の組合せで固有粘度すなわ
ち重合度を最大にし、最適靭性の成形品たとえばフィル
ムやフィラメントを製造するには、反応を通じての温度
を50℃未満、好ましくは約35℃未満に維持しなけれ
ばならないことが知見された。
ち重合度を最大にし、最適靭性の成形品たとえばフィル
ムやフィラメントを製造するには、反応を通じての温度
を50℃未満、好ましくは約35℃未満に維持しなけれ
ばならないことが知見された。
PI−PAポリマーの重合度は、慎重な調節に支配され
る。前記の条件下で酸反応物とアミノ反応物を等モル量
用いると、非常に高分子量のポリマーが得られる。酸反
応物又はアミノ反応物の一方を過剰に用いると、重合度
が制限される。ポリマーの分子量を制限するには、−反
応物を過剰使用することに加え、無水フタル酸のような
連鎖停止剤を用いて、ポリマー鎖の末端を「キャップ」
することもできる。代表的な有用キャップ剤は、無水フ
タル酸、アニリン又はρ−メチルアニリン等の一酸無水
物又はモノアミンである。
る。前記の条件下で酸反応物とアミノ反応物を等モル量
用いると、非常に高分子量のポリマーが得られる。酸反
応物又はアミノ反応物の一方を過剰に用いると、重合度
が制限される。ポリマーの分子量を制限するには、−反
応物を過剰使用することに加え、無水フタル酸のような
連鎖停止剤を用いて、ポリマー鎖の末端を「キャップ」
することもできる。代表的な有用キャップ剤は、無水フ
タル酸、アニリン又はρ−メチルアニリン等の一酸無水
物又はモノアミンである。
PI−PAポリマーの調製には、ポリマーの固有粘度が
約0.1以上、好ましくは約0.2乃至約2.0となる
ような分子量であることが望ましい、固有粘度は、ジメ
チルアセトアミド等適当な溶剤中0.5重量%のポリマ
ー濃度、25℃で測定される。
約0.1以上、好ましくは約0.2乃至約2.0となる
ような分子量であることが望ましい、固有粘度は、ジメ
チルアセトアミド等適当な溶剤中0.5重量%のポリマ
ー濃度、25℃で測定される。
本法に使用する有機溶剤の量は、−反応物好ましくはジ
アミンが十分に溶解してジアミンと他のモノマーとの反
応が開始するために十分でありさえすればよい。溶剤が
最終溶液の60%以上を占めるとき、最も良好な結果が
得られること、すなわち、溶液は0.05−40%、更
に好ましくは10−25%のポリマー成分を含有しなけ
ればならないことが見出されたのである。
アミンが十分に溶解してジアミンと他のモノマーとの反
応が開始するために十分でありさえすればよい。溶剤が
最終溶液の60%以上を占めるとき、最も良好な結果が
得られること、すなわち、溶液は0.05−40%、更
に好ましくは10−25%のポリマー成分を含有しなけ
ればならないことが見出されたのである。
本法の第二工程(脱水)は、単独の脱水剤又は三級アミ
ンと組み合せた脱水剤、例えば無水酢酸又は無水酢酸と
ピリジン若しくはベーターピコリンとの混合物でポリア
ミド−ポリアミン酸を処理して行われる、無水酢酸/三
級アミンの比は、ゼロを僅か越えた比から無限大の比ま
で変えることができる。
ンと組み合せた脱水剤、例えば無水酢酸又は無水酢酸と
ピリジン若しくはベーターピコリンとの混合物でポリア
ミド−ポリアミン酸を処理して行われる、無水酢酸/三
級アミンの比は、ゼロを僅か越えた比から無限大の比ま
で変えることができる。
本法では、好適なピリジン又はベーターピコリンとほぼ
同一活性を有する三級アミンを使用することができる。
同一活性を有する三級アミンを使用することができる。
これらの三級アミンには、イソキノリン、3,4−ルチ
ジン、3,5−ルチジン、4−メチルビリジン、3−メ
チルビリジン、4−イソプロピルピリジン、N、N−ジ
メチルベンジルアミン、4−ベンジルピリジン及びN、
N−ジメチルドデシルアミンが包含される。これらのア
