JPH0343423A - Polysiloxane and optical element comprising polysiloxane - Google Patents

Polysiloxane and optical element comprising polysiloxane

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JPH0343423A
JPH0343423A JP1178090A JP17809089A JPH0343423A JP H0343423 A JPH0343423 A JP H0343423A JP 1178090 A JP1178090 A JP 1178090A JP 17809089 A JP17809089 A JP 17809089A JP H0343423 A JPH0343423 A JP H0343423A
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JP
Japan
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formula
polymer
deuterium
polysiloxane
halogen element
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JP1178090A
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Japanese (ja)
Inventor
Saburo Imamura
三郎 今村
Tatsuo Izawa
達夫 伊澤
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Nippon Telegraph and Telephone Corp
Original Assignee
Nippon Telegraph and Telephone Corp
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Abstract

PURPOSE:To obtain a polysiloxane providing an optical material having stable light transmission characteristics in a range from visible light rays to near infrared rays, excellent heat resistance and water-vapor resistance, comprising a polymer having a specific repeating unit. CONSTITUTION:For example, chlorosilane is dissolved in an organic solvent such as toluene, hydrolyzed and polymerized with an alkali such as potassium hydroxide to give a polymer or copolymer having a repeating unit shown by formula I and/or formula II [R1 and R2 are group shown by formula III (Y is deuteron or halogen; (n) is <=5) or group shown by formula IV]. The polysiloxane can be made into plastic optical materials having a low loss from visible light rays to near infrared rays and a only slight influence on OH vibration absorption resulting from moisture absorption, surface treating materials such as water repellent and functional film such as oxygen enriching film.

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、光集積回路用導波路およびプラスチック光フ
ァイバなどのような光学材料および電気絶縁材料等のよ
うに電子部品材料として使用する、ハロゲン元素および
重水素を含むポリシロキサンに関するものである。
Detailed Description of the Invention [Industrial Application Field] The present invention relates to halogen-based materials used as optical materials such as optical integrated circuit waveguides and plastic optical fibers, and electronic component materials such as electrical insulating materials. It concerns polysiloxanes containing elements and deuterium.

[従来の技術] 光学部品および光ファイバの基材とし′Cは、光伝送損
失by小さくかつ伝送イIF域が広いことから、一般に
石英ガラスおよび多成分ガラス等のような無機系のもの
が使用されている。
[Prior Art] Inorganic materials such as quartz glass and multi-component glass are generally used as base materials for optical components and optical fibers because they have low optical transmission loss and a wide transmission IF range. has been done.

一方、プラスチックを基材とする光学材料も開発されて
いる。これらのプラスチック光学材料は、無機系の材料
に比べて加工性がよく、取り扱い易い等の特1数を持つ
ことからン主目されている。
On the other hand, optical materials based on plastic have also been developed. These plastic optical materials are attracting attention because they have characteristics such as better processability and easier handling than inorganic materials.

例えば光ファイバにおいては、ポリメチルメタクリレー
ト(PMM八)あるいはポリスチレンのように透明性に
優れたプラスチックを芯(コア)とし、その芯成分より
も屈折率の低いプラスデックを鞘(クラッド)成分とし
た同心のコアークラッド構造からなるものが知られてい
る。
For example, in optical fibers, the core is made of highly transparent plastic such as polymethyl methacrylate (PMM8) or polystyrene, and the cladding is made of PLUSDEC, which has a lower refractive index than the core. Those consisting of concentric core-clad structures are known.

[発明が解決しようとする課題] しかしながら、これらのプラスチック光ファイバは、無
機系のファイバに比べて内部を伝達する光の減衰度合が
大きいという問題点がある。
[Problems to be Solved by the Invention] However, these plastic optical fibers have a problem in that the degree of attenuation of light transmitted inside is greater than that of inorganic fibers.

光の伝達は光回路あるいはファイバの一端に入射した光
を長さ方向に沿って内部で全反射させることにより行な
うが、プラスチックの内部を光が伝達するときに、光が
吸収あるいは散乱されることCよって光の減衰を強める
ような要因を最小にすることが重要である。
Light is transmitted by total internal reflection of the light incident on one end of an optical circuit or fiber along its length, but when light is transmitted inside plastic, it is absorbed or scattered. Therefore, it is important to minimize factors that increase the attenuation of light.

光回路部品においては現状の光フアイバ通信に用いられ
ている、波長が650〜1600nmの光を用いている
ので、光ファイバの材料としてプラスチックを用いる場
合、上述の波長領域における低損失化はより切実である
Optical circuit components use light with a wavelength of 650 to 1600 nm, which is used in current optical fiber communications, so when plastic is used as the material for optical fibers, it is even more urgent to reduce loss in the above wavelength range. It is.

プラスチックの光伝送損失の最も大きな要因は、プラス
チックを構成する分子における炭素−水素間の赤外振動
吸収の高調波である。この炭素−水素結合に起因する高
調波を小さくし、また長波長シフトさせるために、プラ
スチック分子中の水素原子を弗素等のハロゲン原子ある
いは重水素原子で置換することが提案されている。
The biggest factor in optical transmission loss in plastics is harmonics of infrared vibration absorption between carbon and hydrogen in the molecules that make up the plastic. In order to reduce the harmonics caused by this carbon-hydrogen bond and shift the wavelength to longer wavelengths, it has been proposed to replace hydrogen atoms in plastic molecules with halogen atoms such as fluorine or deuterium atoms.

例えば、水素を弗素でra換したプラスチックとしては
、エステル側鎖の水素の一部を弗素置換したポリメタク
リレート がPMMAより低損失となることが示された(例えば「
戒能俊邦、高分子論文集、42巻、 1985年257
−264頁、高分子学会」参照)。
For example, as a plastic in which hydrogen is replaced with fluorine, polymethacrylate in which part of the hydrogen in the ester side chain is replaced with fluorine has been shown to have a lower loss than PMMA (for example, "
Toshikuni Kaino, Polymer Papers, Volume 42, 1985, 257
- p. 264, "The Society of Polymer Science and Technology").

しかしながら、エステル側鎖あるいは主鎖のメチル基に
炭素−水素結合が残っているために低損失化は充分では
ない、エステル側鎖の水素をすべて重水素置換あるいは
弗素置換することは低損失化に有用と考えられる。しか
しながら、原料アルコールの安定性が悪い等の合成上の
問題があり、上述のような完全な置換体のモノマを得る
ことは非常に困難であった。
However, because carbon-hydrogen bonds remain in the methyl group of the ester side chain or main chain, it is not sufficient to reduce the loss.Replacing all hydrogens in the ester side chain with deuterium or fluorine does not reduce the loss. Considered useful. However, there are synthetic problems such as poor stability of the raw material alcohol, and it has been extremely difficult to obtain a completely substituted monomer as described above.

また、コア材料として用いられる重水素化ポリメチルメ
タクリレート −CD2− C(CD3)− 0OCD3 はポリメチルメタクリレートに比べると低損失化が図れ
るが、小さいながらもC’−D結合に起因する高調波吸
収があり、光集積回路のように1300〜1600nn
+付近の光を用いる場合、光損失を無視することはでき
ない、さらにポリスチレン等に比べ吸湿性が高く、2を
程度の飽和吸湿率を持つ。
In addition, although deuterated polymethyl methacrylate-CD2-C(CD3)-0OCD3 used as the core material has lower loss than polymethyl methacrylate, it has harmonic absorption caused by C'-D bonds, although it is small. 1300~1600nn like optical integrated circuits
When using light around +, optical loss cannot be ignored, and it has higher hygroscopicity than polystyrene and the like, with a saturated moisture absorption rate of about 2.

従って、湿度が高い環境では、水分子の011の振動吸
収が光損失に影響を与える。011振動吸収の高調波に
よって、特に近赤外域の光伝送損失は低下する(例えば
「戒能俊邦、 polymer preprints。
Therefore, in a humid environment, vibrational absorption of 011 of water molecules affects optical loss. The harmonics of 011 vibration absorption reduce optical transmission loss, especially in the near-infrared region (for example, "Toshikuni Kaino, Polymer Preprints.

Japan、32巻、4号、 1983年2525頁」
参照)。すなわち使用環境条件の湿度変化により光伝送
損失が変動するという問題点があった。
Japan, Vol. 32, No. 4, 1983, p. 2525.”
reference). That is, there is a problem in that optical transmission loss fluctuates due to changes in humidity in the usage environment.

また、有機系ポリマ、特にポリメチルメタクリレート系
ポリマのガラス転移温度は一般に100℃前後である。
Further, the glass transition temperature of organic polymers, particularly polymethyl methacrylate polymers, is generally around 100°C.

そのため耐熱温度の上限は70℃程度であり、実用的な
ものとしては使用することができなかった。そこで、こ
れらのような耐熱性に関する問題点を解決するものとし
て、ゴム状ポリシロキサンを用いた先導波路および光フ
ァイバが提案されている(例えば、特願昭63−986
03号)。これらは1憂れた耐熱性と安定した伝送特性
を示すが、側inにC−11結合が存在するため光伝送
損失が高いという問題点がある。
Therefore, the upper limit of the heat resistance temperature is about 70°C, and it could not be used for practical purposes. In order to solve these heat resistance problems, leading waveguides and optical fibers using rubber-like polysiloxane have been proposed (for example, Japanese Patent Application No. 63-986).
No. 03). Although these exhibit excellent heat resistance and stable transmission characteristics, they have the problem of high optical transmission loss due to the presence of a C-11 bond on the inner side.

本発明はこのような現状に鑑みてなされたものであり、
その目的は可視光〜近赤外光域において低損失であり、
しかも耐熱性に優れ、かつ吸湿に伴うOH振動吸収の影
響の少ないプラスチック光学材料、撥水材等の表面IA
埋剤および酸素富化膜等の機能膜として使用可能なポリ
シロキサンを提供することにある。
The present invention was made in view of the current situation, and
The purpose is to achieve low loss in the visible light to near-infrared light range.
Moreover, the surface IA of plastic optical materials, water repellent materials, etc., which has excellent heat resistance and is less affected by OH vibration absorption due to moisture absorption.
The object of the present invention is to provide a polysiloxane that can be used as a filler and a functional film such as an oxygen enrichment film.

[課題を解決するための手段] このような目的を達成するために、本発明は、−数式 RI 5i−0− 2 [式中R3およびR2はそれぞれCnY2.、、 (Y
は重水素あるいはハロゲン元素、nは5以下の正の整数
)で表わされる同一または異なる重水素化あるいはハロ
ゲン化アルキル基、あるいはそれぞれCoYs(Yは重
水素あるいはハロゲン元素)で表わされる同一または異
なる重水素化あるいはハロゲン化フェニル基] で表わされる繰り返し単位からなる重合体であることを
特徴とする。
[Means for Solving the Problem] In order to achieve such an object, the present invention provides a formula: RI 5i-0- 2 [wherein R3 and R2 are each CnY2. ,, (Y
are the same or different deuterated or halogenated alkyl groups represented by deuterium or a halogen element, n is a positive integer of 5 or less), or the same or different deuterated or halogenated alkyl groups each represented by CoYs (where Y is deuterium or a halogen element) Hydrogenated or halogenated phenyl group] It is characterized by being a polymer consisting of repeating units represented by the following.

また、本発明は、−数式 %式% [式中R1およびR2はそれぞれCIIY2o−1(Y
は重水素あるいはハロゲン元素、nは5以下の正の整数
)で表わされる同一または異なる重水素化あるいはハロ
ゲン化アルキル基、あるいはそれぞれC,Y5(Yは重
水素あるいはハロゲン元素)で表わされる同一または異
なる重水素化あるいはハロゲン化フェニル基]で表わさ
れる繰り返し単位からなる重合体であることを特徴とす
る。
Further, the present invention also provides the formula % formula % [wherein R1 and R2 are each CIIY2o-1(Y
are the same or different deuterated or halogenated alkyl groups represented by deuterium or a halogen element, and n is a positive integer of 5 or less; It is characterized by being a polymer consisting of repeating units represented by different deuterated or halogenated phenyl groups.