ミンは、−mに、酸無水物転化剤量の0.3モル倍量乃
至等モル量使用される。
ジン、3,5−ルチジン、4−メチルビリジン、3−メ
チルビリジン、4−イソプロピルピリジン、N、N−ジ
メチルベンジルアミン、4−ベンジルピリジン及びN、
N−ジメチルドデシルアミンが包含される。これらのア
ミンは、−mに、酸無水物転化剤量の0.3モル倍量乃
至等モル量使用される。
トリメチルアミン及びトリエチレンジアミンは格段の活
性に富み、従って一般的には更に少ない量で使用される
。他方、下記の操作可能アミン:2−エチルピリジン、
2−メチルビリジン、トリエチルアミン、N−エチルモ
ルホリン、N−メチルホルホリン、ジエチルシクロヘキ
シルアミン、N、N−ジメチルシクロヘキシルアミン、
4−ベンゾイルピリジン、2、トルチジン、2.6−ル
チジン及び2,4.6−コリジンはピリジンよりも活性
が低く、一般には更に多量使用される。
性に富み、従って一般的には更に少ない量で使用される
。他方、下記の操作可能アミン:2−エチルピリジン、
2−メチルビリジン、トリエチルアミン、N−エチルモ
ルホリン、N−メチルホルホリン、ジエチルシクロヘキ
シルアミン、N、N−ジメチルシクロヘキシルアミン、
4−ベンゾイルピリジン、2、トルチジン、2.6−ル
チジン及び2,4.6−コリジンはピリジンよりも活性
が低く、一般には更に多量使用される。
PI−PAポリマーを調製する一別法は、中間体ポリア
ミド−ポリアミン酸の熱的脱水である。この変換は、一
般にはバルク、好ましくは成形物品の形態たとえばポリ
アミン酸のフィルム又はフィラメントの形態で実施され
る、この脱水は、約100℃の温度から出発し、特定ケ
ースに応じて約300℃又はそれ以上の温度まで昇温し
、イミド化工程の終期まで段階的に行われる。反応は、
好ましくは不活性雰囲気下で実施され、大気圧又は減圧
の使用が可能である。
ミド−ポリアミン酸の熱的脱水である。この変換は、一
般にはバルク、好ましくは成形物品の形態たとえばポリ
アミン酸のフィルム又はフィラメントの形態で実施され
る、この脱水は、約100℃の温度から出発し、特定ケ
ースに応じて約300℃又はそれ以上の温度まで昇温し
、イミド化工程の終期まで段階的に行われる。反応は、
好ましくは不活性雰囲気下で実施され、大気圧又は減圧
の使用が可能である。
本発明のPI−PAポリマーは、一般に、約5 、00
0乃至約200 、000以上の範囲内の重量平均分子
量(My)を有する。
0乃至約200 、000以上の範囲内の重量平均分子
量(My)を有する。
以下の実施例は、本発明の例示である。
火1」1゜
本実施例は、上記化学式1の構造を有し、メチレンジア
ニリン(MDA ) 0.01モル、2,2−ビスくト
クロロ力ルポニルフェニル)ヘキサフルオロプロパン(
6F−二酸塩化物)0.005モル及び2.2−ビス(
3,4−ジカルボキシフェニル)ヘキサフルオロプロパ
ン二酸無水物(6F−二酸無水物)を反応させ、合計モ
ノマー含量基準で、6F−二酸塩化物25モルパーセン
ト含有するポリマーにした生成物をベースとするポリア
ミド−イミドの調製法を詳しく説明する。
ニリン(MDA ) 0.01モル、2,2−ビスくト
クロロ力ルポニルフェニル)ヘキサフルオロプロパン(
6F−二酸塩化物)0.005モル及び2.2−ビス(
3,4−ジカルボキシフェニル)ヘキサフルオロプロパ
ン二酸無水物(6F−二酸無水物)を反応させ、合計モ
ノマー含量基準で、6F−二酸塩化物25モルパーセン
ト含有するポリマーにした生成物をベースとするポリア
ミド−イミドの調製法を詳しく説明する。
攪拌期、コンデンサ、Y管、粉末添加ロート、温度計、
ドライアイス−アセトン冷却浴及び窒素シールを備えた
250m l三つロフラスコに、窒素雰囲気下、MDA
1.98グラム<0.01モル)を試薬級ジメチルア
セトアミド(D14AC) 46グラムと共に充填した
。混合物を攪拌してMDAを溶解し、約−1O℃の温度
に冷却した。別に6F−二酸塩化物2.145g(0,
005モル)と6F−二酸無水物2.22グラム(0,
005モル)とを上記量比で混合し、この混合物の17
2を約25分間にわたってDMACの溶液に徐々に添加
し、その間窒素雰囲気下で撹拌を継続して温度を約lO
℃に維持した。次に、該混合物の残りを窒素雰囲気下、
約−12℃で攪拌しながら約39分間にわたって徐々に
添加した。この混合物を含むビーカーを6グラムの追加
DMACでゆすぎ、これも重合溶液に加えて撹拌を30
分間継続した。溶液の温度を8℃まで高め、トリエチル
アミン1.12グラム< 0.011モル)を攪拌を続
けながら窒素雰囲気1約5分間にわたり滴下した。その
あと、窒素下にD)4AC6グラムを充填し、6−10
℃の範囲内の温度で160分間にわたり反応塊状物を攪
拌した。そのあと、ピリジン3.8グラムと無水酢酸5
.4グラムを窒素下に充填し、引続き反応塊状物を室温
で約12時間攪拌して環化を完結させた0次に該反応塊
状物を濾過してピリジン塩酸塩を除去した0反応液にメ
タノールを添加することにより、即ちポリマー溶液各5
00グラムに約200ONQのメタノールを用いる逆沈
殿法により、上記のように形成されたポリマーを溶液か
らメタノール中に沈殿させた。
ドライアイス−アセトン冷却浴及び窒素シールを備えた
250m l三つロフラスコに、窒素雰囲気下、MDA
1.98グラム<0.01モル)を試薬級ジメチルア
セトアミド(D14AC) 46グラムと共に充填した
。混合物を攪拌してMDAを溶解し、約−1O℃の温度
に冷却した。別に6F−二酸塩化物2.145g(0,
005モル)と6F−二酸無水物2.22グラム(0,
005モル)とを上記量比で混合し、この混合物の17
2を約25分間にわたってDMACの溶液に徐々に添加
し、その間窒素雰囲気下で撹拌を継続して温度を約lO
℃に維持した。次に、該混合物の残りを窒素雰囲気下、
約−12℃で攪拌しながら約39分間にわたって徐々に
添加した。この混合物を含むビーカーを6グラムの追加
DMACでゆすぎ、これも重合溶液に加えて撹拌を30
分間継続した。溶液の温度を8℃まで高め、トリエチル
アミン1.12グラム< 0.011モル)を攪拌を続
けながら窒素雰囲気1約5分間にわたり滴下した。その
あと、窒素下にD)4AC6グラムを充填し、6−10
℃の範囲内の温度で160分間にわたり反応塊状物を攪
拌した。そのあと、ピリジン3.8グラムと無水酢酸5
.4グラムを窒素下に充填し、引続き反応塊状物を室温
で約12時間攪拌して環化を完結させた0次に該反応塊
状物を濾過してピリジン塩酸塩を除去した0反応液にメ
タノールを添加することにより、即ちポリマー溶液各5
00グラムに約200ONQのメタノールを用いる逆沈
殿法により、上記のように形成されたポリマーを溶液か
らメタノール中に沈殿させた。
引き続き得られたポリマーを水及びメタノールで洗浄し
、機械式ブレンダ内で水性懸濁物として細断し微粉末に
した。この粉末を一夜60℃の真空乾燥器内で乾燥した
。
、機械式ブレンダ内で水性懸濁物として細断し微粉末に
した。この粉末を一夜60℃の真空乾燥器内で乾燥した
。
このポリマーは、下記の統計的構造式を有する。
本実施例は、上記化学式1の構造を有し、オキシアニリ
ン(ODA) 0.01モル、6F−二酸塩化物0.0
05モル及び6F−二酸無水物0.005モルの反応生
成物をベースとするポリイミド−ポリアミドの調製につ
き説明する。
ン(ODA) 0.01モル、6F−二酸塩化物0.0
05モル及び6F−二酸無水物0.005モルの反応生
成物をベースとするポリイミド−ポリアミドの調製につ
き説明する。