さらに、本発明は、−数式 %式% [式中n1およびR2はそれぞれCnY2n+I(Yは
重水素あるいはハロゲン元素、nは5以下の正の整数)
で表わされる同一または異なる重水素化あるいはハロゲ
ン化アルキル基、あるいはそれぞれC,Y、 (Yは重
水素あるいはハロゲン元素)で表わされる同一または異
なる重水素化あるいはハロゲン化フェニル基]はン で表わされる繰り返し単位##≠ 一般式 %式% [式中R1およびR2はそれぞれC1Y2nや+  (
Yは重水素あるいはハロゲン元素、nは5以下の正の整
数)で表わされる同一または異なる重水素化あるいはハ
ロゲン化アルキル基、あるいはそれぞれC,Y5(Yは
重水素あるいはハロゲン元素)で表わされる同一または
異なる重ことを特徴とする。
Furthermore, the present invention is based on the following formula:
or the same or different deuterated or halogenated alkyl groups represented by C, Y, (Y is deuterium or a halogen element), respectively; Repeating unit ##≠ General formula % Formula % [In the formula, R1 and R2 are C1Y2n and + (
Y is deuterium or a halogen element, n is a positive integer of 5 or less), the same or different deuterated or halogenated alkyl group, or the same or different deuterated or halogenated alkyl groups, each represented by C, Y5 (Y is deuterium or a halogen element) Or characterized by different weights.

さらにまた、本発明の光学素子は、下記−数式(1)ま
たは(lりで表わされる繰り返し単位からなるポリシロ
キサンもしくは一般式(1)と(II)のそれぞれの繰
り返し単位を含むポリシロキサンからなる光伝送媒体を
有することを特徴とする。
Furthermore, the optical element of the present invention is made of a polysiloxane consisting of a repeating unit represented by the following formula (1) or (1) or a polysiloxane containing repeating units of the general formulas (1) and (II). It is characterized by having an optical transmission medium.

12 1 5f−0− Rま ただし、式中R,およびR2はそれぞれcnY2□1〈
Yは重水素あるいはハロゲン元1h、nは5以下の正の
整数)で表わされる同一または異なる重水素化あるいは
ハロゲン化アルキル基、あるいはそれぞれC6Ys(Y
は重水素あるいはハロゲン元素)で表わされる同一また
は異なる重水素化あるいはハロゲン化フェニル基である
12 1 5f-0- R However, in the formula, R and R2 are each cnY2□1〈
Y is the same or different deuterated or halogenated alkyl group represented by deuterium or a halogen element (1h, n is a positive integer of 5 or less), or C6Ys (Y
are the same or different deuterated or halogenated phenyl groups represented by deuterium or halogen element).

[作 用] 本発明においては、ポリシロキサン側鎖の水素をハロゲ
ン化あるいは重水素化することによりC−11結合に起
因する高調波吸収を小さく、かつ長波長シフトさせるこ
とにより低損失の光学材料を得ることができる。また主
鎖構造がシロキサンであることから高い耐湿性を示すが
、ざらに側頭のハロゲン化によりポリマの吸湿性は大幅
に低下し、吸湿に基づく0−H振動吸収強度は極めて小
さくなる。PMMA系のポリマが吸湿性が大きいために
吸湿あるいは脱湿によって011基に基づく吸収強度が
大きく変動し、安定した導光特性が得られなかったのに
比べ、本発明は極めて安定した光特性を維持し得るとい
う特徴がある。
[Function] In the present invention, by halogenating or deuterating the hydrogen in the polysiloxane side chain, the harmonic absorption caused by the C-11 bond is reduced and the wavelength is shifted to a longer wavelength, thereby creating a low-loss optical material. can be obtained. Furthermore, since the main chain structure is siloxane, it exhibits high moisture resistance, but due to the halogenation of the temporal region, the hygroscopicity of the polymer is significantly reduced, and the 0-H vibration absorption strength based on moisture absorption becomes extremely small. Since PMMA-based polymers have high hygroscopicity, the absorption intensity based on the 011 group fluctuates greatly due to moisture absorption or dehumidification, making it impossible to obtain stable light guiding properties.In contrast, the present invention has extremely stable optical properties. It has the characteristic of being maintainable.

本発明のポリマは一般式(Ill)、(IV)あるいは
(V) R3 CI Cl−5t−C1 (rV) CI CI で表わされるクロロシランの加水分解で得られるシラノ
ールや環状ポリシロキサンの単独重合あるいは共重合に
より得ることができる[式中R1+R2は同一または異
なり、CI、Y2゜、(Yは重水素あるいはハロゲン元
素、nは5以下の正の整数)で表わされる重水素化ある
いはハロゲン化アルキル裁、あるいはC,Y、(Yは重
水素あるいはハロゲン元素)で表わされる重水素あるい
はハロゲン化フェニル基]、また、−数式(III)、
(IV)あるいは(V)で表わされるクロロシランとア
ルコールを反応して得られる各種のアルコキシシランの
重合やハロゲノシランとアルコキシシランの縮重合によ
ってもポリマを得ることができる。
The polymer of the present invention is a homopolymerized or copolymerized silanol or cyclic polysiloxane obtained by hydrolysis of a chlorosilane represented by the general formula (Ill), (IV) or (V) R3 CI Cl-5t-C1 (rV) CI CI. A deuterated or halogenated alkyl compound, which can be obtained by polymerization [wherein R1+R2 are the same or different, CI, Y2°, (Y is deuterium or a halogen element, and n is a positive integer of 5 or less] or a deuterium or halogenated phenyl group represented by C, Y, (Y is deuterium or a halogen element), or - formula (III),
Polymers can also be obtained by polymerization of various alkoxysilanes obtained by reacting chlorosilanes represented by (IV) or (V) with alcohols, or by condensation polymerization of halogenosilanes and alkoxysilanes.