下記の材料及び量を用いて、実施例1の方法を繰り返し
た。
た。
ODA 2.00グラム6
F−二酸塩化物 2.15グラム6F−
二酸無水物 2.22グラムDMAC5
8,00グラム ピリジン 3.80グラムトリエ
チルアミン 1.12グラム無水酢酸
5.42グラム実施例1に記載
のように重合を実施し、上記反応物及び材料の逐次添加
及びポリマーの回収も実施例1記載の通りであった。明
緑色の粉末ポリマーが5.4グラム得られた。このポリ
マーの構造は、メチレン結合が酸素結合で置換されたこ
とを除き、実1f!、倒1で調製したポリマーのそれと
同一であった。
F−二酸塩化物 2.15グラム6F−
二酸無水物 2.22グラムDMAC5
8,00グラム ピリジン 3.80グラムトリエ
チルアミン 1.12グラム無水酢酸
5.42グラム実施例1に記載
のように重合を実施し、上記反応物及び材料の逐次添加
及びポリマーの回収も実施例1記載の通りであった。明
緑色の粉末ポリマーが5.4グラム得られた。このポリ
マーの構造は、メチレン結合が酸素結合で置換されたこ
とを除き、実1f!、倒1で調製したポリマーのそれと
同一であった。
実施例1及び2に従って調製したPI−PA 1?リマ
ーの性質を第1表に示す。
ーの性質を第1表に示す。
第1表
1 50 、 50 1
00<MDA> 0.362 50
50 100(00^) 0.0
81 47869 24644 1.9
298 5002 89976
44352 2.0 303 480上
記ポリマーの重量平均分子量(My)と数平均分子量(
Mn)は、ゲル浸透クロマトグラフ法(GPC)により
ポリマーのテトラヒドロフラン(T)IF)希薄溶液で
行った。実際に用いた装置は、ウォーターズ(Wate
rs 、ミリポア社(14i11ipore Corp
、))70グラム可自動ナンプラー、真空ポンプ、ヒー
ター付きクロマトグラフィーカラム及びシマズCR30
Aデータ還元システム(付属ソフトウェア/バージョン
1.1シマズバ一ト番号T/N 22301309−9
1付き)に接続した示差屈折率計から構成された。使用
した屈折率計はウォーターズモデル410であり、50
0オンゲストロン(Angstron)、1,000オ
ンゲストロン、10.000オンゲストロン及びtoo
、oooオンゲストロンの四クロマトグラフィーカラム
(ウォーターズ社製)を直列に接続した。この系を、下
記分子量範囲のマルチプルアベラブル(muliple
avatlable)ポリスチレン標準を用いて較正
した。
00<MDA> 0.362 50
50 100(00^) 0.0
81 47869 24644 1.9
298 5002 89976
44352 2.0 303 480上
記ポリマーの重量平均分子量(My)と数平均分子量(
Mn)は、ゲル浸透クロマトグラフ法(GPC)により
ポリマーのテトラヒドロフラン(T)IF)希薄溶液で
行った。実際に用いた装置は、ウォーターズ(Wate
rs 、ミリポア社(14i11ipore Corp
、))70グラム可自動ナンプラー、真空ポンプ、ヒー
ター付きクロマトグラフィーカラム及びシマズCR30
Aデータ還元システム(付属ソフトウェア/バージョン
1.1シマズバ一ト番号T/N 22301309−9
1付き)に接続した示差屈折率計から構成された。使用
した屈折率計はウォーターズモデル410であり、50
0オンゲストロン(Angstron)、1,000オ
ンゲストロン、10.000オンゲストロン及びtoo
、oooオンゲストロンの四クロマトグラフィーカラム
(ウォーターズ社製)を直列に接続した。この系を、下
記分子量範囲のマルチプルアベラブル(muliple
avatlable)ポリスチレン標準を用いて較正
した。
廿旦!lわし
1 470.00
02 170.0
003 68.0
004 34.