なお、nが6以上ではポリマのガラス転移温度が低くな
るので取り扱いに問題があり、nは5以下が望ましい。
Note that if n is 6 or more, the glass transition temperature of the polymer will be low, causing problems in handling, so n is preferably 5 or less.

本発明におけるポリマの製造法は、一般のボッシロキチ
ン製造法と同様であり、クロロシランをトルエンあるい
はキシレン等の有機691にm 解し、KOll 、望
むらくはKOD等のアルカリで加水分解および重合を行
なわせるものである。
The method for producing the polymer in the present invention is similar to the general method for producing bosslochitin, in which chlorosilane is dissolved in organic 691 such as toluene or xylene, and hydrolyzed and polymerized with an alkali such as KOll or preferably KOD. It is something.

[実施例] 以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、
本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
[Examples] Hereinafter, the present invention will be explained in more detail with reference to Examples.
The present invention is not limited to these examples.

■ 1互のステンレス製オートクレーブに05iC1゜
を244 g 、 C6D6をt4ogおよび触媒とし
てBCl3を仕込み、温度270℃のもとで最大圧力6
5kg/cm2で10時間反応させた。冷却後、340
gの生成液を得た。
■ 244 g of 05iC1°, t4og of C6D6, and BCl3 as a catalyst were placed in a stainless steel autoclave at a temperature of 270°C and a maximum pressure of 6.
The reaction was carried out at 5 kg/cm2 for 10 hours. After cooling, 340
g of product solution was obtained.

この生成液を常圧蒸留し、200〜201 tの留分の
C6DsSiC13130gを得た。
This product liquid was distilled under normal pressure to obtain 13130 g of C6DsSiC as a fraction of 200 to 201 t.

■ 37.4gの5rC1aを200m1のへブタンに
熔解したものを500m1のフラスコに入れた。次に滴
下ロートからフェニ、ルマグネシウムクロライドd−5
のテトラヒドロフラン溶液を500rnl/hの割合で
滴下し、かつ攪拌しつつ温度は40−50℃に保った。
■ 37.4 g of 5rC1a dissolved in 200 ml of hebutane was placed in a 500 ml flask. Next, from the dropping funnel, phenymagnesium chloride d-5
A solution of tetrahydrofuran was added dropwise at a rate of 500 rnl/h, and the temperature was maintained at 40-50° C. with stirring.

滴下後2時間還流し、その後沈澱を濾過した。濾液を蒸
留し、常圧蒸留で200〜201 ’Cの留分のC6D
5SiCI+を20g得た。
After the dropwise addition, the mixture was refluxed for 2 hours, and then the precipitate was filtered. The filtrate was distilled and C6D of the 200-201'C fraction was distilled at atmospheric pressure.
20g of 5SiCI+ was obtained.

lILのステンレス製オートクレーブに、Si粉末45
g 、 Cu(:l agおよびZnCl20.25g
をよく混合して充填した。この混合物を窒素気流中で4
30℃に加熱し、CuHを還元した。冷却後、モノクロ
ロベンゼンd−540gを入れ、430℃で15時間反
応させると約20gのクロロシランが得られた。このク
ロロシランを蒸留塔で蒸留し、蒸気圧30n+m!Ig
で184〜186℃の留分のジフェニルジクロロシラン
d−10を13g得た。
Si powder 45 was added to the IL stainless steel autoclave.
g, Cu(:l ag and ZnCl20.25g
were mixed well and filled. This mixture was mixed in a nitrogen stream for 4 hours.
It was heated to 30°C to reduce CuH. After cooling, 540 g of monochlorobenzene d-d was added and reacted at 430° C. for 15 hours to obtain about 20 g of chlorosilane. This chlorosilane is distilled in a distillation column, and the vapor pressure is 30n+m! Ig
13 g of diphenyldichlorosilane d-10, a fraction of 184 to 186° C., was obtained.

管状電気炉中の石英製反応管に、Si粉末45g。45 g of Si powder was placed in a quartz reaction tube in a tubular electric furnace.

CuC18gおよびZnCl20.25gをよく混合し
て充填した。この混合物を窒素気流中において300 
”Cに加熱し、CuC1を還元した。さらに温度を32
0℃に保ち、クロロメタンd−3を0.81/hrの割
合で反応管に流すと、 15時間の反応で約20gのク
ロロシランが得られた。このクロロシランを精留塔にお
いて精留し、69〜70℃の留分のジメチルジクロロシ
ランd−6を12g得た。
18 g of CuC and 20.25 g of ZnCl were mixed well and filled. This mixture was heated to 300°C in a nitrogen stream.
The temperature was further increased to 32°C to reduce CuC1.
By keeping the temperature at 0°C and flowing chloromethane d-3 into the reaction tube at a rate of 0.81/hr, about 20 g of chlorosilane was obtained in 15 hours of reaction. This chlorosilane was rectified in a rectification column to obtain 12 g of dimethyldichlorosilane d-6, a fraction of 69 to 70°C.

管状電気炉中の石英製反応管に、Si粉末458゜Cu
C18gおよびZnCl20.25gをよくン毘合して
充填した。この混合物を窒素気流中において300℃に
加熱し、CuC1を還元した。さらに温度を320℃に
保ち、クロロメタンd−3を0.41/hrの割合で反
応管に流すと、15時間の反応で約20gのクロロシラ
ンが得られた。このクロロシランを精留塔において精留
し、64〜65℃の留分のメチルトリクロロシランd−
3を14g得た。
Si powder 458°Cu was placed in a quartz reaction tube in a tubular electric furnace.
18 g of C and 20.25 g of ZnCl were thoroughly mixed and charged. This mixture was heated to 300° C. in a nitrogen stream to reduce CuCl. Furthermore, when the temperature was maintained at 320° C. and chloromethane d-3 was flowed into the reaction tube at a rate of 0.41/hr, about 20 g of chlorosilane was obtained in 15 hours of reaction. This chlorosilane is rectified in a rectification column, and the 64-65°C fraction is methyltrichlorosilane d-
14g of 3 was obtained.

モノマ製造例4においてクロロメタンd−3の代わりに
クロロペンタンd−11を用いることにより沸点!66
〜188℃のペンチルトリクロロシランd−11を10
g得た。
By using chloropentane d-11 instead of chloromethane d-3 in Monomer Production Example 4, the boiling point! 66
10 of pentyltrichlorosilane d-11 at ~188°C
I got g.

還流冷却器、温度計およびガス吹き込み管を備えた5(
10mlの4つ目フラスコの中央部に100Wの水冷式
高圧水銀灯を設置し、新しく蒸留した(CD3) DS
iCh 86gおよびCaO2136gを仕込んだ。
5 (equipped with reflux condenser, thermometer and gas injection tube)
A 100W water-cooled high-pressure mercury lamp was installed in the center of the fourth 10ml flask, and freshly distilled (CD3) DS
86 g of iCh and 2136 g of CaO were charged.

マグネチックスターラにより仕込物を攪拌し、還流器内
を窒素ガスで置換した後、高圧水銀灯を点灯し、室温に
おいて塩素ガスを70g/hrの割合で7時間吹き込み
反応させた。反応液的220gを減圧蒸留することによ
り、203〜205℃のフェニルメチルジクロロシラン
d−8を58g得た。
After stirring the charge with a magnetic stirrer and replacing the inside of the reflux vessel with nitrogen gas, a high-pressure mercury lamp was turned on, and chlorine gas was blown at a rate of 70 g/hr at room temperature for 7 hours to cause a reaction. By distilling 220 g of the reaction liquid under reduced pressure, 58 g of phenylmethyldichlorosilane d-8 having a temperature of 203 to 205°C was obtained.

塩化カルシウム管、温度計および滴下ロートな備えた2
00m1のフラスコに、四塩化炭素100m1 、モノ
マ製造例1で得られたフェニルトリクロロシランd−5
20gおよ“び鉄触媒0.2gを入れ、冷浴で冷却しつ
つ臭素5.3gを滴下した。10時間反応させ、得られ
た反応液を蒸留し、蒸気圧1!110)1gで120〜
125℃の留分15gを得た。
2 equipped with calcium chloride tube, thermometer and dropping funnel
In a 00ml flask, 100ml of carbon tetrachloride, phenyltrichlorosilane d-5 obtained in Monomer Production Example 1
20g of iron catalyst and 0.2g of iron catalyst were added, and 5.3g of bromine was added dropwise while cooling in a cold bath.The reaction was allowed to proceed for 10 hours, and the resulting reaction solution was distilled to give a vapor pressure of 1! ~
15 g of a fraction at 125°C was obtained.

塩化カルシウム管、温度計および滴下ロートを備えた2
00m1のフラスコに、四塩化炭素100m1 、千ツ
マ製造例1で得られたフェニルトリクロロシランd−5
20g、塩化第2鉄01gおよび沃素0.1gを入れ、
塩素ガスを50g吹き込んだ、得られた反応液を蒸留し
、蒸気圧7mm11gで87〜88℃の留分を18g得
た。
2 with calcium chloride tube, thermometer and dropping funnel
In a 00ml flask, 100ml of carbon tetrachloride, phenyltrichlorosilane d-5 obtained in Sentsuma Production Example 1
20g, ferric chloride 01g and iodine 0.1g,
The resulting reaction solution into which 50 g of chlorine gas was blown was distilled to obtain 18 g of a fraction with a vapor pressure of 7 mm, 11 g, and a temperature of 87 to 88°C.

モノマ製造例1の工程■において、フェニルマグネシウ
ムクロライドd−5の代わりにフルオロフヱニルマグネ
シウムクロライドd−4を使用し、同様の条件により、
蒸気圧6 m m )I gで194〜196℃の留分
のフルオロフェニルトリクロロシランd−4を得た。
In step (3) of Monomer Production Example 1, fluorophenylmagnesium chloride d-4 was used instead of phenylmagnesium chloride d-5, and under the same conditions,
Fluorophenyltrichlorosilane d-4 was obtained as a fraction of 194-196°C at a vapor pressure of 6 mm)Ig.

塩化カルシウム管、温度計および滴下ロートを備えた2
00m1のフラスコに、四塩化炭素100m1.モノマ
製造例1で得られたジメチルジクロルシランd−620
g、塩化第2鉄0.3gおよび沃素0.1gを入れ、塩
素ガスを50g吹き込んだ。得られた反応液を蒸留し、
クロロメチルメチルジクロロシランd−5を12g得た
2 with calcium chloride tube, thermometer and dropping funnel
Into a 00ml flask, add 100ml of carbon tetrachloride. Dimethyldichlorosilane d-620 obtained in Monomer Production Example 1
g, 0.3 g of ferric chloride, and 0.1 g of iodine were added, and 50 g of chlorine gas was blown into the flask. The obtained reaction solution was distilled,
12g of chloromethylmethyldichlorosilane d-5 was obtained.

塩化カルシウム管、温度計および滴下ロートを備えた2
00m1のフラスコに、四塩化炭素100n+1.モノ
マ製造例2で得られたジフェニルジクロロシランd−1
030g、塩化第2鉄0.3gおよび沃素0.1gを入
れ、塩素ガスを50g吹き込んだ、得られた反応液を蒸
留し、蒸気圧7nuel1gで175〜179℃の留分
を13g得た。
2 with calcium chloride tube, thermometer and dropping funnel
00ml flask, carbon tetrachloride 100n+1. Diphenyldichlorosilane d-1 obtained in Monomer Production Example 2
030 g of ferric chloride, 0.3 g of ferric chloride, and 0.1 g of iodine were added, and 50 g of chlorine gas was blown into the reactor.The resulting reaction solution was distilled to obtain 13 g of a distillate having a temperature of 175 to 179°C at a vapor pressure of 7 nuel/g.

ポリマ製造例1 容積約50m1のフラスコに、モノマ製造例1で得られ
たフェニルトリクロルシランd−510gおよびKOD
 100mgを入れ、トルエン15rAlと混合した。
Polymer Production Example 1 510 g of phenyltrichlorosilane d-obtained in Monomer Production Example 1 and KOD were placed in a flask with a volume of approximately 50 m1.
100 mg was added and mixed with 15rAl of toluene.