5005 9.
2006 3.
2007 1
.250この標準は本質的に単分散性であり、実質上単
一の分子量からなるものであった、斯く較正された系を
用いて、上記実施例に従って製造されたポリマーの相対
的(ポリスチレン標準に対する)重量平均分子量My’
、相対的数平均分子量Mn’及び多分散度(d) 、
14w/Mnを得た。
02 170.0
003 68.0
004 34.
5005 9.
2006 3.
2007 1
.250この標準は本質的に単分散性であり、実質上単
一の分子量からなるものであった、斯く較正された系を
用いて、上記実施例に従って製造されたポリマーの相対
的(ポリスチレン標準に対する)重量平均分子量My’
、相対的数平均分子量Mn’及び多分散度(d) 、
14w/Mnを得た。
ガラス転移温度(tg)は、パーキンエルマー(Per
kin Elmer) DSC−4熱量計を用いる示差
走査熱量法により20℃/分の昇温速度、60cc/分
の窒素雰囲気で操作して測定した。この方法によるガラ
ス転移温度は、一般に、ポリマーの加熱曲線の第一変曲
点の回りの接線の交点として定義される。熱量分析(T
GA)は、パーキンエルマー65−2分析器を用い、昇
温速度20℃/分、空気速度gocc/分で実施した。
kin Elmer) DSC−4熱量計を用いる示差
走査熱量法により20℃/分の昇温速度、60cc/分
の窒素雰囲気で操作して測定した。この方法によるガラ
ス転移温度は、一般に、ポリマーの加熱曲線の第一変曲
点の回りの接線の交点として定義される。熱量分析(T
GA)は、パーキンエルマー65−2分析器を用い、昇
温速度20℃/分、空気速度gocc/分で実施した。
本明細書に示したTGA値は、5重量パーセント損失に
対する値である。換言すれば、5重量%損失が観察され
る温度を報告する。
対する値である。換言すれば、5重量%損失が観察され
る温度を報告する。
第1表のデータから明らかなように、本発明のPI−P
Aポリマーは、300℃以上のオーダーのTg値を有す
ると同時に、流れ特性及び射出形性の改善も示している
。すなわち、本発明ポリマーの流れ特性は、ガラス転移
温度(Tg)をあまり損なうことなく、著しく改善され
たのである。
Aポリマーは、300℃以上のオーダーのTg値を有す
ると同時に、流れ特性及び射出形性の改善も示している
。すなわち、本発明ポリマーの流れ特性は、ガラス転移
温度(Tg)をあまり損なうことなく、著しく改善され
たのである。
K1邑Σ
本発明のポリマ=及び対照としての市販ポリアミド−イ
ミド(アモコ(Amoco)社のTorlon(登録商
標)4203 L )の流れ特性を、各ポリマータイプ
の圧縮成形円板を形成して比較する。ホットプレス及び
成形円板形成用のピストンシリンダ型を用いて、直径的
2.54cm(1インチ)の円板を調製する。
ミド(アモコ(Amoco)社のTorlon(登録商
標)4203 L )の流れ特性を、各ポリマータイプ
の圧縮成形円板を形成して比較する。ホットプレス及び
成形円板形成用のピストンシリンダ型を用いて、直径的
2.54cm(1インチ)の円板を調製する。
粉末状ポリマーの約12.7m+n(!/2インチ)を
型ピストンの底部に散布し、該ピストンをホットプレス
のパレット間に挿入して300℃に加熱する。その温度
に達したあと、13.8MPa(2000psi)の圧
力をピストンに3分間加える0次に圧力を解放し、型を
冷却して、厚み約0.508mm(20ミル)のポリマ
ー成形円板を型から取り出す。実施例1及び2の各ポリ
マーは、良好な曲げ特性を有する透明な円板を製造した
。対照円板は、圧縮・溶融された黄緑色パレットの形状
であった。
型ピストンの底部に散布し、該ピストンをホットプレス
のパレット間に挿入して300℃に加熱する。その温度
に達したあと、13.8MPa(2000psi)の圧
力をピストンに3分間加える0次に圧力を解放し、型を
冷却して、厚み約0.508mm(20ミル)のポリマ
ー成形円板を型から取り出す。実施例1及び2の各ポリ
マーは、良好な曲げ特性を有する透明な円板を製造した
。対照円板は、圧縮・溶融された黄緑色パレットの形状
であった。
(発明の効果)
本発明のPI−PAポリマーは、そのイミド化前形態(
ポリアミド−ポリアミン酸)形態での有機溶液として、
フィルム、コーティング、複合物等を製造するために使
用し、それをその場での加熱により硬化させてイミド結
合を形成することができる。
ポリアミド−ポリアミン酸)形態での有機溶液として、
フィルム、コーティング、複合物等を製造するために使
用し、それをその場での加熱により硬化させてイミド結
合を形成することができる。
このPI−PAポリマーは、圧縮成形又は射出成形等の
技術を用いて成形し、溶融加工製品たとえば繊維、フィ
ルム、安全マスク、風防、電子回路基板、航空機の窓等
を製造することもできる。賦形は、ポリマーに約300
℃以上の温度及び約3.45MPa (500ps i
)以上の圧力を加えてなされる。このPI−PAポリ
マーは、それに黒鉛、黒鉛繊維、二硫化モリブテン又は
PTPEを配合し、ピストンリング、弁座、ベアリング
及びシールに有用な自己潤滑性摩耗表面の製造に供する
こともできる。このPI−PAポリマーをガラス繊維、
黒鉛繊維又はボロン繊維等の繊維に配合し、ジェットエ
ンジン部品等の高強度構造部品用の成形コンパウンドを
製造することもできる。このポリマーを空振材料に配合
して、高温ブレーキ部品用の成形コンパウンドを製造し
なり、或いはダイヤモンド等の研磨材料に配合して高速
研削ホイール用の成形コンパウンドを製造することもで
きる。
技術を用いて成形し、溶融加工製品たとえば繊維、フィ
ルム、安全マスク、風防、電子回路基板、航空機の窓等
を製造することもできる。賦形は、ポリマーに約300
℃以上の温度及び約3.45MPa (500ps i
)以上の圧力を加えてなされる。このPI−PAポリ
マーは、それに黒鉛、黒鉛繊維、二硫化モリブテン又は
PTPEを配合し、ピストンリング、弁座、ベアリング
及びシールに有用な自己潤滑性摩耗表面の製造に供する
こともできる。このPI−PAポリマーをガラス繊維、
黒鉛繊維又はボロン繊維等の繊維に配合し、ジェットエ
ンジン部品等の高強度構造部品用の成形コンパウンドを
製造することもできる。このポリマーを空振材料に配合
して、高温ブレーキ部品用の成形コンパウンドを製造し
なり、或いはダイヤモンド等の研磨材料に配合して高速
研削ホイール用の成形コンパウンドを製造することもで
きる。
このポリマーを流延して、電線及びケーブルのラップ、