そして、この混合液を16時間還流した。反応終了後冷
却し、少量の沈澱物を濾過した後、溶液をメタノールに
流し込むことにより再沈澱を行なった。
This mixture was then refluxed for 16 hours. After the reaction was completed, the mixture was cooled, a small amount of precipitate was filtered, and the solution was poured into methanol to perform reprecipitation.

得られたポリフェニルシルセスキオキサンの分子量はM
w−15000,Mw/Mn・2.1であった。赤外線
吸収スペクトルにより、シルセスキオキサン特有の、5
i−0に起因するダブルピークが104104O’およ
び1160cm−’に見られた。またこのポリマは高い
耐熱性を示し、300℃で1時間熱処理しても何らの変
化も見られなかった。
The molecular weight of the obtained polyphenylsilsesquioxane is M
w-15000, Mw/Mn·2.1. The infrared absorption spectrum shows that silsesquioxane has 5
A double peak due to i-0 was observed at 104104O' and 1160 cm-'. This polymer also showed high heat resistance, and no change was observed even after heat treatment at 300° C. for 1 hour.

韮±二旦童北1 モノマ製造例2で得られたジフェニルジクロロシランd
−10を重水と反応させることにより得たジフェニルシ
ランジオール30gをクロロホルム500m1 kl:
溶解し、CF、SO,Hを触媒として、5℃で20時間
反応させた。反応波をメタノール中に注ぎ込み、白色固
体のポリマを得た。このポリマの分子量はMw−100
00,Mw/Mn−1,6であった。
Nira ± Nidando Kita 1 Diphenyldichlorosilane d obtained in Monomer Production Example 2
30 g of diphenylsilanediol obtained by reacting -10 with heavy water was added to 500 ml of chloroform.
The mixture was dissolved and reacted at 5° C. for 20 hours using CF, SO, and H as catalysts. The reaction wave was poured into methanol to obtain a white solid polymer. The molecular weight of this polymer is Mw-100
00.Mw/Mn-1.6.

ヱ4鮭1 七ツマ製造例3で得られたジメチルジクロロシランd−
810gに100mgのKojiを添加し、15m1の
トルエンと混合した。以下ポリマ製造例1と同様の処理
を行ない、ポリマを得た。得られたポリマの分子量はM
w”18(100,MW/Mr+−2,5であった。
E4 Salmon 1 Dimethyldichlorosilane d- obtained in Nanatsuma Production Example 3
100 mg of Koji was added to 810 g and mixed with 15 ml of toluene. Thereafter, the same treatment as in Polymer Production Example 1 was performed to obtain a polymer. The molecular weight of the obtained polymer is M
w"18 (100, MW/Mr+-2.5.

ヱ立1」もL代ユ 容積約50ffilのフラスコに、千ツマ製造例4で得
られたメチルトリクロルシランd−310gおよびKO
D 100mgを入れ、15mJのトルエンと混合した
310 g of methyltrichlorosilane d-obtained in Sentsuma Production Example 4 and KO were placed in a flask with a volume of about 50 ffil.
100 mg of D was added and mixed with 15 mJ of toluene.

そして、この混合液を16時間還流した。反応終了後冷
却し、少量の沈澱物を濾過した後、メタノールに溶液を
流し込むことにより再沈澱を行なった。得られたポリメ
チルシルセスキオキサンの分子量はM+y−20000
,Mw/Mn−3,1であった。
This mixture was then refluxed for 16 hours. After the reaction was completed, the mixture was cooled and a small amount of precipitate was filtered, followed by reprecipitation by pouring the solution into methanol. The molecular weight of the obtained polymethylsilsesquioxane is M+y-20000
, Mw/Mn-3.1.

ポリマ製造例5 モノマ製造例6で得られたフェユルメチルジクaoシラ
ンd−81(IgにKOD I(JQmgを添加し、1
5m1のトルエンと混合した。以下ポリマ製造例1と同
様の処理を行ない、ポリマを得た。得られたポリマノ分
子量はMw−53000,Mw/Mn−2,81’ ア
v タ。
Polymer Production Example 5 KOD I (JQmg was added to Feyulmethyldikuaosilane d-81 (Ig) obtained in Monomer Production Example 6, and 1
Mixed with 5ml of toluene. Thereafter, the same treatment as in Polymer Production Example 1 was performed to obtain a polymer. The molecular weight of the obtained polymer was Mw-53000, Mw/Mn-2,81'.

ポリマ製造例6 モノマ製造例1で得られたフェニルトリクロルシランd
−55gおよび七ツマ製造例5で得られたペンチルトリ
クo o シランd−114,5g IcKOD 10
0Bを添加し、15m1のトルエンと混合した。そして
、この混合液を16時間還流した0反応終了後冷却し、
少量の沈澱物を濾過した後、メタノールに溶液を流し込
むことにより再沈澱を行なった。得られたポリマの分子
量はMW−21000であった。
Polymer Production Example 6 Phenyltrichlorosilane d obtained in Monomer Production Example 1
IcKOD 10
0B was added and mixed with 15ml toluene. This mixed solution was refluxed for 16 hours, and after the zero reaction was completed, it was cooled.
After filtering a small amount of precipitate, reprecipitation was performed by pouring the solution into methanol. The molecular weight of the obtained polymer was MW-21000.

韮しヱ盟亘里ユ 千ツマ製造例1で得られたフェニルトリクロルシランd
−510gおよびモノマ製造例3で得られたジメチルジ
クo o シランd−623ニKOD 100o+g 
’r添加し、15m1のトルエンと混合した。そして、
この混合液を16時間還流した。反応終了後冷却し、少
量の沈澱物を濾過した後、メタノールに溶液を流し込む
ことにより再沈澱を行なった。得られたポリマの分子量
はMy−18000であった。
Phenyltrichlorosilane d obtained in Production Example 1
-510 g and dimethyldichloride obtained in Monomer Production Example 3 silane d-623 KOD 100 o+g
'r was added and mixed with 15 ml of toluene. and,
This mixture was refluxed for 16 hours. After the reaction was completed, the mixture was cooled and a small amount of precipitate was filtered, followed by reprecipitation by pouring the solution into methanol. The molecular weight of the obtained polymer was My-18,000.