モータスロットライナー又は可とう性印刷回路基板に有
用なフィルムを形成することができる。このポリマーは
、マグネット線用の高温コーティング、各種電子部品の
浸漬コーティング、ガラス、金属及びプラスチック基板
の保護コーチ、インク、摩耗コーティング及びマイクロ
エレクトロニクス処理に有用なホトレジストコーティン
グの製造にも有用である。
モータスロットライナー又は可とう性印刷回路基板に有
用なフィルムを形成することができる。このポリマーは
、マグネット線用の高温コーティング、各種電子部品の
浸漬コーティング、ガラス、金属及びプラスチック基板
の保護コーチ、インク、摩耗コーティング及びマイクロ
エレクトロニクス処理に有用なホトレジストコーティン
グの製造にも有用である。
このポリマーは、航空宇宙構造物又は電子回路を接合す
るための高温接着剤、銀や金等の導電性フィラーを混合
した際にはマイクロエレクトロニク用の導電性接着剤又
はガラス、金属又はプラスチック基板の接着剤を製造す
るためにも使用可能である。
るための高温接着剤、銀や金等の導電性フィラーを混合
した際にはマイクロエレクトロニク用の導電性接着剤又
はガラス、金属又はプラスチック基板の接着剤を製造す
るためにも使用可能である。
このPI−PAポリマーは、複合物やラミネートを製造
するためのワニス組成物又はマトリックス樹脂としても
使用される。ワニス組成物及びマトリックス樹脂は、ガ
ラス布若しくは石英布又は黒鉛繊維若しくはホウ素)1
維に含浸させて、レードーム、印刷回路板、放射線廃棄
物容器、タービンブレード、航空宇宙構造物部品又は高
温性能、不燃性及び卓越した電気的諸性質を必要とする
その他の構造部品を製造するのにも使用される。
するためのワニス組成物又はマトリックス樹脂としても
使用される。ワニス組成物及びマトリックス樹脂は、ガ
ラス布若しくは石英布又は黒鉛繊維若しくはホウ素)1
維に含浸させて、レードーム、印刷回路板、放射線廃棄
物容器、タービンブレード、航空宇宙構造物部品又は高
温性能、不燃性及び卓越した電気的諸性質を必要とする
その他の構造部品を製造するのにも使用される。
一般に、本発明のPIPAポリマー及びポリアミン酸前
駆体は、係属中の米国特許出願セリアル第124.70
4号(1987年11月24日、米国特許商標床に出願
)に開示されたすべての用途に使用可能であり、該出願
の開示を引用する。
駆体は、係属中の米国特許出願セリアル第124.70
4号(1987年11月24日、米国特許商標床に出願
)に開示されたすべての用途に使用可能であり、該出願
の開示を引用する。
前述の本発明の実施態様は単なる例示であり、それらの
変更は当業者の想到し得るものであると解されなければ
ならない。従って、本発明はここで開示した実施B1!
!を限定されるわけではなく、特許請求の範囲に規定の
ように限定されるのである。
変更は当業者の想到し得るものであると解されなければ
ならない。従って、本発明はここで開示した実施B1!
!を限定されるわけではなく、特許請求の範囲に規定の
ように限定されるのである。
Claims (18)
- 1.化学式 ▲数式、化学式、表等があります▼ の繰り返し構造単位を一以上含有するポリイミドポリア
ミドポリマー。 但し上式中、nはポリマー固有粘度(ポリマー濃度0.
5重量パーセントのポリマーのジメチルアセトアミド溶
液から25℃で測定した値)を約0.1以上にする十分
な数であり、Aは二価の芳香族部分であり、Bは四価の
芳香族有機基であって、カルボニル基の各対が環部分B
中の隣接炭素原子に結合しているものであり、RはCF
_3又はフェニルであり、かつ、(a)及び(b)はポ
リマー鎖中の各繰り返し単位のモル分率に等しく、(a
)は約0.05乃至約0.95の範囲にあって、(b)
は約0.95乃至約0. 05の範囲にあり、(a)と(b)の和は1.00であ
る。 - 2.未置換若しくはハロゲン、ヒドロキシ、C_1乃至
C_6低級アルキル及びC_1乃至C_6低級アルコキ
シ基からなる群から選択される基で環置換された、フェ
ニレン、ナフタレン、ビスフェニレン化合物及びそれら
の混合物からなる群からAを選択する請求項1記載のポ
リマー。 - 3.二酸ハロゲン化物、芳香族ジアミン及び芳香族二酸
無水物のポリマー縮合生成物を形成し、かつ、得られた
アミド−酸縮合生成物をイミド化することにより調製さ
れる請求項1記載のポリマー。 - 4.前記の芳香族二酸無水物が、ビス(3,4−ジカル
ボキシフェニル)エーテル二酸無水物、3,3’4,4
’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、3,3
’,4,4’−ジフェニルテトラカルボ酸二無水物、2
,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)ヘキサフ
ルオロプロパン二酸無水物、1,2,4,5−ベンゼン
テトラカルボン酸二無水物、4,4’−ビス[2−(3
,4−ジカルボキシフェニル)ヘキサフルオロイソプロ
ピル]ジフェニルエーテル二酸無水物及びそれらの混合
物からなる群から選択される請求項3記載のポリマー。 - 5.RがCF_3である請求項3記載のポリマー。
- 6.前記の二酸ハロゲン化物が、 2,2−ビス(4−カルボキシフェニル)ヘキサフルオ
ロプロパン、 2,2−ビス(3−カルボキシフェニル)ヘキサフルオ
ロプロパン、及び 1,1−ビス(4−カルボキシフェニル)−2,2,2
−トリフルオロエタン の酸ハロゲン化物誘導体からなる群から選択される請求
項3記載のポリマー。 - 7.前記の芳香族ジアミンが、 NH_2−D−NH_2 を有するジアリールジアミンである請求項3記載のポリ
マー。 但し上式中、Dはフェニレン、ナフタレン、ビスフェニ
レン又はポリフェニレン型化合物の芳香族部分である。 - 8.前記のジアミンがメチレンジアニリンである請求項
7記載のポリマー。 - 9.前記のジアミンがオキシジアニリンである請求項7
記載のポリマー。 - 10.前記の二酸ハロゲン化物が、 2,2−ビス(4−カルボキシフェニル)ヘキサフルオ
ロプロパン である請求項4記載のポリマー。 - 11. ▲数式、化学式、表等があります▼ なる構造を有する請求項1記載のポリマー。
- 12.Aが、 ▲数式、化学式、表等があります▼ なる構造を有するジアリールジアミンの残基である請求
項11記載のポリマー。 但し上式中、R′は、炭素−炭素共有結合、メチレン、
エチレン、プロピレン、イソプロピレン、ヘキサフルオ
ロイソプロピリデン、1−フェニル−2,2,2−トリ
フルオロエチリデン、3炭素までのジクロロアルキレン
及びジフルオロアルキレン、オキシ、チオ、スルフィニ
ル、スルホニル、スルホンアミド、カルボニル、オキシ
ジカルボニル、オキシジメチレン、スルホニルジオキシ
、カルボニルジオキシ、ジシラニレン、8Si原子まで
のポリシラニレン、ジシロキサニレン及び8Si原子ま
でのポリシロキサニレンから独立に選択される二価の部
分である。 - 13.R′がメチレンである請求項12記載のポリマー
。 - 14.R′が酸素である請求項12記載のポリマー。
- 15.R′がヘキサフルオロイソプロピリデンである請
求項12記載のポリマー。 - 16.含フッ素モノマーを約25乃至約100モルパー
セント含有する請求項1記載のポリマー。 - 17.含フッ素モノマーを約50乃至約75モルパーセ
ント含有する請求項16記載のポリマー。 - 18.フィルムの形態にある請求項1記載のポリマー。
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