以上、ポリマの製造例について説明したが、上述の製造
例において製造した他に、モノマ製造例に挙げたモノマ
を用いて同様な方法によりポリマを得ることができた。
Polymer production examples have been described above, and in addition to those produced in the above-mentioned production examples, polymers could also be obtained by a similar method using the monomers listed in the monomer production examples.

以下、製造したポリマを用いて作製した光部品について
説明する。
Optical components manufactured using the manufactured polymer will be described below.

哀直里ユ ポリマ製造例1で得たポリマを板状に加工し、板状のポ
リマの両面を光学研磨し、分光器で近赤外〜可視光域に
おける吸収を測定した。その結果、波長660,850
.1300および155Onmにおけるオプティカルデ
ンシティ(OD)はそれぞれ0.007,0.003゜
0.002および0.023 (ca−’)であり、き
わめて高い透光性を示した。同様にして他のポリマにつ
いても吸収を測定した。表1にその結果をまとめた。
The polymer obtained in Ainairiyu Polymer Production Example 1 was processed into a plate shape, both sides of the plate-shaped polymer were optically polished, and absorption in the near infrared to visible light range was measured using a spectrometer. As a result, the wavelength is 660,850
.. The optical density (OD) at 1300 and 155 Onm was 0.007, 0.003°0.002 and 0.023 (ca-'), respectively, indicating extremely high light transmittance. Absorption was similarly measured for other polymers. Table 1 summarizes the results.

表1 製造したポリマの透光1生 主用構造 1; 1(2 実施例2 ポリマ製造例1で得たポリマをコア成分、ポリマ製造例
4で得たポリマをクラッド成分とする先導波路を作製し
た。
Table 1 Light transmission of the produced polymer Structure 1; 1 (2) Example 2 Producing a guiding waveguide using the polymer obtained in Polymer Production Example 1 as the core component and the polymer obtained in Polymer Production Example 4 as the cladding component did.

上述の2種のポリマをメチルイソブチルケトンに溶解し
溶液とした。まず、クラッド成分ポリマをシリコン基板
上に約20μmの厚さに塗布した。
The above two types of polymers were dissolved in methyl isobutyl ketone to form a solution. First, a cladding component polymer was applied onto a silicon substrate to a thickness of about 20 μm.

焼成および乾燥処理後、クラッド成分ポリマ上にコア成
分ポリマを約8μmの厚さに、塗布した。次に、ホトリ
ソグラフィおよびドライエツチングにより、コア成分ポ
リマを長さ50mm、幅8μm、高さ8μmの直線矩形
パタンに加工した。加工後クラッド成分をコア成分ポリ
マ上に塗布し先導波路を得た。
After firing and drying, the core component polymer was coated onto the cladding component polymer to a thickness of about 8 μm. Next, the core component polymer was processed into a linear rectangular pattern with a length of 50 mm, a width of 8 μm, and a height of 8 μm by photolithography and dry etching. After processing, the cladding component was applied onto the core component polymer to obtain a leading waveguide.

波長1300nmの光を導波路の一端から照射し、他端
から出てくる光量を測定することにより導波路の損失を
計算した。この導波路の損失は0.1d[17cmであ
り充分に種々の光回路に供し得ると考えられる。
The loss of the waveguide was calculated by irradiating light with a wavelength of 1300 nm from one end of the waveguide and measuring the amount of light coming out from the other end. The loss of this waveguide is 0.1 d [17 cm, which is considered to be sufficient for use in various optical circuits.

L凰里旦 コア成分としてポリマ製造例4で得たポリマを5クラッ
ド成分としてポリマ製造例3で得たポリマを用いて光フ
ァイバを作製した。
An optical fiber was produced using the polymer obtained in Polymer Production Example 4 as a core component and the polymer obtained in Polymer Production Example 3 as a cladding component.

コア成分ポリマを加熱しつつ押し出し機にてファイバ化
し、これを溶融化したクラッド成分ポリマ中に通すこと
によりコーティングを行なった。
The core component polymer was heated and made into a fiber using an extruder, and the fiber was passed through a melted cladding component polymer to perform coating.

この工程を経てコア直径0.75mmクラッド膜厚0.
05mmの光ファイバを得た。このファイバは波長as
onmで70dB/km、波長850nmで40d[l
/に+n以下の低損失窓が銭察された。
Through this process, the core diameter is 0.75mm and the cladding film thickness is 0.75mm.
An optical fiber of 0.05 mm was obtained. This fiber has a wavelength as
70dB/km at onm, 40d[l at wavelength 850nm
A low loss window of +n or less was detected in /.

このプラスチック光ファイバを、温度60℃、湿度90
kRHの条件下で2昼夜静置してから取り出し、光伝送
特性を測定した。吸湿に基づく損失増は波長850nm
で50d[l/km以下であった。同し条件下でバーデ
ユーテロポリメチルメタクリレートの、吸湿に基づく損
失増は300d8/kmであり、光損失が大幅に改善さ
れた。
This plastic optical fiber was heated at a temperature of 60°C and a humidity of 90°C.
After standing for two days and nights under kRH conditions, it was taken out and its optical transmission characteristics were measured. Loss increase due to moisture absorption at wavelength 850nm
It was less than 50d[l/km. Under the same conditions, the increase in loss due to moisture absorption of bardeuteropolymethyl methacrylate was 300 d8/km, and the optical loss was significantly improved.

[発明の効果] 以上説明したように、本発明によるポリシロキサンは、
従来のプラスチック光学材料に比べ、可視〜近赤外光域
において極めて優れた光伝送特性を有すると共に、高温
多湿条件下にさらされても損失増が著しく少ない。その
ため、近赤外光域における光集積回路用材料および可視
光域あるいは近赤外光域用光源を用いる数100mの距
離間における光信号伝送媒体として安定して使用し得る
という利点がある。
[Effect of the invention] As explained above, the polysiloxane according to the present invention has the following properties:
Compared to conventional plastic optical materials, it has extremely excellent optical transmission properties in the visible to near-infrared light range, and exhibits significantly less increase in loss even when exposed to high temperature and humidity conditions. Therefore, it has the advantage that it can be stably used as an optical signal transmission medium over a distance of several hundred meters using a material for optical integrated circuits in the near-infrared light region and a light source for the visible light region or near-infrared light region.

また、従来光フアイバ通信に用いられている、850〜
1800nmの波長域において低損失であるので、多成
分系ガラスおよび石英系光ファイバと、光/電気変換あ
るいは電気/光変換なしに接続して使用することができ
る。すなわち、これらの光学材料を使って作製した光部
品により経済性に優れたローカルエリアネットワークな
どのような光信号伝送システムを構成できるというイ1
」点がある。
In addition, 850~
Since it has low loss in the wavelength range of 1800 nm, it can be used in connection with multi-component glass and quartz optical fibers without optical/electrical conversion or electrical/optical conversion. In other words, it is possible to construct economical optical signal transmission systems such as local area networks using optical components made using these optical materials.
” There is a point.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ [式中R_1およびR_2はそれぞれC_nY_2_n
_+_1(Yは重水素あるいはハロゲン元素、nは5以
下の正の整数)で表わされる同一または異なる重水素化
あるいはハロゲン化アルキル基、あるいはそれぞれC_
6Y_5(Yは重水素あるいはハロゲン元素)で表わさ
れる同一または異なる重水素化あるいはハロゲン化フェ
ニル基] で表わされる繰り返し単位からなる重合体であることを
特徴とするポリシロキサン。 2)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ [式中R_1およびR_2はそれぞれC_nY_2_n
_+_1(Yは重水素あるいはハロゲン元素、nは5以
下の正の整数)で表わされる同一または異なる重水素化
あるいはハロゲン化アルキル基、あるいはそれぞれC_
6Y_5(Yは重水素あるいはハロゲン元素)で表わさ
れる同一または異なる重水素化あるいはハロゲン化フェ
ニル基] で表わされる繰り返し単位からなる重合体であることを
特徴とするポリシロキサン。 3)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ [式中R_1およびR_2はそれぞれC_nY_2_n
_+_1(Yは重水素あるいはハロゲン元素、nは5以
下の正の整数)で表わされる同一または異なる重水素化
あるいはハロゲン化アルキル基、あるいはそれぞれC_
6Y_5(Yは重水素あるいはハロゲン元素)で表わさ
れる同一または異なる重水素化あるいはハロゲン化フェ
ニル基] で表わされる繰り返し単位と 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ [式中R_1、およびR_2はそれぞれC_nY_2_
n_+_1(Yは重水素あるいはハロゲン元素、nは5
以下の正の整数)で表わされる同一または異なる重水素
化あるいはハロゲン化アルキル基、あるいはそれぞれC
_6Y_3(Yは重水素あるいはハロゲン元素)で表わ
される同一または異なる重水素化あるいはハロゲン化フ
ェニル基] で表わされる繰り返し単位の共重合体であることを特徴
とするポリシロキサン。 4)下記一般式( I )または(II)で表わされる繰り
返し単位からなるポリシロキサンもしくは一般式( I
)と(II)のそれぞれの繰り返し単位を含むポリシロキ
サンからなる光伝送媒体を有することを特徴とする光学
素子; ▲数式、化学式、表等があります▼・・・( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼・・・(II) ただし、式中R_1およびR_2はそれぞれC_nY_
2_n_+_1(Yは重水素あるいはハロゲン元素、n
は5以下の正の整数)で表わされる同一または異なる重
水素化あるいはハロゲン化アルキル基、あるいはそれぞ
れC_6Y_5(Yは重水素あるいはハロゲン元素)で
表わされる同一または異なる重水素化あるいはハロゲン
化フェニル基である。
[Claims] 1) General formula ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ [In the formula, R_1 and R_2 are each C_nY_2_n
The same or different deuterated or halogenated alkyl groups represented by ___+_1 (Y is deuterium or a halogen element, n is a positive integer of 5 or less), or each C_
The same or different deuterated or halogenated phenyl groups represented by 6Y_5 (Y is deuterium or a halogen element)] A polysiloxane characterized by being a polymer consisting of repeating units represented by the following formula. 2) General formula ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ [In the formula, R_1 and R_2 are each C_nY_2_n
The same or different deuterated or halogenated alkyl groups represented by ___+_1 (Y is deuterium or a halogen element, n is a positive integer of 5 or less), or each C_
The same or different deuterated or halogenated phenyl groups represented by 6Y_5 (Y is deuterium or a halogen element)] A polysiloxane characterized by being a polymer consisting of repeating units represented by the following formula. 3) General formula ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ [In the formula, R_1 and R_2 are each C_nY_2_n
The same or different deuterated or halogenated alkyl groups represented by ___+_1 (Y is deuterium or a halogen element, n is a positive integer of 5 or less), or each C_
Repeating units represented by 6Y_5 (Y is deuterium or halogen element), identical or different deuterated or halogenated phenyl groups] and general formula ▲ Numerical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ [In the formula, R_1 and R_2 are respectively C_nY_2_
n_+_1 (Y is deuterium or halogen element, n is 5
the same or different deuterated or halogenated alkyl groups represented by the following positive integers), or each C
A polysiloxane characterized by being a copolymer of repeating units represented by the same or different deuterated or halogenated phenyl groups represented by _6Y_3 (Y is deuterium or a halogen element). 4) Polysiloxane consisting of repeating units represented by the following general formula (I) or (II) or general formula (I
) and (II); ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼...(I) ▲Mathematical formulas, chemical formulas, There are tables, etc.▼...(II) However, in the formula, R_1 and R_2 are each C_nY_
2_n_+_1 (Y is deuterium or halogen element, n
are the same or different deuterated or halogenated alkyl groups represented by C_6Y_5 (Y is deuterium or a halogen element), respectively (Y is a positive integer of 5 or less); be.
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